JP2000344987A - ハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物 - Google Patents
ハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物Info
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- JP2000344987A JP2000344987A JP2000084903A JP2000084903A JP2000344987A JP 2000344987 A JP2000344987 A JP 2000344987A JP 2000084903 A JP2000084903 A JP 2000084903A JP 2000084903 A JP2000084903 A JP 2000084903A JP 2000344987 A JP2000344987 A JP 2000344987A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】硬度が適度なハードディスクドライブガスケッ
トを提供する。 【解決手段】1)フッ素ゴム及び2)天然ゴム、合成天然ゴ
ム、エチレン／プロピレンゴム、エチレン／プロピレン
／第３ジエン成分ゴム、ブタジエン／スチレンゴム、ポ
リブタジエンゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレ
ンゴム、イソブチレン／イソプレンゴム、ブタジエン／
アクリロニトリルゴム及びその水素添加物、クロロスル
フォン化ポリエチレンゴム、アクリルゴム、エチレン／
アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒ
ドリン／エチレンオキサイドゴム、ポリウレタンゴム及
びシリコンゴムからなる群から選ばれる少なくとも１種
の非フッ素ゴムを含むハードディスクドライブガスケッ
ト用ゴム組成物。
トを提供する。 【解決手段】1)フッ素ゴム及び2)天然ゴム、合成天然ゴ
ム、エチレン／プロピレンゴム、エチレン／プロピレン
／第３ジエン成分ゴム、ブタジエン／スチレンゴム、ポ
リブタジエンゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレ
ンゴム、イソブチレン／イソプレンゴム、ブタジエン／
アクリロニトリルゴム及びその水素添加物、クロロスル
フォン化ポリエチレンゴム、アクリルゴム、エチレン／
アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒ
ドリン／エチレンオキサイドゴム、ポリウレタンゴム及
びシリコンゴムからなる群から選ばれる少なくとも１種
の非フッ素ゴムを含むハードディスクドライブガスケッ
ト用ゴム組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は小型のハードディス
クドライブガスケット及びハードディスクドライブガス
ケット用ゴム組成物に関するものである。
クドライブガスケット及びハードディスクドライブガス
ケット用ゴム組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスクの機能向上に伴い、ハー
ドディスク用ガスケットから発生するガス、ブルーミン
グ、ゴミ・ホコリ等の異物がハードディスクのクラッシ
ュの原因となり問題視されている。この問題を解決する
ためにフッ素ゴムを使用したガスケットが使用されてい
るが（特開平４−２２９４８１号公報）、フッ素ゴムに
は低硬度化が難しく、装着時に硬度の高いガスケットを
使用するとフタがたわみ、シール性能の低下を引き起こ
す恐れがあることから、3.5インチサイズ未満のハード
ディスク用のガスケットには適用が難しいという欠点が
あった。
ドディスク用ガスケットから発生するガス、ブルーミン
グ、ゴミ・ホコリ等の異物がハードディスクのクラッシ
ュの原因となり問題視されている。この問題を解決する
ためにフッ素ゴムを使用したガスケットが使用されてい
るが（特開平４−２２９４８１号公報）、フッ素ゴムに
は低硬度化が難しく、装着時に硬度の高いガスケットを
使用するとフタがたわみ、シール性能の低下を引き起こ
す恐れがあることから、3.5インチサイズ未満のハード
ディスク用のガスケットには適用が難しいという欠点が
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低分子量物
の析出や飛散が少なくかつ低硬度のガスケットを提供す
るためのものである。
の析出や飛散が少なくかつ低硬度のガスケットを提供す
るためのものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するため、フッ素ゴムと特定の非フッ素ゴム、特に
シリコンゴムやアクリルゴムとの組成物を用いればよい
ことを発見した。
解決するため、フッ素ゴムと特定の非フッ素ゴム、特に
シリコンゴムやアクリルゴムとの組成物を用いればよい
ことを発見した。
【０００５】本発明は、下記の項１〜項７に関する。 項１． １）フッ素ゴム及び２）天然ゴム（ＮＲ）、合
成天然ゴム（ＩＲ）、エチレン／プロピレンゴム（ＥＰ
Ｍ）、エチレン／プロピレン／第３ジエン成分ゴム（Ｅ
ＰＤＭ）、ブタジエン／スチレンゴム（ＳＢＲ）、ポリ
ブタジエンゴム（ＢＲ）、ハロゲン化ブチルゴム（ハロ
ゲンは塩素または臭素）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、
イソブチレン／イソプレンゴム（ＩＩＲ）、ブタジエン
／アクリロニトリルゴム（ＮＢＲ）及びその水素添加物
（Ｈ−ＮＢＲ）、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム
（ＣＳＭ）、アクリルゴム（ＡＣＭ、ＡＮＭ）、エチレ
ン／アクリルゴム（ＡＥＭ）、エピクロルヒドリンゴム
（ＣＯ）、エピクロルヒドリン／エチレンオキサイドゴ
ム（ＣＨＣ）、ポリウレタンゴム及びシリコンゴムから
なる群から選ばれる少なくとも１種の非フッ素ゴムを含
むハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物。 項２． フッ素ゴムに非フッ素ゴムが5〜95/95〜5の比
率で配合された項１に記載の組成物。 項３． フッ素ゴムが、パーオキサイドによって架橋可
能なフッ素ゴムである項２に記載の組成物。 項４． 非フッ素ゴムが、フッ素ゴムとのパーオキサ
イド共架橋を可能にする官能基と（メタ）アクリル酸エ
ステルとの共重合を可能にする官能基をそれぞれ有する
多官能モノマーを０.１〜１.５重量％共重合したアクリ
ルゴムである項３に記載の組成物。 項５． 多官能モノマーがアリル（メタ）アクリレート
である項４に記載の組成物。 項６． 項１〜５のいずれかに記載の組成物を加硫して
得られるハードディスクドライブガスケット。 項７． 150℃〜250℃の温度で熱処理されたものである
項６に記載のガスケット。
成天然ゴム（ＩＲ）、エチレン／プロピレンゴム（ＥＰ
Ｍ）、エチレン／プロピレン／第３ジエン成分ゴム（Ｅ
ＰＤＭ）、ブタジエン／スチレンゴム（ＳＢＲ）、ポリ
ブタジエンゴム（ＢＲ）、ハロゲン化ブチルゴム（ハロ
ゲンは塩素または臭素）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、
イソブチレン／イソプレンゴム（ＩＩＲ）、ブタジエン
／アクリロニトリルゴム（ＮＢＲ）及びその水素添加物
（Ｈ−ＮＢＲ）、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム
（ＣＳＭ）、アクリルゴム（ＡＣＭ、ＡＮＭ）、エチレ
ン／アクリルゴム（ＡＥＭ）、エピクロルヒドリンゴム
（ＣＯ）、エピクロルヒドリン／エチレンオキサイドゴ
ム（ＣＨＣ）、ポリウレタンゴム及びシリコンゴムから
なる群から選ばれる少なくとも１種の非フッ素ゴムを含
むハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物。 項２． フッ素ゴムに非フッ素ゴムが5〜95/95〜5の比
率で配合された項１に記載の組成物。 項３． フッ素ゴムが、パーオキサイドによって架橋可
能なフッ素ゴムである項２に記載の組成物。 項４． 非フッ素ゴムが、フッ素ゴムとのパーオキサ
イド共架橋を可能にする官能基と（メタ）アクリル酸エ
ステルとの共重合を可能にする官能基をそれぞれ有する
多官能モノマーを０.１〜１.５重量％共重合したアクリ
ルゴムである項３に記載の組成物。 項５． 多官能モノマーがアリル（メタ）アクリレート
である項４に記載の組成物。 項６． 項１〜５のいずれかに記載の組成物を加硫して
得られるハードディスクドライブガスケット。 項７． 150℃〜250℃の温度で熱処理されたものである
項６に記載のガスケット。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明は下記に記載のゴム組成物
と、それより得られる成型品に係る。
と、それより得られる成型品に係る。
【０００７】フッ素ゴムとしては、下記の(i)〜(vi)が
例示される。 (i) テトラフルオロエチレン４０〜９０モル％、式
（１） ＣＦ2＝ＣＦ−ＯＲf （１） 〔式中、Ｒfは炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基
または炭素数３〜１２でかつ酸素原子を１〜３個含むパ
ーフルオロアルキル（ポリ）エーテル基である。〕で表
されるパーフルオロビニルエーテル１０〜６０モル％、
及び硬化部位を与える単量体０〜５モル％からなるフッ
素ゴム； (ii) ビニリデンフルオライド３０〜８５モル％、ヘキ
サフルオロプロピレン１５〜４０モル％及びテトラフル
オロエチレン０〜３０モル％からなるフッ素ゴム； (iii) ビニリデンフルオライド１０〜９０モル％、式
（１） ＣＦ2＝ＣＦ−ＯＲf （１） 〔式中、Ｒfは前記に定義された通りである〕で表され
るパーフルオロビニルエーテル１０〜４０モル％、及び
テトラフルオロエチレン０〜８０モル％からなるフッ素
ゴム； (iv) エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントと
非エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントを有す
る含フッ素多元セグメント化ポリマーであって、エラス
トマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントがテトラフルオ
ロエチレン４０〜９０モル％、式（１） ＣＦ2＝ＣＦ−ＯＲf （１） 〔式中、Ｒfは前記に定義された通りである〕で表され
るパーフルオロビニルエーテル１０〜６０モル％、及び
硬化部位を与える単量体０〜５モル％からなり、非エラ
ストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントがテトラフル
オロエチレン８５〜１００モル％、式（２） ＣＦ2＝ＣＦ−Ｒf 1 （２） 〔式中、Ｒf 1はＣＦ3またはＯＲf 2（Ｒf 2は炭素数１〜
５のパーフルオロアルキル基である。〕で表されるパー
フルオロオレフィン０〜１５モル％である含フッ素多元
セグメント化ポリマー； (v) ビニリデンフルオライド４０〜９０モル％、パーフ
ルオロ（メチルビニルエーテル）（ＰＭＶＥ）３〜３５
モル％、ヘキサフルオロプロピレン０〜２５モル％、テ
トラフルオロエチレン０〜４０モル％及び硬化部位を与
える単量体としての含ヨウ素モノマー（ＩＭ）０．００
５〜１．５モル％からなるフッ素ゴム；及び (vi)テトラフルオロエチレン４０〜７０モル％、プロピ
レン３０〜６０モル％、その他の単量体０〜２０モル％
からなるフッ素ゴム；及び (vii)エチレン１０〜８５モル％、ヘキサフルオロプロ
ピレン１５〜５０モル％、その他の単量体０〜４５モル
％からなるフッ素ゴムが挙げられる。
例示される。 (i) テトラフルオロエチレン４０〜９０モル％、式
（１） ＣＦ2＝ＣＦ−ＯＲf （１） 〔式中、Ｒfは炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基
または炭素数３〜１２でかつ酸素原子を１〜３個含むパ
ーフルオロアルキル（ポリ）エーテル基である。〕で表
されるパーフルオロビニルエーテル１０〜６０モル％、
及び硬化部位を与える単量体０〜５モル％からなるフッ
素ゴム； (ii) ビニリデンフルオライド３０〜８５モル％、ヘキ
サフルオロプロピレン１５〜４０モル％及びテトラフル
オロエチレン０〜３０モル％からなるフッ素ゴム； (iii) ビニリデンフルオライド１０〜９０モル％、式
（１） ＣＦ2＝ＣＦ−ＯＲf （１） 〔式中、Ｒfは前記に定義された通りである〕で表され
るパーフルオロビニルエーテル１０〜４０モル％、及び
テトラフルオロエチレン０〜８０モル％からなるフッ素
ゴム； (iv) エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントと
非エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントを有す
る含フッ素多元セグメント化ポリマーであって、エラス
トマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントがテトラフルオ
ロエチレン４０〜９０モル％、式（１） ＣＦ2＝ＣＦ−ＯＲf （１） 〔式中、Ｒfは前記に定義された通りである〕で表され
るパーフルオロビニルエーテル１０〜６０モル％、及び
硬化部位を与える単量体０〜５モル％からなり、非エラ
ストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントがテトラフル
オロエチレン８５〜１００モル％、式（２） ＣＦ2＝ＣＦ−Ｒf 1 （２） 〔式中、Ｒf 1はＣＦ3またはＯＲf 2（Ｒf 2は炭素数１〜
５のパーフルオロアルキル基である。〕で表されるパー
フルオロオレフィン０〜１５モル％である含フッ素多元
セグメント化ポリマー； (v) ビニリデンフルオライド４０〜９０モル％、パーフ
ルオロ（メチルビニルエーテル）（ＰＭＶＥ）３〜３５
モル％、ヘキサフルオロプロピレン０〜２５モル％、テ
トラフルオロエチレン０〜４０モル％及び硬化部位を与
える単量体としての含ヨウ素モノマー（ＩＭ）０．００
５〜１．５モル％からなるフッ素ゴム；及び (vi)テトラフルオロエチレン４０〜７０モル％、プロピ
レン３０〜６０モル％、その他の単量体０〜２０モル％
からなるフッ素ゴム；及び (vii)エチレン１０〜８５モル％、ヘキサフルオロプロ
ピレン１５〜５０モル％、その他の単量体０〜４５モル
％からなるフッ素ゴムが挙げられる。
【０００８】炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基と
しては、ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ
（ＣＦ3）2、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ（Ｃ
Ｆ3）2、Ｃ（ＣＦ3）3、ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2ＣＦ3、Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3などが挙げられる。
しては、ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ
（ＣＦ3）2、ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ（Ｃ
Ｆ3）2、Ｃ（ＣＦ3）3、ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2ＣＦ3、Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ3などが挙げられる。
【０００９】パーフルオロアルキル（ポリ）エーテル基
としては、（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）m1（ＣＦ2）n1ＣＦ3(m1は
１〜３、n1は０〜２）、（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）m2（Ｃ
Ｆ2）n 2ＣＦ3(m2は１〜３；n2は０〜２）、（ＣＦ（Ｃ
Ｆ3）ＣＦ2Ｏ）m3（ＣＦ2）n3ＣＦ3(m3は１〜３；n3は
０〜２）が例示される。
としては、（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）m1（ＣＦ2）n1ＣＦ3(m1は
１〜３、n1は０〜２）、（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）m2（Ｃ
Ｆ2）n 2ＣＦ3(m2は１〜３；n2は０〜２）、（ＣＦ（Ｃ
Ｆ3）ＣＦ2Ｏ）m3（ＣＦ2）n3ＣＦ3(m3は１〜３；n3は
０〜２）が例示される。
【００１０】上記（vi）のその他の単量体としては、上
記式（１）で表されるパーフルオロビニルエーテル、ビ
ニリデンフルオライド、エチレンなどが挙げられる。
記式（１）で表されるパーフルオロビニルエーテル、ビ
ニリデンフルオライド、エチレンなどが挙げられる。
【００１１】上記（v）の含ヨウ素モノマーとしては、
特開平８−１５７５３９号公報に記載されている式
（３） I(CH2CF2CF2O)m[CF(CF3)CF2O]nCF=CF2 （３） 〔式中、ｍは１〜５の整数であり、ｎは０〜３の整数で
ある。〕で表されるヨウ素含有フッ化ビニルエーテル、
特開平７−３１６２４６号公報に記載されている式
（４） CX2=CX-Ｒf 3-CHR-I （４） 〔式中、Ｘは水素原子、フッ素原子またはメチル基、Ｒ
は水素原子またはメチル基、Ｒf 3は１個以上のエーテル
型酸素原子を有していてもよい直鎖状または分岐鎖状の
フルオロ−もしくはパーフルオロアルキレン基、または
フルオロ−もしくはパーフルオロ−オキシアルキレン
基〕で表されるヨウ素含有オレフィン、CF2=CHI、パー
フルオロ（５−ヨード−３−オキサ−１−ペンテン）な
どが挙げられる。
特開平８−１５７５３９号公報に記載されている式
（３） I(CH2CF2CF2O)m[CF(CF3)CF2O]nCF=CF2 （３） 〔式中、ｍは１〜５の整数であり、ｎは０〜３の整数で
ある。〕で表されるヨウ素含有フッ化ビニルエーテル、
特開平７−３１６２４６号公報に記載されている式
（４） CX2=CX-Ｒf 3-CHR-I （４） 〔式中、Ｘは水素原子、フッ素原子またはメチル基、Ｒ
は水素原子またはメチル基、Ｒf 3は１個以上のエーテル
型酸素原子を有していてもよい直鎖状または分岐鎖状の
フルオロ−もしくはパーフルオロアルキレン基、または
フルオロ−もしくはパーフルオロ−オキシアルキレン
基〕で表されるヨウ素含有オレフィン、CF2=CHI、パー
フルオロ（５−ヨード−３−オキサ−１−ペンテン）な
どが挙げられる。
【００１２】上記(i)の硬化部位を与える単量体（含ヨ
ウ素モノマーを含む）としては、下記の単量体及び上記
（v）の含ヨウ素モノマーが例示される。
ウ素モノマーを含む）としては、下記の単量体及び上記
（v）の含ヨウ素モノマーが例示される。
【００１３】
【化１】
【００１４】好ましい非フッ素ゴムとしては、シリコン
ゴム、アクリルゴム、エチレン／アクリルゴム、ＮＢ
Ｒ，Ｈ−ＮＢＲ、ＥＰＤＭが例示され、より好ましく
は、フッ素ゴムとのパーオキサイド架橋を可能にする官
能基と（メタ）アクリル酸エステルとの共重合を可能に
する官能基をそれぞれ有する多官能モノマーを０.１〜
１.５重量％共重合したアクリルゴムが例示される。
ゴム、アクリルゴム、エチレン／アクリルゴム、ＮＢ
Ｒ，Ｈ−ＮＢＲ、ＥＰＤＭが例示され、より好ましく
は、フッ素ゴムとのパーオキサイド架橋を可能にする官
能基と（メタ）アクリル酸エステルとの共重合を可能に
する官能基をそれぞれ有する多官能モノマーを０.１〜
１.５重量％共重合したアクリルゴムが例示される。
【００１５】例えばフッ素ゴムとのパーオキサイド架橋
を可能にする官能基と（メタ）アクリル酸エステルとの
共重合を可能にする官能基をそれぞれ有する多官能モノ
マーを０.１〜１.５重量％共重合し、（メタ）アクリル
酸アルキルエステル９０重量％以上共重合し、アクリロ
ニトリルを４重量％未満共重合したアクリルゴムや、フ
ッ素ゴムとのパーオキサイド架橋を可能にする官能基と
（メタ）アクリル酸エステルとの共重合を可能にする官
能基をそれぞれ有する多官能モノマーを０.１〜１.５重
量％共重合し、（メタ）アクリル酸アルコキシ置換アル
キルエステルを２０重量％以上共重合しおよび／または
アクリロニトリルを４重量％以上共重合したアクリルゴ
ムなどが挙げられる。
を可能にする官能基と（メタ）アクリル酸エステルとの
共重合を可能にする官能基をそれぞれ有する多官能モノ
マーを０.１〜１.５重量％共重合し、（メタ）アクリル
酸アルキルエステル９０重量％以上共重合し、アクリロ
ニトリルを４重量％未満共重合したアクリルゴムや、フ
ッ素ゴムとのパーオキサイド架橋を可能にする官能基と
（メタ）アクリル酸エステルとの共重合を可能にする官
能基をそれぞれ有する多官能モノマーを０.１〜１.５重
量％共重合し、（メタ）アクリル酸アルコキシ置換アル
キルエステルを２０重量％以上共重合しおよび／または
アクリロニトリルを４重量％以上共重合したアクリルゴ
ムなどが挙げられる。
【００１６】本発明の好ましい組成物は、架橋可能なフ
ッ素ゴム、架橋可能な非フッ素ゴムおよび架橋開始剤
（パーオキサイド等）を含む組成物であり、該組成物を
加熱して架橋させることにより、ハードディスクドライ
ブガスケット用に適した架橋ゴムが得られる。
ッ素ゴム、架橋可能な非フッ素ゴムおよび架橋開始剤
（パーオキサイド等）を含む組成物であり、該組成物を
加熱して架橋させることにより、ハードディスクドライ
ブガスケット用に適した架橋ゴムが得られる。
【００１７】本発明の組成物において、フッ素ゴム／非
フッ素ゴム＝5〜95/95〜5の重量比で配合される。パー
オキサイド等の架橋開始剤は、フッ素ゴムと非フッ素ゴ
ムの合計を１００重量部として０．１〜１５重量部、好
ましくは０．３〜５重量部配合できる。
フッ素ゴム＝5〜95/95〜5の重量比で配合される。パー
オキサイド等の架橋開始剤は、フッ素ゴムと非フッ素ゴ
ムの合計を１００重量部として０．１〜１５重量部、好
ましくは０．３〜５重量部配合できる。
【００１８】本発明のゴム組成物において好ましいフッ
素ゴムとしてはパーオキサイド架橋可能なフッ素ゴムで
あり、その分子量は数平均分子量が２０,０００〜２０
０,０００、好ましくは５０,０００〜１７０,０００の
ものが良い。分子量が２０，０００〜２００,０００で
あれば十分な加工性が得られ、加硫後特性が十分であ
る。ここでの加工性は、高温時のポリマー粘性、加硫特
性、ロール加工性などを意味する。フッ素ゴムのビニリ
デンフルオライド共重合比は４５〜８８モル％、好まし
くは５５〜８５モル％、のものが良い。
素ゴムとしてはパーオキサイド架橋可能なフッ素ゴムで
あり、その分子量は数平均分子量が２０,０００〜２０
０,０００、好ましくは５０,０００〜１７０,０００の
ものが良い。分子量が２０，０００〜２００,０００で
あれば十分な加工性が得られ、加硫後特性が十分であ
る。ここでの加工性は、高温時のポリマー粘性、加硫特
性、ロール加工性などを意味する。フッ素ゴムのビニリ
デンフルオライド共重合比は４５〜８８モル％、好まし
くは５５〜８５モル％、のものが良い。
【００１９】本発明のフッ素ゴムの一例としてヨウ素含
有フッ素ゴムについて以下に説明する。ヨウ素含有フッ
素ゴムの好ましい例として、ラジカル発生源及び一般
式：ＲＩx（式中、Ｒは炭素数１〜１６の飽和若しくは
不飽和のフルオロ炭化水素基、クロロフルオロ炭化水素
基、または炭素数１〜３の炭化水素基であり、ｘはＲの
結合手の数であって１以上の整数である。）で表される
ヨウ素化合物の存在下にビニリデンフルオライド（Ｖｄ
Ｆ）の他に炭素数２〜８の含フッ素エチレン性不飽和化
合物（及び必要に応じ炭素数２〜４のフッ素を含まない
エチレン性不飽和化合物）からなるモノマーの少なくと
も１種を重合させて得られる硬化容易な含フッ素ポリマ
ー（特開昭５３−１２５４９１号参照）を例示すること
ができる。好ましいヨウ素含有フッ素ゴムとして、ビニ
リデンフルオライド（ＶｄＦ）単位が４５〜８８モル
％、好ましくは５５〜８５モル％、テトラフルオロエチ
レン（ＴＦＥ）単位が０〜４５モル％、好ましくは０〜
３０モル％、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）単位
が１０〜４０モル％、好ましくは１０〜２５モル％を含
む共重合体を挙げることができる。
有フッ素ゴムについて以下に説明する。ヨウ素含有フッ
素ゴムの好ましい例として、ラジカル発生源及び一般
式：ＲＩx（式中、Ｒは炭素数１〜１６の飽和若しくは
不飽和のフルオロ炭化水素基、クロロフルオロ炭化水素
基、または炭素数１〜３の炭化水素基であり、ｘはＲの
結合手の数であって１以上の整数である。）で表される
ヨウ素化合物の存在下にビニリデンフルオライド（Ｖｄ
Ｆ）の他に炭素数２〜８の含フッ素エチレン性不飽和化
合物（及び必要に応じ炭素数２〜４のフッ素を含まない
エチレン性不飽和化合物）からなるモノマーの少なくと
も１種を重合させて得られる硬化容易な含フッ素ポリマ
ー（特開昭５３−１２５４９１号参照）を例示すること
ができる。好ましいヨウ素含有フッ素ゴムとして、ビニ
リデンフルオライド（ＶｄＦ）単位が４５〜８８モル
％、好ましくは５５〜８５モル％、テトラフルオロエチ
レン（ＴＦＥ）単位が０〜４５モル％、好ましくは０〜
３０モル％、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）単位
が１０〜４０モル％、好ましくは１０〜２５モル％を含
む共重合体を挙げることができる。
【００２０】ビニリデンフルオライド共重合比が４５〜
８８モル％であれば、アクリルゴムとの相溶性に優れ、
ポリマーの分散性を高めることができ十分な機械的物性
が得られ、圧縮永久歪性が良好である。
８８モル％であれば、アクリルゴムとの相溶性に優れ、
ポリマーの分散性を高めることができ十分な機械的物性
が得られ、圧縮永久歪性が良好である。
【００２１】本発明のゴム組成物においてフッ素ゴムと
のパーオキサイド架橋を可能にする官能基と（メタ）ア
クリル酸エステルとの共重合を可能にする官能基をそれ
ぞれ有する多官能モノマーを０.１〜１.５重量％共重合
したアクリルゴムは、次に示される（メタ）アクリル酸
アルコキシ置換アルキルエステル、アクリロニトリル、
（メタ）アクリル酸アルキルエステル、多官能モノマ
ー、エチレン性不飽和モノマーを組み合わせ、公知の重
合方法により共重合することによって得ることができ
る。
のパーオキサイド架橋を可能にする官能基と（メタ）ア
クリル酸エステルとの共重合を可能にする官能基をそれ
ぞれ有する多官能モノマーを０.１〜１.５重量％共重合
したアクリルゴムは、次に示される（メタ）アクリル酸
アルコキシ置換アルキルエステル、アクリロニトリル、
（メタ）アクリル酸アルキルエステル、多官能モノマ
ー、エチレン性不飽和モノマーを組み合わせ、公知の重
合方法により共重合することによって得ることができ
る。
【００２２】（メタ）アクリル酸アルコキシ置換アルキ
ルエステルとしては例えば ＣＨ2＝ＣＲＣＯＯ−Ａ−Ｏ−Ｒ１ （Ｒは水素またはメチル基、Ａは炭素数１〜１２のアル
キレン基、Ｒ１は炭素数１〜１２のアルキル基を示
す。）で表される化合物を挙げることができ、具体的に
は２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エト
キシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキ
シ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−ブトキ
シ）エチル（メタ）アクリレート、３−メトキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）プロピル
（メタ）アクリレート、２−（ｎ−ブトキシ）プロピル
（メタ）アクリレートなどが挙げられ、好ましくは２−
メトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルアク
リレートであり、特に好ましくは２−メトキシエチルア
クリレートである。
ルエステルとしては例えば ＣＨ2＝ＣＲＣＯＯ−Ａ−Ｏ−Ｒ１ （Ｒは水素またはメチル基、Ａは炭素数１〜１２のアル
キレン基、Ｒ１は炭素数１〜１２のアルキル基を示
す。）で表される化合物を挙げることができ、具体的に
は２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エト
キシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキ
シ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−ブトキ
シ）エチル（メタ）アクリレート、３−メトキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）プロピル
（メタ）アクリレート、２−（ｎ−ブトキシ）プロピル
（メタ）アクリレートなどが挙げられ、好ましくは２−
メトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルアク
リレートであり、特に好ましくは２−メトキシエチルア
クリレートである。
【００２３】アクリル酸アルキルエステルとしては例え
ば ＣＨ2＝ＣＲＣＯＯＲ２ （Ｒは前記に同じ。Ｒ２は炭素数１〜１８のアルキル基
を示す。）で表される化合物を挙げることができ、具体
的にはメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）ア
クリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−
ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アク
リレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、イソア
ミル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アク
リレート、２−メチルペンチル（メタ）アクリレート、
ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレ
ート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクタ
デシル（メタ）アクリレートなどが挙げられ、好ましく
はメチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロ
ピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートであり、特
に好ましくはエチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレ
ートである。またＲ１とＲ２の炭素数は１〜４が好まし
い。炭素数が大きくまたその共重合比が増すほど低温性
に優れるもののフッ素ゴムとの相溶性が劣る。
ば ＣＨ2＝ＣＲＣＯＯＲ２ （Ｒは前記に同じ。Ｒ２は炭素数１〜１８のアルキル基
を示す。）で表される化合物を挙げることができ、具体
的にはメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）ア
クリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−
ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アク
リレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、イソア
ミル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アク
リレート、２−メチルペンチル（メタ）アクリレート、
ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレ
ート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクタ
デシル（メタ）アクリレートなどが挙げられ、好ましく
はメチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロ
ピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートであり、特
に好ましくはエチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレ
ートである。またＲ１とＲ２の炭素数は１〜４が好まし
い。炭素数が大きくまたその共重合比が増すほど低温性
に優れるもののフッ素ゴムとの相溶性が劣る。
【００２４】多官能モノマーとしてはエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ
（メタ） アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、
ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート等が例示されるが、３官能以上のも
のを用いると、重合中の部分架橋の割合をコントロール
することが困難な傾向があるため２官能性のものが好ま
しい。分子中に二重結合を１個しか含まないモノマーは
アクリルゴム中に架橋基が残存しないのでフッ素ゴムと
の共架橋は困難である。また２官能性の中でもアクリル
ゴム中に架橋基として片側の二重結合部分を残存させる
意味で双方の二重結合部分の反応性が異なるものがより
好ましく、アリル（メタ）アクリレートがより好まし
い。また双方の二重結合部分の反応性が異なるものにジ
ヒドロジシクロペンテニルアクリレート、エチリデンノ
ルボルネン等も含まれるが、フッ素ゴムと同一の架橋助
剤で十分な架橋性を示すことが必要であり単独では使用
できず、アリル（メタ）アクリレートとの併用が必要で
ある。
ルジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ
（メタ） アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、
ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート等が例示されるが、３官能以上のも
のを用いると、重合中の部分架橋の割合をコントロール
することが困難な傾向があるため２官能性のものが好ま
しい。分子中に二重結合を１個しか含まないモノマーは
アクリルゴム中に架橋基が残存しないのでフッ素ゴムと
の共架橋は困難である。また２官能性の中でもアクリル
ゴム中に架橋基として片側の二重結合部分を残存させる
意味で双方の二重結合部分の反応性が異なるものがより
好ましく、アリル（メタ）アクリレートがより好まし
い。また双方の二重結合部分の反応性が異なるものにジ
ヒドロジシクロペンテニルアクリレート、エチリデンノ
ルボルネン等も含まれるが、フッ素ゴムと同一の架橋助
剤で十分な架橋性を示すことが必要であり単独では使用
できず、アリル（メタ）アクリレートとの併用が必要で
ある。
【００２５】多官能モノマーの使用量は（メタ）アクリ
ル酸エステルモノマー、多官能モノマーの総量に対し、
０.１〜１.５重量％、特に０.３〜０.７重量％が好まし
い。多官能モノマーが０.１〜１.５重量％であるとアク
リルゴムの架橋が十分であり加硫成形が容易で、耐熱
性、機械的物性等が優れており、かつ、重合時の部分架
橋が少なく加工性が良好で、加硫後の架橋密度が適当で
あるため十分な柔軟性を有し、伸びが良好である。
ル酸エステルモノマー、多官能モノマーの総量に対し、
０.１〜１.５重量％、特に０.３〜０.７重量％が好まし
い。多官能モノマーが０.１〜１.５重量％であるとアク
リルゴムの架橋が十分であり加硫成形が容易で、耐熱
性、機械的物性等が優れており、かつ、重合時の部分架
橋が少なく加工性が良好で、加硫後の架橋密度が適当で
あるため十分な柔軟性を有し、伸びが良好である。
【００２６】ポリマーの改質のため必要に応じて（メ
タ）アクリル酸エステルモノマーの一部をアクリロニト
リル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、塩化ビニル等
のエチレン性不飽和モノマーに置き換えて重合しても良
いが、その量は（メタ）アクリル酸エステルモノマーの
２０重量％以下とするのが好ましい。
タ）アクリル酸エステルモノマーの一部をアクリロニト
リル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、塩化ビニル等
のエチレン性不飽和モノマーに置き換えて重合しても良
いが、その量は（メタ）アクリル酸エステルモノマーの
２０重量％以下とするのが好ましい。
【００２７】本発明のゴム配合物においてフッ素ゴムと
アクリルゴムの割合はフッ素ゴム／アクリルゴムが、重
量比で５〜９５／９５〜５、好ましくは１０〜９０／９
０〜１０、より好ましくは２５〜７５／７５〜２５であ
る。フッ素ゴムがこの範囲にあれは、流れ性などの加工
性に優れ、経済性にも優れる。
アクリルゴムの割合はフッ素ゴム／アクリルゴムが、重
量比で５〜９５／９５〜５、好ましくは１０〜９０／９
０〜１０、より好ましくは２５〜７５／７５〜２５であ
る。フッ素ゴムがこの範囲にあれは、流れ性などの加工
性に優れ、経済性にも優れる。
【００２８】本発明のゴム組成物において使用されるパ
ーオキサイド架橋剤としては一般には熱や酸化還元系の
存在下で容易にパーオキシラジカルを発生するものが良
く、例えば１,１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３,
５,５−トリメチルシクロヘキサン、２,５−ジメチルヘ
キサン−２,５−ジヒドロキシパーオキシド、ジ−ｔ−
ブチルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、
ジクミルパーオキシド、α,α'−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２,５−ジメ
チル−２,５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、
２,５−ジメチル−２,５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）
ヘキシン−３、ベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパ
ーオキシベンゼン、２,５−ジメチル−２,５−ジ（ベン
ゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシマ
レイン酸、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ートなどを例示することができる。就中、好ましいもの
はジアルキルタイプの化合物である。一般に活性−Ｏ=
Ｏ−の量、分解温度などから種類ならびに使用量が選ば
れる。使用量は通常、ポリマー（アクリルゴムとフッ素
ゴムの合計）１００重量部に対して０.１〜１５重量部
であるが、好ましくは０.３〜５重量部である。
ーオキサイド架橋剤としては一般には熱や酸化還元系の
存在下で容易にパーオキシラジカルを発生するものが良
く、例えば１,１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３,
５,５−トリメチルシクロヘキサン、２,５−ジメチルヘ
キサン−２,５−ジヒドロキシパーオキシド、ジ−ｔ−
ブチルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、
ジクミルパーオキシド、α,α'−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２,５−ジメ
チル−２,５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、
２,５−ジメチル−２,５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）
ヘキシン−３、ベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパ
ーオキシベンゼン、２,５−ジメチル−２,５−ジ（ベン
ゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシマ
レイン酸、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ートなどを例示することができる。就中、好ましいもの
はジアルキルタイプの化合物である。一般に活性−Ｏ=
Ｏ−の量、分解温度などから種類ならびに使用量が選ば
れる。使用量は通常、ポリマー（アクリルゴムとフッ素
ゴムの合計）１００重量部に対して０.１〜１５重量部
であるが、好ましくは０.３〜５重量部である。
【００２９】また、必要に応じて架橋助剤を適宜併用し
ても良い。この架橋助剤は、パーオキシラジカルとポリ
マーラジカルとに対して反応活性を有するものであれば
原則的に有効であって、特に種類は制限されない。好ま
しいものとしては、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート、トリアクリルホルマール、トリア
リルトリメリテート、ジプロパルギルテレフタレート、
ジアリルフタレート、テトラアリルテレフタールアミ
ド、トリアリルホスフェート、ビスマレイミドなどが挙
げられる。架橋助剤は必ずしも使用する必要はないが、
使用する場合はポリマー１００重量部に対して０.１〜
１０重量部が好ましく、より好ましくは０.３〜５重量
部の割合である。更に必要に応じて積層する相手材料に
配合する架橋剤、架橋助剤、その他充填剤を配合しても
良い。
ても良い。この架橋助剤は、パーオキシラジカルとポリ
マーラジカルとに対して反応活性を有するものであれば
原則的に有効であって、特に種類は制限されない。好ま
しいものとしては、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート、トリアクリルホルマール、トリア
リルトリメリテート、ジプロパルギルテレフタレート、
ジアリルフタレート、テトラアリルテレフタールアミ
ド、トリアリルホスフェート、ビスマレイミドなどが挙
げられる。架橋助剤は必ずしも使用する必要はないが、
使用する場合はポリマー１００重量部に対して０.１〜
１０重量部が好ましく、より好ましくは０.３〜５重量
部の割合である。更に必要に応じて積層する相手材料に
配合する架橋剤、架橋助剤、その他充填剤を配合しても
良い。
【００３０】本発明のゴム組成物においてはさらに必要
に応じて加工助剤、酸化防止剤、老化防止剤、オゾン劣
化防止剤、紫外線吸収剤等を加えることができるが、低
分子量物の析出や飛散と言う面からは好ましくない。
に応じて加工助剤、酸化防止剤、老化防止剤、オゾン劣
化防止剤、紫外線吸収剤等を加えることができるが、低
分子量物の析出や飛散と言う面からは好ましくない。
【００３１】充填剤としては酸化マグネシウム、酸化カ
ルシウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化アルミニウム等
の金属酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウ
ム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、炭酸マグネシ
ウム、炭酸アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム等の炭酸塩、珪酸マグネシウム、珪酸カルシウム、珪
酸ナトリウム、珪酸アルミニウム等の珪酸塩、硫酸アル
ミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の硫酸塩、
合成ハイドロタルサイト、二硫化モリブデン、硫化鉄、
硫化銅等の金属硫化物、珪藻土、アスベスト、リトポン
（硫化亜鉛／硫化バリウム）、グラファイト、カーボン
ブラック、フッ化カーボン、フッ化カルシウム、コーク
ス等が挙げられる。
ルシウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化アルミニウム等
の金属酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウ
ム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、炭酸マグネシ
ウム、炭酸アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム等の炭酸塩、珪酸マグネシウム、珪酸カルシウム、珪
酸ナトリウム、珪酸アルミニウム等の珪酸塩、硫酸アル
ミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の硫酸塩、
合成ハイドロタルサイト、二硫化モリブデン、硫化鉄、
硫化銅等の金属硫化物、珪藻土、アスベスト、リトポン
（硫化亜鉛／硫化バリウム）、グラファイト、カーボン
ブラック、フッ化カーボン、フッ化カルシウム、コーク
ス等が挙げられる。
【００３２】加工助剤としてはステアリン酸、オレイン
酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の高級脂肪酸、ステア
リン酸ナトリウム、ステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸
塩、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド等の高級脂
肪酸アミド、オレイン酸エチル等の高級脂肪酸エステ
ル、ステアリルアミン、オレイルアミ*等の高級脂肪族
アミン、カルナバワックス、セレシンワックス等の石油
系ワックス、エチレングリコール、グリセリン、ジエチ
レングリコール等のポリグリコール、ワセリン、パラフ
ィン等の脂肪族炭化水素、シリコーン系オイル、シリコ
ーン系ポリマー、低分子量ポリエチレン、フタル酸エス
テル類、燐酸エステル類、ロジン、（ハロゲン化）ジア
ルキルアミン、（ハロゲン化）ジアルキルスルフォン、
界面活性剤等が挙げられる。
酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の高級脂肪酸、ステア
リン酸ナトリウム、ステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸
塩、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド等の高級脂
肪酸アミド、オレイン酸エチル等の高級脂肪酸エステ
ル、ステアリルアミン、オレイルアミ*等の高級脂肪族
アミン、カルナバワックス、セレシンワックス等の石油
系ワックス、エチレングリコール、グリセリン、ジエチ
レングリコール等のポリグリコール、ワセリン、パラフ
ィン等の脂肪族炭化水素、シリコーン系オイル、シリコ
ーン系ポリマー、低分子量ポリエチレン、フタル酸エス
テル類、燐酸エステル類、ロジン、（ハロゲン化）ジア
ルキルアミン、（ハロゲン化）ジアルキルスルフォン、
界面活性剤等が挙げられる。
【００３３】酸化防止剤、老化防止剤、オゾン劣化防止
剤としては２,５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノリン等
のフェノール系、２,２,４−トリメチル−１,２−ジヒ
ドロキノリン等のアミン−ケトン系、４,４'−ビス
（α,α'−ジメチルベンジル）ジフェニルアミン等の芳
香族第二級アミン系などの化合物を挙げることができ
る。
剤としては２,５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノリン等
のフェノール系、２,２,４−トリメチル−１,２−ジヒ
ドロキノリン等のアミン−ケトン系、４,４'−ビス
（α,α'−ジメチルベンジル）ジフェニルアミン等の芳
香族第二級アミン系などの化合物を挙げることができ
る。
【００３４】紫外線吸収剤としては２,４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、ビス（２,２,
６,６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等
のアミン系、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系等
の化合物を挙げることができる。
シベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、ビス（２,２,
６,６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等
のアミン系、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系等
の化合物を挙げることができる。
【００３５】本発明の組成物の製造方法としては、通常
の混合装置が用いられ、フッ素ゴムとアクリルゴムおよ
び配合剤をオープンロールにて混合する方法、密閉式混
合機等を用いる方法、エマルジョン混合から共凝析する
方法等が挙げられる。また、これらの方法を併用しても
良い。
の混合装置が用いられ、フッ素ゴムとアクリルゴムおよ
び配合剤をオープンロールにて混合する方法、密閉式混
合機等を用いる方法、エマルジョン混合から共凝析する
方法等が挙げられる。また、これらの方法を併用しても
良い。
【００３６】得られた組成物は公知の加硫条件で任意の
形状の成形物に加硫成形することができる。
形状の成形物に加硫成形することができる。
【００３７】従って、ガスケットの機能を有する任意の
形状のものを得ることができる。次に、加硫成形して得
た成形物は加熱処理されるが、処理温度が低いと揮発分
を揮発させるために長時間を必要とし経済的でなく、高
温であるとゴム自体が分解する可能性がある。したがっ
て、加熱処理は150℃〜250℃で1時間から48時間排気を
十分に行って行う。好ましくは180℃〜230℃で4時間〜2
4時間がよい。
形状のものを得ることができる。次に、加硫成形して得
た成形物は加熱処理されるが、処理温度が低いと揮発分
を揮発させるために長時間を必要とし経済的でなく、高
温であるとゴム自体が分解する可能性がある。したがっ
て、加熱処理は150℃〜250℃で1時間から48時間排気を
十分に行って行う。好ましくは180℃〜230℃で4時間〜2
4時間がよい。
【００３８】高温でのゴムの分解を抑制するために真空
下あるいは不活性ガス気流中で加熱処理を行っても良
い。
下あるいは不活性ガス気流中で加熱処理を行っても良
い。
【００３９】
【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例に基づきよ
り詳細に説明する。 製造例１ ａ）アクリルゴムの重合 温度計、撹拌機、窒素導入管および減圧装置を備えたセ
パラブルフラスコ中に、水 ４８０部、重炭酸ナトリウ
ム ０.２４部、ラウリル硫酸ナトリウム０.４８部、ノ
ニポール２００（ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル）０.４８部及び表１の単量体混合物１００部を
仕込み、脱気、窒素置換を繰り返しつつ系内の酸素を十
分に除去した後、ハイドロサルファイトナトリウム ０.
０１部、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート
０.００２部及び第３ブチルハイドロパーオキシド０.
００５部を加え５０℃で重合反応を開始させた。重合転
化率が９５〜９９％の範囲内になるよう６時間反応させ
た後、反応物を塩析し、十分水洗、乾燥しアクリルゴム
を得た。尚、ＥＡはエチルアクリレートを、ＢＡはブチ
ルアクリレートを、ＡＮはアクリルニトリルを示す。ア
リルメタクリレート（以下ＡＭＡと略す）は三菱レイヨ
ン（株）製の製品名アクリエステルＡをそのまま使用し
た。
り詳細に説明する。 製造例１ ａ）アクリルゴムの重合 温度計、撹拌機、窒素導入管および減圧装置を備えたセ
パラブルフラスコ中に、水 ４８０部、重炭酸ナトリウ
ム ０.２４部、ラウリル硫酸ナトリウム０.４８部、ノ
ニポール２００（ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル）０.４８部及び表１の単量体混合物１００部を
仕込み、脱気、窒素置換を繰り返しつつ系内の酸素を十
分に除去した後、ハイドロサルファイトナトリウム ０.
０１部、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート
０.００２部及び第３ブチルハイドロパーオキシド０.
００５部を加え５０℃で重合反応を開始させた。重合転
化率が９５〜９９％の範囲内になるよう６時間反応させ
た後、反応物を塩析し、十分水洗、乾燥しアクリルゴム
を得た。尚、ＥＡはエチルアクリレートを、ＢＡはブチ
ルアクリレートを、ＡＮはアクリルニトリルを示す。ア
リルメタクリレート（以下ＡＭＡと略す）は三菱レイヨ
ン（株）製の製品名アクリエステルＡをそのまま使用し
た。
【００４０】
【表１】
【００４１】ｂ）フッ素ゴムの重合 内容積３リットルのＳＵＳ製重合槽に、純水１リットル
および乳化剤としてＣ 7Ｆ15ＣＯＯＮＨ4 ２gを仕込み、
系内を窒素ガスで十分に置換した後、８０℃で、ＶdＦ
／ＨＦＰ／ＴＦＥの初期モノマー混合物を内圧が１６kg
／cm2Ｇになるように圧入した。次いで、過硫酸アンモ
ニウムの０.２重量％水溶液１０mlを圧入して反応を開
始した。
および乳化剤としてＣ 7Ｆ15ＣＯＯＮＨ4 ２gを仕込み、
系内を窒素ガスで十分に置換した後、８０℃で、ＶdＦ
／ＨＦＰ／ＴＦＥの初期モノマー混合物を内圧が１６kg
／cm2Ｇになるように圧入した。次いで、過硫酸アンモ
ニウムの０.２重量％水溶液１０mlを圧入して反応を開
始した。
【００４２】重合反応の進行に伴って圧力が低下するの
で、１５kg／cm2Ｇまで低下した時点で分子量調節剤で
あるＩ(ＣＦ2)4Ｉを圧入し、圧力がさらに１４kg／cm2
Ｇまで低下した時点でＶdＦ／ＨＦＰ／ＴＦＥの連続モ
ノマー混合物で１６kg／cm2Ｇまで再加圧し、降圧、昇
圧を繰り返しつつ、３時間毎に上記過硫酸アンモニウム
水溶液各１０mlを窒素ガスで圧入して反応を継続し、水
性乳濁液を得た。
で、１５kg／cm2Ｇまで低下した時点で分子量調節剤で
あるＩ(ＣＦ2)4Ｉを圧入し、圧力がさらに１４kg／cm2
Ｇまで低下した時点でＶdＦ／ＨＦＰ／ＴＦＥの連続モ
ノマー混合物で１６kg／cm2Ｇまで再加圧し、降圧、昇
圧を繰り返しつつ、３時間毎に上記過硫酸アンモニウム
水溶液各１０mlを窒素ガスで圧入して反応を継続し、水
性乳濁液を得た。
【００４３】この水性乳濁液に、５重量％のカリみょう
ばん水溶液を添加して凝析を行い、凝析物を水洗、乾燥
してゴム共重合体を得た。初期モノマー混合物、Ｉ(Ｃ
Ｆ2)4Ｉ量、連続モノマー混合物、反応時間、得量につ
いては表２に示す通りである。ここで２ＦはＶdＦ（ビ
ニリデンフルオライド）、４ＦはＴＦＥ（テトラフルオ
ロエチレン）、６ＦはＨＦＰ（ヘキサフルオロプロピレ
ン）を示す。
ばん水溶液を添加して凝析を行い、凝析物を水洗、乾燥
してゴム共重合体を得た。初期モノマー混合物、Ｉ(Ｃ
Ｆ2)4Ｉ量、連続モノマー混合物、反応時間、得量につ
いては表２に示す通りである。ここで２ＦはＶdＦ（ビ
ニリデンフルオライド）、４ＦはＴＦＥ（テトラフルオ
ロエチレン）、６ＦはＨＦＰ（ヘキサフルオロプロピレ
ン）を示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】共重合体の数平均分子量は、次に示す方法
で求めた。 ＜分子量測定条件＞ ゲルパーミエーションクロマトグラフ：高速ＧＰＣ装置
ＨＬＣ−８０２０〔東ソー（株）製〕 カラム：ＴＳＫguard column Ｈhr−Ｈ （１本）ＴＳ
Ｋgel−Ｇ５０００Ｈ，−Ｇ４０００Ｈ，−Ｇ３０００
Ｈ，−Ｇ２０００Ｈ（各１本）〔東ソー（株）製〕 検出器：ＲＩ検出器（示差屈折計） ＨＬＣ−８０２０
に内蔵 データ解析：スーパーシステムコントローラー ＳＣ−
８０２０〔東ソー（株）製〕 展開溶媒：テトラヒドロフラン 温度：３５℃ 濃度：０.５重量％ 分子量検量線用標準ポリマー：単分散ポリスチレン各種
ＴＳＫ standardＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮ 〔Ｍw／Ｍn
＝１.１４（max）〕 〔東ソー（株）製〕 共重合体の組成は１９Ｆ ＮＭＲ測定により求めた。ム
ーニー粘度はＪＩＳ Ｋ ６３００に従って、測定を行
った。
で求めた。 ＜分子量測定条件＞ ゲルパーミエーションクロマトグラフ：高速ＧＰＣ装置
ＨＬＣ−８０２０〔東ソー（株）製〕 カラム：ＴＳＫguard column Ｈhr−Ｈ （１本）ＴＳ
Ｋgel−Ｇ５０００Ｈ，−Ｇ４０００Ｈ，−Ｇ３０００
Ｈ，−Ｇ２０００Ｈ（各１本）〔東ソー（株）製〕 検出器：ＲＩ検出器（示差屈折計） ＨＬＣ−８０２０
に内蔵 データ解析：スーパーシステムコントローラー ＳＣ−
８０２０〔東ソー（株）製〕 展開溶媒：テトラヒドロフラン 温度：３５℃ 濃度：０.５重量％ 分子量検量線用標準ポリマー：単分散ポリスチレン各種
ＴＳＫ standardＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮ 〔Ｍw／Ｍn
＝１.１４（max）〕 〔東ソー（株）製〕 共重合体の組成は１９Ｆ ＮＭＲ測定により求めた。ム
ーニー粘度はＪＩＳ Ｋ ６３００に従って、測定を行
った。
【００４６】
【表３】
【００４７】上記のアクリルゴムとフッ素ゴムを50/50
wt．%で混合した。 実施例１ 製造例１で得られたアクリルゴムとフッ素ゴムを50/50
wt．%含むゴム組成物100重量部にカーボンブラックとし
てシースト１１６（MAFカーボンブラック、東海カーボ
ン（株）製商品名）20重量部、加硫剤としてTAIC（日本
化成（株）製商品名）１重量部、パーオキサイドとして
パーヘキサ2.5B（日本油脂（株）製商1.5重量部を添加
混練した。得られた混練物を160℃で10分の条件でプレ
ス成形した後180℃、4時間の熱処理に供してハードディ
スクドライブガスケットを製造した。加硫物の硬度は５
５であった。 比較例１ パーオキサイド系のフッ素ゴム（ＶｄＦ／ＨＦＰ＝７８
／２２モル％）100重量部にカーボンブラックとしてMT
カーボンブラック（Cancarb製商品名）20重量部、加硫
剤としてTAIC（日本化成（株）製商品名）３重量部、パ
ーオキサイドとしてパーヘキサ2.5B（日本油脂（株）製
商品名）1.5重量部を添加混練した。得られた混練物を1
60℃で10分の条件でプレス成形した後180℃、4時間の熱
処理に供してハードディスクドライブガスケットを製造
した。加硫物の硬度は６５であった。
wt．%で混合した。 実施例１ 製造例１で得られたアクリルゴムとフッ素ゴムを50/50
wt．%含むゴム組成物100重量部にカーボンブラックとし
てシースト１１６（MAFカーボンブラック、東海カーボ
ン（株）製商品名）20重量部、加硫剤としてTAIC（日本
化成（株）製商品名）１重量部、パーオキサイドとして
パーヘキサ2.5B（日本油脂（株）製商1.5重量部を添加
混練した。得られた混練物を160℃で10分の条件でプレ
ス成形した後180℃、4時間の熱処理に供してハードディ
スクドライブガスケットを製造した。加硫物の硬度は５
５であった。 比較例１ パーオキサイド系のフッ素ゴム（ＶｄＦ／ＨＦＰ＝７８
／２２モル％）100重量部にカーボンブラックとしてMT
カーボンブラック（Cancarb製商品名）20重量部、加硫
剤としてTAIC（日本化成（株）製商品名）３重量部、パ
ーオキサイドとしてパーヘキサ2.5B（日本油脂（株）製
商品名）1.5重量部を添加混練した。得られた混練物を1
60℃で10分の条件でプレス成形した後180℃、4時間の熱
処理に供してハードディスクドライブガスケットを製造
した。加硫物の硬度は６５であった。
【００４８】実施例１及び比較例１において、前記混練
物を160℃で10分の条件でプレス成形した後180℃、4時
間の熱処理に供してテストピース（厚さ２ｍｍ）を各々
作製した。得られたテストピースについて、Ｍ１００
（１００％モジュラス）、Ｔｂ（引張強度）、Ｅｂ（引
張伸び）、Ｈｓ（硬度）及びＣｓ（圧縮永久歪み）を、
いずれもＪＩＳ Ｋ６３０１に準じて測定した。結果を
表４に示す。
物を160℃で10分の条件でプレス成形した後180℃、4時
間の熱処理に供してテストピース（厚さ２ｍｍ）を各々
作製した。得られたテストピースについて、Ｍ１００
（１００％モジュラス）、Ｔｂ（引張強度）、Ｅｂ（引
張伸び）、Ｈｓ（硬度）及びＣｓ（圧縮永久歪み）を、
いずれもＪＩＳ Ｋ６３０１に準じて測定した。結果を
表４に示す。
【００４９】
【表４】
【００５０】
【発明の効果】本発明によれば、硬度が適度なハードデ
ィスクドライブガスケットが得られる。
ィスクドライブガスケットが得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 11/00 Ｃ０８Ｌ 11/00 23/16 23/16 23/22 23/22 23/28 23/28 23/34 23/34 33/08 33/08 71/03 71/03 75/04 75/04 83/04 83/04 Ｆ１６Ｊ 15/10 Ｆ１６Ｊ 15/10 Ｄ Ｙ (72)発明者 大谷 充宏 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 松本 和久 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 Ｆターム(参考） 3J040 BA01 EA19 FA06 HA07 HA15 4F070 AA05 AA06 AA07 AA08 AA09 AA13 AA16 AA23 AA32 AA52 AA53 AA60 AB04 AB06 AB08 AC24 GA05 GB02 GB10 GC01 4J002 AC01X AC03X AC06X AC07X AC08X AC09X AC11X BB07X BB15X BB18X BB24X BB27X BC05X BD12W BD14W BD15W BD16W BG04X BG10X CH02X CH04X CK00X CP03X EK016 EK036 EK046 EK056 EK086 FD010 FD020 FD030 FD050 FD070 FD146 FD150 GJ02 GS00
Claims (7)
- 【請求項１】1)フッ素ゴム及び2)天然ゴム（ＮＲ）、合
成天然ゴム（ＩＲ）、エチレン／プロピレンゴム（ＥＰ
Ｍ）、エチレン／プロピレン／第３ジエン成分ゴム（Ｅ
ＰＤＭ）、ブタジエン／スチレンゴム（ＳＢＲ）、ポリ
ブタジエンゴム（ＢＲ）、ハロゲン化ブチルゴム（ハロ
ゲンは塩素または臭素）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、
イソブチレン／イソプレンゴム（ＩＩＲ）、ブタジエン
／アクリロニトリルゴム（ＮＢＲ）及びその水素添加物
（Ｈ−ＮＢＲ）、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム
（ＣＳＭ）、アクリルゴム（ＡＣＭ、ＡＮＭ）、エチレ
ン／アクリルゴム（ＡＥＭ）、エピクロルヒドリンゴム
（ＣＯ）、エピクロルヒドリン／エチレンオキサイドゴ
ム（ＣＨＣ）、ポリウレタンゴム及びシリコンゴムから
なる群から選ばれる少なくとも１種の非フッ素ゴムを含
むハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物。 - 【請求項２】フッ素ゴムに非フッ素ゴムが5〜95/95〜5
の重合比で配合された請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】フッ素ゴムが、パーオキサイドによって架
橋可能なフッ素ゴムである請求項２に記載の組成物。 - 【請求項４】 非フッ素ゴムが、フッ素ゴムとのパーオ
キサイド共架橋を可能にする官能基と（メタ）アクリル
酸エステルとの共重合を可能にする官能基をそれぞれ有
する多官能モノマーを０.１〜１.５重量％共重合したア
クリルゴムである請求項３に記載の組成物。 - 【請求項５】 多官能モノマーがアリル（メタ）アクリ
レートである請求項４に記載の組成物。 - 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の組成物を
加硫して得られるハードディスクドライブガスケット。 - 【請求項７】150℃〜250℃の温度で熱処理されたもので
ある請求項６に記載のガスケット。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000084903A JP2000344987A (ja) | 1999-03-26 | 2000-03-24 | ハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-84582 | 1999-03-26 | ||
| JP8458299 | 1999-03-26 | ||
| JP2000084903A JP2000344987A (ja) | 1999-03-26 | 2000-03-24 | ハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000344987A true JP2000344987A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=26425599
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000084903A Pending JP2000344987A (ja) | 1999-03-26 | 2000-03-24 | ハードディスクドライブガスケット用ゴム組成物 |
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| JP (1) | JP2000344987A (ja) |
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