JP2000323046A

JP2000323046A - プラズマディスプレイ部材およびその製造方法

Info

Publication number: JP2000323046A
Application number: JP13102899A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Uchida; 哲夫内田; Yukichi Deguchi; 雄吉出口; Yuichiro Iguchi; 雄一朗井口
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-05-12
Filing date: 1999-05-12
Publication date: 2000-11-24

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】端部の剥がれのない隔壁を有するプラズマディ
スプレイ部材を提供する。【解決手段】隔壁パターンが長手方向端部に対してその
幅が減衰していく形状であり、隔壁パターン幅（ＳＷ）
と、隔壁パターン端部幅（ＥＷ）、隔壁パターン幅の減
衰域長さ（ＣＬ）が次式を満足するようにする。ＥＷ≦０．８×ＳＷ（１）ＣＬ≧５×ＳＷ（２）その製造方法は基板上に感光性隔壁用ペーストを塗布
し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光
し、現像、焼成する。又は所望の隔壁パターンが刻印さ
れた金型または樹脂型に隔壁用ペーストを充填し基板上
に転写、次いで焼成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ部材およびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰということがある）は、液晶パネルに比べ高速表示
が可能であり、かつ大型化が容易であることから、ＯＡ
機器および広報表示装置などの分野で広く用いられてい
る。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が期
待されている。

【０００３】このような用途拡大に伴って、繊細で多数
の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。Ｐ
ＤＰは、前面ガラス基板（前面板）と背面ガラス基板
（背面板）との間に設けられた放電空間内で、対向する
アノード／カソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、
上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外
線を、放電空間内に設けた蛍光体にあてることにより表
示を行うものである。この場合、放電の広がりを一定領
域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、均
一な放電空間を確保するために隔壁（障壁、リブともい
う）が設けられている。

【０００４】上記隔壁は、およそ幅３０〜８０μｍ、高
さ７０〜１６０μｍであるが、通常は前面ガラス基板や
背面ガラス基板に、ガラスからなる絶縁ペーストをスク
リーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷・乾燥工程を１
０数回繰り返して所定の高さに形成する。

【０００５】また、特開平１−２９６５３４号公報、特
開平２−１６５５３８号公報、特開平５−３４２９９２
号公報、特開平６−２９５６７６号公報、特開平８−５
０８１１号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いてフ
ォトリソグラフィー技術により形成する方法が提案され
ている。

【０００６】さらに、特開平９−１３４６７６号公報で
は、ガラス粉末とバインダーとの混合物を、隔壁用の凹
部を有する成型型中に充填して得た成型体と、ガラス基
板とを一体化してなるＰＤＰ表示用基板が提案されてい
る。

【０００７】上記のいずれの方法においても、ガラスか
らなる絶縁性のペースト状物を隔壁パターン形状に形成
した後、焼成することにより隔壁を形成する。しかしな
がらこれらの方法では、隔壁の長手方向端部において、
隔壁上部と下部の焼成収縮差により、隔壁がガラス基板
から剥がれるという問題があった。

【０００８】この剥がれが隔壁端部にあると、前面板と
背面板を合わせてパネルを形成した際に、背面板の隔壁
頂部と前面板の間にギャップが生じる。このギャップに
より、放電時にクロストークを発生させ、映像に乱れを
生じさせる場合があった。

【０００９】上記した隔壁の剥がれを防止する方法とし
て、特開平６−１５０８２８号公報には、隔壁を多層構
造にして、上層と下層の組成を変え、下層に上層よりも
低融点のガラスを設ける方法が、また、特開平６−１５
０８３１号公報には、端部の下地にアンダーガラス層を
設ける方法が提案されている。しかしながら、いずれの
方法においても隔壁と下地の接着力を上げることはでき
ても、収縮応力差をなくすことはできず、剥がれを防ぐ
には十分でなかった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、隔壁端部の
剥がれがなく、極めて均一な表示品位を有するものが得
られるプラズマディスプレイを提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、隔
壁パターンが設けられたプラズマディスプレイ部材であ
って、前記隔壁パターンの長手方向端部に対してその幅
が減衰していく形状であり、隔壁パターン幅（ＳＷ）
と、隔壁パターン端部幅（ＥＷ）、隔壁パターン幅の減
衰域長さ（ＣＬ）が次式を満足することを特徴とするプ
ラズマディスプレイ用基板を要旨とするものである。

【００１２】ＥＷ≦０．８×ＳＷ（１）ＣＬ≧５×ＳＷ（２）さらに本発明は、基板上に感光性隔壁用ペーストを塗布
し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光
し、現像、焼成することによって基板上に隔壁パターン
が設けられたプラズマディスプレイ部材を製造する方法
であって、前記フォトマスクのパターンが、長手方向端
部に対してその幅が減衰していくパターンであることを
特徴とするプラズマディスプレイ部材の製造方法を要旨
とするものである。

【００１３】さらにまた本発明は、所望の隔壁パターン
が刻印された金型または樹脂型に隔壁用ペーストを充填
し基板上に転写、次いで焼成することによって基板上に
隔壁パターンが設けられたプラズマディスプレイ部材を
製造する方法であって、前記金型または樹脂型に刻印さ
れた隔壁パターンが長手方向端部に対してその幅が減衰
していく形状であることを特徴とするプラズマディスプ
レイ部材の製造方法を要旨とするものである。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明でいうプラズマディスプレ
イ部材とは、基板上に少なくとも隔壁パターンが形成さ
れたものである。ここでいう基板とは、特に限定される
ものではないが、中でもガラス基板が好ましく使用さ
れ、ガラス基板としては、通常のソーダガラスや高歪み
点ガラス（例えば旭硝子社製ＰＤ−２００）などが好ま
しく使用される。

【００１５】以下本発明を図を用いて具体的に説明す
る。

【００１６】図１は、本発明のプラズマディスプレイ部
材における、隔壁パターンの長手方向端部の一例を示す
斜視図であり、ガラス基板１上に隔壁パターン２が形成
されている。本発明は、前記隔壁パターンの端部の形状
を、長手方向端部に対してその幅を減衰していく形状と
することで、隔壁上部と下部の焼成収縮差に起因する隔
壁の剥がれを防止することを可能としたものである。

【００１７】なお、この隔壁パターン幅の減衰域は、隔
壁長手方向の両端部に形成することが、パネル封着時の
前面板と背面板間のギャップムラをなくす上で好まし
い。

【００１８】図２は、隔壁パターン幅の減衰部の長さ
（ＣＬ）、隔壁パターン幅（ＳＷ）、隔壁パターン端部
幅（ＥＷ）について説明する図である。本発明において
は、その幅が減衰していく領域以外のほぼ一定の幅の隔
壁パターンの頂部幅を隔壁パターン幅（ＳＷ）、その幅
が減衰した隔壁パターン最端部の頂部幅を隔壁パターン
端部幅（ＥＷ）、その幅が減衰していく領域の長手方向
の長さを隔壁パターン幅の減衰部の長さ（ＣＬ）と定義
する。

【００１９】本発明で隔壁パターン端部幅（ＥＷ）と隔
壁パターン幅（ＳＷ）は次式（１）の関係である必要が
ある。

【００２０】ＥＷ≦０．８×ＳＷ（１）また、隔壁パターン幅の減衰長さ（ＣＬ）と隔壁パター
ン幅（ＳＷ）は次式（２）の関係である必要がある。

【００２１】ＣＬ≦５×ＳＷ（２）このような関係とすることで、隔壁上部と下部の焼成収
縮差に起因する隔壁の剥がれを防止することができる。

【００２２】本発明で隔壁パターン幅の減衰部長さ（Ｃ
Ｌ）は、５ｍｍ以下、好ましくは４．５ｍｍ以下、さら
には４ｍｍ以下であることが好ましい。前記長さを越え
ると、ＰＤＰとした場合に、画像表示領域が狭くなるた
め好ましくない。

【００２３】本発明の隔壁パターン断面は図３に示すよ
うな矩形状、あるいは図４あるいは図５に示すような底
部幅が頂部幅より広い形状であることが好ましい。具体
的には隔壁パターン頂部幅（ＴＷ）と隔壁パターン底部
（ＢＷ）が次式（３）の関係であることが好ましい。こ
こで、ＴＷおよびＢＷはそれぞれその幅が減衰していく
領域以外のほぼ一定の幅の隔壁パターンの領域における
頂部および底部の幅である。

【００２４】ＴＷ≦ＢＷ≦４×ＴＷ（３）隔壁底部幅が隔壁頂部幅より狭い場合は、隔壁の機械的
強度が低下し、パネル封着時に隔壁が倒れる恐れがある
ため好ましくない。また、隔壁底部幅が前記範囲を越え
ると、ＰＤＰとした場合、放電領域が狭くなり輝度が低
下するばかりか、隔壁端部あるいは全体が剥がれる恐れ
があるため好ましくない。

【００２５】さらに本発明の隔壁パターンは、図６のよ
うにその長手方向の端部が深さ方向に対して、テーパー
状であることが好ましい。このような形状とすること
で、隔壁上部と下部の焼成収縮差に起因する剥がれをよ
り抑えられるばかりでなく、隔壁の跳ね上がり、盛り上
がりをも解消でき、ＰＤＰとした場合、極めて均一な表
示品位を得ることができる。

【００２６】本発明のプラズマディスプレイ部材を構成
する隔壁パターンを形成する方法としては、例えばスク
リーン印刷法、サンドブラスト法、金型あるいは樹脂型
転写法、感光性ペースト法、リフトオフ法などを適用で
きるが、本発明のような隔壁パターン端部とするため
に、形状制御が比較的容易に行える、感光性ペースト
法、金型あるいは樹脂型形成法が好ましく適用される。

【００２７】感光性ペースト法を適用する場合には、目
的とする隔壁端部形状に対応した、長手方向端部に対し
てその幅が減衰していくパターンであるフォトマスクを
準備し、基板上に塗布した感光性の隔壁用ガラスペース
トを該フォトマスクを介して露光し、未硬化部分を現像
液により溶解除去、所望の温度で焼成することで本発明
の隔壁パターンを形成できる。このとき、隔壁の頂部幅
と底部幅は露光量を調整することで制御できる。

【００２８】また、金型あるいは樹脂型形成法を適用す
る場合には、目的とする隔壁端部形状に対応した、刻印
された隔壁パターンが長手方向端部に対してその幅が減
衰していく形状である金型あるいは樹脂型を準備し、該
型に隔壁用ガラスペーストを埋め込み、該ガラスペース
トを基板に転写する、あるいは基板上にガラスペースト
を塗布し、該型を押し込むことでパターンを転写し、次
いで焼成することによって本発明の隔壁パターンを形成
することができる。

【００２９】ここで用いるガラスペーストは、ガラス粉
末を有機成分（感光性ペースト法を適用する場合は感光
性有機成分）と混練したペーストである。前記ガラス粉
末は、ガラス転移点が４００〜５５０℃、軟化点が４５
０〜５８０℃のガラス材料で構成されるものとすること
が好ましい。ガラス転移点、軟化点が前記範囲より高い
と、隔壁を高温で焼成しなければならず、焼成の際に基
板に歪みが生じることがある。また前記範囲より低い
と、隔壁の緻密性が低下するばかりか、隔壁の剥がれ、
断線、蛇行の原因となることがある。

【００３０】なお、本発明においてガラス転移点、軟化
点が次の方法で測定される値を意味するものとする。す
なわち、示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガラス資料
１００ｍｇを２０℃／分の昇温速度により空気中で加熱
し、横軸に温度、縦軸に熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線
を描き、ＤＴＡ曲線よりガラス転移点と軟化点を読みと
る。

【００３１】さらに、基板ガラスに用いられる一般的な
高歪み点ガラスの熱膨張係数が８０〜９０×１０^-7／Ｋ
であることから、基板の反り、パネル封着時の割れを防
止する点、隔壁の剥がれや断線を防ぐ点から、上記ガラ
ス材料の５０〜４００℃の熱膨張係数（α₅₀〜₄₀₀）
が、５０〜９０×１０^-7／Ｋ、特に６０〜９０×１０^-7
／Ｋであることが好ましい。

【００３２】具体的なガラス粉末の組成としては、酸化
鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物を合計
で３０〜９０重量％含有するガラス粉末を挙げることが
できる。前記金属酸化物の含有量が３０重量％未満の場
合は軟化点の制御が難しく、９０重量％を越えると、ガ
ラスの安定性が低くなり、ペーストの保存安定性が低下
する傾向があるので好ましくない。

【００３３】また、酸化リチウム、、酸化ナトリウム、
酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物を合計で２〜
１０重量％含有するガラスであると、軟化点や熱膨張係
数のコントロールが容易になる。前記アルカリ金属酸化
物の合計含有量が２重量％より小さい時は、軟化点の制
御が難しくなる。また１０重量％を越えると、ＰＤＰと
した場合放電時にアルカリ金属酸化物の蒸発によって輝
度低下をもたらすおそれがある。特にアルカリ金属酸化
物の添加量は、ペーストの安定性の点から８重量％より
小さいことが好ましく、より好ましくは６重量％以下で
ある。

【００３４】さらに、上記した酸化鉛、酸化ビスマス、
酸化亜鉛のような金属酸化物と、酸化リチウム、酸化ナ
トリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の
両方を含有するガラスを用いることによって、より低い
アルカリ金属含有量で軟化点や熱膨張係数の制御が容易
になる。

【００３５】その他、ガラス粉末中に他の金属酸化物、
例えば酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウ
ム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウムなどを添加す
ることができる。

【００３６】前記ガラス粉末の粒子径は、作製しようと
する隔壁パターンの線幅や高さを考慮して適宜選択され
るが、５０体積％粒子径（平均粒子径Ｄ５０）が１〜６
μｍ、最大粒子径サイズが３０μｍ以下、比表面積が
１．５〜４ｍ²／ｇであることが好ましい。より好まし
くは１０体積％粒子径（Ｄ１０）が０．４〜２μｍ、５
０体積％粒子径（Ｄ５０）が１．５〜６μｍ、９０体積
％粒子径（Ｄ９０）が４〜１５μｍ、最大粒子径サイズ
が２５μｍ以下、比表面積が１．５〜３．５ｍ²／ｇで
ある。さらにこのましくはＤ５０が２〜４μｍ、比表面
積が１．５〜３ｍ ²／ｇである。

【００３７】本発明でガラス粉末粒子径の測定方法は特
に限定されるものではないが、レーザー回析・散乱法を
用いるのが簡便に測定できるので好ましい。例えば、粒
度分布計ＨＲＡ９３２０−Ｘ１００（マイクロトラック
社製）を用いた場合の測定条件は下記の通りである。

【００３８】試料量：１ｇ分散条件：精製水中で１〜１．５分間超音波分散。分
散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム
水溶液中で行う。

【００３９】さらに、ガラスペースト中に軟化点が５５
０〜１２００℃、さらに好ましくは６５０〜８００℃で
あるフィラーを、ガラス粉末とフィラーの合計に対して
３〜６０重量％含ませてもよい。これにより、パターン
形成後の焼成での収縮率が小さくなり、パターン形成が
容易になり、焼成時の形状保持性が向上する。

【００４０】フィラーとしては、チタニア、アルミナ、
チタン酸バリウム、ジルコニウムなどのセラミックや酸
化珪素、酸化アルミニウムを１５重量％以上含有する高
融点ガラス粉末が好ましい。好ましい例として、以下の
組成を含有するガラス粉末を挙げることができる。

【００４１】酸化珪素：２５〜５０重量％酸化ホウ素：５〜２０重量％酸化アルミニウム：２５〜５０重量％酸化バリウム：２〜１０重量％フィラーの粒子径としては、平均粒子径１〜６μｍのも
のが好ましい。また、Ｄ１０が０．４〜２μｍ、Ｄ５０
が１〜３μｍ、Ｄ９０が３〜８μｍ、最大粒子サイズが
１０μｍ以下の粒度分布を有するものを使用することが
パターン形成を行う上で好ましい。より好ましくはＤ９
０は３〜５μｍ、最大粒子サイズが５μｍ以下である。
Ｄ９０が３〜５μｍの細かい粉末であることが、焼成収
縮率を低くし、かつ気孔率が低い隔壁を作製する点で優
れていることから好ましい。また隔壁上部の長手方向の
凹凸が±２μｍ以下となり平坦性の優れた隔壁となる。
フィラーに大きい粒径の粉末を用いると、気孔率が上昇
するばかりでなく、隔壁上部の凹凸が大きくなり、誤放
電を引き起こす傾向があり好ましくない。

【００４２】また、ガラスペースト中に含まれる有機成
分としては、エチルセルロースに代表されるセルロース
化合物、ポリイソブチルメタクリレートに代表されるア
クリルポリマーなどを用いることができる。また、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル
酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリ
ル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メ
チルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などが
挙げられる。

【００４３】その他、ガラスペーストには必要に応じて
各種添加剤を使用することができ、粘度を調整したい場
合は有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機
溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、
アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソ
ブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラク
トン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベン
ゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息
香酸、テルピネオールなどやこれらのうち１種以上を含
有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００４４】ガラスペーストは、例えば上記した無機微
粒子、有機成分、有機溶媒、その他必要に応じて添加さ
れる増粘剤、可塑剤および沈降防止剤などの添加物を３
本ローラー混練機等で混練することにより製造でき、そ
の粘度は添加割合によって適宜調整されるが、その粘度
の好ましい範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポ
イズ）である。ガラス基板上に隔壁パターンを転写した
後の形状保持性を高くするためには１万〜１０万ｃｐｓ
がより好ましい。

【００４５】さらに本発明においては、隔壁形成前に予
めガラス基板上に誘電体層を設けると、隔壁の密着性が
増大して剥がれが一層抑制される点で好ましい。

【００４６】この時、誘電体層の厚みは５〜２０μｍ、
より好ましくは８〜１５μｍであることが均一な誘電体
層を形成できる点で好ましい。厚みが２０μｍを越える
と、焼成の際脱媒（脱脂）が困難でありクラックが生じ
やすい。またガラス基板へかかる応力が大きいために基
板が反る等の問題が生じることがある。また、５μｍ未
満では厚みの均一性を保持しにくい。

【００４７】誘電体層を形成する場合、特に、誘電体層
用塗布膜（以下、単に塗布膜という）上に隔壁パターン
を形成した後、隔壁パターンと塗布膜を同時に焼成する
ことにより形成すると、塗布膜と隔壁の脱媒（脱脂）が
同時に起こるため、隔壁の脱媒（脱脂）による収縮応力
が緩和され、隔壁パターンと塗布膜の焼成を別々に行っ
た場合よりも一層剥がれや断線を防止できる。さらに、
隔壁と塗布膜を同時に焼成すると工程が少なくすむとい
う利点がある。

【００４８】また、誘電体層は、５０〜４００℃の範囲
の熱膨張係数α₅₀〜₄₀₀の値が７０〜８５×１０^-7／
Ｋ、より好ましくは７２〜８０×１０^-7／Ｋであるガラ
スを主成分とすることが、基板ガラスの熱膨張係数と整
合し、焼成の際にガラス基板にかかる応力を減らす点で
好ましい。８５×１０^-7／Ｋを越えると、誘電体層の形
成面側に基板が反るような応力がかかり、７０×１０^-7
／Ｋ未満では誘電体層のない面側に基板が反るような応
力がかかる。このため、基板の加熱、冷却を繰り返すと
基板が割れる場合がある。またＰＤＰとする際の前面板
との封着時に、基板の反りのために両基板が平行になら
ず封着できない場合もある。

【００４９】さらに誘電体層の気孔率は１０％以下であ
ることが好ましい。気孔率が１０％より大きいと、密着
強度が低下するのに加え、強度不足、また放電時に気孔
から排出されるガス、水分の吸着による輝度低下などの
発光特性低下の原因になる。パネルの放電寿命、輝度安
定性などの発光特性を考慮すると、さらに好ましくは１
％以下がよい。

【００５０】上記した各製造方法において、ガラス基板
上に形成された隔壁パターンは、４００〜６００℃で焼
成され所望の隔壁パターンとなる。焼成雰囲気や温度
は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、
窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、
バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いるこ
とができる。

【００５１】より具体的には、昇温速度２００〜４００
℃／時間で４００〜６００℃の温度とし、この温度を１
０〜６０分間保持して焼成を行う。なお、焼成温度は用
いるガラス粉末によって決まるが、パターン形成後の形
が崩れず、かつガラス粉末の形状が残らない適正な温度
で焼成するのが好ましい。

【００５２】適正温度より低いと、気孔率、隔壁上部の
凹凸が大きくなり、放電寿命が短くなったり、誤放電を
起こしやすくなったりするため好ましくない。

【００５３】また、適正温度より高いとパターン形成時
の形状が崩れ、隔壁上部が丸くなったり、極端に高さが
低くなり、所望の高さが得られないため好ましくない。

【００５４】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。ただし本発明はこれに限定されるものではない。
尚、実施例中の濃度は断りない場合は重量％である。実施例１〜４、比較例１〜３（１）電極層形成平均粒径３μｍの銀粉末を含む感光性銀ペーストを用い
て、ピッチ３６０μｍ、線幅１５０μｍのストライプ状
電極（銀含有量９５％）パターンを形成した３００ｍｍ
角のガラス基板（旭硝子社製ＰＤ−２００）を空気中で
５９０℃、３０分間焼成することで、厚み５μｍの電極
層を形成した。（２）誘電体層形成誘電体層形成用のガラスとして、次のような組成と特性
を有するものを使用した。

【００５５】ガラスの組成：酸化ビスマス３５％、酸化
珪素７％、酸化硼素２１％、酸化バリウム１３％、酸化
アルミニウム３％、酸化亜鉛２１％ガラスの特性：平均粒径３．４μｍ、ガラス転移点４６
６℃、軟化点（Ｔｓｄ）４８０℃、熱膨張係数７７×１
０^-7／Ｋ、屈折率１．７５。

【００５６】誘電体ペーストは、エチルセルロース６％
テルピネオール溶液１０重量部に上記ガラス粉末２３重
量部とフィラー成分として石原産業（株）製ルチル型チ
タニア（Ｒ−５５０）４．５重量部を分散・混合した
後、三本ローラで混練して作成した。これを上記の電極
層を形成したガラス基板の上にスクリーン印刷法で乾燥
後の厚みが１５μｍとなるように塗布し、乾燥して誘電
体ペースとの塗布膜を形成した。（３）隔壁パターン形成感光性ポリマ（Ｘ−４００７）の３４％γ−ブチロラク
トン溶液３２ｇ、感光性モノマ（ＭＧＰ４００）１０．
５ｇ、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）３．４ｇ、増感剤
（ＤＥＴＸ−Ｓ）３．４ｇ、紫外線吸光剤（スダンIV）
０．０４ｇ、下記の組成と特性を有するガラス成分４０
ｇ、高軟化点のフィラー（酸化チタン系）９ｇの割合で
混合・予備混練した後、三本ロールにかけて感光性ペー
ストを作製した。

【００５７】ガラスの組成：酸化リチウム９％、酸化珪
素２０％、酸化硼素３１％、酸化バリウム４％、酸化ア
ルミニウム２４％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム６
％、酸化カルシウム４％ガラスの特性：平均粒径２．６μｍ、ガラス転移点４７
４℃、軟化点５３５℃、熱膨張係数７９×１０^-7／Ｋ。

【００５８】感光性ペーストを乾燥厚み１８０μｍにな
るようにスクリーン印刷を複数回繰り返して塗布した。
塗布膜上に、図７のようなパターンを有するフォトマス
クを置いて、１２ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯の
露光機で露光し、０．６Ｊ／ｃｍ²の露光量を与えた。
なお、この時使用したフォトマスクは、長手方向の端部
形状の異なる数種のものを使用した。

【００５９】露光後、３５℃に保持したモノエタノール
アミンの０．２％水溶液を１２０秒間シャワーすること
により現像し、さらに水洗することで隔壁パターンを形
成した。得られた隔壁パターン形状を表１に示す。

【００６０】上記で得られた隔壁パターンと前記誘電体
層塗布膜を、５７５℃で１５分間焼成することで、プラ
ズマディスプレイ部材を得た。

【００６１】かくして得られたプラズマディスプレイ部
材の、隔壁パターン長手方向端部の状態を目視により観
察し、結果を表１に示した。

【００６２】表１からわかる通り、形状が本発明の範囲
である実施例１〜４の隔壁は、隔壁の長手方向端部の剥
がれがない良好なものであるのに対し、比較例１〜３の
隔壁は隔壁端部がめくれ上がったり、剥がれたりしたも
のであった。実施例５〜７、比較例４実施例１と同様にして、ガラス基板上に電極層および誘
電体層塗布膜を形成した。

【００６３】隔壁パターンの長手方向端部の形状が異な
り種々のパターンが刻印された金型数種用意し、該金型
に市販のプラズマディスプレイ隔壁用ペーストを充填
し、充填されたペーストを金型から前記誘電体層塗布膜
上に転写することで隔壁パターンを形成した。得られた
隔壁パターン形状を表２に示す。

【００６４】上記で得られた隔壁パターンと誘電体塗布
膜を、５７５℃で１５分間焼成することでプラズマディ
スプレイ部材を得た。

【００６５】かくして得られたプラズマディスプレイ部
材の、隔壁パターン長手方向端部の状態を目視により観
察し、結果を表２に示した。

【００６６】表２からわかる通り、形状が本発明の範囲
である実施例５〜７の隔壁は、隔壁の長手方向端部の剥
がれがない良好なものであるのに対し、比較例４の隔壁
は隔壁端部がめくれ上がったり、剥がれたりしたもので
あった。実施例８、９実施例１と同様にして、ガラス基板上に電極層および誘
電体層塗布膜を形成した。

【００６７】実施例５の金型と同様に、隔壁パターンが
刻印された金型において、長手方向端部の形状が異な
り、かつ長手方向端部に対して刻印深さが浅くなる形状
の金型を用意し、実施例５と同様に、前記誘電体層塗布
膜上に隔壁パターンを形成した。さらに該パターンを実
施例５と同じ方法で焼成しラズマディスプレイ部材を得
た。

【００６８】かくして得られたプラズマディスプレイ部
材の、隔壁パターン長手方向端部の状態を目視により観
察し、結果を表３に示した。

【００６９】表３からわかる通り、本発明の実施例は、
隔壁の長手方向の端部剥がれ、めくり上がり、さらには
盛り上がりが全くない良好なものであった。

【００７０】

【表１】

【００７１】

【表２】

【００７２】

【表３】

【００７３】略記号の説明Ｘ−４００７：４０％メタクリル酸、３０％メチルメタ
クリレート、３０％スチレンからなる共重合体のカルボ
キシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレー
トを付加反応させた重量平均分子量４３，０００、酸価
９５の側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するポリマＭＧＰ４００：X₂NCH(CH₃)CH₂(OCH₂CH(CH₃))_nNX₂ ここでX;-CH₂CH(OH)CH₂OCOCH(CH₃)=CH₂ ＩＣ−３６９：Irgacure-369（チバ・ガイギー社製品）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モリフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントン

【００７４】

【発明の効果】隔壁端部の剥がれがなく、極めて均一な
表示品位を有するものが得られるプラズマディスプレイ
を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のプラズマディスプレイ部材における隔
壁パターンの長手方向端部を示す斜視図である

【図２】本発明のプラズマディスプレイ部材の隔壁パタ
ーン端部形状の説明図である

【図３】本発明の隔壁パターンの断面形状の一例である

【図４】本発明の隔壁パターンの断面形状の一例である

【図５】本発明の隔壁パターンの断面形状の一例である

【図６】本発明の隔壁パターンの端部形状の一例である

【図７】本発明の実施例で用いたフォトマスクの模式図
である

【符号の説明】

１・・・・・ガラス基板２・・・・・隔壁パターンＣＬ・・・・隔壁パターン幅の減衰部長さＳＷ・・・・隔壁パターン幅ＥＷ・・・・隔壁パターン端部幅ＴＷ・・・・隔壁パターン頂部幅ＢＷ・・・・隔壁パターン底部幅

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、隔壁パターンが設けられたプラ
ズマディスプレイ部材であって、前記隔壁パターンが長
手方向端部に対してその幅が減衰していく形状であり、
隔壁パターン幅（ＳＷ）と、隔壁パターン端部幅（Ｅ
Ｗ）、隔壁パターン幅の減衰域長さ（ＣＬ）が次式を満
足することを特徴とするプラズマディスプレイ部材。ＥＷ≦０．８×ＳＷ（１）ＣＬ≧５×ＳＷ（２）
【請求項２】前記隔壁パターン幅の減衰域長さ（ＣＬ）
が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のプ
ラズマディスプレイ部材。
【請求項３】前記隔壁パターンの頂部幅（ＴＷ）と底部
幅（ＢＷ）が次式関係であることを特徴とする請求項１
または２記載のプラズマディスプレイ部材。ＴＷ≦ＢＷ≦４×ＴＷ（３）
【請求項４】前記隔壁パターンの長手方向端部が深さ方
向に対してテーパー状であることを特徴とする請求項１
〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ部材。
【請求項５】基板上に感光性隔壁用ペーストを塗布し、
所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光し、
現像、焼成することによって基板上に隔壁パターンが設
けられたプラズマディスプレイ部材を製造する方法であ
って、前記フォトマスクのパターンが、長手方向端部に
対してその幅が減衰していくパターンであることを特徴
とするプラズマディスプレイ部材の製造方法。
【請求項６】所望の隔壁パターンが刻印された金型また
は樹脂型に隔壁用ペーストを充填し基板上に転写、次い
で焼成することによって基板上に隔壁パターンが設けら
れたプラズマディスプレイ部材を製造する方法であっ
て、前記金型または樹脂型に刻印された隔壁パターンが
長手方向端部に対してその幅が減衰していく形状である
ことを特徴とするプラズマディスプレイ部材の製造方
法。