JPH11329236A - プラズマディスプレイ用基板の製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイ用基板の製造方法Info
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- JPH11329236A JPH11329236A JP10123345A JP12334598A JPH11329236A JP H11329236 A JPH11329236 A JP H11329236A JP 10123345 A JP10123345 A JP 10123345A JP 12334598 A JP12334598 A JP 12334598A JP H11329236 A JPH11329236 A JP H11329236A
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- Japan
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- electrode
- plasma display
- pattern
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- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高精度のプラズマディスプレイ用基板を低コス
トで製造する。 【解決手段】ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダ
ーを必須成分とする電極用ペーストにより電極パターン
を形成し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必
須成分とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６
２０℃で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼
成を同時に行うことによりプラズマディスプレイ用基板
を製造する。
トで製造する。 【解決手段】ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダ
ーを必須成分とする電極用ペーストにより電極パターン
を形成し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必
須成分とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６
２０℃で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼
成を同時に行うことによりプラズマディスプレイ用基板
を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ用基板の製造方法に関するものであり、特に、壁掛け
テレビやコンピューターモニターに好ましく用いること
ができるプラズマディスプレイ用基板の製造方法に関す
るものである。
イ用基板の製造方法に関するものであり、特に、壁掛け
テレビやコンピューターモニターに好ましく用いること
ができるプラズマディスプレイ用基板の製造方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、大型ディスプレイとしてプラズマ
ディスプレイが注目されている。
ディスプレイが注目されている。
【０００３】図１は、プラズマディスプレイの代表的な
方式であるＡＣ型プラズマディスプレイの構造例を示す
斜視図であり、以下、これを用いてプラズマディスプレ
イの構造について説明する。
方式であるＡＣ型プラズマディスプレイの構造例を示す
斜視図であり、以下、これを用いてプラズマディスプレ
イの構造について説明する。
【０００４】図１に示されるプラズマディスプレイは、
前面ガラス基板１と背面ガラス基板９をはり合わせて構
成されている。前面ガラス基板１には基板の裏面にイン
ジウム−チン−オキサイド（ＩＴＯ）や酸化錫からなる
透明電極３が帯状に複数本形成されている。この隣り合
う透明電極間に通常１０ｋＨｚ〜数１０ｋＨｚのパルス
状交流電圧を印加し表示用の放電を得るが、透明電極３
のシート抵抗は数１０Ω／ｃｍ2と高いため、電極抵抗
が数１０ｋΩ程度になり、印加電圧パルスが十分に立ち
上がらずに駆動が困難になる。そこで、抵抗値を下げる
ために、通常、金属製電極４が透明電極３上に形成され
ている。
前面ガラス基板１と背面ガラス基板９をはり合わせて構
成されている。前面ガラス基板１には基板の裏面にイン
ジウム−チン−オキサイド（ＩＴＯ）や酸化錫からなる
透明電極３が帯状に複数本形成されている。この隣り合
う透明電極間に通常１０ｋＨｚ〜数１０ｋＨｚのパルス
状交流電圧を印加し表示用の放電を得るが、透明電極３
のシート抵抗は数１０Ω／ｃｍ2と高いため、電極抵抗
が数１０ｋΩ程度になり、印加電圧パルスが十分に立ち
上がらずに駆動が困難になる。そこで、抵抗値を下げる
ために、通常、金属製電極４が透明電極３上に形成され
ている。
【０００５】これらの電極は、鉛ガラスやビスマスを含
有する低融点ガラスからなる透明誘電体層によって被覆
され、さらに、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法により蒸着し
た保護膜２が形成されている。
有する低融点ガラスからなる透明誘電体層によって被覆
され、さらに、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法により蒸着し
た保護膜２が形成されている。
【０００６】一方、背面ガラス基板９は、基板上に表示
データを書き込むための書き込み電極８を有し、該電極
８は白色の誘電体層７で被覆されている。その上に、白
色あるいは黒色の隔壁５が形成され、さらにスクリーン
印刷等によって、赤、緑、青の各色に発光する蛍光体を
塗布後、乾燥、焼成を行って蛍光体層６が形成されてい
る。蛍光体層６は、赤色蛍光体粉末として（Ｙ，Ｇｄ）
ＢＯ3：Ｅｕ（平均粒子径３．６μｍ）、緑色蛍光体粉
末として（Ｚｎ，Ｍｎ）2ＳｉＯ（平均粒子径３．５μ
ｍ）、青色蛍光体粉末として（Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10
Ｏ7（平均粒子径３．７μｍ）等を用いてストライプ状
に形成されている。
データを書き込むための書き込み電極８を有し、該電極
８は白色の誘電体層７で被覆されている。その上に、白
色あるいは黒色の隔壁５が形成され、さらにスクリーン
印刷等によって、赤、緑、青の各色に発光する蛍光体を
塗布後、乾燥、焼成を行って蛍光体層６が形成されてい
る。蛍光体層６は、赤色蛍光体粉末として（Ｙ，Ｇｄ）
ＢＯ3：Ｅｕ（平均粒子径３．６μｍ）、緑色蛍光体粉
末として（Ｚｎ，Ｍｎ）2ＳｉＯ（平均粒子径３．５μ
ｍ）、青色蛍光体粉末として（Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10
Ｏ7（平均粒子径３．７μｍ）等を用いてストライプ状
に形成されている。
【０００７】上記前面ガラス基板１と背面ガラス基板９
をマトリクス駆動が可能になるように合わせて、封着し
た後、排気、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅなどの混合ガスを封入
し、駆動回路を実装することにより、プラズマディスプ
レイは作製されるものである。
をマトリクス駆動が可能になるように合わせて、封着し
た後、排気、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅなどの混合ガスを封入
し、駆動回路を実装することにより、プラズマディスプ
レイは作製されるものである。
【０００８】プラズマディスプレイにおいては、隣り合
う透明電極の間にパルス状の交流電圧を印加するとガス
放電が生じ、プラズマが形成され、ここで生じた紫外線
が蛍光体を励起して可視光を発光し前面ガラス基板を通
して表示発光することができる。実際のパネル駆動にお
いて、放電電極である透明電極には維持放電パルスが印
加されており、放電を生じさせるときには、背面ガラス
基板上の書き込み電極との間に電圧を印加して対向放電
を生じさせ、この放電が維持パルスによって放電電極間
で維持される。
う透明電極の間にパルス状の交流電圧を印加するとガス
放電が生じ、プラズマが形成され、ここで生じた紫外線
が蛍光体を励起して可視光を発光し前面ガラス基板を通
して表示発光することができる。実際のパネル駆動にお
いて、放電電極である透明電極には維持放電パルスが印
加されており、放電を生じさせるときには、背面ガラス
基板上の書き込み電極との間に電圧を印加して対向放電
を生じさせ、この放電が維持パルスによって放電電極間
で維持される。
【０００９】上記したような電極、誘電体、隔壁を有す
る背面ガラス基板を製造する方法としては、従来から、
次の方法が知られている。すなわち、金属粉末と有機バ
インダーからなる電極用ペーストを用いて、パターン印
刷やフォトリソグラフィーで電極パターンを形成後、焼
成して基板上に電極を形成する。次に、ガラス粉末と有
機バインダーからなる誘電体ペーストを放電に用いる領
域にスクリーン印刷後、焼成して誘電体層を形成する。
さらに、ガラス粉末と有機バインダーからなる隔壁用ペ
ーストを用いて、パターン印刷やサンドブラスト、リフ
トオフ、感光性ペースト法等で隔壁パターンを形成後、
焼成して隔壁を形成する方法である。
る背面ガラス基板を製造する方法としては、従来から、
次の方法が知られている。すなわち、金属粉末と有機バ
インダーからなる電極用ペーストを用いて、パターン印
刷やフォトリソグラフィーで電極パターンを形成後、焼
成して基板上に電極を形成する。次に、ガラス粉末と有
機バインダーからなる誘電体ペーストを放電に用いる領
域にスクリーン印刷後、焼成して誘電体層を形成する。
さらに、ガラス粉末と有機バインダーからなる隔壁用ペ
ーストを用いて、パターン印刷やサンドブラスト、リフ
トオフ、感光性ペースト法等で隔壁パターンを形成後、
焼成して隔壁を形成する方法である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法においては、各ペーストを４５０℃〜６２０℃でそれ
ぞれ焼成する必要があり、加熱による熱歪みによって、
それぞれの層を精度良く形成することが困難である。
法においては、各ペーストを４５０℃〜６２０℃でそれ
ぞれ焼成する必要があり、加熱による熱歪みによって、
それぞれの層を精度良く形成することが困難である。
【００１１】また、ガラス基板を急加熱・急冷すると破
損や歪みを生じるため、大型の焼成炉が用いられてい
る。すなわち、電極、誘電体、隔壁の各層を形成する場
合、各層それぞれを独立した焼成炉で焼成すると、急加
熱・急冷が繰り返されるため、ガラス基板の破損や歪み
が生じる。そこでガラス基板を急冷することなく電極、
誘電体、隔壁を形成するために、大型の連続焼成炉を複
数台使用する方法が取られているが、製造装置が大型
化、コスト高となると共に、消費するエネルギーコスト
も膨大になる欠点があった。
損や歪みを生じるため、大型の焼成炉が用いられてい
る。すなわち、電極、誘電体、隔壁の各層を形成する場
合、各層それぞれを独立した焼成炉で焼成すると、急加
熱・急冷が繰り返されるため、ガラス基板の破損や歪み
が生じる。そこでガラス基板を急冷することなく電極、
誘電体、隔壁を形成するために、大型の連続焼成炉を複
数台使用する方法が取られているが、製造装置が大型
化、コスト高となると共に、消費するエネルギーコスト
も膨大になる欠点があった。
【００１２】そこでこの問題を解決する方法として、本
発明者らは、電極、誘電体、隔壁の各層を形成する際の
焼成工程を削減する検討を行い、その結果、複数の層の
焼成を同時に行うことにより、焼成工程を削減できるこ
とを見出した。
発明者らは、電極、誘電体、隔壁の各層を形成する際の
焼成工程を削減する検討を行い、その結果、複数の層の
焼成を同時に行うことにより、焼成工程を削減できるこ
とを見出した。
【００１３】すなわち、本発明は、焼成工程を削減し、
低コストで、電極、誘電体、隔壁を精度良く形成したプ
ラズマディスプレイ用基板を製造することをその目的と
するものである。
低コストで、電極、誘電体、隔壁を精度良く形成したプ
ラズマディスプレイ用基板を製造することをその目的と
するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダーを必須
成分とする電極用ペーストにより電極パターンを形成
し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必須成分
とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６２０℃
で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼成を同
時に行うことを特徴とするプラズマディスプレイ用基板
の製造方法によって達成することができる。
は、ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダーを必須
成分とする電極用ペーストにより電極パターンを形成
し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必須成分
とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６２０℃
で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼成を同
時に行うことを特徴とするプラズマディスプレイ用基板
の製造方法によって達成することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明において、ガラス基板とし
ては、一般的なソーダガラスや、通常プラズマディスプ
レイ用基板として使用されるガラス基板を用いることが
できる。
ては、一般的なソーダガラスや、通常プラズマディスプ
レイ用基板として使用されるガラス基板を用いることが
できる。
【００１６】また電極用ペーストは、金属粉末と有機バ
インダーを必須成分とするものであり、金属粉末として
は、銀、金、銅、アルミニウム、ニッケル、パラジウ
ム、鉄、クロム等の金属もしくはこれらを含有する合金
など導電性を有するものであれば特に限定されないが、
銀を９０〜１００％含有するものが好ましい。銀の含有
率を９０％以上にすることにより、焼結性を向上させ、
抵抗値を低くすることができる。
インダーを必須成分とするものであり、金属粉末として
は、銀、金、銅、アルミニウム、ニッケル、パラジウ
ム、鉄、クロム等の金属もしくはこれらを含有する合金
など導電性を有するものであれば特に限定されないが、
銀を９０〜１００％含有するものが好ましい。銀の含有
率を９０％以上にすることにより、焼結性を向上させ、
抵抗値を低くすることができる。
【００１７】有機バインダーとしては、エチルセルロー
スやメチルセルロースなどのセルロース化合物、メチル
メタクリレートやプロピルメタクリレートやブチルメタ
クリレートを原料モノマーとするアクリル系（共）重合
体などを用いることができる。
スやメチルセルロースなどのセルロース化合物、メチル
メタクリレートやプロピルメタクリレートやブチルメタ
クリレートを原料モノマーとするアクリル系（共）重合
体などを用いることができる。
【００１８】特に、有機バインダーが感光性有機成分を
含むものであると、電極用ペーストが感光性を有し、電
極パターンの形成を感光性ペースト法で行うことがで
き、高精細なパターンを形成できる点で好ましい。
含むものであると、電極用ペーストが感光性を有し、電
極パターンの形成を感光性ペースト法で行うことがで
き、高精細なパターンを形成できる点で好ましい。
【００１９】感光性有機成分としては、トリメチロール
プロパントリアクリレートやトリエチレングリコールジ
メタクリレート等のアクリル系モノマーや、ベンゾフェ
ノン等の光重合開始剤を用いることができる。また、メ
チルメタクリレートやプロピルメタクリレート、ブチル
メタクリレートなどのアクリル系モノマーを単独もしく
は複数選択して重合させたポリマーを用いても良い。さ
らに、カルボキシル基やスルホン酸基などの側鎖を有す
るポリマーやオリゴマーをペースト中に混合することに
より、アルカリ水での現像が可能な感光性ペーストとす
ることができ、好ましい。特に、感光性有機成分とし
て、ラジカル重合性化合物を含むものを好ましく用いる
ことができる。
プロパントリアクリレートやトリエチレングリコールジ
メタクリレート等のアクリル系モノマーや、ベンゾフェ
ノン等の光重合開始剤を用いることができる。また、メ
チルメタクリレートやプロピルメタクリレート、ブチル
メタクリレートなどのアクリル系モノマーを単独もしく
は複数選択して重合させたポリマーを用いても良い。さ
らに、カルボキシル基やスルホン酸基などの側鎖を有す
るポリマーやオリゴマーをペースト中に混合することに
より、アルカリ水での現像が可能な感光性ペーストとす
ることができ、好ましい。特に、感光性有機成分とし
て、ラジカル重合性化合物を含むものを好ましく用いる
ことができる。
【００２０】また、上記電極用ペーストの特性を調製す
るために、有機溶媒や可塑剤、界面活性剤などを添加し
てもよい。
るために、有機溶媒や可塑剤、界面活性剤などを添加し
てもよい。
【００２１】さらに電極用ペースト中にガラス粉末を混
合することが、ガラス基板への接着性を向上させること
ができる点で好ましい。ガラス粉末の例としては、酸化
ビスマスと酸化鉛の合計含有量が３０〜９０重量％のガ
ラス粉末が好ましく挙げられる。ガラス粉末中のこれら
の含有量が低くなると溶融温度が上昇してガラス基板へ
の接着力が低下し、含有量が多すぎると水分による劣化
を受けやすくなる。
合することが、ガラス基板への接着性を向上させること
ができる点で好ましい。ガラス粉末の例としては、酸化
ビスマスと酸化鉛の合計含有量が３０〜９０重量％のガ
ラス粉末が好ましく挙げられる。ガラス粉末中のこれら
の含有量が低くなると溶融温度が上昇してガラス基板へ
の接着力が低下し、含有量が多すぎると水分による劣化
を受けやすくなる。
【００２２】上記した電極用ペーストを用いてスクリー
ン印刷法や感光性ペースト法により、電極パターンを形
成できる。
ン印刷法や感光性ペースト法により、電極パターンを形
成できる。
【００２３】具体的には、スクリーン印刷法は、ステン
レスやポリエステルメッシュに必要なパターン部分に対
応する開口部分を残し、残りの部分を乳剤で遮蔽するこ
とにより作製したスクリーン版を用いて電極パターンを
印刷する方法である。
レスやポリエステルメッシュに必要なパターン部分に対
応する開口部分を残し、残りの部分を乳剤で遮蔽するこ
とにより作製したスクリーン版を用いて電極パターンを
印刷する方法である。
【００２４】一方、感光性ペースト法は、ペーストを塗
布後、露光、現像することによりパターンを形成するも
ので、より具体的には、感光性を有する電極用ペースト
をスクリーン印刷やダイコーター、ロールコーターなど
のコーターを用いて全面塗布した後、レーザー描画装置
を用いたパターン露光やフォトマスクを介したパターン
露光による露光を行った後、アルカリ水等による現像を
行うことにより電極パターンを形成する。
布後、露光、現像することによりパターンを形成するも
ので、より具体的には、感光性を有する電極用ペースト
をスクリーン印刷やダイコーター、ロールコーターなど
のコーターを用いて全面塗布した後、レーザー描画装置
を用いたパターン露光やフォトマスクを介したパターン
露光による露光を行った後、アルカリ水等による現像を
行うことにより電極パターンを形成する。
【００２５】次に誘電体ペーストについて説明する。本
発明において、誘電体ペースはガラス粉末と有機バイン
ダーを必須成分とするものである。
発明において、誘電体ペースはガラス粉末と有機バイン
ダーを必須成分とするものである。
【００２６】誘電体ペーストに含まれるガラス粉末とし
ては、熱軟化温度（Ｔｓ点）が４７０〜６００℃、好ま
しくは５００〜５６０℃のガラス粉末が挙げられる。ガ
ラス粉末の熱軟化温度を調整する方法として、ガラス粉
末中に酸化ビスマスや酸化鉛を合計含有量で３０〜９０
重量％含有させる方法が有効である。また、ガラス粉末
以外に酸化チタンやアルミナ等のフィラーを添加するこ
とにより白色化が可能になる。白色化によってプラズマ
ディスプレイが点灯した場合に輝度が高くなる効果があ
る。
ては、熱軟化温度（Ｔｓ点）が４７０〜６００℃、好ま
しくは５００〜５６０℃のガラス粉末が挙げられる。ガ
ラス粉末の熱軟化温度を調整する方法として、ガラス粉
末中に酸化ビスマスや酸化鉛を合計含有量で３０〜９０
重量％含有させる方法が有効である。また、ガラス粉末
以外に酸化チタンやアルミナ等のフィラーを添加するこ
とにより白色化が可能になる。白色化によってプラズマ
ディスプレイが点灯した場合に輝度が高くなる効果があ
る。
【００２７】誘電体ペーストに用いる有機バインダーと
しては、エチルセルロースやメチルセルロースなどのセ
ルロース化合物、また、メチルメタクリレートやプロピ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレートなどのアクリ
ル系モノマーを単独もしくは複数選択して重合させた、
重合体、共重合体を用いてもよい。また、重合性官能基
を持つモノマーやポリマーを用いてもよい。重合性官能
基を持つモノマーとしては、トリメチロールプロパント
リアクリレートやトリエチレングリコールジメタクリレ
ート等のアクリル系モノマーを用いることができ、これ
らの化合物以外にベンゾフェノン等の光重合開始剤を用
いてもよい。その他、ペースト塗布に際し、有機溶媒な
どで粘度を適宜調整して用いても良い。
しては、エチルセルロースやメチルセルロースなどのセ
ルロース化合物、また、メチルメタクリレートやプロピ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレートなどのアクリ
ル系モノマーを単独もしくは複数選択して重合させた、
重合体、共重合体を用いてもよい。また、重合性官能基
を持つモノマーやポリマーを用いてもよい。重合性官能
基を持つモノマーとしては、トリメチロールプロパント
リアクリレートやトリエチレングリコールジメタクリレ
ート等のアクリル系モノマーを用いることができ、これ
らの化合物以外にベンゾフェノン等の光重合開始剤を用
いてもよい。その他、ペースト塗布に際し、有機溶媒な
どで粘度を適宜調整して用いても良い。
【００２８】誘電体ペーストを電極パターン上に塗布す
る方法としては、スクリーン印刷やダイコーターやロー
ルコーターを用いたコーティング法を用いることができ
る。
る方法としては、スクリーン印刷やダイコーターやロー
ルコーターを用いたコーティング法を用いることができ
る。
【００２９】本発明においては、上記した方法で形成さ
れた電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層を４５０
〜６２０℃で同時に焼成することにより、電極パターン
および誘電体ペースト塗布層中の有機バインダーを同時
に除去するものであり、焼成工程を削減することができ
るため、低コストで製造することができる。さらに各層
が精度よく形成されると共に各層間の接着強度も高くな
り、工程中の欠陥が生じにくい。
れた電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層を４５０
〜６２０℃で同時に焼成することにより、電極パターン
および誘電体ペースト塗布層中の有機バインダーを同時
に除去するものであり、焼成工程を削減することができ
るため、低コストで製造することができる。さらに各層
が精度よく形成されると共に各層間の接着強度も高くな
り、工程中の欠陥が生じにくい。
【００３０】焼成は、ローラーハース型連続焼成炉やバ
ッチ式焼成炉を用いて行う。焼成温度は４５０〜６２０
℃で、好ましくは、５２０〜５９０℃である。
ッチ式焼成炉を用いて行う。焼成温度は４５０〜６２０
℃で、好ましくは、５２０〜５９０℃である。
【００３１】なお、隔壁パターンの形成は、誘電体ペー
スト塗布後であればいつでも良いが、電極パターンおよ
び誘電体ペースト塗布層焼成前であることが、隔壁パタ
ーンの焼成も同時に行うことができるので、一層本発明
の効果が発揮できる。
スト塗布後であればいつでも良いが、電極パターンおよ
び誘電体ペースト塗布層焼成前であることが、隔壁パタ
ーンの焼成も同時に行うことができるので、一層本発明
の効果が発揮できる。
【００３２】隔壁パターンの形成は、ガラス粉末と有機
バインダーを必須成分とする隔壁用ペーストを用いて、
電極パターンの形成法と同様な方法で形成することがで
きる。
バインダーを必須成分とする隔壁用ペーストを用いて、
電極パターンの形成法と同様な方法で形成することがで
きる。
【００３３】ガラス粉末としては、熱軟化温度（Ｔｓ
点）が４５０〜５９０℃、好ましくは５００〜５６０℃
のガラス粉末を用いることができる。ガラス粉末の組成
は、酸化ビスマス、酸化鉛を合計で１５〜８０重量％含
有するガラス組成を好ましく挙げることができるが、酸
化ナトリウム、酸化カリウム、酸化リチウムを２〜１５
重量％含有するガラス等も用いることができる。
点）が４５０〜５９０℃、好ましくは５００〜５６０℃
のガラス粉末を用いることができる。ガラス粉末の組成
は、酸化ビスマス、酸化鉛を合計で１５〜８０重量％含
有するガラス組成を好ましく挙げることができるが、酸
化ナトリウム、酸化カリウム、酸化リチウムを２〜１５
重量％含有するガラス等も用いることができる。
【００３４】特に誘電体ペースト中のガラス粉末の熱軟
化温度が、隔壁用ペースト中のガラス粉末の熱軟化温度
より低く、その差が５〜４０℃であることが誘電体層と
隔壁の間の剥離を防止する点で好ましい。５℃未満で
は、隔壁が焼成収縮する時点で、誘電体が十分軟化して
いないため、誘電体に亀裂が生じる。また、４０℃を越
えると、隔壁が傾くなどの欠点が生じる。熱軟化温度や
ガラス転移温度の測定法は、次の様にするのが好まし
い。示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガラス試料約１
００ｍｇを２０℃／分で空気中で加熱し、横軸に温度、
縦軸に熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線を描く。ＤＴＡ曲
線における吸熱点から、ガラス転移温度と熱軟化温度を
読みとる。
化温度が、隔壁用ペースト中のガラス粉末の熱軟化温度
より低く、その差が５〜４０℃であることが誘電体層と
隔壁の間の剥離を防止する点で好ましい。５℃未満で
は、隔壁が焼成収縮する時点で、誘電体が十分軟化して
いないため、誘電体に亀裂が生じる。また、４０℃を越
えると、隔壁が傾くなどの欠点が生じる。熱軟化温度や
ガラス転移温度の測定法は、次の様にするのが好まし
い。示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガラス試料約１
００ｍｇを２０℃／分で空気中で加熱し、横軸に温度、
縦軸に熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線を描く。ＤＴＡ曲
線における吸熱点から、ガラス転移温度と熱軟化温度を
読みとる。
【００３５】隔壁用ペーストの有機バインダーとして
は、上記電極用ペーストで挙げたものを使用することが
できる。
は、上記電極用ペーストで挙げたものを使用することが
できる。
【００３６】上記の隔壁用ペーストをスクリーン印刷法
やサンドブラスト法、リフトオフ（アディティブ）法、
感光性ペースト法により、隔壁パターンを形成できる。
なお、スクリーン印刷法、感光性ペースト法について
は、電極パターンの形成方法で説明した方法と同様の方
法を意味するものとする。隔壁パターンの形成について
も、電極パターンの形成と同様、感光性ペースト法で行
うことが好ましい。
やサンドブラスト法、リフトオフ（アディティブ）法、
感光性ペースト法により、隔壁パターンを形成できる。
なお、スクリーン印刷法、感光性ペースト法について
は、電極パターンの形成方法で説明した方法と同様の方
法を意味するものとする。隔壁パターンの形成について
も、電極パターンの形成と同様、感光性ペースト法で行
うことが好ましい。
【００３７】上記サンドブラスト法は隔壁ペーストを塗
布乾燥後、ドライフィルムレジストや液体レジストをラ
ミネートもしくは塗布した後、フォトリソグラフィーに
よるパターン加工を行い、サンドブラストによって不要
な部分を除去・レジストの剥離によって隔壁パターンを
形成する方法である。また、リフトオフ（アディティ
ブ）法は、ドライフィルムレジストをガラス基板にラミ
ネートした後、フォトリソグラフィーでパターン加工し
て、隔壁が必要な部分に対応するレジストを除去した
後、隔壁用ペーストをその部分に埋め込んだ後、隔壁以
外のレジストを焼成や溶解して除去する方法である。さ
らに上記の隔壁用ペーストを塗布する方法として、フィ
ルム上に塗布した後に乾燥して得られた感光性グリーン
シートを用いることもできる。
布乾燥後、ドライフィルムレジストや液体レジストをラ
ミネートもしくは塗布した後、フォトリソグラフィーに
よるパターン加工を行い、サンドブラストによって不要
な部分を除去・レジストの剥離によって隔壁パターンを
形成する方法である。また、リフトオフ（アディティ
ブ）法は、ドライフィルムレジストをガラス基板にラミ
ネートした後、フォトリソグラフィーでパターン加工し
て、隔壁が必要な部分に対応するレジストを除去した
後、隔壁用ペーストをその部分に埋め込んだ後、隔壁以
外のレジストを焼成や溶解して除去する方法である。さ
らに上記の隔壁用ペーストを塗布する方法として、フィ
ルム上に塗布した後に乾燥して得られた感光性グリーン
シートを用いることもできる。
【００３８】その他、隔壁パターンは、上記隔壁用ペー
ストを用いてパターンを形成した後、さらに黒色ガラス
を含有するペーストをその上に塗布して、パターンを形
成する二段式の方法で形成しても良い。なお黒色ガラス
としては、ホウ珪酸鉛やホウ珪酸ビスマス系のガラスに
クロムや鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、ルテニウ
ムなどの酸化物を混合したガラスを用いることができ
る。
ストを用いてパターンを形成した後、さらに黒色ガラス
を含有するペーストをその上に塗布して、パターンを形
成する二段式の方法で形成しても良い。なお黒色ガラス
としては、ホウ珪酸鉛やホウ珪酸ビスマス系のガラスに
クロムや鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、ルテニウ
ムなどの酸化物を混合したガラスを用いることができ
る。
【００３９】本発明は、従来は電極、誘電体、隔壁を形
成するために、それぞれ必要であった焼成工程を削減す
るものであり、装置の小型化、省エネが可能であるとと
もに、焼成による収縮がほぼ同時に生じるため、各層を
精度良く形成することができ、生産歩留まりも向上す
る。
成するために、それぞれ必要であった焼成工程を削減す
るものであり、装置の小型化、省エネが可能であるとと
もに、焼成による収縮がほぼ同時に生じるため、各層を
精度良く形成することができ、生産歩留まりも向上す
る。
【００４０】
【実施例】以下に、本発明の実施例を挙げて説明する。
但し、本発明はこれらに限定されない。
但し、本発明はこれらに限定されない。
【００４１】実施例１ 以下の組成からなる電極用混合物を３本ローラー混練機
で混練後、４００ｍｍ角のガラス基板ＰＤ２００（旭硝
子社製）上に全面スクリーン印刷・乾燥した後に、ピッ
チ１５０μｍ、開口部４０μｍのストライプ状に設計さ
れたフォトマスクを載せて、露光量６００ｍＪ／ｃｍ2
で光照射した後に、０．３％炭酸ナトリウム水溶液で現
像して電極パターンを形成した。
で混練後、４００ｍｍ角のガラス基板ＰＤ２００（旭硝
子社製）上に全面スクリーン印刷・乾燥した後に、ピッ
チ１５０μｍ、開口部４０μｍのストライプ状に設計さ
れたフォトマスクを載せて、露光量６００ｍＪ／ｃｍ2
で光照射した後に、０．３％炭酸ナトリウム水溶液で現
像して電極パターンを形成した。
【００４２】 銀粉末（平均粒子径１．５μｍ） ６０重量部 バインダー（メタクリル酸とメタクリル酸メチル共重合体） １０重量部 感光性モノマー（トリメチロールプロパントリアクリレート）１０重量部 光重合開始剤（チバガイギー社製イルガキュア６５１） ３重量部 ガラスフリット（ホウ珪酸ビスマスガラス：ガラス転移温度４６０℃、 熱軟化温度５００℃） ２重量部 γ−ブチロラクトン １５重量部 次に、以下の組成からなる混合物を３本ローラー混練機
で混練後、電極パターンを形成した基板上にスクリーン
印刷・乾燥して、誘電体ペースト塗布層を形成した。
で混練後、電極パターンを形成した基板上にスクリーン
印刷・乾燥して、誘電体ペースト塗布層を形成した。
【００４３】 平均粒子径３．０μｍのガラス粉末（ビスマス含有バリウムホウ珪酸ガラス 、 ガラス転移温度４８０℃、熱軟化温度５２０℃） ６０重量部 酸化チタン １５重量部 バインダー（エチルセルロース） １０重量部 テルピネオール １５重量部 電極パターンの形成、誘電体ペースト塗布を終えた基板
を５６０℃で焼成し、電極と誘電体を形成した。電極と
誘電体を形成した基板上に、熱軟化温度４７０℃のガラ
ス粉末６５重量部とエチルセルロース２０重量部、テル
ピネオール１５重量部からなる隔壁用ペーストをスクリ
ーン印刷法により隔壁パターンを印刷した後、５４０℃
で焼成を行って隔壁を形成しプラズマディスプレイ用基
板を製造した。
を５６０℃で焼成し、電極と誘電体を形成した。電極と
誘電体を形成した基板上に、熱軟化温度４７０℃のガラ
ス粉末６５重量部とエチルセルロース２０重量部、テル
ピネオール１５重量部からなる隔壁用ペーストをスクリ
ーン印刷法により隔壁パターンを印刷した後、５４０℃
で焼成を行って隔壁を形成しプラズマディスプレイ用基
板を製造した。
【００４４】実施例２ 以下の組成からなる混合物を３本ローラー混練機で混練
後、ＰＤ２００ガラス基板（４００ｍｍ角）上に全面ス
クリーン印刷・乾燥した後に、ピッチ１５０μｍ、開口
部４０μｍのストライプ状に設計されたフォトマスクを
載せて、露光量６００ｍＪ／ｃｍ2で光照射した後に、
０．３％炭酸ナトリウム水溶液で現像して電極パターン
を形成した。
後、ＰＤ２００ガラス基板（４００ｍｍ角）上に全面ス
クリーン印刷・乾燥した後に、ピッチ１５０μｍ、開口
部４０μｍのストライプ状に設計されたフォトマスクを
載せて、露光量６００ｍＪ／ｃｍ2で光照射した後に、
０．３％炭酸ナトリウム水溶液で現像して電極パターン
を形成した。
【００４５】 銀粉末（平均粒子径１．５μｍ） ６０重量部 バインダー（メタクリル酸とメタクリル酸メチル共重合体） １０重量部 感光性モノマー（トリメチロールプロパントリアクリレート）１０重量部 光重合開始剤（チバガイギー社製”イルガキュア”６５１） ３重量部 ガラスフリット（ホウ珪酸ビスマスガラス：ガラス転移温度 ４６０℃、熱軟化温度５００℃） ２重量部 γ−ブチロラクトン １５重量部 次に、以下の組成からなる混合物を３本ローラー混練機
で混練後、電極パターンを形成した基板上にスクリーン
印刷・乾燥して、誘電体ペースト層を形成した。
で混練後、電極パターンを形成した基板上にスクリーン
印刷・乾燥して、誘電体ペースト層を形成した。
【００４６】 平均粒子径３．０μｍのガラス粉末（ビスマス含有バリウムホウ珪酸ガラス 、 ガラス転移温度４８０℃、熱軟化温度５２０℃） ６０重量部 酸化チタン １５重量部 バインダー（エチルセルロース） １０重量部 テルピネオール １５重量部 さらに、以下の組成からなる混合物を３本ローラー混練
機で混練後、電極パターン・誘電体ペースト層を形成し
たガラス基板（４００ｍｍ角）上に全面スクリーン印刷
・乾燥した後に、ピッチ１５０μｍ、開口部２０μｍの
ストライプ状に設計されたフォトマスクを載せて、露光
量１０００ｍＪ／ｃｍ2で光照射した後に、０．３％炭
酸ナトリウム水溶液で現像して隔壁パターンを形成し
た。
機で混練後、電極パターン・誘電体ペースト層を形成し
たガラス基板（４００ｍｍ角）上に全面スクリーン印刷
・乾燥した後に、ピッチ１５０μｍ、開口部２０μｍの
ストライプ状に設計されたフォトマスクを載せて、露光
量１０００ｍＪ／ｃｍ2で光照射した後に、０．３％炭
酸ナトリウム水溶液で現像して隔壁パターンを形成し
た。
【００４７】 ガラス粉末（平均粒子径３．５μｍ、リチウムホウ珪酸ガラス： ガラス転移温度４８０℃、熱軟化温度５３０℃） ６０重量部 バインダー（メタクリル酸とメタクリル酸メチル共重合体） １０重量部 感光性モノマー（トリメチロールプロパントリアクリレート）１０重量部 光重合開始剤（チバガイギー社製イルガキュア６５１） ３重量部 γ−ブチロラクトン １７重量部 さらに、上記の工程により、電極パターンの形成、誘電
体ペースト塗布、隔壁パターンの形成を終えた基板を５
６０℃で焼成したところ、電極、誘電体、隔壁を形成し
たプラズマディスプレイ用基板を得ることができた。
体ペースト塗布、隔壁パターンの形成を終えた基板を５
６０℃で焼成したところ、電極、誘電体、隔壁を形成し
たプラズマディスプレイ用基板を得ることができた。
【００４８】
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイ用基板の
製造方法は、ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダ
ーを必須成分とする電極用ペーストにより電極パターン
を形成し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必
須成分とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６
２０℃で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼
成を同時に行うものであるため、製造装置の小型化、省
エネが可能であり、低コストでプラズマディスプレイ用
基板を製造することができる。さらに、焼成による収縮
がほぼ同時に生じるため、電極、誘電体層、隔壁を精度
良く基板上に形成出来るとともに、電極と誘電体層、誘
電体層と隔壁間の接着強度も高くなり、工程中の欠陥が
生じにくく、生産歩留まりも向上する。
製造方法は、ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダ
ーを必須成分とする電極用ペーストにより電極パターン
を形成し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必
須成分とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６
２０℃で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼
成を同時に行うものであるため、製造装置の小型化、省
エネが可能であり、低コストでプラズマディスプレイ用
基板を製造することができる。さらに、焼成による収縮
がほぼ同時に生じるため、電極、誘電体層、隔壁を精度
良く基板上に形成出来るとともに、電極と誘電体層、誘
電体層と隔壁間の接着強度も高くなり、工程中の欠陥が
生じにくく、生産歩留まりも向上する。
【図１】ＡＣ型プラズマディスプレイの一例を示す斜視
図である。
図である。
１：前面ガラス基板 ２：保護膜 ３：透明電極 ４：金属製電極 ５：隔壁 ６：蛍光体層 ７：誘電体層 ８：書き込み電極 ９：背面ガラス基板
Claims (6)
- 【請求項１】ガラス基板上に、金属粉末と有機バインダ
ーを必須成分とする電極用ペーストにより電極パターン
を形成し、その上に、ガラス粉末と有機バインダーを必
須成分とする誘電体ペーストを塗布した後、４５０〜６
２０℃で電極パターンおよび誘電体ペースト塗布層の焼
成を同時に行うことを特徴とするプラズマディスプレイ
用基板の製造方法。 - 【請求項２】誘電体ペーストを塗布した後、ガラス粉末
と有機バインダーを必須成分とする隔壁用ペーストを用
いて隔壁パターンを形成し、電極パターンおよび誘電体
ペースト塗布層と同時に焼成することを特徴とする請求
項１に記載のプラズマディプレイ用基板の製造方法。 - 【請求項３】電極用ペースト中の金属粉末が、銀粉末を
含むことを特徴とする請求項１または２に記載のプラズ
マディスプレイ用基板の製造方法。 - 【請求項４】電極用ペーストおよび隔壁用ペーストに含
まれる有機バインダーがそれぞれ感光性有機成分を含
み、電極パターンおよび隔壁パターンの形成を、ペース
ト塗布、露光、現像により行うことを特徴とする請求項
２または３に記載のプラズマディスプレイ用基板の製造
方法。 - 【請求項５】電極用ペーストに含まれる感光性有機成分
が、ラジカル重合性化合物を含むことを特徴とする請求
項４に記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。 - 【請求項６】誘電体ペースト中のガラス粉末の熱軟化温
度が、隔壁用ペースト中のガラス粉末の熱軟化温度より
低く、その差が５〜４０℃であることを特徴とする請求
項２〜５いずれか１項に記載のプラズマディスプレイ用
基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10123345A JPH11329236A (ja) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | プラズマディスプレイ用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10123345A JPH11329236A (ja) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | プラズマディスプレイ用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11329236A true JPH11329236A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=14858273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10123345A Pending JPH11329236A (ja) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | プラズマディスプレイ用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11329236A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001046979A1 (fr) * | 1999-12-21 | 2001-06-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Panneau d'affichage a plasma et son procede de fabrication |
| FR2803945A1 (fr) * | 2000-01-17 | 2001-07-20 | Thomson Plasma | Pate pour realiser des electrodes et procede de fabrication d'une dalle de panneau a plasma |
| KR20010095198A (ko) * | 2000-03-31 | 2001-11-03 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
| US6399287B1 (en) | 1998-08-29 | 2002-06-04 | Lg Electronics Inc. | Method for forming fluorescent film in PDP by using a photopolymerizable photosensitive phosphor paste composition |
| US7101618B2 (en) | 2004-05-07 | 2006-09-05 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising fluorochemical surface layer |
| US7173778B2 (en) | 2004-05-07 | 2007-02-06 | 3M Innovative Properties Company | Stain repellent optical hard coating |
| JP2008221754A (ja) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Bonmaaku:Kk | スクリーン印刷用メタルマスクの製造方法 |
| JP2011210559A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ用背面板の製造方法 |
-
1998
- 1998-05-06 JP JP10123345A patent/JPH11329236A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6777165B2 (en) | 1998-08-29 | 2004-08-17 | Lg Electronics Inc. | Photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition and method for forming fluorescent film in PDP by using the same |
| US6399287B1 (en) | 1998-08-29 | 2002-06-04 | Lg Electronics Inc. | Method for forming fluorescent film in PDP by using a photopolymerizable photosensitive phosphor paste composition |
| US7002297B2 (en) | 1999-12-21 | 2006-02-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display panel and manufacturing method for the same |
| WO2001046979A1 (fr) * | 1999-12-21 | 2001-06-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Panneau d'affichage a plasma et son procede de fabrication |
| US6777872B2 (en) | 1999-12-21 | 2004-08-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display panel and method for production thereof |
| FR2803945A1 (fr) * | 2000-01-17 | 2001-07-20 | Thomson Plasma | Pate pour realiser des electrodes et procede de fabrication d'une dalle de panneau a plasma |
| WO2001054159A1 (fr) * | 2000-01-17 | 2001-07-26 | Thomson Plasma | Utilisation d'un verre recristallisable comme liant mineral d'une pate electrodes pour un panneau a plasma |
| US6913501B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-07-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display panel production method |
| US6614184B2 (en) | 2000-03-31 | 2003-09-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Display panel and display panel production method |
| KR20010095198A (ko) * | 2000-03-31 | 2001-11-03 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 디스플레이 패널 및 그 제조방법 |
| US7101618B2 (en) | 2004-05-07 | 2006-09-05 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising fluorochemical surface layer |
| US7173778B2 (en) | 2004-05-07 | 2007-02-06 | 3M Innovative Properties Company | Stain repellent optical hard coating |
| US7267850B2 (en) | 2004-05-07 | 2007-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising fluorochemical surface layer |
| US7332217B2 (en) | 2004-05-07 | 2008-02-19 | 3M Innovative Properties Company | Article and comprising fluorochemical surface layer |
| JP2008221754A (ja) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Bonmaaku:Kk | スクリーン印刷用メタルマスクの製造方法 |
| JP2011210559A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ用背面板の製造方法 |
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|---|---|---|---|
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