JP2000305280A - 感光性ポリイミド前駆体用現像液及びその回収方法 - Google Patents

感光性ポリイミド前駆体用現像液及びその回収方法

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JP2000305280A
JP2000305280A JP11110593A JP11059399A JP2000305280A JP 2000305280 A JP2000305280 A JP 2000305280A JP 11110593 A JP11110593 A JP 11110593A JP 11059399 A JP11059399 A JP 11059399A JP 2000305280 A JP2000305280 A JP 2000305280A
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polyimide precursor
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mol
photosensitive polyimide
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JP11110593A
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Koji Fujimoto
康二 藤本
Toshio Yoshimura
利夫 吉村
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、現像工程で引火などの恐れがなく、
非防爆装置で安全に使用できる感光性ポリイミド用現像
液を提供することにあり、また、感光性ポリイミド前駆
体に使用できる現像液を提供することにある。 【解決手段】双極性非プロトン性極性溶剤60〜80重
量%とエステル10〜30重量%と水10〜30重量%
とからなる感光性ポリイミド前駆体用現像液。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子材料として有
用な感光性ポリイミド前駆体の現像液に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性ポリイミド前駆体の現像液
としては、N−メチルピロリドンなどの双極性非プロト
ン性溶剤に貧溶媒としてメタノールなどの低級アルコー
ルを加えたもの(例えば、特開昭58−223149号
公報、)あるいは、N−メチルピロリドンなどの双極性
非プロトン性溶剤に貧溶媒としてキシレンのような芳香
族炭化水素を加えたもの(例えば、特開平4−1330
62号公報)が使用されていた。しかし、これらの現像
液には、引火点が存在し、現像装置内及びその周辺で火
花が発生した場合、引火する恐れがあることから現像装
置を防爆仕様にし、さらには装置全体を防爆室に設置す
ることが必要であった。また、キシレンは、皮膚炎、
眼、鼻、のどの刺激やキシレン中に不純物として混在す
るベンゼンによって、骨髄障害などを起こすことなどの
有毒性がいわれており、安全上使用しにくいものであっ
た。
【0003】また、感光性ポリイミド前駆体をキュアし
てポリイミドフィルムにしたときの30℃〜100℃の
平均線膨張係数が10×10ー6〜30×10ー6/℃であ
る低線膨張感光性ポリイミド前駆体の場合、N−メチル
ピロリドンなどの双極性非プロトン性溶剤に貧溶媒とし
てメタノールなどの低級アルコールを加えた現像液は、
前駆体被膜の現像において、溶解性が高いために、露光
部と未露光部の溶解性の差がつきにくく、安定した現像
性を得ることが難しかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的は、現
像工程で引火などの恐れがなく、非防爆装置で安全に使
用できる感光性ポリイミド用現像液を提供することにあ
る。また、低線膨張感光性ポリイミド前駆体において、
前駆体被膜の溶解性をコントロールし、露光部と未露光
部の溶解性の差をつきやすくする現像液を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、双
極性非プロトン性極性溶剤60〜80重量%とエステル
10〜30重量%と水10〜30重量%とからなること
を特徴とする感光性ポリイミド前駆体用現像液である。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の現像液に使用される双極性非プロトン性極性溶
剤としては、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジエチルホルムアミドなどが挙げられるが、これに限
定されない。双極性非プロトン性極性溶剤の配合量は、
現像液総重量に対して60〜80重量%である。60重
量%未満の場合は、現像速度が遅くなり、また、80重
量%をこえる場合は、現像時に感光性ポリイミド前駆体
の被膜が膜あれを起こすなどの問題を生じるので、注意
を要する。
【0007】本発明において使用されるエステルとして
は、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、乳酸エチル、ピル
ビン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート等が上げられるがこれらに限定されない。
これらのエステルは、単独もしくは、2種類以上混合し
て用いてもよい。該エステルの配合量は、現像液総重量
に対して10〜30重量%である。この範囲から外れた
場合、現像液が相溶しなくなったり、現像時に感光性ポ
リイミド前駆体の被膜にクラックが入りやすくなるなど
のおそれがあるために注意を要する。また、量が多すぎ
る場合、調整した現像液の前駆体被膜の溶解性が低下
し、量が少なすぎると逆に溶解性が高すぎて現像性を制
御するのが難しくなる。
【0008】本発明にかかる現像液は、上述のように特
定量の双極性非プロトン性溶剤と特定量のエステルから
なる現像液成分中に溶解性を制御するため及び現像液の
引火点をなくすために、現像液総重量に対して10〜3
0重量%の水を添加することが重要である。さらに好ま
しくは10〜20重量%である。水の配合量が、現像液
総重量に対して10重量%より少ない場合は、クラック
を抑制する能力が減少し、現像液が引火点を持つように
なる。また、30重量%より多い場合には、現像液成分
が均一に溶解しなくなったり、溶解性を制御することが
困難になったりする。
【0009】なお、本発明の現像液に添加される水とし
ては、感光性ポリイミド前駆体が使用される半導体分野
の要求から、イオン交換水や蒸留水のような純水である
ことが好ましい。
【0010】双極性非プロトン性極性溶剤とエステルと
水からなる上記感光性ポリイミド前駆体用現像液は、混
合された状態で水が双極性非プロトン性極性溶剤および
エステルよりも揮発する溶剤であることが引火点をなく
すために好ましい。双極性非プロトン性極性溶剤あるい
はエステルが、水よりも先に揮発する場合、あるいは水
と一緒に揮発するときに蒸気中の水の比率が小さくなる
場合には、その蒸気に火気を近づけたとき引火すること
があるので好ましくない。
【0011】本発明における感光性ポリイミド前駆体は
下記一般式(1)で示されるポリイミド前駆体と光重合
開始剤と不飽和結合を有するアミン化合物で構成された
ものをあげることができ、キュア後のフイルムの30℃
〜100℃の平均線膨張係数が10×10-6/℃〜30
×10-6/℃であることが好ましい。耐熱性のすぐれた
ポリイミド系ポリマーを得るためには、R1は芳香族環
または芳香族複素環を含有することが好ましい。
【0012】
【化2】
【0013】(一般式(1)中、R1は少なくとも2個
以上の炭素原子を有する4価の酸残基を示し、R2は芳
香族ジアミン残基かあるいは少なくとも2個以上の炭素
原子を有する脂肪族ジアミン残基を示す。nは1または
2である。) 上記一般式(1)のR1の具体例としては、3,3’,
4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸、3,3’,
4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ピ
ロメリット酸などの残基が挙げられるが、これらに限定
されない。また、R1が上記有機基のうちの1種から構
成されていても良いし、2種以上から構成されていても
良い。
【0014】上記一般式(1)のR2の具体例として
は、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミ
ン、オルトフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルス
ルホン、ジアミノジフェニルエーテル、ジメチルベンジ
ジン、ビス(アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス(アミ
ノフェノキシ)ビフェニル、ビス(アミノフェノキシフ
ェニル)エーテル、ビス(アミノフェノキシフェニル)
メタン、ビス(アミノフェノキシフェニル)スルホン、
ジアミノベンズアニリドなどに示される化合物の残基な
どが挙げられるが、これらに限定されない。また、R2
が上記有機基のうちの1種から構成されていても良い
し、2種以上から構成されていても良い。
【0015】さらに、上記一般式(1)の、R1の10
〜100モル%がビフェニルテトラカルボン酸類の残基
で0〜90モル%がピロメリット酸類の残基であり、R
2の60〜95モル%がジアミノベンズアニリド残基
で、5〜40モル%が分子内にエーテル結合を含む芳香
族ジアミン残基であること、あるいは、上記一般式
(1)のR1の10〜85モル%がジフェニルテトラカ
ルボン酸類の残基で15〜90モル%がピロメリット酸
類の残基であり、R2の30〜100モル%がフェニレ
ンジアミン類残基で0〜70モル%が分子内にエーテル
結合を含む芳香族ジアミン残基であることが好ましい。
【0016】さらに、ポリイミド系ポリマーの接着性を
向上させるために、耐熱性を低下させない範囲でR2と
して、シロキサン結合を有する脂肪族基を共重合する事
も可能である。好ましい具体例としては、ビス(3−ア
ミノプロピル)テトラメチルジシロキサン等が挙げられ
るが、これに限定されない。
【0017】本発明における重合体は、一般式(1)で
表される構造単位のみからなる物であっても良いし、他
の構造単位との共重合体あるいはブレンド体であっても
よい。その際、一般式(1)で表される構造単位を80
%以上含有していることが好ましい。共重合またはブレ
ンドに用いられる構造単位の種類、量は最終加熱処理に
よって得られるポリイミド系ポリマーの耐熱性を著しく
損なわない範囲で選択するのが好ましい。
【0018】本発明に用いられる不飽和結合を有するア
ミン化合物は一般式(2)で表される化合物が挙げられ
るが、これらに限定されない。
【0019】
【化3】
【0020】一般式(2)のうち、R3、R4、R5は
炭素数1〜30の有機基であり、うち、少なくとも1つ
はエチレン性不飽和二重結合を含む。
【0021】上記一般式(2)中、R3、R4、R5は
脂肪族有機基であることが好ましい。また、感光性能の
向上のために、R3、R4、R5のうち少なくとも1つ
はエチレン性不飽和二重結合を含んでいることが必須で
ある。好ましい具体例としては、ジメチルアミノエチル
メタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミ
ノエチルアクリレート、ジメチルアミノプロピルメタク
リルアミド、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、
ジメチルアミノプロピルアクリレート、ジメチルアミノ
プロピルアクリルアミド、ジエチルアミノプロピルアク
リルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、
ジエチルアミノエチルメタクリルアミド、ジエチルアミ
ノエチルアクリルアミドなどが挙げられるがこれらに限
定されない。
【0022】本発明に用いられる、光重合開始剤として
は、N−フェニルジエタノールアミン、N−フェニルグ
リシン、ミヒラーケトンなどの芳香族アミン、3−フェ
ニル−5−イソオキサゾロンに代表される環状オキシム
化合物、1−フェニルプロパンジオン−2−(o−エト
キシカルボニル)オキシムに代表される鎖状オキシムエ
ステル化合物、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香
酸メチル、ジベンジルケトン、フルオレン等のベンゾフ
ェノン誘導体、チオキサントン、2−メチルチオキサン
トン、2−イソプロピルチオキサントン等のチオキサン
トン誘導体等が挙げられるがこれらに限定されない。
【0023】本発明に適した増感剤としては、アジドア
ントラキノン、アジドベンザルアセトフェノン等の芳香
族モノアジド、3,3’−カルボニルビス(ジエチルア
ミノクマリン)等のクマリン化合物、ベンズアントロ
ン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン等一般に光
硬化性樹脂に使用されるもの、その他電子写真の電荷移
動剤として使用されるものであれば好ましく使用され
る。
【0024】光開始剤や増感剤は重合体に対して0.0
1〜30重量%、さらに好ましくは0.1〜20重量%
添加するのが好ましい。この範囲をはずれると感光性が
低下したり、ポリマーの機械特性が低下したりするので
注意を要する。これらの光開始剤や増感剤は、単独で、
あるいは2種以上混合して用いることができる。
【0025】感光性ポリイミド前駆体ワニスを塗布する
ための基板としては、例えば、銅、アルミ、ステンレス
等の金属板や金属箔、ガラス、シリコンウエハ、アルミ
ナ、セラミック、等が挙げられるが、これらに限定させ
ない。
【0026】塗布方法としては、スピナーを用いた回転
塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印
刷、ロールコーティング、リバースコーターによる塗布
等の手段が可能である。塗布膜厚は塗布手段、組成物の
固形分濃度、粘度を変えることにより調節する事が出来
るが、通常0.1〜150μmの範囲になるように塗布
される。
【0027】次に感光性ポリイミド前駆体を塗布した基
板を乾燥して、感光性ポリイミド前駆体被膜を得る。乾
燥は、オーブン、ホットプレート、赤外線等を利用し、
50〜180℃の範囲で行うのが好ましく、60〜15
0℃の範囲で行うのがより好ましい。乾燥時間は1分〜
数時間行うのが好ましい。
【0028】次に所望のパターンを有するマスクを用
い、露光を行う。露光量としては50〜2000mJ/
cm2の範囲が好ましい。この際に使用される活性光線
としては、たとえば、紫外線、電子線、X線などが挙げ
られるが、これらの中では紫外線が好ましく、その光源
としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが挙げられる。こ
れらの光源の中で超高圧水銀灯が好適である。現像時の
パターンの解像度が向上したり、現像条件の許容幅が増
大する場合には、現像前にベーク処理をする工程を取り
入れることもできる。この温度としては50〜180℃
の範囲が好ましく、特に60〜150℃の範囲がより好
ましい。時間は10秒〜数時間が好ましい。この範囲を
外れると、反応が進行しなかったり、全ての領域が溶解
しなくなるなどの恐れがあるので注意を要する。
【0029】ついで未露光部を現像液で溶解除去するこ
とにより、レリーフ・パターンを得る。現像は上記の現
像液を塗膜面にそのまま、あるいは、霧状にして放射す
る、現像液中に浸漬する、あるいは浸漬品へ超音波をか
ける等の方法によって行う事ができる。
【0030】繰り返し現像を行い、現像できなくなった
双極性非プロトン性極性溶剤60〜80重量%とエステ
ル10〜30重量%と水10〜30重量%とからなる現
像液は、蒸留により、現像液を構成する各溶剤別に、あ
るいは、現像液を構成する溶剤の混合物として回収する
ことことができる。さらに、この回収した溶剤の一部あ
るいは全量を使用して、足りない量は新品の溶剤で補
い、双極性非プロトン性極性溶剤60〜80重量%とエ
ステル10〜30重量%と水10〜30重量%とからな
る現像液を調整し、感光性ポリイミド前駆体用現像液と
して使用できる。
【0031】現像についでリンス液により、現像によっ
て形成したレリーフ・パターンを洗浄する事が好まし
い。リンス液としては有機溶媒でリンスをする場合、現
像液との混合性の良いメタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、乳酸エチル、ピリビン酸エチル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、メチル−3−
メトキシプロピオネート、エチル−3−エトキシプロピ
オネート、炭酸プロピレン、2−ヘプタノン、酢酸エチ
ル等が好ましく用いられる。水が環境、安全性の面から
好ましい。
【0032】上記の処理によって得られたレリーフ・パ
ターンの重合体は耐熱性を有するポリイミド系ポリマー
の前駆体であり、加熱処理によりイミド環やその他の環
状構造を有する耐熱性ポリマーとなる。熱処理温度とし
ては、250℃から450℃で行うのが好ましい。25
0℃以下では、耐薬品性等の性能が不十分で、ポリイミ
ド上部への薄膜形成に支障があり、450℃以上の温度
では、ポリイミドの熱劣化が観測され不適当である。熱
処理は通常、不活性ガス雰囲気あるいは真空中で段階的
にあるいは連続的に昇温しながら行われる。
【0033】
【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0034】なお、本発明における線膨張係数の測定
は、厚さ10μm、幅1.5mm、長さ15mmのポリ
イミドフィルムを、セイコー電子製TMA/SS−60
00を用い30〜100℃の範囲で昇温速度5℃/分で
測定した。
【0035】合成例1 温度計および乾燥空気導入口と攪拌装置を付した200
0mlの4つ口フラスコに、3,3’,4,4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物105.92g(0.
36モル)およびN−メチル−2−ピロリドン760g
を投入し、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル6
8.48g(0.342モル)、p−フェニレンジアミ
ン86.30g(0.798モル)、ビス−3−(アミ
ノプロピル)テトラメチルシロキサン14.91g
(0.06モル)、およびN−メチル−2−ピロリドン
150gを加え、乾燥空気流入下、60℃で1時間攪拌
した後、室温まで冷却した。その後、ピロメリット酸二
無水物183.22g(0.84モル)、およびN−メ
チル−2−ピロリドン203gを加え、乾燥空気気流
下、60℃で3時間攪拌した。
【0036】次に、光遮断下の室温で、ミヒラーケトン
4.55g、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o
−ベンゾイル)オキシム4.55g、N,N−ジメチル
アミノエチルメタクレート200gを混合撹拌後、フィ
ルターでろ過して感光性ポリイミド前駆体溶液を得た。
作製した感光性ポリイミド前駆体溶液をワニスAとし
た。また、このワニスから作製したポリイミドフィルム
の30℃〜100℃の範囲での平均線膨張係数は14×
10-6/℃であった。
【0037】合成例2 温度計および乾燥空気導入口と攪拌装置を付した100
mlの4つ口フラスコに、4,4’−ジアミノジフェニ
ルエーテル1.40g(0.007モル)、4,4’−
ジアミノベンズアニリド2.72g(0.012モ
ル)、ビス−3−(アミノプロピル)テトラメチルシロ
キサン0.25g(0.001モル)、N,N’−ジメ
チルアセトアミド56.45gを窒素気流化、室温で攪
拌する。溶解したのを確認した後、3,3’,4,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物3.53g
(0.012モル)、ピロメリット酸二無水物1.74
g(0.008モル)を添加した後、約5時間攪拌し、
その後65℃で1時間加熱した。
【0038】次に、光遮断下の室温で、ミヒラーケトン
0.09g、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o
−ベンゾイル)オキシム0.09g、N,N−ジメチル
アミノエチルメタクレート1.8gを混合撹拌後、フィ
ルターでろ過して感光性ポリイミド前駆体溶液を得た。
作製した感光性ポリイミド前駆体溶液をワニスBとし
た。また、このポリイミド膜の30℃〜100℃の範囲
での平均線膨張係数は23×10-6/℃であった。
【0039】合成例3 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物105.92g(0.36モル)のかわりに35.
31g(0.12モル)、ピロメリット酸二無水物18
3.22g(0.84モル)のかわりにピロメリット酸
二無水物209.40g(0.96モル)と3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物3
8.67g(0.12モル)、3,4’−ジアミノジフ
ェニルエーテル68.48g(0.342モル)、p−
フェニレンジアミン86.30g(0.798モル)の
かわりに4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフ
ェニル44.21g(0.12モル)、p−フェニレン
ジアミン110.30g(1.02モル)を使用する以
外は実施例1と同様の方法により感光性ポリイミド前駆
体溶液を得た。作製した感光性ポリイミド前駆体溶液を
ワニスCとした。
【0040】また、このポリイミドフィルムの30℃〜
100℃の範囲での平均線膨張係数は18×10-6/℃
であった。
【0041】合成例4 3,4’−ジアミノジフェニルエーテル68.48g
(0.342モル)のかわりに4,4’−ジアミノジフ
ェニルエーテル68.48g(0.342モル)を使用
する以外は実施例1と同様の方法により感光性ポリイミ
ド前駆体溶液を得た。作製した感光性ポリイミド前駆体
溶液をワニスDとした。また、このポリイミドフィルム
の30℃〜100℃の範囲での平均線膨張係数は14×
10-6/℃であった。
【0042】実施例1 ワニスAを10cm×10cm角の25μmSUS箔上
で2100回転で30秒間スピンコートし、ヤマト科学
製クリーンオーブンDT42を用いて90℃で100分
間乾燥した。この塗膜の厚みは20μmであった。キャ
ノン(株)製コンタクトアライナーPLA501Fを用
いてテストパターンをマスクとして365nmの波長を
カットした波長で800mJ/cm2の露光を行った。
【0043】この試料をN−メチルピロリドン65重量
%とピルビン酸エチル20重量%と水15重量%とから
なる現像液を用い、28℃で10分間超音波浸漬現像を
実施した。次いでイソプロピルアルコールで1分リンス
した後乾燥した。現像の結果を光学顕微鏡で観察すると
20μmのパターンが完全に解像し、面内一様に解像し
ていた。これを140℃×30分+350℃×1時間窒
素中で熱処理した。熱処理後の膜厚は10μmであっ
た。また、この現像液の引火点をJIS K 2265
6に準拠したペンスキーマルテンス密閉式試験器で測
定したところ、引火点は観測されなかった。また、現像
時間を8分、11分に変えても、20μmのパターンは
完全に解像していた。
【0044】実施例2 ワニスAの代わりにワニスBを、N−メチルピロリドン
65重量%とピルビン酸エチル20重量%と水15重量
%とからなる現像液をN−メチルピロリドン60重量%
と乳酸エチル10重量%と水30重量%とからなる現像
液にかえる以外は実施例1と同様にパターン加工を行っ
た。現像の結果を光学顕微鏡で観察すると20μmのパ
ターンが完全に解像し、面内一様に解像していた。これ
を140℃×30分+350℃×1時間窒素中で熱処理
した。熱処理後の膜厚は10μmであった。また、この
現像液の引火点は実施例1と同様に測定したところ、引
火点は観測されなかった。
【0045】実施例3 ワニスAの代わりにワニスCを、N−メチルピロリドン
65重量%とピルビン酸エチル20重量%と水15重量
%とからなる現像液をN,N−ジメチルアセトアミド6
0重量%と炭酸エチレン30重量%と水10重量%とか
らなる現像液にかえる以外は実施例1と同様にパターン
加工を行った。現像の結果を光学顕微鏡で観察すると2
0μmのパターンが完全に解像し、面内一様に解像して
いた。これを140℃×30分+350℃×1時間窒素
中で熱処理した。熱処理後の膜厚は10μmであった。
また、この現像液の引火点を実施例1と同様に測定した
ところ、引火点は観測されなかった。
【0046】実施例4 ワニスAの代わりにワニスDを、N−メチルピロリドン
65重量%とピルビン酸エチル20重量%と水15重量
%とからなる現像液をN−メチルピロリドン70重量%
と炭酸プロピレン15重量%と水15重量%とからなる
現像液にかえる以外は実施例1と同様にパターン加工を
行った。現像の結果を光学顕微鏡で観察すると20μm
のパターンが完全に解像し、面内一様に解像していた。
これを140℃×30分+350℃×1時間窒素中で熱
処理した。熱処理後の膜厚は10μmであった。また、
この現像液の引火点を実施例1と同様に測定したとこ
ろ、引火点は観測されなかった。
【0047】実施例5 N−メチルピロリドン65重量%とピルビン酸エチル2
0重量%と水15重量%とからなる現像液をN−メチル
ピロリドン80重量%と炭酸プロピレン10重量%と水
10重量%とからなる現像液にかえる以外は実施例1と
同様にパターン加工を行った。現像の結果を光学顕微鏡
で観察すると20μmのパターンが完全に解像し、面内
一様に解像していた。これを140℃×30分+350
℃×1時間窒素中で熱処理した。熱処理後の膜厚は10
μmであった。また、この現像液の引火点を実施例1と
同様に測定したところ、引火点は観測されなかった。
【0048】実施例6 実施例4において使用済みのN−メチルピロリドン65
重量%と炭酸プロピレン15重量%と水15重量%とか
らなる現像液を回収し、蒸留を行い、主成分がN−メチ
ルピロリドンであるものと、主成分が炭酸プロピレンで
あるものとを分留した。このとき水を主成分とする留分
については、廃棄した。回収したN−メチルピロリドン
を主成分とするものと炭酸プロピレンを主成分とするも
のと新品のイオン交換水を混合し、新たにN−メチルピ
ロリドン65重量%と炭酸プロピレン15重量%と水1
5重量%とからなる現像液を調整した。この調整した現
像液を使用する以外は実施例4と同様にパターン加工を
行った。現像の結果を光学顕微鏡で観察すると20μm
のパターンが完全に解像し、面内一様に解像していた。
これを140℃×30分+350℃×1時間窒素中で熱
処理した。熱処理後の膜厚は10μmであった。また、
この現像液の引火点を実施例1と同様に測定したとこ
ろ、引火点は観測されなかった。
【0049】比較例1 N−メチルピロリドン65重量%とピルビン酸エチル2
0重量%と水15重量%とからなる現像液をN−メチル
ピロリドン82重量%とプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル11重量%と水7重量%とからなる現像液に
かえる以外は実施例1と同様にパターン加工を行った。
現像の結果を光学顕微鏡で観察すると20μmのパター
ンが完全に解像し、面内一様に解像していたが、この現
像液の引火点をJIS K 2265 4に準拠したタ
グ密閉式試験器で測定したところ、引火点は75℃であ
った。
【0050】比較例2 N−メチルピロリドン65重量%とピルビン酸エチル2
0重量%と水15重量%とからなる現像液をN−メチル
ピロリドン65重量%とメタノール30重量%と水5重
量%とからなる現像液にかえ、現像時間を5分にする以
外は実施例1と同様にパターン加工を行った。現像の結
果を光学顕微鏡で観察すると20μmのパターンが完全
に解像し、面内一様に解像していたが、この現像液の引
火点を比較例1と同様に測定したところ、引火点は25
℃であった。
【0051】また、現像時間を4.5分にすると20μ
m周辺部に未露光部が残り、5.5分にすると、20μ
mのパターンが消失し、現像マージンは非常に小さいも
のであった。
【0052】
【発明の効果】本発明では、引火点のない感光性ポリイ
ミド用現像液が得られるとともに、感光性ポリイミド前
駆体において、前駆得体被膜の溶解性をコントロール
し、露光部と未露光部の溶解性の差をつきやすくするこ
とができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年4月24日(2000.4.2
4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 (一般式(1)中、R1は少なくとも2個以上の炭素原
子を有する4価の酸残基を示し、R2は芳香族ジアミン
残基かあるいは少なくとも2個以上の炭素原子を有する
脂肪族ジアミン残基を示す。nは1または2である。)
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】(一般式(1)中、R1は少なくとも2個
以上の炭素原子を有する4価の酸残基を示し、R2は芳
香族ジアミン残基かあるいは少なくとも2個以上の炭素
原子を有する脂肪族ジアミン残基を示す。nは1または
2である。) 上記一般式(1)のR1の具体例としては、3,3’,
4,4’ −ジフェニルテトラカルボン酸、3,3’,
4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ピ
ロメリット酸、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)ヘキサフルオロプロパンなどの残基が挙げら
れるが、これらに限定されない。また、R1が上記有機
基のうちの1種から構成されていても良いし、2種以上
から構成されていても良い。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】上記一般式(1)のR2の具体例として
は、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミ
ン、オルトフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルス
ルホン、ジアミノジフェニルエーテル、ジメチルベンジ
ジン、ビス(アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス(アミ
ノフェノキシ)ビフェニル、ビス(アミノフェノキシフ
ェニル)エーテル、ビス(アミノフェノキシフェニル)
メタン、ビス(アミノフェノキシフェニル)スルホン、
ジアミノベンズアニリド、2,2’−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4,4’−ベンジジン、ビス(アミノフェ
ノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンなどに示され
る化合物の残基などが挙げられるが、これらに限定され
ない。また、R2が上記有機基のうちの1種から構成さ
れていても良いし、2種以上から構成されていても良
い。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】さらに、上記一般式(1)のR1の10〜
100モル%がビフェニルテトラカルボン酸類の残基で
0〜90モル%がピロメリット酸類の残基であり、R2
の60〜95モル%がジアミノベンズアニリド類の残基
で、5〜40モル%が分子内にエーテル結合を含む芳香
族ジアミン残基であること、あるいは、上記一般式
(1)のR1の10〜85モル%がジフェニルテトラカ
ルボン酸類の残基で15〜90モル%がピロメリット酸
類の残基であり、R2の30〜100モル%がフェニレ
ンジアミン類残基で0〜70モル%が分子内にエーテル
結合を含む芳香族ジアミン残基であること、あるいはR
1の65〜100モル%がピロメリット酸の残基で、R
2の70〜100モル%が2,2’−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4,4’−ベンジジン類の残基であること
が好ましい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】塗布方法としては、スピナーを用いた回転
塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印
刷、ロールコーティング、リバースコーター、スリット
ダイコーターによる塗布等の手段が可能である。塗布膜
厚は塗布手段、組成物の固形分濃度、粘度を変えること
により調節する事が出来るが、通常0.1〜150μm
の範囲になるように塗布される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】現像についでリンス液により、現像によっ
て形成したレリーフ・パターンを洗浄する事が好まし
い。リンス液としては、現像液との混合性の良い水、
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール、乳酸
エチル、ピリビン酸エチル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、メチル−3−メトキシプロピオネー
ト、エチル−3−エトキシプロピオネート、炭酸プロピ
レン、2−ヘプタノン、酢酸エチル等が好ましく用いら
れる。水が環境、安全性の面から好ましい。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0041
【補正方法】変更
【補正内容】
【0041】合成例4 3,4’−ジアミノジフェニルエーテル68.48g
(0.342モル)のかわりに4,4’−ジアミノジフ
ェニルエーテル68.48g(0.342モル)を使用
する以外は実施例1と同様の方法により感光性ポリイミ
ド前駆体溶液を得た。作製した感光性ポリイミド前駆体
溶液をワニスDとした。また、このポリイミドフィルム
の30℃〜100℃の範囲での平均線膨張係数は14×
10−6/℃であった。合成例5 温度計および乾燥空気導入口と攪拌装置を付した300
mlの4つ口フラスコに、2,2’−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4,4’−ベンジジン32.0g(0.1
0モル)、N−メチル−2−ピロリドン160gを仕込
み、窒素気流化、60℃で攪拌する。溶解したのを確認
した後、60℃でピロメリット酸二無水物18.54g
(0.085モル)、2,2’−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物6.
66g(0.015モル)、N−メチル−2−ピロリド
ン30gを添加し、60℃で3時間攪拌した。次に、光
遮断下の室温で、ミヒラーケトン0.6g、1−フェニ
ル−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム
0.6g、N,N−ジメチルアミノエチルメタクレート
18.5gを混合撹拌後、フィルターでろ過して感光性
ポリイミド前駆体組成物溶液を得た。作製した感光性ポ
リイミド前駆体溶液をワニスEとした。また、このワニ
スから作製したポリイミドフィルムの30℃〜100℃
の範囲での平均線膨張係数は12×10−6/℃であっ
た。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】実施例6 実施例4において使用済みのN−メチルピロリドン65
重量%と炭酸プロピレン15重量%と水15重量%とか
らなる現像液を回収し、蒸留を行い、主成分がN−メチ
ルピロリドンであるものと、主成分が炭酸プロピレンで
あるものとを分留した。このとき水を主成分とする留分
については、廃棄した。回収したN−メチルピロリドン
を主成分とするものと炭酸プロピレンを主成分とするも
のと新品のイオン交換水を混合し、新たにN−メチルピ
ロリドン65重量%と炭酸プロピレン15重量%と水1
5重量%とからなる現像液を調整した。この調整した現
像液を使用する以外は実施例4と同様にパターン加工を
行った。現像の結果を光学顕微鏡で観察すると20μm
のパターンが完全に解像し、面内一様に解像していた。
これを140℃×30分+350℃×1時間窒素中で熱
処理した。熱処理後の膜厚は10μmであった。また、
この現像液の引火点を実施例1と同様に測定したとこ
ろ、引火点は観測されなかった。実施例7 ワニスAの代わりにワニスEをにかえる以外は実施例1
と同様にパターン加工を行った。現像の結果を光学顕微
鏡で観察すると20μmのパターンが完全に解像し、面
内一様に解像していた。これを140℃×30分+35
0℃×1時間窒素中で熱処理した。熱処理後の膜厚は1
0μmであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5/17 C08K 5/17 5F046 C08L 79/08 C08L 79/08 A G03F 7/027 501 G03F 7/027 501 7/028 7/028 7/037 501 7/037 501 H01L 21/027 H01L 21/30 502R 569E Fターム(参考) 2H025 AA00 AB15 AB16 AB17 AC01 AD01 BC13 BC34 BC35 BC87 CA01 CA20 CA26 CA27 CB25 FA03 FA15 FA29 2H096 AA00 AA25 AA26 AA27 BA05 BA20 EA02 GA04 HA01 LA17 LA25 4J002 CM04 EA067 EE037 EH147 EN026 EN097 EN107 EN117 EP016 ES017 EU217 EV307 FD157 FD200 GQ00 4J011 AA05 AA09 AA10 AC04 HA02 HA04 HA08 PA97 PB40 QA03 QA06 SA22 SA25 SA26 SA28 SA29 SA61 SA62 SA63 SA64 SA82 UA01 UA03 UA04 WA01 4J043 PA02 PA19 PC065 QB31 RA34 SA06 SA43 SB01 TA14 TB01 UA121 UA122 UA131 UA132 UA141 UA151 UB011 UB121 UB122 UB131 UB141 UB152 UB221 UB301 VA011 VA041 VA051 VA081 VA091 YA06 ZA22 ZA23 ZA60 ZB50 5F046 BA01 CA07 DA02 LA12 LA14 LA18

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】双極性非プロトン性極性溶剤60〜80重
    量%とエステル10〜30重量%と水10〜30重量%
    とからなることを特徴とする感光性ポリイミド前駆体用
    現像液。
  2. 【請求項2】双極性非プロトン性極性溶剤とエステルと
    水からなる請求項1記載の感光性ポリイミド前駆体用現
    像液において、混合された状態で水が双極性非プロトン
    性極性溶剤およびエステルよりも揮発する溶剤であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の感光性ポリイミド前駆体
    用現像液。
  3. 【請求項3】(A)下記一般式(1)で示されるポリイ
    ミド前駆体と(B)光重合開始剤と(C)不飽和結合を
    有するアミン化合物で構成される請求項1記載の感光性
    ポリイミド前駆体。 【化1】 (一般式(1)中、R1は少なくとも2個以上の炭素原
    子を有する4価の酸残基を示し、R2は芳香族ジアミン
    残基かあるいは少なくとも2個以上の炭素原子を有する
    脂肪族ジアミン残基を示す。nは1または2である。)
  4. 【請求項4】フィルムに形成した場合のキュア後のフイ
    ルムの30℃〜100℃の平均線膨張係数が、10×1
    -6/℃〜30×10-6/℃である請求項3記載の感光
    性ポリイミド前駆体。
  5. 【請求項5】一般式(1)において、R1の10〜10
    0モル%がビフェニルテトラカルボン酸類の残基で、0
    〜90モル%がピロメリット酸類の残基であり、R2の
    60〜95モル%がジアミノベンズアニリド残基で、5
    〜40モル%が分子内にエーテル結合を含む芳香族ジア
    ミン残基であることを特徴とする請求項4記載の感光性
    ポリイミド前駆体。
  6. 【請求項6】一般式(1)においてR1の10〜85モ
    ル%がビフェニルテトラカルボン酸類の残基で15〜9
    0モル%がピロメリット酸類の残基であり、R2の30
    〜100モル%がフェニレンジアミン類残基で0〜70
    モル%が分子内にエーテル結合を含む芳香族ジアミン残
    基であることを特徴とする請求項4記載の感光性ポリイ
    ミド前駆体。
  7. 【請求項7】双極性非プロトン性極性溶剤60〜80重
    量%とエステル10〜30重量%と水10〜30重量%
    とからなる溶液を感光性ポリイミド前駆体の現像液とし
    て使用した後、現像液を構成する各溶剤を使用後の現像
    液から回収あるいは、現像液を構成する溶剤の混合物を
    使用後の現像液から回収することを特徴とする現像液か
    らの溶剤の回収方法。
  8. 【請求項8】双極性非プロトン性極性溶剤60〜80重
    量%とエステル10〜30重量%と水10〜30重量%
    とからなる現像液を請求項7記載の回収された溶剤の一
    部あるいは全量を使用し、調整することを特徴とする感
    光性ポリイミド前駆体用現像液。
  9. 【請求項9】請求項8で得られた現像液を用いて感光性
    ポリイミド前駆体を現像することを特徴とする感光性ポ
    リイミド前駆体の現像方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004061001A1 (ja) * 2002-12-27 2004-07-22 I.S.T Corporation ポリイミド前駆体液組成物及びポリイミド被膜
CN100363426C (zh) * 2002-12-27 2008-01-23 株式会社I.S.T 聚酰亚胺前驱体液组合物和聚酰亚胺涂膜
JP2012088711A (ja) * 2010-10-20 2012-05-10 E I Du Pont De Nemours & Co 多成分溶媒溶液の再平衡方法

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