JP2000122299A - ポリイミド前駆体組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】剥離することなく水溶液により短時間で現像で
き、感度が高い。 【解決手段】ポリイミド前駆体１００重量部と、下記一
般式（化１）で表わされる有機ケイ素化合物０．１〜５
０重量部とを含む。ただし、Ｒ⁹は２価の有機基を、Ｒ
¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ、アルキル基、アルケニル基及
び芳香族基から独立して選択された基を表わし、ｍは１
〜３の整数である。 ＯＣＮ−Ｒ⁹−Ｓｉ（ＯＲ¹⁰）_mＲ¹¹ _3-m …（化１）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子の表面
コート膜等の保護膜や薄膜多層配線基板の層間絶縁膜等
を形成するための技術に係り、特に、耐熱性ポリイミド
の前駆体を含む感光性ポリイミド前駆体組成物と、該組
成物を用いた樹脂パターンの形成方法とに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、耐熱性高分子化合物を得るための
感光性耐熱材料としては、特公平5−67026号公報に記載
されている共有結合で感光基を導入したもの、すなわ
ち、芳香族テトラカルボン酸二無水物をオレフィン不飽
和アルコールと反応させてオレフィン芳香族テトラカル
ボン酸ジエステルを合成し、この化合物とジアミンとを
カルボジイミドを用いた脱水縮合反応により重合させた
もの、および、特公昭63−31939号公報に記載されてい
るイオン結合で感光基を導入したもの、すなわち、芳香
族テトラカルボン酸二無水物を芳香族ジアミンと反応さ
せて得られるポリアミド酸に、感光基を有するアミン化
合物を反応させたものが知られている。

【０００３】これらの従来技術はいずれも、適当な有機
溶剤に溶解したポリイミド前駆体を、ワニス状態で基板
に塗布し、乾燥させて被膜とした後、適当なフォトマス
クを介して紫外線を照射することにより露光部を光硬化
させ、有機溶媒を用いて現像およびリンスして、ネガ型
のレリーフ・パターンを得ている。

【０００４】しかしながら、パターン形成時に現像液と
して有機溶媒を使用すると、現像時に露光部の膨潤が起
こり易く、高解像度のパターンを得ることが困難であ
る。また、有機溶媒を用いると、作業者の健康に悪影響
があることや、廃液処理に手間がかかるといった問題点
があった。

【０００５】そこで、上述の問題点を解決するため、水
性の液により現像可能な材料として、例えば、ポリアミ
ド酸のカルボキシル基に、ナフトキノンジアジドスルホ
ニルアミド基を導入したポジ型のポリマが提案されてい
る（特開平6-258835号公報）。このポリマは、光照射に
よりナフトキノンジアジドスルホニルアミド基がカルボ
キシル基に変化するため、露光部が塩基性水溶液に可溶
化するという特徴を有しており、ポジ型感光材料として
用いられる。

【０００６】しかし、このポジ型感光材料は、現像に長
時間を必要としたり、膜厚が厚い（１０μｍ以上）場合
感度が充分でないという問題点があった。

【０００７】そこで、本発明者らは、これらの問題点を
無くし、水溶液による短時間の現像が可能な、現像時に
露光部の膨潤が起こりにくい高解像度の感光材料と、該
感光材料に用いられるポリイミド前駆体と、該感光材料
を用いた樹脂パターン形成方法とを開発した（特開平10
-95848号公報）。この材料は、下記一般式（化２）によ
り表される繰返し単位を有し、重量平均分子量は１万〜
２０万、望ましくは２万〜６万のポリイミド前駆体であ
る。

【０００８】

【化２】

【０００９】（ただし、式中、Ｒ¹は４個以上の炭素を
含む４価の有機基、Ｒ²は芳香族環を含む３価または４
価の有機基、Ｒ³は１価の有機基、Ａは酸性を示す１価
の基、ｎは１または２である。） このポリイミド前駆体は、ポリマの構造単位中に酸性の
基Ａを有するため、硬化前のポリイミド前駆体が塩基性
水溶液に良く溶解するという特徴を備えている。従っ
て、このようなポリイミド前駆体は、塩基性水溶液によ
り容易に現像することができ、有機溶媒を現像液として
用いることに伴う上述のような種々の弊害を克服でき
る。

【００１０】また、Ｒ³を感光基とすれば、このポリイ
ミド前駆体を、露光により硬化するネガ型の感光性ポリ
イミド前駆体とすることができる。Ｒ³が感光基の場
合、この感光基はエステル結合により導入されるため、
厚い膜（１０μｍ以上）でも露光部の硬化性が優れてい
る。従って、上記一般式（化１）のポリイミド前駆体の
うち、Ｒ³を感光基としたものは、塩基性水溶液に溶解
し、露光により硬化して該塩基性水溶液に不溶化すると
いう特性を備え、このポリイミド前駆体を用いれば、短
い現像時間でネガ型のパターンを形成できる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このポリイミ
ド前駆体は、シリコンウエハとの密着性が従来のものよ
り劣り、半導体素子の表面コート膜等の保護膜に用いた
場合、塩基性水溶液現像時に、露光部の剥離が生じるこ
とがあった。

【００１２】そこで、本発明は、接着性が高く現像時に
硬化部が剥離しにくいポリイミド前駆体組成物と、該組
成物を用いた樹脂パターンの形成方法とを提供すること
を目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、ポリイミド前駆体と、下記一般式（化
１）で表わされる有機ケイ素化合物とを含むポリイミド
前駆体組成物が提供される。有機ケイ素化合物の配合量
は、ポリイミド前駆体１００重量部に対して、０．１〜
５０重量部とすることが望ましい。この有機ケイ素化合
物を用いると、ポリイミド前駆体組成物膜とシリコンウ
エハとの密着性が向上し、塩基性水溶液で現像した時に
露光部の剥離が起こり難い。

【００１４】

【化１】

【００１５】（ただし、式中、Ｒ⁹は２価の有機基を表
わし、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ、アルキル基、アルケ
ニル基及び芳香族基から独立して選択された基を表わ
し、ｍは１〜３の整数である。） ここで、Ｒ⁹は、炭素数２〜４のアルキレン基、フェニ
ル基又は炭素数２〜３のアルケニル基であることが望ま
しく、特に炭素数２〜４のアルキレン基が好適である。
また、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ、炭素数１〜３のアル
キレン基、フェニル基又は炭素数２〜３のアルケニル基
であることが望ましく、特に炭素数２〜３のアルキレン
基が好適である。

【００１６】なお、ポリイミド前駆体は、感光性ポリイ
ミド前駆体であることが望ましい。本発明では、ポリイ
ミド前駆体として感光性ポリイミド前駆体を含む感光性
ポリイミド前駆体組成物が提供される。

【００１７】感光性ポリイミド前駆体としては、特に下
記一般式（化２）で表される第１の繰返し単位を有する
感光性ポリイミド前駆体は、本発明に適している。これ
らポリイミド前駆体の重量平均分子量は、１万〜２０万
であることが望ましく、２万〜６万であることがさらに
望ましい。

【００１８】

【化２】

【００１９】（ただし、式中、Ｒ¹は４個以上の炭素を
含む４価の有機基、Ｒ²は芳香族環を含む３価または４
価の有機基、Ｒ³は１価の有機基、Ａは酸性を示す１価
の基、ｎは１または２である。） このポリイミド前駆体は、酸性基Ａを有するため、有機
ケイ素化合物のイソシアナート基と結合して、ポリマの
骨格にシロキサン基を導入することができるため、シリ
コンウエハとの密着性が向上し、塩基性水溶液で現像し
た時に露光部の剥離が起こり難い。本発明では、このよ
うに、本発明において用いられる有機珪素化合物のイソ
シアナート基と反応可能な官能基を有するポリイミド前
駆体を用いることが望ましい。

【００２０】また、これらの感光性ポリイミド前駆体
は、ポリマの構造単位中に酸性の基Ａを有するため、硬
化前の感光性ポリイミド前駆体が塩基性水溶液に良く溶
解する。従って、このような感光性ポリイミド前駆体
は、塩基性水溶液により容易に現像することができる。
さらに、Ｒ³にエステル結合で感光基が導入されるた
め、露光部の硬化性が優れている。従って、未露光部は
塩基性水溶液に溶解し、露光により硬化して該塩基性水
溶液に不溶化するという特性を備える。このポリイミド
前駆体を用いれば、短い現像時間でネガ型のパターンを
形成できるため、本発明に適している。

【００２１】なお、この感光性ポリイミド前駆体は、す
べての繰返し単位に酸性基Ａを備えていなくてもよく、
１０モル％以上の繰返し単位に酸性基Ａがあればよい。
すなわち、上記一般式（化２）で表される第１の繰返し
単位に加えて、さらに、下記一般式（化３）で表される
第２の繰返し単位を有し、一分子中の、第１の繰返し単
位の数と、第２の繰返し単位の数との合計を１００とす
るとき、第１の繰返し単位の数が１０以上１００以下、
第２の繰返し単位の数が０以上９０以下である感光性ポ
リイミド前駆体も、本発明に含まれる感光性ポリイミド
前駆体として用いることができる。

【００２２】

【化３】

【００２３】（ただし、式中、Ｒ¹は４個以上の炭素を
含む４価の有機基、Ｒ³は１価の有機基、Ｒ⁴は芳香族環
またはケイ素を含む２価の有機基である。） 本発明のポリイミド前駆体組成物は、ポリイミド前駆体
として感光性ポリイミド前駆体を含む場合、このポリイ
ミド前駆体１００重量部に対して、増感剤０．１〜５０
重量部と、光重合助剤０．１〜５０重量部とをさらに含
むことができる。

【００２４】さらに、本発明では、本発明のポリイミド
前駆体組成物からなる被膜に、所定のパターンのマスク
を介して光を照射した後、塩基性水溶液を用いて上記被
膜を現像する工程を含むことを特徴とする樹脂パターン
の形成方法が提供される。

【００２５】

【発明の実施の形態】本発明に含まれる有機ケイ素化合
物の具体例としては、３−イソシアナートプロピルトリ
エトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメト
キシシラン、３−イソシアナートプロピルジメトキシメ
チルシラン、３−イソシアナートプロピルジエトキシメ
チルシラン、４−イソシアナートブチルトリエトキシシ
ラン、４−イソシアナートブチルトリメトキシシラン、
４−イソシアナートブチルジメトキシメチルシラン、４
−イソシアナートブチルジエトキシメチルシラン等が挙
げられるが、これらに限定されない。１種類の有機ケイ
素化合物を用いても良いし、数種を混合して用いてもよ
い。本発明に含まれるポリイミド前駆体１００重量部に
対し、有機ケイ素化合物は、０．１〜５０重量部配合す
ることが好ましく、０．３〜２０重量部とすることがさ
らに好ましい。０．１〜５０重量部の範囲を逸脱する
と、現像性に好ましくない影響を及ぼすことがある。

【００２６】本発明に好適な上記一般式（化２）で表わ
される感光性ポリイミド前駆体は、例えば、下記一般式
（化９）により表される酸クロライドと、下記一般式
（化１０）により表されるジアミンとを溶媒中で反応さ
せることにより得られる。

【００２７】

【化９】

【００２８】

【化１０】

【００２９】なお、ジアミン成分のうち、上記（化１
０）は１０モル％以上であればよく、全ジアミン成分の
９０モル％以下の下記一般式（化１１）で表されるジア
ミンと、１０モル％以上の上記（化１０）のジアミンと
の混合物を、上記一般式（化９）の酸クロライドと共重
合させても、本発明に含まれる感光性ポリイミド前駆体
が得られる。

【００３０】

【化１１】

【００３１】上述のように、この感光性ポリイミド前駆
体は、分子中に酸性基Ａを備えることにより、塩基性水
溶液に対する溶解性が付与されている。この酸性基Ａ
は、下記置換基群（化１２）のうちのいずれかとするこ
とが望ましいが、これら以外の酸性基を用いてもよい。
また、分子中のすべてのＡが同じであってもよく、異な
る基Ａが分子中に混在していてもよい。なお、この（化
１２）に挙げられた酸性基のうち、カルボキシル基およ
び水酸基は、合成が容易なため、特に好ましい。

【００３２】

【化１２】

【００３３】この酸性基Ａの結合しているジアミン残基
Ｒ²は、硬化して得られるポリイミド膜の機械特性、耐
熱性、および接着性の観点から、芳香族環を含む３価ま
たは４価の有機基である。その好ましい例を、下記構造
式群（化５）に挙げる。なお、分子中のすべてのＲ²が
同じであってもよく、異なる基Ｒ²が分子中に混在して
いてもよい。

【００３４】

【化５】

【００３５】また、酸性基Ａが存在しない繰返し単位
（化３）のジアミン残基Ｒ⁴は、硬化して得られるポリ
イミド膜の機械特性、耐熱性、および接着性の観点か
ら、芳香族環および／またはケイ素を含む２価の有機基
である。その好ましい例を、下記構造式群（化６）、
（化７）および（化８）に挙げる。なお、分子中のすべ
てのＲ⁴が同じであってもよく、異なる基Ｒ⁴が分子中に
混在していてもよい。

【００３６】

【化６】

【００３７】

【化７】

【００３８】

【化８】

【００３９】本発明に好適な感光性ポリイミド前駆体の
一般式（化２）および（化３）において、硬化して得ら
れるポリイミド膜の機械特性、耐熱性、および接着性の
観点から、Ｒ¹は炭素数４以上の４価の有機基である。
その好ましい例を、下記構造式群（化４）に挙げる。な
お、分子中のすべてのＲ¹が同じであってもよく、異な
る基Ｒ¹が分子中に混在していてもよい。これらの中
で、特にビフェニル骨格のもの、及びジフェニルスルホ
ン骨格のものが、感光性を付与したポリイミド前駆体に
用いてパターンを形成した場合、パターンの形状が良好
であるため望ましい。

【００４０】

【化４】

【００４１】また、一般式（化２）および（化３）にお
いて、Ｒ³は１価の有機基である。分子中のすべてのＲ³
が同じであってもよく、異なる基Ｒ³が分子中に混在し
ていてもよい。なお、Ｒ³の１０モル％以上を感光基
（例えば、光の照射により脱離する基）にすれば、ポリ
イミド前駆体に感光性を付与することができるため望ま
しい。感光基としては、例えば、下記一般式（化１３）
により表される有機基があり、この一般式（化１３）で
表される基のうちの２種以上が混在してもよい。

【００４２】

【化１３】

【００４３】（ただし、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は、水素、
アルキル基、アルケニル基（ビニル基又はプロペニル基
が好ましい）、及び、芳香族基（フェニル基が好まし
い）からそれぞれ独立に選択された基であり、Ｒ⁸は２
価の有機基を示す。） この一般式（化１３）により表される基は、ポリイミド
前駆体に付与する高感度の感光性を付与するため望まし
く、特に、下記化学式（化１４）により表される有機基
は、高い感度を実現するのみならず、合成も容易である
ため本発明に好適である。

【００４４】

【化１４】

【００４５】Ｒ³の一部（１０モル％以上とすることが
望ましい）を一般式（化１３）で表される基とする場
合、Ｒ³の残り（すなわち、０〜９０モル％とすること
が望ましい）は、炭素数６以下のアルキル基とすること
が好ましく、特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基が、このポリイミド
前駆体を硬化させて得られるポリイミドの膜特性の点か
ら、適している。

【００４６】上述したように、本発明の感光性ポリイミ
ド前駆体組成物は、露光部分が硬化するネガ型感光性材
料として用いられる。本発明の感光性ポリイミド前駆体
組成物の感光性ポリイミド前駆体、および有機ケイ素化
合物以外の成分について、つぎに説明する。

【００４７】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物
は、露光感度をさらに向上させるため、増感剤を含むこ
とが望ましい。増感剤の好ましい例としては、ミヒラケ
トン、ビス−４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、ベンゾフェノン、３，５−ビス（ジエチルアミノベ
ンジリデン）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、３，５−
ビス（ジメチルアミノベンジリデン）−Ｎ−メチル−４
−ピペリドン、３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリ
デン）−Ｎ−エチル−４−ピペリドン、３，３’−カル
ボニルビス（７−ジエチルアミノ）クマリン、リボフラ
ビンテトラブチレート、２−メチル−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−
オン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサ
ントン、３，５−ジメチルチオキサントン、３，５−ジ
イソプロピルチオキサントン、１−フェニル−２−（エ
トキシカルボニル）オキシイミノプロパン−１−オン、
ベンゾインエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンズアントロン、５−ニトロアセナフテン、２−
ニトロフルオレン、アントロン、１，２−ベンズアント
ラキノン、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テト
ラゾール、チオキサンテン−９−オン、１０−チオキサ
ンテノン、３−アセチルインドール、２，６−ジ（ｐ−
ジメチルアミノベンザル）−４−カルボキシシクロヘキ
サノン、２，６−ジ（ｐ−ジメチルアミノベンザル）−
４−ヒドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−ジ
エチルアミノベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサ
ノン、２，６−ジ（ｐ−ジエチルアミノベンザル）−４
−ヒドロキシシクロヘキサノン、４，６−ジメチル−７
−エチルアミノクマリン、７−ジエチルアミノ−４−メ
チルクマリン、７−ジエチルアミノ−３−（１−メチル
ベンゾイミダゾリル）クマリン、３−（２−ベンゾイミ
ダゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−
ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、２
−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンゾオキサゾー
ル、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）キノリン、４
−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）キノリン、２−（ｐ
−ジメチルアミノスチリル）ベンゾチアゾール、２−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−３，３−ジメチル−
３Ｈ−インドール等が挙げられるが、これらに限定され
ない。

【００４８】増感剤は、感光性ポリイミド前駆体１００
重量部に対し、０．１〜５０重量部配合すること好まし
く、０．３〜２０重量部とすることが、さらに好まし
い。０．１〜５０重量部の範囲を逸脱すると、増感効果
が得られなかったり、現像性に好ましくない影響を及ぼ
すことがある。なお、増感剤として、１種類の化合物を
用いても良いし、数種を混合して用いてもよい。

【００４９】また、本発明の感光性ポリイミド前駆体組
成物は、さらに露光感度を向上させるために、光重合助
剤を含んでもよい。光重合助剤としては、例えば、４−
ジエチルアミノエチルベンゾエート、４−ジメチルアミ
ノエチルベンゾエート、４−ジエチルアミノプロピルベ
ンゾエート、４−ジメチルアミノプロピルベンゾエー
ト、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、Ｎ−
フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシ
ン、Ｎ−（４−シアノフェニル）グリシン、４−ジメチ
ルアミノベンゾニトリル、エチレングリコールジチオグ
リコレート、エチレングリコールジ（３−メルカプトプ
ロピオネート）、トリメチロールプロパンチオグリコレ
ート、トリメチロールプロパントリ（３−メルカプトプ
ロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラチオグリ
コレート、ペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプ
トプロピオネート）、トリメチロールエタントリチオグ
リコレート、トリメチロールプロパントリチオグリコレ
ート、トリメチロールエタントリ（３−メルカプトプロ
ピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メ
ルカプトプロピオネート）、チオグリコール酸、α−メ
ルカプトプロピオン酸、ｔ−ブチルペルオキシベンゾエ
ート、ｔ−ブチルペルオキシメトキシベンゾエート、ｔ
−ブチルペルオキシニトロベンゾエート、ｔ−ブチルペ
ルオキシエチルベンゾエート、フェニルイソプロピルペ
ルオキシベンゾエート、ジｔ−ブチルジペルオキシイソ
フタレート、トリｔ−ブチルトリペルオキシトリメリテ
ート、トリｔ−ブチルトリペルオキシトリメシテート、
テトラｔ−ブチルテトラペルオキシピロメリテート、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペルオキ
シ）ヘキサン、３，３'，４，４'−テトラ（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，
４，４'−テトラ（ｔ−アミルペルオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ（ｔ−ヘキ
シルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，６−
ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキ
サノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−カル
ボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベン
ザル）−４−メトキシシクロヘキサノン、２，６−ジ
（ｐ−アジドベンザル）−４−ヒドロキシメチルシクロ
ヘキサノン、３，５−ジ（ｐ−アジドベンザル）−１−
メチル−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｐ−アジドベン
ザル）−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｐ−アジドベン
ザル）−Ｎ−アセチル−４−ピペリドン、３，５−ジ
（ｐ−アジドベンザル）−Ｎ−メトキシカルボニル−４
−ピペリドン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４
−ヒドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｍ−アジ
ドベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，
６−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−メトキシシクロヘ
キサノン、２，６−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−ヒ
ドロキシメチルシクロヘキサノン、３，５−ジ（ｍ−ア
ジドベンザル）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、３，５
−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−ピペリドン、３，５
−ジ（ｍ−アジドベンザル）−Ｎ−アセチル−４−ピペ
リドン、３，５−ジ（ｍ−アジドベンザル）−Ｎ−メト
キシカルボニル−４−ピペリドン、２，６−ジ（ｐ−ア
ジドシンナミリデン）−４−ヒドロキシシクロヘキサノ
ン、２，６−ジ（ｐ−アジドシンナミリデン）−４−カ
ルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドシ
ンナミリデン）−４−ヒドロキシメチルシクロヘキサノ
ン、３，５−ジ（ｐ−アジドシンナミリデン）−Ｎ−メ
チル−４−ピペリドン、４，４’−ジアジドカルコン、
３，３’−ジアジドカルコン、３，４’−ジアジドカル
コン、４，３’−ジアジドカルコン、１，３−ジフェニ
ル−１，２，３−プロパントリオン−２−（Ｏ−アセチ
ル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロ
パントリオン−２−（Ｏ−ｎ−プロピルカルボニル）オ
キシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパント
リオン−２−（Ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、
１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−
２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジ
フェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（Ｏ−
ベンゾイル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，
３−プロパントリオン−２−（Ｏ−フェニルオキシカル
ボニル）オキシム、１，３−ビス（ｐ−メチルフェニ
ル）−１，２，３−プロパントリオン−２−（Ｏ−ベン
ゾイル）オキシム、１，３−ビス（ｐ−メトキシフェニ
ル）−１，２，３−プロパントリオン−２−（Ｏ−エト
キシカルボニル）オキシム、１−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−３−（ｐ−ニトロフェニル）−１，２，３−プロ
パントリオン−２−（Ｏ−フェニルオキシカルボニル）
オキシム等を用いることができるが、これらに限定され
ない。

【００５０】光重合助剤は、感光性ポリイミド前駆体１
００重量部に対し、０．１〜５０重量部配合されること
が好ましく、０．３〜２０重量部の範囲がさらに好まし
い。０．１〜５０重量部の範囲を逸脱すると、目的とす
る増感効果が得られなかったり、現像性に好ましくない
影響をおよぼすことがある。なお、光重合助剤として、
１種類の化合物を用いても良いし、数種を混合して用い
てもよい。

【００５１】また、本発明の感光性ポリイミド前駆体組
成物は、さらに露光感度を向上させるために、上述の増
感剤および光重合助剤に加えて、共重合モノマーを含ん
でもよい。共重合モノマーは、炭素−炭素二重結合を有
する化合物であり光重合反応を容易にする。共重合モノ
マーとしては、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタク
リレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタクリレート等が好ましい
が、これらに限定されない。

【００５２】この共重合モノマーは、感光性ポリイミド
前駆体１００重量部に対し、１〜１００重量部配合する
ことが好ましく、３〜５０重量部の範囲がさらに好まし
い。１〜１００重量部の範囲を逸脱すると、目的とする
効果が得られなかったり、現像性に好ましくない影響を
およぼすことがある。なお、共重合モノマーとして、１
種類の化合物を用いても良いし、数種を混合して用いて
もよい。

【００５３】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物
は、適当な有機溶媒を含んでいてもよい。適当な有機溶
媒に溶解した状態であれば、溶液（ワニス）状態で使用
に供することができ、成膜する際便利である。この場合
に用いる溶媒としては、溶解性の観点から非プロトン性
極性溶媒が望ましく、具体的には、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ−ベンジ
ル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−アセチル−
ε−カプロラクタム、ジメチルイミダゾリジノン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリ
コールジメチルエーテル、γ−ブチロラクトンなどが好
適な例としてあげられる。これらは単独で用いても良い
し、混合系として用いることも可能である。また、塗布
性を改善するために、トルエン、キシレン、ジエチルケ
トン、メトキシベンゼン、シクロペンタノン等の溶媒を
ポリマーの溶解性に悪影響を及ぼさない範囲で混合して
も差し支えない。

【００５４】本発明の樹脂パターン形成方法は、支持基
板表面に本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物からな
る被膜が形成され、フォトリソグラフィ技術により該組
成物の硬化物からなるポリイミド膜を形成するものであ
る。

【００５５】感光性ポリイミド前駆体組成物からなる被
膜は、例えば、感光性ポリイミド前駆体組成物のワニス
の膜を形成した後、これを乾燥させることにより形成さ
れる。ワニスの膜の形成は、ワニスの粘度などに応じ
て、スピンナーを用いた回転塗布、浸漬、噴霧印刷、ス
クリーン印刷などの手段から適宜選択された手段により
行う。なお、被膜の膜厚は、塗布条件、本組成物の固形
分濃度等によって調節できる。また、あらかじめ支持体
上に形成した被膜を支持体から剥離して感光性ポリイミ
ド前駆体組成物からなるシートを形成しておき、このシ
ートを上記支持基板の表面に貼り付けることにより、上
述の被膜を形成してもよい。

【００５６】つぎに、この被膜に、所定のパターンのフ
ォトマスクを介して光（通常は紫外線を用いる）を照射
した後、塩基性水溶液により未露光部を溶解除去して、
所望のレリーフ・パターンを得る。この現像工程は、通
常のポジ型フォトレジスト現像装置を用いて行ってもよ
い。

【００５７】本発明の樹脂パターン形成方法では、現像
液として、塩基性水溶液を用いる。なお、現像液は、塩
基性を呈する水溶液であれば、一つの化合物の水溶液で
もよく、２つ以上の化合物の水溶液でもよい。塩基性水
溶液は、通常、塩基性化合物を水に溶解した溶液であ
る。塩基性化合物の濃度は、通常０．１〜５０重量／重
量％とするが、支持基板等への影響などから、０．１〜
３０重量／重量％とすることが好ましい。現像液は、感
光性ポリイミド前駆体の溶解性を改善するため、メタノ
−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イソプロピルアルコ
−ル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の水溶
性有機溶媒を、さらに含有していてもよい。

【００５８】上記塩基性化合物としては、例えば、アル
カリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウムイオン
の、水酸化物または炭酸塩や、アミン化合物などが挙げ
られ、具体的には、２−ジメチルアミノエタノール、３
−ジメチルアミノ−１−プロパノール、４−ジメチルア
ミノ−１−ブタノ−ル、５−ジメチルアミノ−１−ペン
タノ−ル、６−ジメチルアミノ−１−ヘキサノ−ル、２
−ジメチルアミノ−２−メチル−１−プロパノ−ル、３
−ジメチルアミノ−２，２−ジメチル−１−プロパノ−
ル、２−ジエチルアミノエタノ−ル、３−ジエチルアミ
ノ−１−プロパノ−ル、２−ジイソプロピルアミノエタ
ノ−ル、２−ジ−ｎ−ブチルアミノエタノ−ル、Ｎ，Ｎ
−ジベンジル−２−アミノエタノ−ル、２−（２−ジメ
チルアミノエトキシ）エタノ−ル、２−（２−ジエチル
アミノエトキシ）エタノ−ル、１−ジメチルアミノ−２
−プロパノ−ル、１−ジエチルアミノ−２−プロパノ−
ル、Ｎ−メチルジエタノ−ルアミン、Ｎ−エチルジエタ
ノ−ルアミン、Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ
−ｔ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−ラウリルジエタ
ノールアミン、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパン
ジオール、トリエタノールアミン、トリイソプロパノー
ルアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエ
タノールアミン、Ｎ−ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ
−ｔ−ブチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、
ジイソプロパノールアミン、２−アミノエタノール、３
−アミノ−１−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノ
ール、６−アミノ−１−ヘキサノール、１−アミノ−２
−プロパノール、２−アミノ−２，２−ジメチル−１−
プロパノール、１−アミノブタノール、２−アミノ−１
−ブタノール、Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールア
ミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオ
ール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオ
ール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−ア
ミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオー
ル、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモ
ニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニ
ウム、、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸
水素アンモニウム、テトラメチルアンモニムウヒドロキ
シド、テトラエチルアンモニムウヒドロキシド、テトラ
プロピルアンモニムウヒドロキシド、テトライソプロピ
ルアンモニムウヒドロキシド、アミノメタノ−ル、２−
アミノエタノ−ル、３−アミノプロパノ−ル、２−アミ
ノプロパノ−ル、メチルアミン、エチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミンなどを用いることが
好ましいが、水に可溶であり、水溶液が塩基性を呈する
ものであれば、これら以外の化合物を用いても構わな
い。

【００５９】次に、現像によって形成したレリーフ・パ
ターンを、リンス液により洗浄して、現像溶剤を除去す
る。リンス液には、現像液との混和性の良いメタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、水などが好
適な例としてあげられる。

【００６０】このようにして得られたレリーフ・パター
ンを、１５０℃から４５０℃までの範囲から選ばれた温
度で加熱処理することにより、本発明の感光性ポリイミ
ド前駆体組成物の硬化物からなる樹脂パターンが高解像
度で得られる。この樹脂パターンは、耐熱性が高く、機
械特性に優れている。

【００６１】

【実施例】＜実施例１＞ Ａ．感光性ポリイミド前駆体の合成 （１）酸クロライドの合成 ２００ｍｌの四つ口フラスコに、３，３’，４，４’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡと略
す）９．４２ｇ（０．０３２モル）、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート８．３２ｇ（０．０６４モル）、ピ
リジン５．０６ｇ（０．０６４モル）、ｔ−ブチルカテ
コール０．０３ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭ
Ｐと略す）７０ｍｌを入れ６０℃で撹拌すると、２時間
で透明な溶液になった。この溶液を室温でその後７時間
撹拌した後、フラスコを氷で冷却し、塩化チオニル９．
８８ｇ（０．０８３モル）を１０分で滴下した。その後
室温で１時間撹拌し、酸クロライドを含む溶液を得た。

【００６２】（２）感光性ポリイミド前駆体の合成 別の２００ｍｌの四つ口フラスコに、３，５−ジアミノ
安息香酸４．７２ｇ（０．０３１モル）、ピリジン５．
０６ｇ（０．０６４モル）、ｔ−ブチルカテコール０．
０３ｇ、ＮＭＰ５０ｍｌ入れフラスコを氷で冷却し撹拌
しながら（１０℃以下を保って）、上記（１）で得た酸
クロライド溶液を１時間でゆっくりと滴下した。その後
室温で１時間撹拌し、１リットルの水へ投入して、析出
したポリマを濾取して水で２度洗い、真空乾燥して２６
ｇのポリマを得た。このポリマの重量平均分子量をＧＰ
Ｃ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）で
測定したところ、ポリスチレン換算で４４０００であっ
た。

【００６３】Ｂ．感光性ポリイミド前駆体組成物の調製 得られたポリマ１０ｇをγ−ブチロラクトン１５．０ｇ
に溶解し、１１０ｍｇの３−イソシアナートプロピルト
リエトキシシランと４−ジエチルアミノエチルベンゾエ
ート２００ｍｇを加えて溶解後、５μｍ孔のフィルタを
用いて加圧濾過して、溶液状の感光性ポリイミド前駆体
組成物を得た。

【００６４】Ｃ．ポリイミド膜の評価 得られた溶液をスピンナでシリコンウエハ上に回転塗布
し、次いでホットプレートにより９０℃で３分間乾燥し
て、１５μｍ厚の塗膜を得た。この塗膜を５００Ｗの高
圧水銀灯を用いて１００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍの紫
外線強度）の強度で露光させた後、２０℃の２．３８重
量％テトラメチルアンモニムウヒドロキシド水溶液（現
像液）に１分間浸漬して現像し、ついで水でリンスし
て、半硬化状態のポリイミド前駆体膜を得た。

【００６５】この膜を２００℃で３０分間、続いて４０
０℃で６０分間加熱して加熱硬化させ、厚さ１０μｍの
膜を得た。このポリイミド膜をシリコンウエハから剥離
し、膜の伸び特性を測定したところ、伸びは８％と良好
であった。また、現像後膜厚の露光量依存性を測定し、
現像後膜厚が塗布膜厚の半分になる露光量を感度とし
て、感度５０ｍＪ／ｃｍ²を得た。

【００６６】また、２〜３μｍの厚さのポリイミド膜を
形成し、赤外線吸収スペクトルを測定したところ、１７
８０ｃｍ^-1にイミド基の吸収があり、２８００〜３６０
０ｃｍ^-1にカルボキシル基の吸収が見られた。

【００６７】Ｄ．樹脂パターンの形成 さらに、工程Ｂで調製した感光性ポリイミド前駆体組成
物を用い、上述のポリイミド膜の形成と同様にして、塗
膜、露光、現像、リンスした。ただし、露光の際に、塗
膜を１０μｍ幅の縞模様のパターンを有するフォトマス
クで密着被覆した。これにより、半硬化状態のポリイミ
ド前駆体からなる、シリコンウエハ上に剥離のないシャ
ープな端面を持つ１０μｍ幅のレリーフパターンが得ら
れた。このパターンを、上述のポリイミド膜の形成と同
様に加熱処理したところ、ポリイミドからなる高精度の
樹脂パターンが得られた。

【００６８】＜実施例２＞ Ａ．感光性ポリイミド前駆体の合成 （１）酸クロライドの合成 ２００ｍｌの四つ口フラスコに、４，４’−オキシジフ
タル酸二無水物（ＯＤＰＡと略す）１０．００ｇ（０．
０３２モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート
８．３２ｇ（０．０６４モル）、ピリジン５．０６ｇ
（０．０６４モル）、ｔ−ブチルカテコール０．０３
ｇ、ＮＭＰ７０ｍｌを入れ６０℃で撹拌すると、３０分
で透明な溶液になった。この溶液を室温でその後６時間
撹拌した後、フラスコを氷で冷却し、塩化チオニル９．
８８ｇ（０．０８３モル：１．３等量）を１０分で滴下
した。その後室温で１時間撹拌し、酸クロライド溶液を
得た。

【００６９】（２）感光性ポリイミド前駆体の合成 別の２００ｍｌの四つ口フラスコに、３，５−ジアミノ
安息香酸４．７２ｇ（０．０３１モル）、ピリジン５．
０６ｇ（０．０６４モル）、ｔ−ブチルカテコール０．
０３ｇ、ＮＭＰ５０ｍｌ入れフラスコを氷で冷却し撹拌
しながら（１０℃以下を保って）、上記（１）により得
た酸クロライド溶液を１時間でゆっくりと滴下した。そ
の後室温で１時間撹拌し、１リットルの水へ投入し、析
出したポリマを濾取して水で２度洗い、真空乾燥して２
７ｇのポリマを得た。このポリマの重量平均分子量をＧ
ＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）
で測定したところ、ポリスチレン換算で３９０００であ
った。

【００７０】Ｂ．感光性ポリイミド前駆体組成物の調製 得られたポリマ１０ｇを、γ−ブチロラクトン１５．０
ｇに溶解し、１１０ｍｇの３−イソシアナートプロピル
トリエトキシシランとミヒラケトン１００ｍｇを加えて
溶解後、５μｍ孔のフィルタを用いて加圧濾過して、溶
液状の感光性ポリイミド前駆体組成物を得た。

【００７１】Ｃ．ポリイミド膜の評価 得られた溶液をスピンナでシリコンウエハ上に回転塗布
し、次いで９０℃のホットプレートで３分間乾燥して１
５μｍ厚の塗膜を得た。この塗膜を、５００Ｗの高圧水
銀灯を用いて１００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍの紫外線
強度）の強さで露光させた。露光後、２０℃の２．３８
重量％テトラメチルアンモニムウヒドロキシド水溶液
（現像液）に１分間浸漬して現像し、ついで水でリンス
して、半硬化状態の感光性ポリイミド前駆体膜を得た。

【００７２】この膜を２００℃で３０分間、続いて４０
０℃で６０分間加熱して加熱硬化させ、厚さ１０μｍの
膜を得た。このポリイミド膜をシリコンウエハから剥離
し、膜の伸び特性を測定したところ、伸びは１０％と良
好であった。また、現像後膜厚の露光量依存性を測定
し、現像後膜厚が塗布膜厚の半分になる露光量を感度と
して、感度５０ｍＪ／ｃｍ²を得た。

【００７３】また、２〜３μｍの厚さのポリイミド膜を
形成し、赤外線吸収スペクトルを測定したところ、１７
８５ｃｍ^-1にイミド基の吸収があり、２８００〜３６０
０ｃｍ^-1にカルボキシル基の吸収が見られた。

【００７４】Ｄ．樹脂パターンの形成 さらに、工程Ｂで調製した感光性ポリイミド前駆体組成
物を用い、本実施例における工程Ｃのポリイミド膜の形
成と同様にして、塗膜、露光、現像、リンスした。ただ
し、露光の際に、塗膜を１０μｍ幅の縞模様のパターン
を有するフォトマスクで密着被覆した。これにより、半
硬化状態の感光性ポリイミド前駆体からなる、シリコン
ウエハ上に剥離のないシャープな端面を持つ１０μｍ幅
のレリーフパターンが得られた。このパターンを、上述
のポリイミド膜の形成と同様に加熱処理したところ、ポ
リイミドからなる高精度の樹脂パターンが得られた。

【００７５】＜実施例３〜１２＞表１および表２に示し
た酸二無水物およびアルコールを用い、実施例１と同様
にしてテトラカルボン酸ジエステルの酸クロライドを合
成し、さらに表１および２に示すジアミンを実施例１と
同様の反応条件で反応させて感光性ポリイミド前駆体を
合成した。得られた感光性ポリイミド前駆体の重量平均
分子量は、１万〜４万であった。

【００７６】

【表１】

【００７７】

【表２】

【００７８】得られた感光性ポリイミド前駆体を実施例
１と同様にして溶媒に溶解し、有機ケイ素化合物、増感
剤、光重合助剤および、共重合モノマを添加して感光性
ポリイミド前駆体組成物を調製した。得られた組成物を
用い、実施例１と同様にして成膜し、現像時の露光部の
剥離の有無、解像度、現像時間、膜の伸びを検討した結
果を、表３および表４に示す。なお、表３および表４で
は、感光性ポリイミド前駆体１００重量部当たりの各添
加物の添加量を（ ）内に示した。

【００７９】

【表３】

【００８０】

【表４】

【００８１】ただし、成膜、評価条件は実施例１と同様
とし、膜厚は１０〜２０μｍに設定した。感度は、現像
後膜厚が塗布膜厚の半分になる露光量として、５０ｍＪ
／ｃｍ²以下を良好とし、現像における露光部の剥離の
有無は、１０μｍ幅の縞模様のレリーフパターンがシリ
コンウエハ上で剥離せずに得られた場合を無とした。ま
た、現像時間は、テトラメチルアンモニムウヒドロキシ
ド２．３８重量％水溶液からなる現像液を用いて１分以
下で現像可能なものを良好とした。さらに、最終ポリイ
ミド膜の伸びは８％以上を良好とした。

【００８２】＜比較例＞特開平10-95848号公報の実施例
１と同様にして感光性ポリイミド前駆体を合成し、この
前駆体を用いて、本願の実施例１と同様にして、感光性
ポリイミド前駆体組成物を調製し、塗膜を成膜し、フォ
トマスクを介して実施例１と同じ露光量で露光させた
後、現像を行ったところ、１０μｍ幅の縞模様のレリー
フパターンは剥離した。

【００８３】

【発明の効果】以上に詳述したように、本発明によれ
ば、ポリイミド前駆体組成物のシリコンウエハとの密着
性が高いため現像時に硬化部が剥離しにくく、高精度の
ポリイミド樹脂パターンを容易かつ安全に形成すること
ができる。したがって、本発明によれば、半導体素子の
表面コート膜等の保護膜や薄膜多層配線基板の層間絶縁
膜等の接着信頼性を向上させることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片岡 文雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 鍜治 誠 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 杉浦 実 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA14 AB16 AD01 BC69 BC84 BC85 BC86 BC92 CA00 CC20 FA07 FA17 4J002 ES018 GP03

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリイミド前駆体と、 下記一般式（化１）で表わされる有機ケイ素化合物とを
   含むことを特徴とするポリイミド前駆体組成物。 【化１】 （ただし、式中、Ｒ⁹は２価の有機基を表わし、Ｒ¹⁰お
   よびＲ¹¹はそれぞれ、アルキル基、アルケニル基及び芳
   香族基から独立して選択された基を表わし、ｍは１〜３
   の整数である。）
2. 【請求項２】上記Ｒ⁹は、炭素数２〜４のアルキレン
   基、フェニル基又は炭素数２〜３のアルケニル基である
   ことを特徴とする請求項１記載のポリイミド前駆体組成
   物。
3. 【請求項３】上記Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ、炭素数１
   〜３のアルキレン基、フェニル基又は炭素数２〜３のア
   ルケニル基であることを特徴とする請求項１記載のポリ
   イミド前駆体組成物。
4. 【請求項４】上記有機ケイ素化合物の配合量は、 上記ポリイミド前駆体１００重量部に対して、０．１〜
   ５０重量部であることを特徴とする請求項１記載のポリ
   イミド前駆体組成物。
5. 【請求項５】上記ポリイミド前駆体は、 下記一般式（化２）で表される第１の繰返し単位を有す
   る感光性ポリイミド前駆体であることを特徴とする請求
   項１記載のポリイミド前駆体組成物。 【化２】 （ただし、式中、Ｒ¹は４個以上の炭素を含む４価の有
   機基、Ｒ²は芳香族環を含む３価または４価の有機基、
   Ｒ³は１価の有機基、Ａは酸性を示す１価の基、ｎは１
   または２である。）
6. 【請求項６】上記ポリイミド前駆体は、 下記一般式（化３）で表される第２の繰返し単位をさら
   に有する共重合体であり、 一分子中の、上記第１の繰返し単位の数と、上記第２の
   繰返し単位の数との合計を１００とするとき、第１の繰
   返し単位の数は１０〜１００、第２の繰返し単位の数は
   ０〜９０であることを特徴とする請求項５記載のポリイ
   ミド前駆体組成物。 【化３】 （ただし、式中、Ｒ¹は４個以上の炭素を含む４価の有
   機基、Ｒ²は芳香族環を含む３価または４価の有機基、
   Ｒ³は１価の有機基、Ｒ⁴は芳香族環またはケイ素を含む
   ２価の有機基である。）
7. 【請求項７】上記ポリイミド前駆体は感光性ポリイミド
   前駆体であり、 上記ポリイミド前駆体１００重量部に対して、増感剤
   ０．１〜５０重量部と、光重合助剤０．１〜５０重量部
   とをさらに含むことを特徴とする請求項１記載のポリイ
   ミド前駆体組成物。
8. 【請求項８】請求項１記載のポリイミド前駆体組成物か
   らなる被膜に、所定のパターンのマスクを介して光を照
   射した後、塩基性水溶液を用いて上記被膜を現像する工
   程を含むことを特徴とする樹脂パターンの形成方法。