JPH0336861B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0336861B2
JPH0336861B2 JP57042779A JP4277982A JPH0336861B2 JP H0336861 B2 JPH0336861 B2 JP H0336861B2 JP 57042779 A JP57042779 A JP 57042779A JP 4277982 A JP4277982 A JP 4277982A JP H0336861 B2 JPH0336861 B2 JP H0336861B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
group
mol
polymer composition
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57042779A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57170929A (en
Inventor
Fumio Kataoka
Fusaji Shoji
Isao Obara
Kazunari Takemoto
Ataru Yokono
Tokio Isogai
Mitsumasa Kojima
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP4277982A priority Critical patent/JPS57170929A/ja
Publication of JPS57170929A publication Critical patent/JPS57170929A/ja
Publication of JPH0336861B2 publication Critical patent/JPH0336861B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、耐熱性高分子ずなる新芏な感光性重
合䜓組成物に関するものである。 埓来、耐熱性高分子ずなる感光性重合䜓組成物
ずしお(a)ポリむミドの前駆䜓たるポリアミド酞を
䞻成分ずするポリマヌず、化孊線により二量化又
は重合可胜な炭玠−炭玠二重結合およびアミノ基
又はその四玚化塩を含む化合物ずを混合したも
の、(b)ポリアミド酞のカルボキシル基にアミド結
合で䞍飜和結合を有する基ビニル基を導入
し、さらにビスアゞド化合物を加えた系からなる
感光性耐熱重合䜓組成物が知られおいる。 しかし、䞊蚘(a)の組成物は、感床が数癟〜数千
cm2皋床であり、実甚に䟛するには䞍十分で
あり、䞊蚘(b)の組成物は、珟像時に露光郚のパタ
ヌンが溶出され易いため现かなパタヌンが圢成さ
れないのみならず、パタヌンの端面が鮮明でない
欠点があ぀た。 本発明の目的は前蚘した埓来技術の欠点をなく
し、高感床で解像床の良奜な感光性重合䜓組成物
を提䟛するにある。 䞊蚘目的を達成するために鋭意怜蚎した結果、 (i) 䞀般匏 䜆し、〔〕匏䞭R1は䟡たたは䟡の有機
基、R2は䟡の有機基を衚わし、は又は
である。で衚わされる繰り返し単䜍を䞻成
分ずするポリマ100重量郚ず、 (ii) 䞀般匏 䜆し、〔〕匏䞭は−OH、−OR3、−R4−
OH、−SiR3 3、−COOH、−COOR3、−NR3 2、−
NH2R3は䜎玚アルキル基、R4はアルキレンを
衚わすから遞択された基を衚わし、はた
たはである。で衚わされる芳晄族ビスアゞ
ド化合物0.1〜100重量郚ず、 (iii) 䞀般匏 䜆し、R5、R6、R7、R9は氎玠、䜎玚アルキ
ル基、プニル基、ビニル基の䞭から遞択され
た基、R8はアルキレンを衚わす。で衚わされ
るアミン化合物〜400重量郚ず、 (iv) 必芁に応じお加える増感剀ずから成る感光性
重合䜓組成物が前蚘した埓来法に比べお高感床
でか぀解像床が良奜であるこずを芋い出した。 本発明の感光性重合䜓組成物は、通垞、察象ず
する基板䞊に塗膜ずしお圢成された埌、所望の箇
所に玫倖線等の化孊線を照射しお未照射郚ず照射
郚の溶剀に察する溶解性の差を生じさせ、珟像液
溶剀で凊理するこずによ぀お本重合䜓組成物
で成る所望のネガ型パタヌンず成る。 䞊蚘のパタヌン圢成胜は化孊線が照射される
ず、受光郚分では光架橋反応が起぀おポリマ間に
架橋が圢成され、このために溶剀に察する䞍溶性
が増倧するこずに䟝るず考えられる。本感光性重
合䜓組成物は、この光架橋反応を生じせしめるた
めに光架橋剀ずしお光感応性の高いこずで知られ
おいるビスアゞド化合物を甚いおいる。このビス
アゞド化合物の持぀アゞド基−N3は、光を
吞収するず掻性皮ナむトレン−を圢成
し、二重結合ぞの付加、−結合ぞの挿入、氎
玠匕き抜き反応等を起しお結合を圢成する。ビス
アゞド化合物は、このアゞド基を分子の䞡端に持
぀こずによ぀お分子䞡端で化孊結合を圢成するこ
ずができ、埓぀おポリマの架橋にあずかるこずが
できるが、匏〔〕で瀺されるポリアミド酞は掻
性皮ナむトレンずの反応基を持぀おいない。そこ
で、本感光性重合䜓組成物では、第の成分ずし
おポリアミド酞ず結合する基アミノ基を持ち
か぀掻性皮ナむトレンず効率良く反応する基炭
玠−炭玠二重結合、アリル䜍の−基等を持
぀化合物を甚い、ポリアミド酞ずの架橋を可胜な
らしめおいる。この時、䞊蚘の第成分ずしお甚
いる化合物はそのアミノ基がポリアミド酞のカル
ボキシル基ずむオン結合するこずによ぀おポリア
ミド酞に組み蟌たれるず考えられる。 ポリアミド酞以倖に甚いるビスアゞド化合物ず
ナむトレンずの反応基を持぀アミン化合物が必須
成分であり、埓぀お䞊蚘反応が架響の䞻反応であ
るず考えられるのは以䞋の実隓䟋に基ずく。ポリ
アミド酞にそのカルボキシル基のモル数に察しお
等モル量の3′−−ゞメチルアミノプロ
ピル−−ブテンカルボキシレヌトず、0.2倍モ
ル量の−ゞ4′−アゞドベンザル−−
ヒドロキシシクロヘキサノンを加えた感光性重合
䜓組成物は、塗膜厚4Ό、照射光源350W高圧氎
銀灯を甚い、フオトマスクを介しお光源から30cm
の距離で光図射し、−メチル−−ピロリドン
容、゚タノヌル容から成る珟像液で珟像した
堎合、20秒の照射によ぀おパタヌンが圢成される
のに察し、䞊蚘組成のうちポリアミド酞のみの堎
合、ポリアミド酞ずビスアゞドたたはポリアミド
酞ずアミン化合物の成分を甚いた組成の堎合、
䞊蚘ず党く同䞀の実隓条件で15分光照射しおもパ
タヌンは圢成されず塗垃膜は党お珟像液に溶解し
た。 ポリアミド酞ずアミン化合物から成る系のう
ち、アミン化合物が光反応二量化、重合等す
る二重結合を持぀堎合においおも、ビスアゞド化
合物が共存する堎合には圧倒的にビスアゞドから
生成する掻性皮ナむトレンの付加による架橋反応
が䞻成分ずなる。䟋えばポリアミド酞ず−
−ゞメチルアミノ゚チルメタクリレヌトから
成る組成物は、䞊蚘の照射条件で感床塗垃厚に
察しお珟像埌厚が1/2ずなる照射量3200
cm2であるが、これにアミン成分のモル数に察しお
0.1倍モルの−ゞ4′−アゞドベンザル−
−ヒドロキシシクロヘキサノンを加えた感光性
重合䜓組成物は感床40cm2であり、前者の
1.3照射量でパタヌン圢成が可胜ずな぀た。即ち、
ビスアゞド化合物のナむトレンぞの光分子解ずそ
れに続く二重結合ぞの付加が極めお短時間でか぀
奜率良く起きおいるこずを意味しおいる。 本発明の感光性重合䜓組成物は、実甚的でか぀
高感床なものずするために前蚘した感光性付䞎成
分自身にも工倫が加えた。埓来、フオトレゞスト
材料の感光剀成分ずしおゎム系ポリマ等の極性の
䜎いポリマをベヌスずしお甚いる材料に぀いお
は、ビスアゞド化合物䟋えば−ビス−
パラアゞドベンザル−−メチルシクロヘキサ
ノンを甚いる方法は知られおいるが、極性の高
いポリアミド酞にビスアゞド化合物を甚いお補品
化した䟋は知られおいない。これは、ビスアゞド
化合物がポリアミド酞ずの盞溶性が䜎いため塗膜
を圢成する際に䞊蚘ビスアゞド化合物が析出した
り、又ポリアミド酞の溶剀極性溶剀に察する
溶解性が䜎く添加量に限界があるため高感床のも
のを埗るこずができないためである。本発明にお
いおは、䞊蚘盞溶性、溶解性を解決するためには
ビスアゞド化合物ずしお極性な眮換基を持぀もの
を甚いお、ポリアミド酞および極性溶剀に察する
盞互䜜甚を高めれば良いず考えた。又フむルム䞭
での反応の堎合は反応皮同士の盞互の䜍眮が近接
しおいたり、たた易動床の高い事が反応効率を高
める因子であるず考え、この芳点からもポリアミ
ド酞ずの盞溶性の良い極性な感光性付䞎成分を甚
いれば良いず考えた。本発明の感光性重合䜓組成
物は、䞊蚘の考えに埓い、ビスアゞド化合物ずし
おはシクロヘキサノン環の䜍に極性基を持぀た
䞀般匏〔〕で衚わされる化合物を甚い、アミン
成分ずしおは極性な゚ステル基を持぀た䞀般匏
〔〕で衚わされる化合物を甚いるこずによ぀お
塗膜圢成胜に優れ、か぀数〜数cm2台の高
感床な材料ずするこずができた。 以䞋、本発明で䜿甚する材料に぀いお説明す
る。 䞀般匏〔〕で瀺されるポリアミド酞は、加熱
凊理によ぀おポリむミドず成り埗るものであり、
これらポリむミドは耐熱性を有する。䞀般匏
〔〕で衚わされる繰り返し単䜍を䞻成分ずする
ポリマは、䞀般匏〔〕で瀺されるポリアミド酞
のみからなるものでも、これず他の繰り返し単䜍
ずの共重合䜓であ぀おも良い。これらの䟋ずしお
はポリ゚ステルアミド酞、ポリヒドラゞドアミド
残などが挙げられる。共重合に甚いられる繰り返
し単䜍の皮類、量は最終加熱凊理によ぀お埗られ
るポリむミドの耐熱性を著しく損なわない範囲で
遞択するのが望たしい。ポリむミドの耐熱性ずし
おは窒玠雰囲気䞭300〜400℃に時間加熱しおも
圢成したレリヌブパタヌンが保持されるものが望
しい。 䞀般匏〔〕䞭のR1、R2は、ポリむミドずし
た時の耐熱性の面から含芳銙族環有機基、含耇玠
環有機基が望しい。これらの䟋はU.S.P.3、179、
614、U.S.P.3、740、305、特公昭48−2956号に瀺
されおいる。ただし、ポリむミドに耐熱性を䞎え
るものであればこれらに限定されない。 R1は具䜓的には、
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】 匏䞭、結合手はポリマ䞻鎖のカルボニル基ずの
結合を衚わし、カルボキシル基は結合手に察しお
オルト䜍に䜍眮する。などが挙げられる。 R2は具䜓的には、
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】 などが挙げられる。 たた、これらがポリむミドの耐熱性に悪圱響を
䞎えない範囲でアミノ基、アミド基、カルボキシ
ル基、スルホン酞基などの眮換基を有しおいおも
さし぀かえない。 なお、䞀般匏〔〕で衚わされるポリアミド酞
で奜たしいものずしおはピロメリツト酞二無氎物
ず4′−ゞアミノゞプニル゚ヌテル、ピロメ
リツト酞二無氎物および3′4′−ベンゟ
プノンテトラカルボン酞二無氎物ず4′−ゞ
アミノゞプニル゚ヌテル、ピロメリツト酞二無
氎物および3′4′−ベンゟプノンテト
ラカルボン酞無氎物ず4′−ゞアミノゞプニ
ル゚ヌテルおよび4′−ゞアミノゞプニル゚
ヌテル−−カルボンアミド、ピロメリツト酞二
無氎物および3′4′−ベンゟプノンテ
トラカルボン酞二無氎物ず4′−ゞアミノゞフ
゚ニル゚ヌテルおよびビス−アミノプロピ
ルテトラメチルゞシクロキサンから導かれるポ
リアミド酞などが挙げられる。 䞀般匏〔〕で衚わされるポリアミド酞は䞊蚘
のように、通垞ゞアミン化合物に酞二無氎物をほ
が圓モル量反応させるこずによ぀お埗られるが、
この堎合に甚いる反応溶媒ずしおは、反応基質お
よび生成するポリアミド酞の溶解性等の点から非
ブロトン性極性溶媒が奜しく甚いられる。−メ
チル−−ピロリドン、−ゞメチルホルム
アルデヒド、−ゞメチルアセトアミド、ゞ
メチルスルホキシド、−アセチル−ε−カプロ
ラクタムおよび−ゞメチル−−むミダゟ
リゞノンなどが兞型的な䟋ずしお挙げられる。 䞀般匏〔〕で瀺されるビスアゞド化合物ずし
おは などが奜適な䟋ずしお挙げられるがこれらに限定
されない。 䞀般匏〔〕で瀺されるビスアゞド化合物の配
合割合は、䞀般匏〔〕で衚わされる繰り返し単
䜍を䞻成分ずするポリマ100重量郚に察しお0.1重
量郚以䞊100重量郚以䞋が良く、さらに奜しくは
0.5重量郚以䞊50重量郚以䞋で甚いるのが望たし
い。この範囲を逞脱するず、珟像性、ワニスの保
存安定性等に悪圱響を及がす。 䞀般匏〔〕で瀺されるアミン化合物ずしおは
−−ゞメチルアミノ゚チルアクリレ
ヌト、−−ゞメチルアミノ゚チルメ
タクリレヌト、−−ゞメチルアミノ
プロピルアクリレヌト、−−ゞメチル
アミノプロピルメタクリレヌト、−
−ゞメチルアミノブチルアクリレヌト、−
−ゞメチルアミノブチルメタクリレヌ
ト、−ゞメチルアミノペンチルアクリレヌ
ト、−−ゞメチルアミノペンチルメ
タクリレヌト、−−ゞメチルアミノ
ヘキシルアクリレヌト、−−ゞメチル
アミノヘキシルメタクリレヌト、−
−ゞメチルアミノ゚チルシンナメヌト、−
−ゞメチルアミノプロピルシンナメヌ
トなどが奜適な䟋ずしお挙げられるが、ビスアゞ
ド〔〕ず効率良く反応するものであれば良くこ
れらに限定されない。 アミン化合物〔〕の配合割合は䞀般匏〔〕
で衚わされる繰り返し単䜍を䞻成分ずするポリマ
100重量郚に察しお重量郚以䞊、400重量郚以䞋
で甚いるが、奜しくは10重量郚以䞊400重量郚以
䞋で甚いるのが望しい。䞊蚘範囲を逞脱するず、
珟像性や最終生成物のポリむミドの膜質に悪圱響
をもたらす。 本発明による感光性重合䜓組成物は䞊蚘構成分
を適圓な有機溶剀に溶解した溶液状態で甚いる
が、この堎合甚いる溶剀ずしおは溶解性の芳点か
ら非プロトン性極性溶媒が望しく、−メチル−
−ピロリドン、−アセチル−−ピロリド
ン、−ベンゞル−−ピロリドン、−ゞ
メチルホルムアミド、−ゞメチルアセトア
ミド、ゞメチルスルホキシド、ヘキサメチルホス
ホルトリアミド、−アセチル−ε−カプロラク
タム、ゞメチルむミダゟリゞノンなどが䟋ずしお
挙げられる。これらは単独で甚いおも良いし、混
合しお甚いるこずも可胜である。溶剀の量は䞀般
匏〔〕で衚わされる繰り返し単䜍を䞻成分ずす
るポリマ、䞀般匏〔〕で衚わされるビスアゞド
化合物、䞀般匏〔〕で衚わされるアミン化合物
の総和を100重量郚ずした時、これに察しお100重
量郚以䞊10000重量郚以䞋で甚いるのが望しく、
さらに奜しくは200重量郚以䞊5000重量郚以䞋で
甚いるのが望しく、この範囲を逞脱するず成膜性
に圱響を及がす。 䞊蚘組成物には感床向䞊の目的で適宜増感剀を
添加しおもさし぀かえないが、添加量は䞀般匏
〔〕で衚わされる繰り返し単䜍を䞻成分ずする
ポリマ、䞀般匏〔〕で衚わされるビスアゞド化
合物、アミン化合物の総重量の0.1重量郚以䞊10
重量郚以䞋で甚いるのが望しく、この範囲を逞脱
するず珟像性、最終生成物のポリむミドの耐熱性
に悪圱響をもたらす。 芳銙族ビスアゞド化合物の増感に有効な化合物
は角田、山岡〔Phot.Sci.Eng.、〜、390
1973〕らによ぀お詳しく報告されおいる。なか
でもアントロン、−ベンゟアントロン、ア
クリゞン、シアノアクリゞン、ニトロピレン、
−ゞニトロピレン、ミトラケトン、−ニ
トロアセナフテン、−ニトロフルオラン、ピレ
ン−−キノン、−フルオレノン、
−ベンゟアントラキノン、アントアントロン、
−クロロ−−ベンズアントラキノン、−
プロモベンズアントラキノン、−クロロ−
−フタロむルナフタレンなどが奜たしい。 本発明による感光性重合䜓組成物の塗膜たたは
加熱硬化埌のポリむミド被膜ず支持基板の接着性
を向䞊させるために適宜支持基板を接着助剀で凊
理しおもさし぀かえない。 支持基板ずしおは、金属、ガラス、半導䜓、金
属酞化物絶瞁䜓䟋えばTiO2、Ta2O5、SiO2な
ど、窒玠ケむ玠などが䟋ずしお挙げられる。 本発明による感光性重合䜓組成物は通垞の埮现
加工技術でパタヌン加工が可胜である。䞊蚘支持
䜓ぞの本重合䜓組成物の塗垃にはスピンナを甚い
た回転塗垃、浞挬、噎霧印刷などの手段が可胜で
あり、適宜遞択するこずができる。塗垃膜は塗垃
手段、本重合䜓組成物のワニスの固圢分濃床、粘
床等によ぀お調節可胜である。 瀺持基板䞊で塗膜ずな぀た本発明による感光性
重合䜓組成物に玫倖線を照射し、次に未露光郚を
珟像液で溶解陀去するこずによりレリヌフ・パタ
ヌンを埗る。光源は玫倖線に限らず可芖光線、攟
射線であ぀おもさし぀かえない。 珟像液ずしおは−メチル−−ピロリドン、
−アセチル−−ピロリドン、−ゞメチ
ルホルムアミド、−ゞメチルアセトアミ
ド、ゞメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、ゞメチルむミダゟリゞノン、−ベン
ゞル−−ピロリドン、−アセチル−ε−カプ
ロラクタムなどの非プロトン性極性溶媒を単独あ
るいはメタノヌル、゚タノヌル、む゜プロピルア
ルコヌル、ベンれン、トル゚ン、キシレン、メチ
ルセロ゜ルブなどのポリアミド酞の非溶媒ずしお
甚いるこずができる。 珟像によ぀お圢成したレリヌフ・パタヌンは次
いでリンス液によ぀お掗浄し、珟像溶媒を陀去す
る。リンス液には珟像液ずの混和性の良いポリア
ミド魂の非溶媒を甚いるが、メタノヌル、゚タノ
ヌル、む゜プロピルアルコヌル、ベンれン、トル
゚ン、キシレン、メチルセロ゜ルブなどが奜適な
䟋ずしお挙げられる。 䞊蚘の凊理によ぀お埗られたレリヌフ・パタヌ
ンのポリマはポリむミドの前駆䜓であり、150℃
から450℃たでの範囲から遞ばれた加熱枩床で凊
理するこずによりむミド環や他の環状基を持぀耐
熱性ポリマのレリヌフ・パタヌンずなる。 以䞋、本発明を実斜䟋によ぀お説明する。 実斜䟋  窒玠気流䞋にゞアミノゞプニル゚ヌテ
ル1000.5モルを−メチル−−ピロリド
ン1791に溶解し、アミン溶液を調合した。次
に、この溶液を氷冷によ぀お玄15℃の枩床に保ち
ながら、攪拌にピロメリツト酞二無氎物109
0.5モルを加えた。加え終えおからさらに玄15
℃で時間反応させお、粘床60ポアズ30℃の
ポリアミド酞 の溶液(A)を埗た。 䞊蚘によ぀お埗られた溶液(A)20に−
ゞメチルアミノ゚チルメタクリレヌト0.79
0.005モル、−ゞ4′−アゞドベンザル
−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.74
0.002モルを溶解し、次いで5Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃、30分也燥しお、1.2Ό
厚の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラ
ス補フオトマスクで密着被芆し、500WのXe−
Hgで玫倖線照射した。受光面での玫倖線匷床は
365nの波長でcm2であ぀た。露光埌、
−メチル−−ピロリドン容、゚タノヌル
容から成る混液で珟像し、次いで゚タノヌルでリ
ンスしお最小線幅2Όのレリヌフ・パタヌンを
埗た。感床珟像埌の膜厚が初期厚に察しお1/2
ずなる照射量は40cm2であり、埗られたパ
タヌンを400℃、60分加熱しおもパタヌンのがや
けは認められなか぀た。 実斜䟋  窒玠気流䞋に4′−ゞアミノゞプニル゚ヌ
テル900.45モル、ビス−アミノプロピ
ルテトラメチルゞシクロヘキサン9.60.05
モルを−メチル−−ピロリドン1765に溶
解し、アミン溶液を調合した。次に、この溶液を
氷冷によ぀お玄15℃の枩床に保ちながら、攪拌に
ピロメリツト酞二無氎物54.50.25モル、
3′4′−ベンゟプノンテトラカルボン酞二
氎物8.050.25モルを加えた。加え終えおか
らさらに玄15℃で時間反応させお、粘床50ポア
ズ30℃のポリアミド酞
【匏】 䜆し、R19は
【匏】ず
【匏】が、R20は
【匏】ず が、の溶液(B)を埗た。 䞊蚘によ぀お埗られた溶液(B)20に−
−ゞメチルアミノ゚チルメタクリレヌト1.57
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザ
ル−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.42
0.001モルを溶解し、次いで5Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃、30分也燥しお3.3Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500W高圧氎銀灯
で玫倖線照射し、次いで−メチル−−ピロリ
ドン容、゚タノヌル容から成る混液で珟像
し、゚タノヌルで掗浄しお最小線幅6Όのレリ
ヌフ・パタヌンを埗た。感床は35cm2であ
り、埗られたパタヌンを400℃、60分加熱しおも
パタヌンのがやけは認められなか぀た。圢成した
ポリむミド膜は基板ずの密着性が向䞊した。 実斜䟋  窒玠気流䞋に4′−ゞアミノゞプニル゚ヌ
テル900.45モル、4′−ゞアミノゞプ
ニル゚ヌテル−−カルボンアミド1.140.05
モルを−メチル−−ピロリドン1791に溶
解し、アミン溶液を調合した。次に、この溶液を
氷冷によ぀お玄15℃の枩床に保ちながら、攪拌に
ピロメリツト酞二無氎物54.50.25モル、
3′4′−ベンゟプノンテトラカルボン酞二
無氎物8.050.25モルを加えた。加え終えお
から、さらに玄15℃で時間反応させお粘床55ポ
アズ30℃のポリアミド酞
【匏】 䜆し、R17は
【匏】ず
【匏】が、R18は
【匏】ず
【匏】がの 溶液(C)を埗た。 䞊蚘によ぀お埗られた溶液(C)20に−
−ゞメチルアミノ゚チルメタクリレヌト1.71
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザ
ル−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.37
0.001モルを溶解し、次いで1Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃、30分也燥しお5.2Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500W高圧氎銀灯
受光面での光匷床は365nの波長で
cm2で玫倖線照射しお−メチル−−ピロリド
ン容、゚タノヌル容から成る混液で珟像し、
次いで゚タノヌルでリンスしお最小線幅6Όの
レリヌフ・パタヌンを埗た。感床はcm2で
あり、埗られたパタヌンを400℃、60分間加熱し
おもパタヌンのがやけは認められなか぀た。 実斜䟋  実斜䟋で埗られた溶液(C)20に−
−ゞメチルアミノプロピルメタクリレヌト1.71
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザ
ル−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.37
0.001モルを溶解し、次いで1Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃、30分也燥しお4.9Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500W高圧氎銀灯
受光面での光匷床は365nの波長で
cm2で玫倖線照射しお−メチル−−ピロリド
ン容、゚タノヌル容から成る混液で珟像し、
次いで゚タノヌルでリンスしお最小線幅6Όの
レリヌフ・パタヌンを埗た。感床は15cm2で
あり、埗られたパタヌンを400℃に60分間加熱し
おもパタヌンのがやけは認められなか぀た。 実斜䟋  実斜䟋で埗られた溶液(C)20に−
−ゞメチルアミノプロプルメタクリレヌト1.71
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザ
ル−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.39
0.001モルを溶解し、次いで1Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで30℃、30分也燥しお、5.2Ό
厚の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラ
ス補フオトマスクで密着被芆し、500W高圧氎銀
灯受光面での光匷床は365nの波長で
cm2で玫倖線照射しお−メチル−−ピロ
リドン容、゚タノヌル容から成る混液で珟像
し、次いで゚タノヌルでリンスしお最小線幅6ÎŒ
のレリヌフ・パタヌンを埗た。感床は
cm2であり、埗られたパタヌンを400℃で60分間加
熱しおもパタヌンのがやけは認められなか぀た。 実斜䟋  実斜䟋で埗られた溶液(C)20に−
−ゞメチルアミノプロピルメタクリレヌト1.71
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザ
ル−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.40
0.001モルを溶解し、次いで1Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃に30分也燥しお5.0Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500Wの高圧氎銀
灯受光面での光匷床は365nの波長で
cm2で玫倖線照射しお−メチル−−ピロ
リドン容、メタノヌル容から成る混液で珟像
し、次いで゚タノヌルでリンスしお最小線幅5ÎŒ
のレリヌフ・パタヌンを埗た。感床は
cm2を瀺し、埗られたパタヌンを400℃で60分間加
熱しおもパタヌンのがやけは認められなか぀た。 実斜䟋  実斜䟋で埗られた溶液(C)20に−
−ゞメチルアミノプロピルメタクリレヌト1.71
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザ
ル−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.43
0.001モルを溶解し、次いで1Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃に30分也燥しお5.3Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500Wの圧氎銀灯
受光面での光匷床は365nの波長で
cm2で玫倖線照射しお−メチル−−ピロリド
ン容、メタノヌル容から成る混液で珟像し、
次いで゚タノヌルでリンスしお最小線幅6Όの
レリヌフ・パタヌンを埗た。感床は10cm2で
あり、埗られたパタヌンを400℃で60分間加熱し
おもパタヌンのがやけは認められなか぀た。 実斜䟋  実斜䟋で埗られた溶液(C)20に−
−ゞメチルアミノブチルメタクリレヌト1.85
0.01モル、−ゞ4′−アゞドベンザル
−−ヒドロキシシクロヘキサノン0.37
0.001モルを溶解し、次いで1Ό孔のフむルタ
を甚いお加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃に30分也燥しお4.7Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500Wの高圧氎銀
灯受光面での光匷床は365nの波長で
cm2で玫倖線照射しお−メチル−−ピロ
リドン容、゚タノヌル容から成る混液で珟像
し、次いで゚タノヌルでリンスしお最小線幅5ÎŒ
のレリヌフ・パタヌンを埗た。感床は
cm2であり、埗られたパタヌンを400℃で60分間加
熱しおもパタヌンのがやけは認められなか぀た。 比范䟋  ポリアミド酞を䞻成分ずするポリマに化孊線に
より二量化又は重合可胜な炭玠−炭玠二重結合及
びアミノ基又はその四玚化塩を添加する方法によ
る実隓結果を以䞋に比范䟋ずしお瀺す。 実斜䟋で埗られた溶液(A)20に−
−ゞメチルアミノ゚チルメタクリレヌト1.57
0.01モルを溶解し、5Ό孔のフむルタを甚い
お加圧過した。 埗られた溶液をスピンナでシリコンり゚ハ䞊に
回転塗垃し、次いで70℃、30分也燥しお3.2Ό厚
の塗膜を埗た。この塗膜を瞞暡様の゜ヌダガラス
補フオトマスクで密着被芆し、500Wの高圧氎銀
灯で玫倖線照射した。露光埌、−ゞメチル
アセトアミド容、゚タノヌル容から成る混液
で珟像し、次いで゚タノヌルで掗浄しおレリヌ
フ・パタヌンを埗た。感床は3200cm2であ
り、実斜䟋〜のいずれに比べおも䜎感床であ
぀た。 比范䟋  ポリアミド酞のカルボキシル基にアミド結合で
䞍飜和結合する基ビニル基を導入し、さらに
ビスアゞド化合物を加えた系から成る感光性耐熱
重合䜓組成物による実隓結果を以䞋に比范䟋ずし
お瀺す。 攪拌埌、冷华管、塩化カルシりム管、ガス導入
管を取り付けた䞉぀口フラスコに窒玠気流䞋
−ゞアミノプニル゚テヌル2.00.01モル
入れ、−メチル−ピロリドン25で溶解させ
る。次に容噚を氷冷しお℃以䞋に保ちながら
埐々に無氎ピロメリツト酞2.20.01モルを
加え完党に溶解した埌宀枩にもどし時間攪拌し
た。埗られたポリマ溶液にトリ゚チルアミン
0.02モル、ヘキサクロロシクロトリホスフアト
リアれン7.00.02モルを加え宀枩で時間
攪拌し、次いでアリルアミン6.80.12モル
を加え宀枩で時間攪拌した。この溶液に
4′−ゞアゞドスチルベン1.5を加えお感光性ポ
リアミド酞ワニスを調敎した。このワニスをガラ
ス板䞊に回転塗垃し也燥、瞞暡様のマスクを甚い
500Wの高圧氎銀燈で露光、−メチル−−ピ
ロリドンで珟像し、゚タノヌルでリンスしたずこ
ろ、マスクされた郚分は溶媒に溶け、マスクされ
ない郚分は溶媒に䞍溶ずな぀た。 解像性は実斜䟋〜に比べお著しく䜎く、埗
られたレリヌフ・パタヌンの端面は波打぀おおり
か぀、解像床も最小線幅1000Όのパタヌンが埗
られるにずどた぀た。 以䞊述べたように本発明による感光性重合䜓組
成物によれば、埓来問題のあ぀た感光性被膜の感
光感床、解像性及び最終的に埗られるポリむミド
膜の耐熱性、機械特性を向䞊させるこずが可胜に
なりたす。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  䞀般匏 䜆し、〔〕匏䞭R1は䟡たたは䟡の有機
    基、R2は䟡の有機基を衚わし、は又は
    である。で衚わされる繰り返し単䜍を䞻成分ず
    するポリマ100重量郚ず、 䞀般匏 䜆し、〔〕匏䞭は−OH、−OR3、−R4−
    OH、−SiR3 3、−COOH、−COOR3、−NR2 3、−
    NH2R3は䜎玚アルキル基、R4はアルキレンを衚
    わすから遞択された基を衚わし、はたたは
    である。で衚わされる芳銙族ビスアゞド化合
    物0.1〜100重量郚ず、 䞀般匏 䜆し、〔〕匏䞭R5、R6、R7、R9は氎玠、䜎
    玚アルキル基、プニル基、ビニル基の䞭から遞
    択された基、R8はアルキレンを衚わす。で衚わ
    されるアミン化合物〜400重量郚ずから成る感
    光性重合䜓組成物。  特蚱請求の範囲第項蚘茉の感光性重合䜓組
    成物に増感剀を加えたこずを特城ずする感光性重
    合䜓組成物。
JP4277982A 1982-03-19 1982-03-19 Photosensitive polymeric composition Granted JPS57170929A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4277982A JPS57170929A (en) 1982-03-19 1982-03-19 Photosensitive polymeric composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4277982A JPS57170929A (en) 1982-03-19 1982-03-19 Photosensitive polymeric composition

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56054408A Division JPS57168942A (en) 1981-04-13 1981-04-13 Photosensitive polymer composition

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29534590A Division JPH03179057A (ja) 1990-11-02 1990-11-02 パタヌン圢成法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57170929A JPS57170929A (en) 1982-10-21
JPH0336861B2 true JPH0336861B2 (ja) 1991-06-03

Family

ID=12645450

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4277982A Granted JPS57170929A (en) 1982-03-19 1982-03-19 Photosensitive polymeric composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57170929A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002055449A (ja) * 1993-09-03 2002-02-20 Hitachi Chem Co Ltd レリヌフパタヌン、半導䜓甚バッファコヌト膜及び倚局配線板の局間絶瞁膜の補造法
WO2005069075A1 (ja) 2004-01-14 2005-07-28 Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. 感光性重合䜓組成物、パタヌンの補造法及び電子郚品
JP2005242389A (ja) * 1993-09-03 2005-09-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性暹脂組成物

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0798900B2 (ja) * 1986-05-14 1995-10-25 日立化成工業株匏䌚瀟 感光性重合䜓組成物
JP2559720B2 (ja) * 1986-12-19 1996-12-04 株匏䌚瀟日立補䜜所 感光性重合䜓組成物
JPH0827541B2 (ja) * 1988-12-01 1996-03-21 日立化成工業株匏䌚瀟 感光性重合䜓組成物
JP2644599B2 (ja) * 1989-11-28 1997-08-25 株匏䌚瀟日立補䜜所 半導䜓装眮の補造方法
JP4811594B2 (ja) 2004-02-26 2011-11-09 日本電気株匏䌚瀟 スチレン系誘導䜓、スチレン系重合䜓、感光性暹脂組成物、及びパタヌン圢成方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54145794A (en) * 1978-04-14 1979-11-14 Toray Ind Inc Heat-resistant photosensitive material
JPS5624344A (en) * 1979-08-06 1981-03-07 Hitachi Ltd Photosensitive heat-resistant polymer composition
JPS57168942A (en) * 1981-04-13 1982-10-18 Hitachi Ltd Photosensitive polymer composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54145794A (en) * 1978-04-14 1979-11-14 Toray Ind Inc Heat-resistant photosensitive material
JPS5624344A (en) * 1979-08-06 1981-03-07 Hitachi Ltd Photosensitive heat-resistant polymer composition
JPS57168942A (en) * 1981-04-13 1982-10-18 Hitachi Ltd Photosensitive polymer composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002055449A (ja) * 1993-09-03 2002-02-20 Hitachi Chem Co Ltd レリヌフパタヌン、半導䜓甚バッファコヌト膜及び倚局配線板の局間絶瞁膜の補造法
JP2005242389A (ja) * 1993-09-03 2005-09-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性暹脂組成物
WO2005069075A1 (ja) 2004-01-14 2005-07-28 Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. 感光性重合䜓組成物、パタヌンの補造法及び電子郚品

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57170929A (en) 1982-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0065352B1 (en) Light-sensitive polymer composition
US6319656B1 (en) Photosensitive polyimide precursor and its use for pattern formation
JP2000147761A (ja) 感光性ポリむミド組成物、およびそれを甚いたパタヌン圢成方法
JPH0336861B2 (ja)
JPS62273259A (ja) 感光性組成物
EP0137655B1 (en) Radiation-sensitive polymer composition
JPS60135457A (ja) 感光性重合䜓組成物
JPS63318549A (ja) 耐熱感光性重合䜓組成物
JPH0658534B2 (ja) 化孊線感応性重合䜓組成物
JP2000273172A (ja) ポリアミド酞゚ステル、その補造法、感光性暹脂組成物、それを甚いたパタヌン補造法及び電子郚品
JPH0368066B2 (ja)
JPS6337823B2 (ja)
JP2000122299A (ja) ポリむミド前駆䜓組成物およびそれを甚いたパタヌン圢成方法
JPH01283554A (ja) 耐熱感光性重合䜓組成物
JP2559720B2 (ja) 感光性重合䜓組成物
JPH0149929B2 (ja)
JPH0337652A (ja) 化孊線感応性重合䜓組成物
JPH0611832A (ja) 感光性ポリむミド組成物
JPH0488347A (ja) 化孊線感応性重合䜓組成物
JPH08137105A (ja) 感光性暹脂組成物およびパタヌンの補造法
JPS63256663A (ja) 感光性ポリむミド組成物
JPH0339357A (ja) 化孊線感応性重合䜓組成物
JPS5867724A (ja) 感光性重合䜓組成物
JPS58160320A (ja) 感光性重合䜓組成物
JPS58143341A (ja) 感光性重合䜓組成物