JP2000290768A - 蒸着バリヤー性フィルムの製造方法 - Google Patents
蒸着バリヤー性フィルムの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】透明性が高く、蒸着膜と基材ポリプロピレンフ
ィルムとの密着性が良好であり、且つ良好なガス及び水
蒸気バリヤー性を有する蒸着バリヤー性フィルムを得る
こと。 【解決手段】下記の工程からなる蒸着バリヤー性フィル
ムの製造方法。 工程１：アルゴン、ヘリウム、ネオンの中から選ばれた
少なくとも一種類のガス９５〜５０容積％と、酸素５〜
５０容積％からなる混合ガスの雰囲気中で、真空度０．
０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下において、高周波出力３
〜１４Ｗ／ｃｍ2でポリプロピレンフィルムのプラズマ
処理を行なう。 工程２：工程１の処理をしたポリプロピレンフィルム上
に酸素ガスの存在のもとで、反応空間へ高周波出力をか
けながらイオンプレーティング法によって金属酸化物膜
を形成する。
ィルムとの密着性が良好であり、且つ良好なガス及び水
蒸気バリヤー性を有する蒸着バリヤー性フィルムを得る
こと。 【解決手段】下記の工程からなる蒸着バリヤー性フィル
ムの製造方法。 工程１：アルゴン、ヘリウム、ネオンの中から選ばれた
少なくとも一種類のガス９５〜５０容積％と、酸素５〜
５０容積％からなる混合ガスの雰囲気中で、真空度０．
０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下において、高周波出力３
〜１４Ｗ／ｃｍ2でポリプロピレンフィルムのプラズマ
処理を行なう。 工程２：工程１の処理をしたポリプロピレンフィルム上
に酸素ガスの存在のもとで、反応空間へ高周波出力をか
けながらイオンプレーティング法によって金属酸化物膜
を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガスバリヤー性、特
に酸素および水蒸気バリヤー性に優れた蒸着バリヤー性
フィルムに関する。
に酸素および水蒸気バリヤー性に優れた蒸着バリヤー性
フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、透明な包装用バリヤー性フィルム
としては、基材フィルム表面に樹脂をコートしたもの
や、酸化珪素、酸化アルミ等の金属酸化物を蒸着したも
のが使用されている。基材フィルム表面に樹脂をコーテ
ィングしたものとしては、ポリ塩化ビニリデンやポリビ
ニルアルコール等が例示できるが、一般にこれらの樹脂
コートフィルムは水蒸気や酸素などの気体の温湿度依存
性が大きい等の問題点を有する。又、酸化珪素、酸化ア
ルミ等の金属酸化物を基材フィルム表面に蒸着したもの
は、温湿度依存性が小さく高温高湿度下においても良好
な酸素および水蒸気バリヤー性を示すことが知られてい
る。一方基材フィルムとして、ポリプロピレンフィルム
は比重が小さく、透明性に優れ、かつ防湿性が優れてい
る。又安価である等の点から包装用、印刷用等に使用さ
れてきている。そこでポリプロピレンフィルムを透明な
包装用バリヤー性フィルムの蒸着基材フィルムとして使
用したいという要望が強い。また蒸着法としてはイオン
プレーティング法が透明性、ガスバリヤー性などの点で
好ましいので、特にポリプロピレンフィルムを蒸着基材
フィルムとし、イオンプレーティング法によって金属酸
化物をその上に蒸着したいという要望が強い。
としては、基材フィルム表面に樹脂をコートしたもの
や、酸化珪素、酸化アルミ等の金属酸化物を蒸着したも
のが使用されている。基材フィルム表面に樹脂をコーテ
ィングしたものとしては、ポリ塩化ビニリデンやポリビ
ニルアルコール等が例示できるが、一般にこれらの樹脂
コートフィルムは水蒸気や酸素などの気体の温湿度依存
性が大きい等の問題点を有する。又、酸化珪素、酸化ア
ルミ等の金属酸化物を基材フィルム表面に蒸着したもの
は、温湿度依存性が小さく高温高湿度下においても良好
な酸素および水蒸気バリヤー性を示すことが知られてい
る。一方基材フィルムとして、ポリプロピレンフィルム
は比重が小さく、透明性に優れ、かつ防湿性が優れてい
る。又安価である等の点から包装用、印刷用等に使用さ
れてきている。そこでポリプロピレンフィルムを透明な
包装用バリヤー性フィルムの蒸着基材フィルムとして使
用したいという要望が強い。また蒸着法としてはイオン
プレーティング法が透明性、ガスバリヤー性などの点で
好ましいので、特にポリプロピレンフィルムを蒸着基材
フィルムとし、イオンプレーティング法によって金属酸
化物をその上に蒸着したいという要望が強い。
【０００３】しかしながらポリプロピレンフィルムを蒸
着基材フィルムとして使用し、イオンプレーティング法
によって金属酸化物をその上に蒸着する場合は、表面が
不活性な為密着性が悪く、何らかの表面処理をしない限
り十分な密着性を得られないという欠点があり、その結
果十分なガスバリヤー性を得ることができない。
着基材フィルムとして使用し、イオンプレーティング法
によって金属酸化物をその上に蒸着する場合は、表面が
不活性な為密着性が悪く、何らかの表面処理をしない限
り十分な密着性を得られないという欠点があり、その結
果十分なガスバリヤー性を得ることができない。
【０００４】そこでポリプロピレンフィルムと蒸着膜の
密着性を改善するために、プラズマ処理やアンカーコー
ト処理等が用いられてきた。たとえば密着性改善の為の
プラズマ処理としては、特開昭５８−１６２６４２，特
開昭６１−３５２１５等が例示できる。これらの方法に
よると、ポリプロピレンフィルムと蒸着膜の密着性を改
善し、ガスバリヤー性を向上させることについてある程
度の効果は認められるもののなお充分ではない。また特
開昭５８−１６２６４２に記載された発明は、イオンプ
レーティング法によって金属酸化物を蒸着させる蒸着バ
リヤー性フィルムに関するものではない。又、各種樹脂
によりアンカーコート処理を施す場合は、基材と蒸着物
との密着性を良好にするために、１種もしくは２種類以
上の樹脂を基材ポリプロピレンフィルム上に設ける為、
製造工程が煩雑になり、コストが高くなる等の問題があ
る。
密着性を改善するために、プラズマ処理やアンカーコー
ト処理等が用いられてきた。たとえば密着性改善の為の
プラズマ処理としては、特開昭５８−１６２６４２，特
開昭６１−３５２１５等が例示できる。これらの方法に
よると、ポリプロピレンフィルムと蒸着膜の密着性を改
善し、ガスバリヤー性を向上させることについてある程
度の効果は認められるもののなお充分ではない。また特
開昭５８−１６２６４２に記載された発明は、イオンプ
レーティング法によって金属酸化物を蒸着させる蒸着バ
リヤー性フィルムに関するものではない。又、各種樹脂
によりアンカーコート処理を施す場合は、基材と蒸着物
との密着性を良好にするために、１種もしくは２種類以
上の樹脂を基材ポリプロピレンフィルム上に設ける為、
製造工程が煩雑になり、コストが高くなる等の問題があ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる問題に
鑑み、酸素および水蒸気バリヤー性に優れ、且つ密着性
の良好な蒸着バリヤー性フィルムを提供することを目的
とする。特に本発明はポリプロピレンフィルムを蒸着基
材フィルムとし、イオンプレーティング法によって金属
酸化物をその上に蒸着することにより、透明性が高く、
酸素および水蒸気バリヤー性に優れ、且つ密着性の良好
な蒸着バリヤー性フィルムを提供することを目的とす
る。本発明の目的は以下の方法によって達成することが
できる。
鑑み、酸素および水蒸気バリヤー性に優れ、且つ密着性
の良好な蒸着バリヤー性フィルムを提供することを目的
とする。特に本発明はポリプロピレンフィルムを蒸着基
材フィルムとし、イオンプレーティング法によって金属
酸化物をその上に蒸着することにより、透明性が高く、
酸素および水蒸気バリヤー性に優れ、且つ密着性の良好
な蒸着バリヤー性フィルムを提供することを目的とす
る。本発明の目的は以下の方法によって達成することが
できる。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】本発明の第１の発明は、下
記の工程からなる蒸着バリヤー性フィルムの製造方法に
関するものである。 工程１：アルゴン、ヘリウム、ネオンの中から選ばれた
少なくとも一種類のガス９５〜５０容積％と、酸素５〜
５０容積％からなる混合ガスの雰囲気中で、真空度０．
０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下において、高周波出力３
〜１４Ｗ／ｃｍ2でポリプロピレンフィルムのプラズマ
処理を行なう。 工程２：工程１の処理をしたポリプロピレンフィルム上
に酸素ガスの存在のもとで、反応空間へ高周波出力をか
けながらイオンプレーティング法によって金属酸化物膜
を形成する。
記の工程からなる蒸着バリヤー性フィルムの製造方法に
関するものである。 工程１：アルゴン、ヘリウム、ネオンの中から選ばれた
少なくとも一種類のガス９５〜５０容積％と、酸素５〜
５０容積％からなる混合ガスの雰囲気中で、真空度０．
０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下において、高周波出力３
〜１４Ｗ／ｃｍ2でポリプロピレンフィルムのプラズマ
処理を行なう。 工程２：工程１の処理をしたポリプロピレンフィルム上
に酸素ガスの存在のもとで、反応空間へ高周波出力をか
けながらイオンプレーティング法によって金属酸化物膜
を形成する。
【０００７】本発明の第２の発明は上記第１の発明にお
いて、金属酸化物膜が酸化アルミニウム膜である蒸着バ
リヤー性フィルムの製造方法に関するものである。本発
明の第３の発明は上記第１又は第２の発明において、イ
オンプレーティング時における反応空間への高周波出力
が、０．００２〜０．３Ｗ／ｃｍ2である蒸着バリヤー
性フィルムの製造方法に関するものである。
いて、金属酸化物膜が酸化アルミニウム膜である蒸着バ
リヤー性フィルムの製造方法に関するものである。本発
明の第３の発明は上記第１又は第２の発明において、イ
オンプレーティング時における反応空間への高周波出力
が、０．００２〜０．３Ｗ／ｃｍ2である蒸着バリヤー
性フィルムの製造方法に関するものである。
【０００８】
【発明の実施の態様】本発明で使用するポリプロピレン
とは、ポリプロピレンのホモポリマーは勿論のこと、エ
チレン、ブテン、４−メチルペンテンなどで代表される
α−オレフィン類やスチレンで代表される芳香族系オレ
フィン類、ブタジエンで代表されるジエン類などのポリ
プロピレンと共重合可能なモノマーとプロピレンとの共
重合体、あるいはポリプロピレンやポリプロピレン共重
合体と、これらのものとの公知のブレンド物、例えばポ
リエチレン、各種エチレン共重合体のようなポリ・α・
オレフィン類、ポリスチレン、合成ゴム、テンペン樹
脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル等とのブ
レンド物、あるいはこれらの混合物を主成分とするもの
で、ポリプロピレン共重合体の共重合の成分あるいはブ
レンド組成物のブレンド成分などの種類とは、ポリプロ
ピレンフィルムとしての特性を失わないものであれば良
い。
とは、ポリプロピレンのホモポリマーは勿論のこと、エ
チレン、ブテン、４−メチルペンテンなどで代表される
α−オレフィン類やスチレンで代表される芳香族系オレ
フィン類、ブタジエンで代表されるジエン類などのポリ
プロピレンと共重合可能なモノマーとプロピレンとの共
重合体、あるいはポリプロピレンやポリプロピレン共重
合体と、これらのものとの公知のブレンド物、例えばポ
リエチレン、各種エチレン共重合体のようなポリ・α・
オレフィン類、ポリスチレン、合成ゴム、テンペン樹
脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル等とのブ
レンド物、あるいはこれらの混合物を主成分とするもの
で、ポリプロピレン共重合体の共重合の成分あるいはブ
レンド組成物のブレンド成分などの種類とは、ポリプロ
ピレンフィルムとしての特性を失わないものであれば良
い。
【０００９】前記ポリプロピレン組成物には、必要に応
じて通常の熱可塑性合成樹脂フィルムの添加剤として知
られている滑剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、顔料等が添加されていても良い。本発明に
用いるポリプロピレンフィルムは２軸延伸ポリプロピレ
ンフィルムである。本発明では、前述のポリプロピレン
組成物を常法に従って溶解押出しし、縦延伸した後、横
延伸したものでも良いし、横延伸した後、縦延伸したも
のでも良い。縦横の延伸倍率は、２倍〜２０倍であるこ
とが望ましい。本発明に用いる２軸延伸ポリプロピレン
フィルムの厚さに特に制限はないが、１５〜２００μｍ
であることが好ましい。
じて通常の熱可塑性合成樹脂フィルムの添加剤として知
られている滑剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、顔料等が添加されていても良い。本発明に
用いるポリプロピレンフィルムは２軸延伸ポリプロピレ
ンフィルムである。本発明では、前述のポリプロピレン
組成物を常法に従って溶解押出しし、縦延伸した後、横
延伸したものでも良いし、横延伸した後、縦延伸したも
のでも良い。縦横の延伸倍率は、２倍〜２０倍であるこ
とが望ましい。本発明に用いる２軸延伸ポリプロピレン
フィルムの厚さに特に制限はないが、１５〜２００μｍ
であることが好ましい。
【００１０】本発明の第１工程であるプラズマ処理を行
う際のプラズマ発生方式には特に制限はなく、例えば直
流放電方式、低周波放電方式、高周波放電方式、マイク
ロ波放電方式等が例示できる。プラズマ処理に導入する
混合ガスとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオンのうち
の一種類、及び酸素が適度に混合されているものであ
り、より好ましくは酸素が全混合ガス容量中の５〜５０
％を占めるものである。酸素が全混合ガス容量中の５％
に満たないと十分な酸素官能基の生成が得られず、５０
％を超えるとポリプロピレン表面の十分な洗浄が行われ
ないため、良好な密着性が得られない等の問題点を有す
る。
う際のプラズマ発生方式には特に制限はなく、例えば直
流放電方式、低周波放電方式、高周波放電方式、マイク
ロ波放電方式等が例示できる。プラズマ処理に導入する
混合ガスとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオンのうち
の一種類、及び酸素が適度に混合されているものであ
り、より好ましくは酸素が全混合ガス容量中の５〜５０
％を占めるものである。酸素が全混合ガス容量中の５％
に満たないと十分な酸素官能基の生成が得られず、５０
％を超えるとポリプロピレン表面の十分な洗浄が行われ
ないため、良好な密着性が得られない等の問題点を有す
る。
【００１１】プラズマ処理の真空度としては、０．０１
Ｔｏｒｒ〜０．１Ｔｏｒｒが好ましい。真空度が０．０
１Ｔｏｒｒに満たないとプラズマが安定せず、０．１Ｔ
ｏｒｒを超えると十分な処理効果が得られないなどの問
題を生じる。プラズマ処理の高周波出力としては、３〜
１４Ｗ／ｃｍ2が好ましい。３Ｗ／ｃｍ2に満たないと十
分な密着性、全光線透過率及び膜特性が得られず、１４
Ｗ／ｃｍ2を超えると基材フィルムの劣化がおこるなど
の問題を生じる。
Ｔｏｒｒ〜０．１Ｔｏｒｒが好ましい。真空度が０．０
１Ｔｏｒｒに満たないとプラズマが安定せず、０．１Ｔ
ｏｒｒを超えると十分な処理効果が得られないなどの問
題を生じる。プラズマ処理の高周波出力としては、３〜
１４Ｗ／ｃｍ2が好ましい。３Ｗ／ｃｍ2に満たないと十
分な密着性、全光線透過率及び膜特性が得られず、１４
Ｗ／ｃｍ2を超えると基材フィルムの劣化がおこるなど
の問題を生じる。
【００１２】本発明の第２工程であるイオンプレーティ
ングを行う際のプラズマ発生方式には特に制限はなく、
例えば直流放電方式、低周波放電方式、高周波放電方
式、マイクロ波放電方式等が例示できる。反応空間への
高周波出力は０．００２〜０．３Ｗ／ｃｍ2が好まし
い。高周波出力が０．００２Ｗ／ｃｍ2に満たないと十
分な反応性が得られない為、基材ポリプロピレンフィル
ムとの十分な密着性、ガスバリヤー性が得られず、０．
３Ｗ／ｃｍ2を超えると基材ポリプロピレンフィルムが
輻射熱により熱収縮をおこす等の問題点を有する。
ングを行う際のプラズマ発生方式には特に制限はなく、
例えば直流放電方式、低周波放電方式、高周波放電方
式、マイクロ波放電方式等が例示できる。反応空間への
高周波出力は０．００２〜０．３Ｗ／ｃｍ2が好まし
い。高周波出力が０．００２Ｗ／ｃｍ2に満たないと十
分な反応性が得られない為、基材ポリプロピレンフィル
ムとの十分な密着性、ガスバリヤー性が得られず、０．
３Ｗ／ｃｍ2を超えると基材ポリプロピレンフィルムが
輻射熱により熱収縮をおこす等の問題点を有する。
【００１３】本発明に用いる金属物及び金属酸化物とし
ては、各種金属及び酸化珪素(ＳｉｘＯｙ)、酸化マグネ
シウム（ＭｇｘＯｙ）、酸化チタン（ＴｉｘＯｙ）、酸
化アルミニウム（ＡｌｘＯｙ）、窒化珪素（ＳｉｘＮ
ｙ）等が例示できるが、コストの面からアルミニウム
（Ａｌ）を出発材料とした酸化アルミニウムが好適であ
る。又、酸化アルミニウムの膜厚としては１００〜１０
００Åが好ましく、より好ましくは１５０〜５００Åの
厚さが好適である。酸化アルミニウムの膜厚が１００Å
に満たないと十分なガスバリヤー性が得られず、１００
０Åを超えると加工時にクラックが発生する等の問題点
を有する。
ては、各種金属及び酸化珪素(ＳｉｘＯｙ)、酸化マグネ
シウム（ＭｇｘＯｙ）、酸化チタン（ＴｉｘＯｙ）、酸
化アルミニウム（ＡｌｘＯｙ）、窒化珪素（ＳｉｘＮ
ｙ）等が例示できるが、コストの面からアルミニウム
（Ａｌ）を出発材料とした酸化アルミニウムが好適であ
る。又、酸化アルミニウムの膜厚としては１００〜１０
００Åが好ましく、より好ましくは１５０〜５００Åの
厚さが好適である。酸化アルミニウムの膜厚が１００Å
に満たないと十分なガスバリヤー性が得られず、１００
０Åを超えると加工時にクラックが発生する等の問題点
を有する。
【００１４】金属酸化物膜を厚さ１００〜１０００Åに
形成することにより、形成後の２０℃，９０％RH下での
酸素透過率が１００ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ以下であり、
４０℃，９０％ＲＨ下での透湿度が１．０ｇ／ｍ2・２
４ｈｒ以下である蒸着バリヤー性フィルムを得ることが
できる。
形成することにより、形成後の２０℃，９０％RH下での
酸素透過率が１００ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ以下であり、
４０℃，９０％ＲＨ下での透湿度が１．０ｇ／ｍ2・２
４ｈｒ以下である蒸着バリヤー性フィルムを得ることが
できる。
【００１５】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれによって限定されるものでは
ない。尚、実施例及び比較例で得られたポリプロピレン
フィルムの評価は以下のように行った。 ａ．密着性 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルムを
ＪＩＳ Ｋ５４００に基づき、セロハンテープによる碁
盤目テープ法にて剥離試験を行った。剥離試験を行った
後、剥離後の表面を目視にて観察を行い、１ｍｍ角１０
０マス中、剥がれの全く無い物を○、剥がれた面積が３
５％未満のものを△、剥がれた面積が３５％以上のもの
を×とした。 ｂ．酸素透過率 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルム
を、ＭＯＣＯＮ社製（ＯＸ−ＴＲＡＮ１００ＴＷＩＮ
型）の酸素透過度測定装置を使用し、温度２５℃、相対
湿度９０％の条件下で酸素透過率の測定を行った。酸素
透過率が１００ｃｃ/ｍ2・２４ｈｒ以下のものを良好と
した。 ｃ．透湿度 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルム
を、ＪＩＳ Ｚ０２０８の防湿包装材料の透湿度試験法
（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の
条件下で透湿度の測定を行った。透湿度が１．０ｇ/ｍ2
・２４ｈｒ以下のものを良好とした。 ｄ．全光線透過率 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルム
を、村上色彩研究所社製（ＨＲ−１００型）の反射透過
率計を用い全光線透過率の測定を行った。全光線透過率
９０％以上のものを良好とした。
説明するが、本発明はこれによって限定されるものでは
ない。尚、実施例及び比較例で得られたポリプロピレン
フィルムの評価は以下のように行った。 ａ．密着性 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルムを
ＪＩＳ Ｋ５４００に基づき、セロハンテープによる碁
盤目テープ法にて剥離試験を行った。剥離試験を行った
後、剥離後の表面を目視にて観察を行い、１ｍｍ角１０
０マス中、剥がれの全く無い物を○、剥がれた面積が３
５％未満のものを△、剥がれた面積が３５％以上のもの
を×とした。 ｂ．酸素透過率 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルム
を、ＭＯＣＯＮ社製（ＯＸ−ＴＲＡＮ１００ＴＷＩＮ
型）の酸素透過度測定装置を使用し、温度２５℃、相対
湿度９０％の条件下で酸素透過率の測定を行った。酸素
透過率が１００ｃｃ/ｍ2・２４ｈｒ以下のものを良好と
した。 ｃ．透湿度 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルム
を、ＪＩＳ Ｚ０２０８の防湿包装材料の透湿度試験法
（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の
条件下で透湿度の測定を行った。透湿度が１．０ｇ/ｍ2
・２４ｈｒ以下のものを良好とした。 ｄ．全光線透過率 実施例及び比較例で得られた蒸着バリヤー性フィルム
を、村上色彩研究所社製（ＨＲ−１００型）の反射透過
率計を用い全光線透過率の測定を行った。全光線透過率
９０％以上のものを良好とした。
【００１６】実施例１ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００１７】実施例２ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５０％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５０％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００１８】実施例３ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０８Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０８Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００１９】実施例４ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力
１２Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を
行った基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸
素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アル
ミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力
１２Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を
行った基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸
素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アル
ミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００２０】実施例５ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．２Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニウム
膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．２Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニウム
膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００２１】実施例６ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を８００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，
電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニ
ウム膜を８００Åの厚さに成膜を行った。
【００２２】比較例１ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、フィルムの表面処理
を行わずに、イオンプレーティング法（導入ガス：酸
素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アル
ミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、フィルムの表面処理
を行わずに、イオンプレーティング法（導入ガス：酸
素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アル
ミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００２３】比較例２ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、アルゴンをマスフロ
ーコントローラにて真空槽内に導入する。その際、真空
度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４Ｗ／ｃｍ
2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行った基材
に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，電力投
入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニウム膜
を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、アルゴンをマスフロ
ーコントローラにて真空槽内に導入する。その際、真空
度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４Ｗ／ｃｍ
2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行った基材
に、イオンプレーティング法（導入ガス：酸素，電力投
入量：０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニウム膜
を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００２４】比較例３ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素をマスフローコ
ントローラにて真空槽内に導入する。その際、真空度を
０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４Ｗ／ｃｍ2で
プラズマ処理を行う。プラズマ処理を行った基材に、イ
オンプレーティング法（導入ガス：酸素，電力投入量：
０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２０
０Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素をマスフローコ
ントローラにて真空槽内に導入する。その際、真空度を
０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４Ｗ／ｃｍ2で
プラズマ処理を行う。プラズマ処理を行った基材に、イ
オンプレーティング法（導入ガス：酸素，電力投入量：
０．００３Ｗ／ｃｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２０
０Åの厚さに成膜を行った。
【００２５】比較例４ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、真空蒸着法（導入ガス：酸素）にて酸化アル
ミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、真空蒸着法（導入ガス：酸素）にて酸化アル
ミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を行った。
【００２６】比較例５ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．００５Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力
４Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行
った基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティン
グ法（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃ
ｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜
を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．００５Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力
４Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行
った基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティン
グ法（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃ
ｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜
を行った。
【００２７】比較例６ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を１．０Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４Ｗ
／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行った
基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティング法
（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃ
ｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜
を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を１．０Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力４Ｗ
／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行った
基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティング法
（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃ
ｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜
を行った。
【００２８】比較例７ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力１
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティング
法（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ
2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を
行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力１
Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行っ
た基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティング
法（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃｍ
2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜を
行った。
【００２９】比較例８ 基材に厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子製
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力１
６Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行
った基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティン
グ法（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃ
ｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜
を行った。
紙(株)製ＰＹ−００１）を使用し、酸素及びアルゴンを
マスフローコントローラにて真空槽内に導入する。その
際、全混合ガス容積中の酸素が５％になるように導入
し、真空度を０．０３Ｔｏｒｒに調整後、高周波出力１
６Ｗ／ｃｍ2でプラズマ処理を行う。プラズマ処理を行
った基材に、実施例１と同様にしてイオンプレーティン
グ法（導入ガス：酸素，電力投入量：０．００３Ｗ／ｃ
ｍ2）にて酸化アルミニウム膜を２００Åの厚さに成膜
を行った。
【００３０】
【表１】
【００３１】実施例１〜６よりプラズマ処理の処理ガス
中の酸素の容積が全容量中の５〜５０％の範囲内にあ
り、真空度０．０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下におい
て、高周波出力４〜１２Ｗ／ｃｍ2で処理を行った後、
イオンプレーティング法により酸化アルミニウム膜を１
００〜１０００Åの厚さに形成することにより、基材ポ
リプロピレンフィルムと蒸着の密着性が良好であり、且
つガスバリヤー性の良好な蒸着バリヤ性フィルムが得ら
れた。又、比較例１は、基材ポリプロピレンフィルムの
プラズマ処理が行われていない為、十分な密着性及び酸
素透過率が得られず、比較例２，３は、酸素又はアルゴ
ンが導入されていない為、良好な酸素透過率及び透湿性
が得られなかった。又比較例４は、蒸着をイオンプレー
ティング法で行わないため、良好な密着性、酸素透過
率、全光線透過率及び透湿度が得られなかった。比較例
５，６は、真空度が適切でない為、プラズマ処理時に安
定した放電が得られず。比較例７は、プラズマ処理の際
の高周波出力が低い為、十分な処理効果が得られず、密
着性、酸素透過率に改善が見られなかった。比較例８
は、プラズマ処理の際の高周波出力が高い為、基材フィ
ルムが熱収縮をおこした。
中の酸素の容積が全容量中の５〜５０％の範囲内にあ
り、真空度０．０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下におい
て、高周波出力４〜１２Ｗ／ｃｍ2で処理を行った後、
イオンプレーティング法により酸化アルミニウム膜を１
００〜１０００Åの厚さに形成することにより、基材ポ
リプロピレンフィルムと蒸着の密着性が良好であり、且
つガスバリヤー性の良好な蒸着バリヤ性フィルムが得ら
れた。又、比較例１は、基材ポリプロピレンフィルムの
プラズマ処理が行われていない為、十分な密着性及び酸
素透過率が得られず、比較例２，３は、酸素又はアルゴ
ンが導入されていない為、良好な酸素透過率及び透湿性
が得られなかった。又比較例４は、蒸着をイオンプレー
ティング法で行わないため、良好な密着性、酸素透過
率、全光線透過率及び透湿度が得られなかった。比較例
５，６は、真空度が適切でない為、プラズマ処理時に安
定した放電が得られず。比較例７は、プラズマ処理の際
の高周波出力が低い為、十分な処理効果が得られず、密
着性、酸素透過率に改善が見られなかった。比較例８
は、プラズマ処理の際の高周波出力が高い為、基材フィ
ルムが熱収縮をおこした。
【００３２】
【発明の効果】本発明により得られる蒸着バリヤー性フ
ィルムは、透明性が高く、蒸着膜と基材ポリプロピレン
フィルムとの密着性が良好であり、且つ良好なガス及び
水蒸気バリヤー性を有することから実用上極めて有効で
ある。
ィルムは、透明性が高く、蒸着膜と基材ポリプロピレン
フィルムとの密着性が良好であり、且つ良好なガス及び
水蒸気バリヤー性を有することから実用上極めて有効で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｃ 14/32 Ｃ２３Ｃ 14/32 Ｂ // Ｃ０８Ｌ 23:10
Claims (3)
- 【請求項１】下記の工程からなる蒸着バリヤー性フィル
ムの製造方法。 工程１：アルゴン、ヘリウム、ネオンの中から選ばれた
少なくとも一種類のガス９５〜５０容積％と、酸素５〜
５０容積％からなる混合ガスの雰囲気中で、真空度０．
０１〜０．１Ｔｏｒｒの条件下において、高周波出力３
〜１４Ｗ／ｃｍ2でポリプロピレンフィルムのプラズマ
処理を行なう。 工程２：工程１の処理をしたポリプロピレンフィルム上
に酸素ガスの存在のもとで、反応空間へ高周波出力をか
けながらイオンプレーティング法によって金属酸化物膜
を形成する。 - 【請求項２】金属酸化物膜が酸化アルミニウム膜である
請求項１に記載の蒸着バリヤー性フィルムの製造方法。 - 【請求項３】イオンプレーティング時における反応空間
への高周波出力が０．００２〜０．３Ｗ／ｃｍ2である
請求項１又は２に記載の蒸着バリヤー性フィルムの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11100817A JP2000290768A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 蒸着バリヤー性フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11100817A JP2000290768A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 蒸着バリヤー性フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290768A true JP2000290768A (ja) | 2000-10-17 |
Family
ID=14283909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11100817A Pending JP2000290768A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 蒸着バリヤー性フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000290768A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011194802A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | ガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム |
| JP2011194804A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | ガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム |
| JP2011194803A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | 熱水耐性を有するガスバリアフィルムの製造方法及び熱水耐性を有するガスバリアフィルム |
| JP2011194805A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | 熱水耐性を有するガスバリアフィルムの製造方法及び熱水耐性を有するガスバリアフィルム |
-
1999
- 1999-04-08 JP JP11100817A patent/JP2000290768A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011194802A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | ガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム |
| JP2011194804A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | ガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム |
| JP2011194803A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | 熱水耐性を有するガスバリアフィルムの製造方法及び熱水耐性を有するガスバリアフィルム |
| JP2011194805A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Oike Ind Co Ltd | 熱水耐性を有するガスバリアフィルムの製造方法及び熱水耐性を有するガスバリアフィルム |
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