JP2700019B2 - ガスバリアフィルムおよびそれを用いた包装用あるいはガス遮断用フィルム - Google Patents

ガスバリアフィルムおよびそれを用いた包装用あるいはガス遮断用フィルム

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスバリア性、耐レト
ルト性、ゲルボ特性に優れた食品、医薬品、電子部品等
の気密性を要求される包装材料、または、ガス遮断材料
として優れた特性を持つフイルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】ガスバリア性のすぐれたフィルムとして
は、プラスチックフィルム上にアルミニウムを積層した
ものの、塩化ビニリデンやエチレンビニールアルコール
共重合体をコーティングしたものが知られている。ま
た、無機薄膜を利用したものとしては、酸化珪素、酸化
アルミニウム薄膜等を積層したものが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のガス
バリア性フィルムは、次のような課題を有していた。ア
ルミニウム積層品は、経済性、ガスバリア性の優れたも
のではあるが、不透明なため、包装時の内容物が見え
ず、また、マイクロ波を透過しないため電子レンジの使
用ができない。塩化ビニリデンやエチレンビニールアル
コール共重合体をコーティングしたものは、水蒸気、酸
素等のガスバリア性が十分でなく、特に高温処理におい
てその低下が著しい。また、塩化ビニリデン系について
は、焼却時の塩素ガスの発生等があり、地球環境への影
響も懸念されている。一方、内容物が見え、電子レンジ
の使用が可能なガスバリアフイルムとして、特公昭51
−48511号に、合成樹脂体表面にSix Oy (例え
ばSiO2 )を蒸着したガスバリアフイルムが提案され
ているが、ガスバリア性の良好なSiOx 系(x=1.
3〜1.8)は、やや褐色を有しており、透明ガスバリ
アフイルムとしては、不十分なものである。
【0004】酸化アルミニウムを主体としたものとして
(特開昭62−101428)に見られるようなものも
あるが、酸素バリア性が不十分であり、耐屈曲性の問題
もある。又、レトルト性を有するガスバリアフイルムと
してのA123 ・SiO2 系の例としては、(特開平2
−194944)に提案されているものもあるが、A12
3 とSiO2 を積層したものであり、装置が大かがり
なものとなる。また、これらの薄膜系ガスバリアフイル
ムについても、そのガスバリア特性、耐屈曲性は、まだ
まだ不十分なものである。すなわち、耐レトルト性を有
するには、ある程度以上(例えば2000Å)の薄膜の
厚みが要求されるのに対し、耐屈曲性を向上させるに
は、できるだけ薄い方がよいという問題を有しており、
現在レトルト用として使用されているものは、その取扱
いに注意を要するものである。このように、充分な酸素
バリア性と水蒸気バリア性を兼ね備え、耐レトルトを有
し、屈曲性の高い透明ガスバリアフイルムはないのが現
状である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガスバリア
性、耐レトルト性に優れ、かつ、耐屈曲性の高い酸化ア
ルミニウム・酸化硅素系ガスバリアフイルムを提供せん
とするものである。すなわち、プラスチックフィルムの
少なくとも片面に酸化アルミニウム・酸化硅素を主たる
成分とする薄膜が形成されたガスバリアフイルムにおい
て、該薄膜内に酸化アルミニウムの比率が20重量%以
上、99重量%以下であって、該薄膜の比重が下記式を
満足することを特徴とするガスバリアフイルムD=0.
01A+b但し D;薄膜の比重、A;薄膜中の酸化ア
ルミニウムの重量%1.6≦b≦2.2 であ
る。
【0006】本発明でいうプラスチックフイルムとは、
有機高分子を溶融押出しをして、必要に応じ、長手方
向、および、または、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施
したフイルムであり、有機高分子としては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−2,6−ナフタレート、ナイロン6、ナイ
ロン4、ナイロン66、ナイロン12、ポリ塩化ビニー
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコール、全
芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポ
リエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンス
ルフィド、ポリフェニレンオキサイドなどがあげられ
る。また、これらの(有機重合体)有機高分子は他の有
機重合体を少量共重合をしたり、ブレンドしたりしても
よい。
【0007】さらにこの有機高分子には、公知の添加
剤、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑
剤、着色剤などが添加されていてもよく、その透明度は
特に限定するものではないが、透明ガスバリアフイルム
として使用する場合には、50%以上の透過率をもつも
のが好ましい。本発明のプラスチックフィルムは、本発
明の目的を損なわない限りにおいて、薄膜層を積層する
に先行して、該フイルムをコロナ放電処理、グロー放電
処理、その他の表面粗面化処理を施してもよく、また、
公知のアンカーコート処理、印刷、装飾が施されていて
もよい。本発明のプラスチックフイルムは、その厚さと
して5〜500μmの範囲が好ましく、さらに好ましく
は8〜300μmの範囲である。
【0008】酸化アルミニウム・酸化硅素系薄膜は酸化
アルミニウムと酸化硅素の混合物、あるいは化合物等と
から成り立っていると考えられる。ここでいう酸化アル
ミニウムとは、A1、A1O、A123 等の各種アルミ
ニウム酸化物の混合物から成り立ち、酸化アルミニウム
内での各々の含有率等は作成条件で異なる。酸化硅素と
は、Si、SiO、SiO2 等から成り立っていると考
えられ、これらの比率も作成条件で異なる。本発明にお
ける該薄膜の酸化アルミニウムの比率としては、20重
量%以上、99重量%以下であって、好ましくは30重
量%以上、95重量%以下である。また、この成分中
に、特性が損なわれない範囲で微量(全成分に対して高
々3%まで)の他成分を含んでもよい。該薄膜の厚さと
しては、特にこれを限定するものではないが、ガスバリ
ア性及び可尭性の点からは、50〜8000Åが好まし
く、更に好ましくは、70〜5000Åである。かかる
酸化アルミニウム・酸化硅素系薄膜の作成には、真空蒸
着法、スパッター法、イオンブレーティングなどのPV
D法(物理蒸着法)、あるいは、CVD法(化学蒸着
法)などが適宜用いられる。例えば、真空蒸着法におい
ては、蒸着源材料としてA123 とSiO2 やA1とS
iO2 の混合物等が用いられ、また、加熱方式として
は、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱等を用
いることができる。また、反応性ガスとして、酸素、窒
素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシス
ト等の手段を用いた反応性蒸着を用いてもよい。また、
基板にバイアス等を加えたり、基板温度を上昇、あるい
は、冷却したり等、本発明の目的を損なわない限りに於
て、作成条件を変更してもよい。スパッター法やCVD
法等のほかの作成法でも同様である。本発明品は、その
ままで使用されてもよいが、他の有機高分子のフイル
ム、または薄層をラミネートまたはコーティングして使
用してもよい。
【0009】本発明でいう比重とは、ある温度で、ある
体積を占める物質の質量と、それと同体積の標準物質の
質量(4℃における水)との比をいう。比重の測定は、
通常物体の質量と体積を測り、同体積の4℃の水の質量
との比を求めればよいが、本発明の薄膜の測定では、体
積の測定が困難である。そこで、まず基板から薄膜をは
がすか、あるいは、基板のみを溶解することにより、薄
膜のみからなる単独膜の状態としたのちに、(JIS
K7112)にあるような比重測定法を用いることが望
ましい。例えば、浮沈法では、試料を比重既知の溶液の
中に浸せきさせ、その浮沈状態から薄膜の比重を測定す
ることができる。この溶液としては、四塩化炭素とブロ
モホルム、または、ヨウ化メチレンなどの混合液を用い
ることができる。また、連続的な密度勾配をもつ溶液中
に単独膜を浸積させる密度勾配管法によっても比重の値
を測定できる。
【0010】このようにして得られた該薄膜の比重の値
が、薄膜中の酸化アルミニウムの重量%との関係を、D
=0.01A+b(D:薄膜の比重、A:薄膜中の酸化
アルミニウムの重量%)という式で示すとき、bの値が
1.6よりも小さい領域のときには、酸化アルミニウム
・酸化硅素系薄膜の構造が粗雑となり、充分なガスバリ
ア性が得られない。また、該薄膜の比重の値が、b値
で、2.2よりも大きい領域の場合、成膜後の初期ガス
バリア特性は優れているものの、膜が硬くなりすぎ、機
械特性、特にゲルボ特性が劣り、処理後のガスバリア性
の低下が大きくなり、ガスバリアフイルムとしての使用
に適していない。以上の理由からガスバリアフイルムと
して好ましい酸化アルミニウム・酸化硅素系薄膜の比重
は、該薄膜の比重と薄膜内の酸化アルミニウム組成比率
との関係をD=0.01A+b(D:薄膜の比重、A:
薄膜中の酸化アルミニウムの重量%)という関係式であ
らわす時、bの値で1.6から2.2であり、更に好ま
しくは1.7から2.1である。
【0011】次に実施例をあげて本発明を説明する。
【実施例1、比較例1】蒸着源として、3〜5mm程度の
大きさの粒子状のAl23 (純度99.5%)とSiO
2 (純度99.9%)を用い、電子ビーム蒸着法で、1
2μm厚のPETフイルム(東洋紡績(株):E510
0)上に酸化アルミニウム・酸化硅素系薄膜の形成を行
った。蒸着材料は、混合せずに、ハース内をカーボン板
で2つに仕切り、加熱源として一台の電子銃(以下EB
銃)を用い、Al23 とSiO2 のそれぞれを時分割で
加熱した。その時のEB銃のエミッション電流、Al2
3 とSiO2 への加熱比、フイルム送り速度及び蒸着時
の真空圧は表1に示した条件で800Å厚の膜を作っ
た。又、酸素ガスの供給量は130CCM にした。チルロ
ールの冷却温度は、−10℃で行った。
【0012】このようにして得られた膜の比重をPET
フイルムを溶解したのち、浮沈法で測定した。更に、こ
のPET上の複合膜に対し、また、厚さ40μmの未延
伸ポリプロピレンフイルム(OPPフイルム)を二液硬
化型ポリウレタン系接着剤(厚さ2μm)を用いて、ド
ライラミネートして、本発明応用の包装用プラスチック
フイルムを得た。この包装用フイルムに対して、レトル
ト処理(120度×30分)、または、ゲルボ処理を施
したのち、酸素バリア性を測定した。
【0013】・酸素透過率の測定方法作成したガスバリ
アフイルムの酸素透過率を酸素透過率測定装置(モダン
コントロールズ社製 OX−TRAN100)を用いて
測定した。・耐屈曲疲労性(以下ゲルボ特性)のテスト
方法耐屈曲疲労性は、いわゆるゲルボフレックステスタ
ー(理学工業(株)社製)を用いて評価した。条件とし
ては(MIL−B131H)で112inch×8inch
の試料片を直径3(1/2)inchの円筒状とし、両端
を保持し、初期把持間隔7inchとし、ストロークの3
(1/2)inch で、400度のひねりを加えるもので
この動作の繰り返し往復運動を40回/minの速さ
で、20℃、相対湿度65%の条件下で行った。このよ
うにして測定した酸素透過率は、1.0cc前後と非常に
優秀であった。さらに200回ゲルボ試験後の結果も、
2〜3cc前後の上昇に留まり、総合特性の優れたガスバ
リアフイルムが得られた。(表1、表2)
【0014】
【実施例2】蒸着源として、3〜5mm程度の大きさの粒
子状のAl23 (純度99.5%)とSiO2 (純度9
9.9%)を用い、電子ビーム蒸着法で、12μm厚の
PETフイルム(東洋紡績(株):E5100)上に酸
化アルミニウム・酸化硅素系薄膜の形成を行った。蒸着
材料は、混合せずに、ハース内をカーボン板で2つに仕
切り、加熱源として一台の電子銃(以下EB銃)を用
い、Al23 とSiO2 のそれぞれを時分割で加熱し
た。その時のEB銃のエミッション電流を0.8〜5.
0と変化させ、Al23 とSiO2 への加熱比は10:
10〜50:1と変え、組成を変化させた。フイルム送
り速度は、10〜200m/minと変化させ、500
〜5000Å厚の膜を作った。又、蒸気圧は、酸素ガス
の供給量0〜5000CCM S変えること等で、1×10
-5〜2×10-3Torrまで条件を変え、チルロールの冷却
温度も−20℃〜70℃まで変えた。以下(実施例1)
と同様にして、包装用フィルムを作り、酸素バリア性を
測定した。このようにして測定した酸素透過率は、1.
0cc前後と非常に優秀であった。さらに200回ゲルボ
試験後の結果も、2〜3cc前後の上昇に留まり、総合特
性の優れたガスバリアフィルムが得られた。(表3、表
4、表5、表6)
【0015】
【比較例2】実施例2と同様にEB蒸着で酸化アルミニ
ウム・酸化硅素系透明ガスバリア薄膜の作成を行ない、
得られたサンプルに対して、比重測定およびレトルト処
理、または、ゲルボ処理後の酸素バリア性を測った。そ
の結果、酸素バリア性、耐レトルト性、あるいは、ゲル
ボ特性のいずれかが不十分なものになり、総合判定で不
良となった。(表3、表4、表5、表6)
【0016】
【実施例3】蒸着源として、3〜5mm程度の大きさの粒
子状のアルミニウム(純度99.9%)とSiO2 (純
度99.9%)を用い、高周波誘導加熱蒸着法で12μ
m厚のPETフイルム(東洋紡績(株):E5007)
上に酸化アルミニウム・酸化硅素系ガスバリア薄膜の形
成を行った。その時の高周波電力を5.5KWとし、フ
イルム送り速度を30〜120m/minと変化させ、
500〜4000Å厚の膜を作った。蒸気圧は、酸素ガ
スの供給量を変えることで、1.0×10-5〜8×10
-3Torrまで条件を変えた。このようにして得られた
膜の比重をPETフイルムを溶解したのち、測定した。
以下(実施例1)と同様にして、包装用フイルムを作
り、酸素バリア性を測定した。(表7、表8)
【0017】
【比較例3】実施例3と同様に高周波誘導加熱蒸着法
で、酸化アルミニウム・酸化硅素系ガスバリア薄膜の形
成を行ない、得られたサンプルに対して、比重測定およ
びレトルト処理、または、ゲルボ処理後の酸素バリア性
を測った。その結果、酸素バリア性、耐レトルト性、あ
るいは、ゲルボ特性のいずれかが不十分なものになり、
総合判定で不良となった。(表7、表8)
【0018】
【実施例4】SiO2 ターゲット(純度99.99%)
とA123 (純度99.99%)の角状のチップを用
い、高周波スパッター法で、24μm厚のPETフイル
ム(東洋紡績(株):E5000)上に酸化アルミニウ
ム・酸化硅素系薄膜の形成を行った。組成は、ターゲッ
ト上にのせるA123 チップの面積を変えることで変化
させた。フイルム送り速度は、0.1〜1m/minと
変化させ、1000〜3000Å厚の膜を作った。アル
ゴンガス及び、酸素ガスの供給量を変え、酸素雰囲気、
スパッター時の真空圧を変化させた。真空圧は1〜10
0mTorr、スパッター電力1〜8KWとした。この
ようにして得られた膜の比重を測定したのち、実施例1
と同様に、包装用フイルムを作り、酸素バリア性を測定
した。(表7、表8)
【0019】
【比較例3】実施例3と同様に高周波スパッター法で、
酸化アルミニウム・酸化硅素系薄膜の形成を行ない、得
られたサンプルに対して、比重測定およびレトルト処
理、または、ゲルボ処理後の酸素バリア性を測った。そ
の結果、酸素バリア性、耐レトルト性、あるいは、ゲル
ボ特性のいずれかが不十分なものになり、総合判定で不
良となった(表7、表8)
【0020】
【発明の効果】プラスチックフイルム上に、酸化アルミ
ニウム・酸化硅素系薄膜が形成されたガスバリアフイル
ムにおいて、該薄膜内の酸化アルミニウムの比率が20
重量%以上99重量%以下であって、該薄膜の比重と薄
膜内の酸化アルミニウム組成比率との関係をD=0.0
1A+b(D:薄膜の比重、A:薄膜中の酸化アルミニ
ウムの重量%)という関係式で表す時、該薄膜の比重
を、1.6≦b≦2.2であらわされる範囲内とするこ
とによって、ガスバリア性に優れ、また耐レトルト性、
屈曲性の高い、総合的に実用特性のすぐれた酸化アルミ
ニウム・酸化硅素系ガスバリアフイルムを提供できる。
【0021】
【表1】
【0022】
【表2】
【0023】
【表3】
【0024】
【表4】
【0025】
【表5】
【0026】
【表6】
【0027】
【表7】
【0028】
【表8】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神戸 秀臣 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋 紡績株式会社 総合研究所内 (72)発明者 山田 陽三 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋 紡績株式会社 総合研究所内 審査官 石井 淑久 (56)参考文献 特開 平2−194944(JP,A)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
    に酸化アルミニウム・酸化珪素を主たる成分とする薄膜
    が形成されたガスバリアフィルムにおいて、該薄膜内に
    酸化アルミニウムの比率が20重量%以上、99重量%
    以下であって、該薄膜の比重が下記式を満足することを
    特徴とするガスバリアフィルム。D=0.01A+b但
    し D;薄膜の比重、A;薄膜中の酸化アルミニウムの
    重量%、1.6≦b≦2.2
  2. 【請求項2】 請求項1記載の薄膜層上に、ヒートシー
    ル層が設けられている請求項1記載のガスバリアフィル
    ム。
  3. 【請求項3】 請求項1、又は請求項2記載のガスバリ
    アフィルムを用いた包装用あるいはガス遮断用フィル
    ム。
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