JP2000281686A - フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 - Google Patents
フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0836—Compounds with one or more Si-OH or Si-O-metal linkage
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/42—Platinum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 同一分子内に、フェノール基と、アルコキシ
シリル基，アルケニル基またはシラノール基とを含有し
得る新規なフェノール基含有有機ケイ素化合物およびそ
の製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式： 【化１】 [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、Yは非置換もしくはアルコキシ基
置換のヒドロキシフェニル基であり、R1は炭素原子数が
２以上の同種もしくは異種の二価炭化水素基であり、R
は脂肪族不飽和結合を含まない同種もしくは異種の一価
炭化水素基である。mおよびnは自然数であるが、m≧nで
あり、pは０または１である。]で示されるフェノール基
含有有機ケイ素化合物およびその製造方法。
シリル基，アルケニル基またはシラノール基とを含有し
得る新規なフェノール基含有有機ケイ素化合物およびそ
の製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式： 【化１】 [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、Yは非置換もしくはアルコキシ基
置換のヒドロキシフェニル基であり、R1は炭素原子数が
２以上の同種もしくは異種の二価炭化水素基であり、R
は脂肪族不飽和結合を含まない同種もしくは異種の一価
炭化水素基である。mおよびnは自然数であるが、m≧nで
あり、pは０または１である。]で示されるフェノール基
含有有機ケイ素化合物およびその製造方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフェノール基を含有
する新規な有機ケイ素化合物およびその製造方法に関す
る。
する新規な有機ケイ素化合物およびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】フェノール基含有有機ケイ素化合物およ
びその製造方法については、これまでいくつかの方法が
提案されている。例えば、米国特許第3,622,609号で
は、2-アリルフェノールの水酸基をジメチルシリル化し
た後これをヒドロシリル化重合し、次いで水酸化ナトリ
ウムで開環させた後硫酸で処理して、1,3-ビス(γ-オル
トヒドロキシフェニル)プロピル-1,1,3,3-テトラメチル
ジシロキサンを合成する方法が提案されている。しかし
この方法では、一分子中にフェノール基とフェノール基
以外の官能基の両方を有する化合物を合成することは不
可能であった。特開平２−１６６１２３号公報や特開平
２−２２５５２４号公報では、フェノール性水酸基をタ
ーシャリーブチル基で保護したターシャリーブトキシス
チレンと、ケイ素原子結合水素原子含有オルガノシロキ
サンを付加反応させた後、強酸存在下で脱ターシャリー
ブチル化することにより、フェノール基含有オルガノシ
ロキサンを合成する方法が記載されている。しかしこの
方法ではシロキサン鎖等が強酸によって切断される可能
性があり、さらに一分子中にフェノール基とアルケニル
基を含有する化合物を得ることは不可能であった。ま
た、特開昭６２−２７５１１６号公報および特開昭６１
−８４０２２号公報にはフェノール基含有シランが記載
されているが、これらはフェノール基含有トリアルキル
シランに限られており、アルコキシシリル基やシラノー
ル基を含有するものではなかった。さらにその合成法も
非常に複雑であり、収率も高くないといった欠点があっ
た。一方、本発明者らは既に、フェノール基とアルケニ
ル基の両方を含有するオルガノシロキサンおよびその製
造方法について提案した（特願平１０−２９４５８０号
明細書）。しかしこの方法では、アルケニル基としてラ
ジカル重合性官能基を有するオルガノシロキサンを合成
した場合に、精製中に重合する危険性があった。さらに
この方法では、１分子中にフェノール基とアルコキシシ
リル基またはシラノール基の両方を有する化合物を合成
することができなかった。
びその製造方法については、これまでいくつかの方法が
提案されている。例えば、米国特許第3,622,609号で
は、2-アリルフェノールの水酸基をジメチルシリル化し
た後これをヒドロシリル化重合し、次いで水酸化ナトリ
ウムで開環させた後硫酸で処理して、1,3-ビス(γ-オル
トヒドロキシフェニル)プロピル-1,1,3,3-テトラメチル
ジシロキサンを合成する方法が提案されている。しかし
この方法では、一分子中にフェノール基とフェノール基
以外の官能基の両方を有する化合物を合成することは不
可能であった。特開平２−１６６１２３号公報や特開平
２−２２５５２４号公報では、フェノール性水酸基をタ
ーシャリーブチル基で保護したターシャリーブトキシス
チレンと、ケイ素原子結合水素原子含有オルガノシロキ
サンを付加反応させた後、強酸存在下で脱ターシャリー
ブチル化することにより、フェノール基含有オルガノシ
ロキサンを合成する方法が記載されている。しかしこの
方法ではシロキサン鎖等が強酸によって切断される可能
性があり、さらに一分子中にフェノール基とアルケニル
基を含有する化合物を得ることは不可能であった。ま
た、特開昭６２−２７５１１６号公報および特開昭６１
−８４０２２号公報にはフェノール基含有シランが記載
されているが、これらはフェノール基含有トリアルキル
シランに限られており、アルコキシシリル基やシラノー
ル基を含有するものではなかった。さらにその合成法も
非常に複雑であり、収率も高くないといった欠点があっ
た。一方、本発明者らは既に、フェノール基とアルケニ
ル基の両方を含有するオルガノシロキサンおよびその製
造方法について提案した（特願平１０−２９４５８０号
明細書）。しかしこの方法では、アルケニル基としてラ
ジカル重合性官能基を有するオルガノシロキサンを合成
した場合に、精製中に重合する危険性があった。さらに
この方法では、１分子中にフェノール基とアルコキシシ
リル基またはシラノール基の両方を有する化合物を合成
することができなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、本発明の目的は、同一分子内に、フェノール
基と、アルコキシシリル基，アルケニル基またはシラノ
ール基とを含有し得る新規なフェノール基含有有機ケイ
素化合物およびその製造方法を提供することにある。
点を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、本発明の目的は、同一分子内に、フェノール
基と、アルコキシシリル基，アルケニル基またはシラノ
ール基とを含有し得る新規なフェノール基含有有機ケイ
素化合物およびその製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式：
【化４】 [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、Yは式：
たは水素原子であり、Yは式：
【化５】 （式中、R3はアルキル基であり、ｑは０または１〜４の
数である。）で示されるフェノール基であり、R1は炭素
原子数が２以上の同種もしくは異種の二価炭化水素基で
あり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基である。mおよびnは自然数である
が、m≧nであり、pは０または１である。]で示されるフ
ェノール基含有有機ケイ素化合物、および、（Ａ）一般
式：
数である。）で示されるフェノール基であり、R1は炭素
原子数が２以上の同種もしくは異種の二価炭化水素基で
あり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基である。mおよびnは自然数である
が、m≧nであり、pは０または１である。]で示されるフ
ェノール基含有有機ケイ素化合物、および、（Ａ）一般
式：
【化６】 [式中、R2は脂肪族不飽和結合含有一価炭化水素基であ
り、R3はアルキル基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含
まない同種もしくは異種の一価炭化水素基である。ｑは
０または１〜４の数であり、pは０または1である。]で
示される脂肪族不飽和結合とケイ素原子結合水素原子と
を含有する有機ケイ素化合物を、ヒドロシリル化反応用
触媒の存在下に分子内もしくは分子間で付加反応させた
後、 （Ｂ）一般式：A(OH)n [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、mおよびnは自然数であるが、m≧n
である。]で示されるアルコールまたは水を反応させる
ことを特徴とする、上記フェノール基含有有機ケイ素化
合物の製造方法に関する。
り、R3はアルキル基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含
まない同種もしくは異種の一価炭化水素基である。ｑは
０または１〜４の数であり、pは０または1である。]で
示される脂肪族不飽和結合とケイ素原子結合水素原子と
を含有する有機ケイ素化合物を、ヒドロシリル化反応用
触媒の存在下に分子内もしくは分子間で付加反応させた
後、 （Ｂ）一般式：A(OH)n [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、mおよびnは自然数であるが、m≧n
である。]で示されるアルコールまたは水を反応させる
ことを特徴とする、上記フェノール基含有有機ケイ素化
合物の製造方法に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のフェノール基含有有機ケ
イ素化合物は、一般式：
イ素化合物は、一般式：
【化７】 で示される。上式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基
を除いた残基または水素原子である。アルコール残基と
して具体的には、１価〜３価の、非置換の炭化水素基，
アルキルオキシアルキレン基，アルケニルオキシアルキ
レン基，フェニルオキシアルキレン基，水酸基含有炭化
水素基，水酸基含有アルキルオキシアルキレン基，水酸
基含有アルケニルオキシアルキレン基が挙げられる。即
ち、１価アルコールの水酸基を除いた残基としては、メ
チル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ヘキシル
基，アリル基，ブテニル基，ヘキセニル基，酸化プロピ
レン基が例示され、２価アルコール中の１つの水酸基を
除いた残基としては、2-ヒドロキシエチル基，2-ヒドロ
キシプロピル基，3-ヒドロキシプロピル基，2-ヒドロキ
シブチル基，3-ヒドロキシブチル基，3-アリロキシ-2-
ヒドロキシプロピル基が例示され、2価アルコール中の2
つの水酸基を除いた残基としては、エチレン基，プロピ
レン基，ブチレン基，ヘキシレン基，エチレンオキシプ
ロピレン基が例示され、3価アルコール中の１つの水酸
基を除いた残基としては、ジヒドロキシプロピル基，ジ
ヒドロキシブチル基，ジヒドロキシヘキシル基が例示さ
れ、3価アルコール中の2つの水酸基を除いた残基として
は、ヒドロキシプロピレン基，ヒドロキシブチレン基，
ヒドロキシヘキシレン基が例示される。これらの中でも
Aは水素原子であるか、１価アルコールの水酸基を除い
た残基のうちではメチル基，エチル基のようなアルキル
基；アリル基，ブテニル基，ヘキセニル基のような脂肪
族不飽和結合含有基が好ましく、２価アルコール中の１
つの水酸基を除いた残基のうちでは、3-アリロキシ-2-
ヒドロキシプロピル基のような水酸基含有アルケニルオ
キシアルキレン基であることが好ましい。特には、接着
促進効果の点から、脂肪族不飽和結合含有脂肪族基であ
ることが好ましい。
を除いた残基または水素原子である。アルコール残基と
して具体的には、１価〜３価の、非置換の炭化水素基，
アルキルオキシアルキレン基，アルケニルオキシアルキ
レン基，フェニルオキシアルキレン基，水酸基含有炭化
水素基，水酸基含有アルキルオキシアルキレン基，水酸
基含有アルケニルオキシアルキレン基が挙げられる。即
ち、１価アルコールの水酸基を除いた残基としては、メ
チル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ヘキシル
基，アリル基，ブテニル基，ヘキセニル基，酸化プロピ
レン基が例示され、２価アルコール中の１つの水酸基を
除いた残基としては、2-ヒドロキシエチル基，2-ヒドロ
キシプロピル基，3-ヒドロキシプロピル基，2-ヒドロキ
シブチル基，3-ヒドロキシブチル基，3-アリロキシ-2-
ヒドロキシプロピル基が例示され、2価アルコール中の2
つの水酸基を除いた残基としては、エチレン基，プロピ
レン基，ブチレン基，ヘキシレン基，エチレンオキシプ
ロピレン基が例示され、3価アルコール中の１つの水酸
基を除いた残基としては、ジヒドロキシプロピル基，ジ
ヒドロキシブチル基，ジヒドロキシヘキシル基が例示さ
れ、3価アルコール中の2つの水酸基を除いた残基として
は、ヒドロキシプロピレン基，ヒドロキシブチレン基，
ヒドロキシヘキシレン基が例示される。これらの中でも
Aは水素原子であるか、１価アルコールの水酸基を除い
た残基のうちではメチル基，エチル基のようなアルキル
基；アリル基，ブテニル基，ヘキセニル基のような脂肪
族不飽和結合含有基が好ましく、２価アルコール中の１
つの水酸基を除いた残基のうちでは、3-アリロキシ-2-
ヒドロキシプロピル基のような水酸基含有アルケニルオ
キシアルキレン基であることが好ましい。特には、接着
促進効果の点から、脂肪族不飽和結合含有脂肪族基であ
ることが好ましい。
【０００６】Yは式：
【化８】 で示されるフェノール基である。R3はアルキル基であ
り、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基が例示
されるが、これらの中でもメチル基であることが好まし
い。ｑは０または１〜４の数であるが、通常、０または
１である。このようなＹで示されるフェノール基中の水
酸基とアルコキシ基の結合位置は特に限定されず、具体
的には、2-ヒドロキシフェニル基，4-ヒドロキシフェニ
ル基，4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル基，3,5-ジメ
トキシ-4-ヒドロキシフェニル基が例示される。これら
の中でも、入手の容易さから、Yは2-ヒドロキシフェニ
ル基または4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル基である
ことが好ましい。R1は炭素原子数が２以上の脂肪族不飽
和結合を含まない同種もしくは異種の二価炭化水素基で
あり、エチレン基，プロピレン基，ブチレン基，ヘキシ
レン基などのアルキレン基、フェニレン基などのアリー
レン基が例示される。Rは脂肪族不飽和結合を含まない
同種もしくは異種の一価炭化水素基であり、メチル基，
エチル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基などのア
ルキル基；フェニル基，トリル基，キシリル基などのア
リール基；ベンジル基，フェネチル基などのアラルキル
基が例示される。mおよびnは自然数であるが、 通常、
１〜５の範囲であり、かつ、m≧nである。pは0または1
である。
り、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基が例示
されるが、これらの中でもメチル基であることが好まし
い。ｑは０または１〜４の数であるが、通常、０または
１である。このようなＹで示されるフェノール基中の水
酸基とアルコキシ基の結合位置は特に限定されず、具体
的には、2-ヒドロキシフェニル基，4-ヒドロキシフェニ
ル基，4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル基，3,5-ジメ
トキシ-4-ヒドロキシフェニル基が例示される。これら
の中でも、入手の容易さから、Yは2-ヒドロキシフェニ
ル基または4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル基である
ことが好ましい。R1は炭素原子数が２以上の脂肪族不飽
和結合を含まない同種もしくは異種の二価炭化水素基で
あり、エチレン基，プロピレン基，ブチレン基，ヘキシ
レン基などのアルキレン基、フェニレン基などのアリー
レン基が例示される。Rは脂肪族不飽和結合を含まない
同種もしくは異種の一価炭化水素基であり、メチル基，
エチル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基などのア
ルキル基；フェニル基，トリル基，キシリル基などのア
リール基；ベンジル基，フェネチル基などのアラルキル
基が例示される。mおよびnは自然数であるが、 通常、
１〜５の範囲であり、かつ、m≧nである。pは0または1
である。
【０００７】このような本発明のフェノール基含有有機
ケイ素化合物としては、例えば、下記式で示されるシラ
ンが挙げられる。
ケイ素化合物としては、例えば、下記式で示されるシラ
ンが挙げられる。
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【０００８】このような本発明のフェノール基含有有機
ケイ素化合物は、例えば、（Ａ）一般式：
ケイ素化合物は、例えば、（Ａ）一般式：
【化２６】 （式中、R2は脂肪族不飽和結合含有一価炭化水素基であ
り、R3，R，ｑおよびpは前記と同じである。）で示され
る脂肪族不飽和結合とケイ素原子結合水素原子とを含有
する有機ケイ素化合物を、ヒドロシリル化反応用触媒の
存在下に分子内もしくは分子間で付加反応させた後、該
付加反応生成物に、（Ｂ）一般式：A(OH)n（式中、Aお
よびｎは前記と同じである。）で示されるアルコールま
たは水を反応させて脱シリル化反応を行うことにより製
造することができる。
り、R3，R，ｑおよびpは前記と同じである。）で示され
る脂肪族不飽和結合とケイ素原子結合水素原子とを含有
する有機ケイ素化合物を、ヒドロシリル化反応用触媒の
存在下に分子内もしくは分子間で付加反応させた後、該
付加反応生成物に、（Ｂ）一般式：A(OH)n（式中、Aお
よびｎは前記と同じである。）で示されるアルコールま
たは水を反応させて脱シリル化反応を行うことにより製
造することができる。
【０００９】本発明の製造方法に使用される（Ａ）成分
の有機ケイ素化合物において、上式中のR2は脂肪族不飽
和結合含有一価炭化水素基であり、ビニル基，アリル
基，ブテニル基，ヘキセニル基が例示される。これらの
中でも入手のしやすさおよび経済性からアリル基である
ことが好ましい。R3，R，ｑおよびpは前記と同じであ
る。このような（Ａ）成分としては、2-アリルフェノー
ルのジメチルシリルエーテルまたはオイゲノールのジメ
チルシリルエーテルであることが好ましい。
の有機ケイ素化合物において、上式中のR2は脂肪族不飽
和結合含有一価炭化水素基であり、ビニル基，アリル
基，ブテニル基，ヘキセニル基が例示される。これらの
中でも入手のしやすさおよび経済性からアリル基である
ことが好ましい。R3，R，ｑおよびpは前記と同じであ
る。このような（Ａ）成分としては、2-アリルフェノー
ルのジメチルシリルエーテルまたはオイゲノールのジメ
チルシリルエーテルであることが好ましい。
【００１０】本発明の製造方法に使用されるヒドロシリ
ル化反応用触媒としては、例えば、周期率表第８属遷移
金属錯体触媒が挙げられる。中でも白金系触媒が特に有
効であり、具体的には、塩化白金酸およびそのアルコー
ル溶液，白金のオレフィン錯体，白金とビニル基含有シ
ロキサンとの錯体などの白金系化合物が挙げられる。ま
たその添加量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計重量１
００万重量部に対して白金金属量が０．００１〜１０,
０００重量部の範囲となる量が好ましく、０．１〜１０
０重量部の範囲となる量がより好ましい。
ル化反応用触媒としては、例えば、周期率表第８属遷移
金属錯体触媒が挙げられる。中でも白金系触媒が特に有
効であり、具体的には、塩化白金酸およびそのアルコー
ル溶液，白金のオレフィン錯体，白金とビニル基含有シ
ロキサンとの錯体などの白金系化合物が挙げられる。ま
たその添加量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計重量１
００万重量部に対して白金金属量が０．００１〜１０,
０００重量部の範囲となる量が好ましく、０．１〜１０
０重量部の範囲となる量がより好ましい。
【００１１】本発明の製造方法に使用される（Ｂ）成分
のアルコールまたは水において、上式中のAおよびｎは
前記と同様である。使用されるアルコールとしては、ア
リルアルコール，グリシロール−α−モノアリルエーテ
ル，メタノール，エタノール，プロパノール，エチレン
グリコールが例示される。またその添加量は、通常、上
記（Ａ）成分中のシリルフェニルエーテル基当量に対す
る（Ｂ）成分中の水酸基の当量の比率が１．０以上とな
る量である。好ましくは、この比率が１．０〜５０の範
囲になるような量であり、より好ましくは１．５〜１０
の範囲になるような量である。
のアルコールまたは水において、上式中のAおよびｎは
前記と同様である。使用されるアルコールとしては、ア
リルアルコール，グリシロール−α−モノアリルエーテ
ル，メタノール，エタノール，プロパノール，エチレン
グリコールが例示される。またその添加量は、通常、上
記（Ａ）成分中のシリルフェニルエーテル基当量に対す
る（Ｂ）成分中の水酸基の当量の比率が１．０以上とな
る量である。好ましくは、この比率が１．０〜５０の範
囲になるような量であり、より好ましくは１．５〜１０
の範囲になるような量である。
【００１２】本発明の製造方法において、（Ａ）成分の
分子内もしくは分子間での付加反応は発熱反応であるの
で、急激な発熱を抑制するために、溶媒とヒドロシリル
化反応用触媒を予め混合し、この中に（Ａ）成分をゆっ
くり滴下する方法が好ましい。使用される溶媒として
は、ベンゼン，トルエン，キシレンのような芳香族類；
ペンタン，ヘキサン，ヘプタン，オクタン，デカンのよ
うな脂肪族類；テトラヒドロフラン，ジエチルエーテ
ル，ジブチルエーテルのようなエーテル類；アセトン，
メチルエチルケトンのようなケトン類；酢酸エチル，酢
酸ブチルのようなエステル類；四塩化炭素，トリクロロ
エタン，ジクロロメチレン，クロロホルムのような塩素
化炭化水素類が例示される。反応は室温下でも行うこと
ができるが、通常、50〜200℃の温度条件下で行うのが
反応速度の点から好ましい。反応中は反応溶液をガスク
ロマトグラフィー（ＧＬＣ）や赤外分光分析（ＩＲ）に
より分析し、（Ａ）成分中のケイ素原子結合水素原子の
特性吸収がほぼ消失した時点を反応終了とする。次いで
この付加反応生成物に（Ｂ）成分を添加して脱シリル化
反応させる。脱シリル化反応としては従来公知の方法が
使用できるが、アミン等の塩基性触媒存在下に加熱して
アルコール交換する方法によれば、副反応が起こらず、
高収率で目的の有機ケイ素化合物が得られる（特願平１
０−２５９２５８号明細書）。反応終了後、未反応の
（Ｂ）成分や溶媒などの低沸点物を加熱減圧留去等の方
法で除くことにより、本発明のフェノール基含有有機ケ
イ素化合物が得られる。さらに得られた有機ケイ素化合
物を蒸留精製するのが好ましい。
分子内もしくは分子間での付加反応は発熱反応であるの
で、急激な発熱を抑制するために、溶媒とヒドロシリル
化反応用触媒を予め混合し、この中に（Ａ）成分をゆっ
くり滴下する方法が好ましい。使用される溶媒として
は、ベンゼン，トルエン，キシレンのような芳香族類；
ペンタン，ヘキサン，ヘプタン，オクタン，デカンのよ
うな脂肪族類；テトラヒドロフラン，ジエチルエーテ
ル，ジブチルエーテルのようなエーテル類；アセトン，
メチルエチルケトンのようなケトン類；酢酸エチル，酢
酸ブチルのようなエステル類；四塩化炭素，トリクロロ
エタン，ジクロロメチレン，クロロホルムのような塩素
化炭化水素類が例示される。反応は室温下でも行うこと
ができるが、通常、50〜200℃の温度条件下で行うのが
反応速度の点から好ましい。反応中は反応溶液をガスク
ロマトグラフィー（ＧＬＣ）や赤外分光分析（ＩＲ）に
より分析し、（Ａ）成分中のケイ素原子結合水素原子の
特性吸収がほぼ消失した時点を反応終了とする。次いで
この付加反応生成物に（Ｂ）成分を添加して脱シリル化
反応させる。脱シリル化反応としては従来公知の方法が
使用できるが、アミン等の塩基性触媒存在下に加熱して
アルコール交換する方法によれば、副反応が起こらず、
高収率で目的の有機ケイ素化合物が得られる（特願平１
０−２５９２５８号明細書）。反応終了後、未反応の
（Ｂ）成分や溶媒などの低沸点物を加熱減圧留去等の方
法で除くことにより、本発明のフェノール基含有有機ケ
イ素化合物が得られる。さらに得られた有機ケイ素化合
物を蒸留精製するのが好ましい。
【００１３】以上のような本発明のフェノール基含有有
機ケイ素化合物は、分子内に各種官能基と容易に反応し
得るフェノール基を有する。このためこの有機ケイ素化
合物を硬化性シリコーン組成物に添加して硬化させる
と、得られたシリコーン硬化物が、硬化途上で接触して
いた、フェノール樹脂，エポキシ樹脂，ポリブチレンテ
レフタレート樹脂，ポリカーボネート樹脂などの有機樹
脂；銅，アルミニウム，ステンレスなどの金属およびガ
ラス等の各種基材に対して良好に接着するという利点を
有する。また、フェノール樹脂やエポキシ樹脂などの熱
硬化性樹脂が該シリコーン硬化物によく接着するという
利点を有する。これらのことから、本発明のフェノール
基含有有機ケイ素化合物は硬化性シリコーン組成物の接
着促進剤として使用され、特に、付加反応硬化型シリコ
ーン組成物の接着促進剤として好適である。この他にも
本発明のフェノール基含有有機ケイ素化合物は、光学マ
ッチングオイルや重合禁止剤等として有用である。
機ケイ素化合物は、分子内に各種官能基と容易に反応し
得るフェノール基を有する。このためこの有機ケイ素化
合物を硬化性シリコーン組成物に添加して硬化させる
と、得られたシリコーン硬化物が、硬化途上で接触して
いた、フェノール樹脂，エポキシ樹脂，ポリブチレンテ
レフタレート樹脂，ポリカーボネート樹脂などの有機樹
脂；銅，アルミニウム，ステンレスなどの金属およびガ
ラス等の各種基材に対して良好に接着するという利点を
有する。また、フェノール樹脂やエポキシ樹脂などの熱
硬化性樹脂が該シリコーン硬化物によく接着するという
利点を有する。これらのことから、本発明のフェノール
基含有有機ケイ素化合物は硬化性シリコーン組成物の接
着促進剤として使用され、特に、付加反応硬化型シリコ
ーン組成物の接着促進剤として好適である。この他にも
本発明のフェノール基含有有機ケイ素化合物は、光学マ
ッチングオイルや重合禁止剤等として有用である。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。
る。
【００１５】
【参考例１】温度計、冷却管、滴下漏斗を備えた100ミ
リリットル３口フラスコに、1,1,3,3-テトラメチルジシ
ラザン10.0グラム(75.0ミリモル)とオイゲノール16.4グ
ラム(99.9ミリモル)を投入した。次いでこれらを80℃で
１時間加熱攪拌して、ガスクロマトグラフィー(以下、
ＧＬＣ)にてオイゲノールのシグナルが消失したのを確
認した。この反応混合物から低沸点物をアスピレーター
を用いて留去して、19.9グラムの無色透明液体を得た。
これを核磁気共鳴分析(以下、ＮＭＲ)および赤外分光分
析(以下、ＩＲ)により分析したところ、得られた液体は
下記式で示される、アリル基とケイ素原子結合水素原子
を含有するシランであることが判明した。このシランの
ＧＬＣによる純度は98％であった。
リリットル３口フラスコに、1,1,3,3-テトラメチルジシ
ラザン10.0グラム(75.0ミリモル)とオイゲノール16.4グ
ラム(99.9ミリモル)を投入した。次いでこれらを80℃で
１時間加熱攪拌して、ガスクロマトグラフィー(以下、
ＧＬＣ)にてオイゲノールのシグナルが消失したのを確
認した。この反応混合物から低沸点物をアスピレーター
を用いて留去して、19.9グラムの無色透明液体を得た。
これを核磁気共鳴分析(以下、ＮＭＲ)および赤外分光分
析(以下、ＩＲ)により分析したところ、得られた液体は
下記式で示される、アリル基とケイ素原子結合水素原子
を含有するシランであることが判明した。このシランの
ＧＬＣによる純度は98％であった。
【化２７】
【００１６】
【参考例２】温度計、冷却管、滴下漏斗を備えた100ミ
リリットル３口フラスコに、1,1,3,3-テトラメチルジシ
ラザン10.0グラム(75.0ミリモル)と２-アリルフェノー
ル8.4グラム(62.6ミリモル)を投入した。次いでこれら
を80℃で１時間加熱攪拌して、ＧＬＣにて２-アリルフ
ェノールのシグナルが消失したのを確認した。この反応
混合物から低沸点物をアスピレーターを用いて留去し
て、11.8グラムの無色透明液体を得た。これをＮＭＲお
よびＩＲにより分析したところ、得られた液体は下記式
で示される、アリル基とケイ素原子結合水素原子を含有
するシランであることが判明した。このシランのＧＬＣ
による純度は98％であった。
リリットル３口フラスコに、1,1,3,3-テトラメチルジシ
ラザン10.0グラム(75.0ミリモル)と２-アリルフェノー
ル8.4グラム(62.6ミリモル)を投入した。次いでこれら
を80℃で１時間加熱攪拌して、ＧＬＣにて２-アリルフ
ェノールのシグナルが消失したのを確認した。この反応
混合物から低沸点物をアスピレーターを用いて留去し
て、11.8グラムの無色透明液体を得た。これをＮＭＲお
よびＩＲにより分析したところ、得られた液体は下記式
で示される、アリル基とケイ素原子結合水素原子を含有
するシランであることが判明した。このシランのＧＬＣ
による純度は98％であった。
【化２８】
【００１７】
【実施例１】還流冷却器、温度計、滴下漏斗、攪拌羽根
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）50マイクロリ
ットルを仕込んだ。次いでこれを90℃まで加熱して、参
考例１で合成したシラン113.80グラム (0.4774モル)を
滴下した。滴下終了後100℃で３時間攪拌して、反応溶
液をＩＲにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原
子によるシグナルがほとんど消失していたので反応終了
とした。次いで、還流冷却器、温度計、攪拌羽根を取り
付けた500ミリリットル４口フラスコに、上記で得られ
た反応溶液を投入し、これに、アリルアルコール101グ
ラム，テトラヒドロフラン40グラムおよびジエチルアミ
ン20ミリリットルを加えて90℃で14時間加熱攪拌した。
攪拌終了後、反応溶液から低沸点物を加熱減圧留去した
ところ、116.50グラムの反応生成物が得られた。これを
ＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、得られた反応
生成物は、下記式で示されるフェノール基含有プロペノ
キシシランであることが判明した。またこのシランのＧ
ＬＣによる純度は93.4％であった。
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）50マイクロリ
ットルを仕込んだ。次いでこれを90℃まで加熱して、参
考例１で合成したシラン113.80グラム (0.4774モル)を
滴下した。滴下終了後100℃で３時間攪拌して、反応溶
液をＩＲにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原
子によるシグナルがほとんど消失していたので反応終了
とした。次いで、還流冷却器、温度計、攪拌羽根を取り
付けた500ミリリットル４口フラスコに、上記で得られ
た反応溶液を投入し、これに、アリルアルコール101グ
ラム，テトラヒドロフラン40グラムおよびジエチルアミ
ン20ミリリットルを加えて90℃で14時間加熱攪拌した。
攪拌終了後、反応溶液から低沸点物を加熱減圧留去した
ところ、116.50グラムの反応生成物が得られた。これを
ＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、得られた反応
生成物は、下記式で示されるフェノール基含有プロペノ
キシシランであることが判明した。またこのシランのＧ
ＬＣによる純度は93.4％であった。
【化２９】
【００１８】
【実施例２】還流冷却器、温度計、滴下漏斗、攪拌羽根
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）35マイクロリ
ットルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例１
で合成したシラン40.00グラム (179.9ミリモル)を滴下
した。滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩ
Ｒにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によ
るシグナルがほとんど消失していたので反応終了とし
た。このようにして得られたトルエン溶液の重量は120.
01グラムであった。これをIRにより分析したところ、得
られた反応溶液は下記式で示される、参考例１で合成し
たシランが分子間でヒドロシリル化重合してなる反応生
成物のトルエン溶液であることが判明した。
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）35マイクロリ
ットルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例１
で合成したシラン40.00グラム (179.9ミリモル)を滴下
した。滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩ
Ｒにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によ
るシグナルがほとんど消失していたので反応終了とし
た。このようにして得られたトルエン溶液の重量は120.
01グラムであった。これをIRにより分析したところ、得
られた反応溶液は下記式で示される、参考例１で合成し
たシランが分子間でヒドロシリル化重合してなる反応生
成物のトルエン溶液であることが判明した。
【化３０】 次いで、還流冷却器、温度計を取り付けた100ミリリッ
トル3口フラスコに、上記で得られた付加反応生成物の
トルエン溶液13.04グラムを投入し、さらに、グリシロ
ール−α−モノアリルエーテル10.00グラム，テトラヒ
ドロフラン10グラムおよびジエチルアミン 2.0ミリリッ
トルを加えて、これらを80〜90℃で9時間加熱攪拌し
た。攪拌終了後、反応溶液から低沸点物を加熱減圧留去
したところ、4.587グラムの反応生成物が得られた。こ
れをＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、得られた
反応生成物は、下記式で示されるフェノール基含有シラ
ンであることが判明した。このシランのＧＬＣによる純
度は80％であり、残りの20%は原料のグリシロール−α
−モノアリルエーテルであった。
トル3口フラスコに、上記で得られた付加反応生成物の
トルエン溶液13.04グラムを投入し、さらに、グリシロ
ール−α−モノアリルエーテル10.00グラム，テトラヒ
ドロフラン10グラムおよびジエチルアミン 2.0ミリリッ
トルを加えて、これらを80〜90℃で9時間加熱攪拌し
た。攪拌終了後、反応溶液から低沸点物を加熱減圧留去
したところ、4.587グラムの反応生成物が得られた。こ
れをＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、得られた
反応生成物は、下記式で示されるフェノール基含有シラ
ンであることが判明した。このシランのＧＬＣによる純
度は80％であり、残りの20%は原料のグリシロール−α
−モノアリルエーテルであった。
【化３１】
【００１９】
【実施例３】還流冷却器、温度計、滴下漏斗、攪拌羽根
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）35マイクロリ
ットルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例１
で合成したシラン40.00グラム (179.9ミリモル)を滴下
した。滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩ
Ｒにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によ
るシグナルがほとんど消失していたので反応終了とし
た。このようにして得られたトルエン溶液の重量は120.
01グラムであった。これをIRにより分析したところ、得
られた反応溶液は下記式で示される、参考例１で合成し
たシランが分子間でヒドロシリル化重合してなる反応生
成物のトルエン溶液であることが判明した。
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）35マイクロリ
ットルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例１
で合成したシラン40.00グラム (179.9ミリモル)を滴下
した。滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩ
Ｒにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によ
るシグナルがほとんど消失していたので反応終了とし
た。このようにして得られたトルエン溶液の重量は120.
01グラムであった。これをIRにより分析したところ、得
られた反応溶液は下記式で示される、参考例１で合成し
たシランが分子間でヒドロシリル化重合してなる反応生
成物のトルエン溶液であることが判明した。
【化３２】 次いで、還流冷却器を取り付けた50ミリリットルなす型
フラスコに、上記で得られた付加反応生成物のトルエン
溶液10.11グラムを投入し、さらに、メタノール10.12グ
ラム，テトラヒドロフラン5.00グラムおよびジエチルア
ミン1.0ミリリットルを加えて、これらを油浴温度108℃
で8時間加熱攪拌した。攪拌終了後、反応溶液から低沸
点物を加熱減圧留去したところ、2.9471グラムの反応生
成物が得られた。これをＮＭＲおよびＩＲにより分析し
たところ、得られた反応生成物は、下記式で示されるフ
ェノール基含有メトキシシランであることが判明した。
またこのシランのＧＬＣによる純度は94.9％であった。
フラスコに、上記で得られた付加反応生成物のトルエン
溶液10.11グラムを投入し、さらに、メタノール10.12グ
ラム，テトラヒドロフラン5.00グラムおよびジエチルア
ミン1.0ミリリットルを加えて、これらを油浴温度108℃
で8時間加熱攪拌した。攪拌終了後、反応溶液から低沸
点物を加熱減圧留去したところ、2.9471グラムの反応生
成物が得られた。これをＮＭＲおよびＩＲにより分析し
たところ、得られた反応生成物は、下記式で示されるフ
ェノール基含有メトキシシランであることが判明した。
またこのシランのＧＬＣによる純度は94.9％であった。
【化３３】
【００２０】
【実施例４】還流冷却器、温度計、滴下漏斗、攪拌羽根
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）35マイクロリ
ットルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例１
で合成したシラン40.00グラム (179.9ミリモル)を滴下
した。滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩ
Ｒにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によ
るシグナルがほとんど消失していたので反応終了とし
た。このようにして得られたトルエン溶液の重量は120.
01グラムであった。これをIRにより分析したところ、得
られた反応溶液は下記式で示される、参考例１で合成し
たシランが分子間でヒドロシリル化重合してなる反応生
成物のトルエン溶液であることが判明した。
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
100グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体
のトルエン溶液（白金金属濃度２重量％）35マイクロリ
ットルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例１
で合成したシラン40.00グラム (179.9ミリモル)を滴下
した。滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩ
Ｒにより分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によ
るシグナルがほとんど消失していたので反応終了とし
た。このようにして得られたトルエン溶液の重量は120.
01グラムであった。これをIRにより分析したところ、得
られた反応溶液は下記式で示される、参考例１で合成し
たシランが分子間でヒドロシリル化重合してなる反応生
成物のトルエン溶液であることが判明した。
【化３４】 次いで、還流冷却器を取り付けた100ミリリットルなす
型フラスコに、上記で得られた付加反応生成物のトルエ
ン溶液10.10グラムを投入し、さらに、水20グラム、テ
トラヒドロフラン10グラムおよびジエチルアミン1.0ミ
リリットルを加えて、これらを油浴温度108℃で8時間加
熱攪拌した。攪拌終了後、分液し、得られた有機層を水
洗して酢酸で中和した。さらに水洗して、硫酸ナトリウ
ムで乾燥後濾別し、反応溶液から低沸点物を室温下で減
圧留去したところ、2.46グラムの反応生成物が得られ
た。これをＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、得
られた反応生成物は、下記式で示されるフェノール基含
有シラノールであることが判明した。またこのシラノー
ルのＧＬＣによる純度は88％であった。
型フラスコに、上記で得られた付加反応生成物のトルエ
ン溶液10.10グラムを投入し、さらに、水20グラム、テ
トラヒドロフラン10グラムおよびジエチルアミン1.0ミ
リリットルを加えて、これらを油浴温度108℃で8時間加
熱攪拌した。攪拌終了後、分液し、得られた有機層を水
洗して酢酸で中和した。さらに水洗して、硫酸ナトリウ
ムで乾燥後濾別し、反応溶液から低沸点物を室温下で減
圧留去したところ、2.46グラムの反応生成物が得られ
た。これをＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、得
られた反応生成物は、下記式で示されるフェノール基含
有シラノールであることが判明した。またこのシラノー
ルのＧＬＣによる純度は88％であった。
【化３５】
【００２１】
【実施例５】還流冷却器、温度計、滴下漏斗、攪拌羽根
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
50グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチル
ジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体の
トルエン溶液（白金金属濃度２重量％）30マイクロリッ
トルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例２で
合成したシラン50.3グラム (262ミリモル)を滴下した。
滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩＲによ
り分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によるシグ
ナルがほとんど消失していたので反応終了とし、蒸留し
て６５℃／３ｍｍＨｇの留分44.8グラムを得た。これを
ＮＭＲおよびIRにより分析したところ、得られた反応溶
液は下記式で示される、参考例２で合成したシランが分
子内でヒドロシリル化反応してなる有機ケイ素化合物で
あることが判明した。
を取り付けた300ミリリットル4口フラスコに、トルエン
50グラムおよび塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチル
ジシロキサンより調製した白金ビニルシロキサン錯体の
トルエン溶液（白金金属濃度２重量％）30マイクロリッ
トルを仕込んだ。これを90℃まで加熱して、参考例２で
合成したシラン50.3グラム (262ミリモル)を滴下した。
滴下終了後100℃で5時間攪拌して、反応溶液をＩＲによ
り分析したところ、ケイ素原子結合水素原子によるシグ
ナルがほとんど消失していたので反応終了とし、蒸留し
て６５℃／３ｍｍＨｇの留分44.8グラムを得た。これを
ＮＭＲおよびIRにより分析したところ、得られた反応溶
液は下記式で示される、参考例２で合成したシランが分
子内でヒドロシリル化反応してなる有機ケイ素化合物で
あることが判明した。
【化３６】 次いで、還流冷却器を取り付けた50ミリリットルなす型
フラスコに、上記で得られた有機ケイ素化合物4.26グラ
ムを投入し、さらに、回転子、アリルアルコール11.15
グラムおよびジエチルアミン1.00グラムを加えて、これ
らを油浴温度112℃で7時間加熱攪拌した。攪拌終了後、
反応溶液を分液漏斗に入れ替えて、水およびヘキサンを
投入し、さらに酢酸を添加して中和した後、水洗した。
次いで硫酸ナトリウムで乾燥した後濾別して、反応溶液
から低沸点物を加熱減圧留去したところ、1.664グラム
の反応生成物が得られた。これをＮＭＲおよびＩＲによ
り分析したところ、下記式で示されるフェノール基含有
プロペノキシシランであることが判明した。またこのシ
ランのＧＬＣによる純度は67 ％であり、残りは上記で
得られた有機ケイ素化合物であった。
フラスコに、上記で得られた有機ケイ素化合物4.26グラ
ムを投入し、さらに、回転子、アリルアルコール11.15
グラムおよびジエチルアミン1.00グラムを加えて、これ
らを油浴温度112℃で7時間加熱攪拌した。攪拌終了後、
反応溶液を分液漏斗に入れ替えて、水およびヘキサンを
投入し、さらに酢酸を添加して中和した後、水洗した。
次いで硫酸ナトリウムで乾燥した後濾別して、反応溶液
から低沸点物を加熱減圧留去したところ、1.664グラム
の反応生成物が得られた。これをＮＭＲおよびＩＲによ
り分析したところ、下記式で示されるフェノール基含有
プロペノキシシランであることが判明した。またこのシ
ランのＧＬＣによる純度は67 ％であり、残りは上記で
得られた有機ケイ素化合物であった。
【化３７】
【００２２】
【応用例１】平均分子式：
【化３８】 で示される両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖ジメチ
ルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合
体31.59グラム（ケイ素原子結合水素原子含有量4.2ミリ
モル，ビニル基含有量1.9ミリモル）、ヘキサメチルジ
シラザンで処理したヒュームドシリカ［日本アエロジル
（株）製、商品名アエロジル２００ＢＸ］4.01グラム、
フェニルブチノール5.5ミリグラム、両末端シラノール
基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共
重合体と３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
との反応生成物0.121グラム（ビニル基含有量0.3ミリモ
ル）、実施例１で得られた、式：
ルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合
体31.59グラム（ケイ素原子結合水素原子含有量4.2ミリ
モル，ビニル基含有量1.9ミリモル）、ヘキサメチルジ
シラザンで処理したヒュームドシリカ［日本アエロジル
（株）製、商品名アエロジル２００ＢＸ］4.01グラム、
フェニルブチノール5.5ミリグラム、両末端シラノール
基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共
重合体と３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
との反応生成物0.121グラム（ビニル基含有量0.3ミリモ
ル）、実施例１で得られた、式：
【化３９】 で示されるフェノール基含有有機ケイ素化合物4.42グラ
ム（ビニル基含有量15.8ミリモル）、両末端トリメチル
シロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン1.
11グラム（ケイ素原子結合水素原子含有量17.5ミリモ
ル）および塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチルジシ
ロキサンの錯体を白金金属量が組成物全体に対して1.7p
pmとなるような量添加配合して、硬化性オルガノポリシ
ロキサン組成物を調製した。この組成物において、上記
フェノール基含有有機ケイ素化合物中の脂肪族不飽和結
合に対する両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイ
ドロジェンポリシロキサン中のケイ素原子結合水素原子
のモル数は1.2であった。得られた硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物を、シリコンチップ(10mm×10mm×1m
m)上に輪を描くようにして塗布し、これを180℃のオー
ブン中に30分間放置して硬化させた。次いでこの硬化物
を覆うように硬化性エポキシ樹脂組成物［東都化成(株)
製,商品名エポトートYDF8170：50部、旭化成工業(株)
製,商品名ノバキュアHX-3721:20部および大内新興化学
工業(株)製,商品名ノクラックNS5:30部からなる組成
物］を載せて、180℃のオーブン中に１時間放置して硬
化させた。得られた硬化物を超音波探傷器で観測したと
ころ、エポキシ樹脂とシリコ−ン硬化物とシリコンチッ
プのそれぞれの界面および三者が接触する界面では剥離
が認められず、シリコーン硬化物が強固に接着している
ことが判明した。
ム（ビニル基含有量15.8ミリモル）、両末端トリメチル
シロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン1.
11グラム（ケイ素原子結合水素原子含有量17.5ミリモ
ル）および塩化白金酸と1,3-ジビニルテトラメチルジシ
ロキサンの錯体を白金金属量が組成物全体に対して1.7p
pmとなるような量添加配合して、硬化性オルガノポリシ
ロキサン組成物を調製した。この組成物において、上記
フェノール基含有有機ケイ素化合物中の脂肪族不飽和結
合に対する両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイ
ドロジェンポリシロキサン中のケイ素原子結合水素原子
のモル数は1.2であった。得られた硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物を、シリコンチップ(10mm×10mm×1m
m)上に輪を描くようにして塗布し、これを180℃のオー
ブン中に30分間放置して硬化させた。次いでこの硬化物
を覆うように硬化性エポキシ樹脂組成物［東都化成(株)
製,商品名エポトートYDF8170：50部、旭化成工業(株)
製,商品名ノバキュアHX-3721:20部および大内新興化学
工業(株)製,商品名ノクラックNS5:30部からなる組成
物］を載せて、180℃のオーブン中に１時間放置して硬
化させた。得られた硬化物を超音波探傷器で観測したと
ころ、エポキシ樹脂とシリコ−ン硬化物とシリコンチッ
プのそれぞれの界面および三者が接触する界面では剥離
が認められず、シリコーン硬化物が強固に接着している
ことが判明した。
【００２３】
【応用比較例１】応用例１において、上式で示されるフ
ェノール基含有有機ケイ素化合物を添加しなかった以外
は応用例１と同様にして、硬化性オルガノポリシロキサ
ン組成物を調製した。得られた組成物を応用例１と同様
にして硬化させ、得られた硬化物にエポキシ樹脂を載せ
て応用例１と同様にして接着試験を行ったところ、エポ
キシ樹脂とシリコ−ン硬化物との界面で剥離が認められ
た。これより、シリコーン硬化物の被着性が不十分であ
ることが判明した。
ェノール基含有有機ケイ素化合物を添加しなかった以外
は応用例１と同様にして、硬化性オルガノポリシロキサ
ン組成物を調製した。得られた組成物を応用例１と同様
にして硬化させ、得られた硬化物にエポキシ樹脂を載せ
て応用例１と同様にして接着試験を行ったところ、エポ
キシ樹脂とシリコ−ン硬化物との界面で剥離が認められ
た。これより、シリコーン硬化物の被着性が不十分であ
ることが判明した。
【００２４】
【発明の効果】本発明のフェノール基含有有機ケイ素化
合物は、同一分子内に、フェノール基と、アルコキシシ
リル基，アルケニル基またはシラノール基とを含有し得
る新規な有機ケイ素化合物であり、このものは、硬化性
シリコーン組成物の硬化物に、フェノール樹脂やエポキ
シ樹脂などの有機樹脂、銅，アルミニウム，ステンレス
等の金属やガラスに対する優れた接着性を付与し得ると
いう利点を有する。また、本発明の製造方法は、このよ
うなフェノール基含有有機ケイ素化合物を生産性良く製
造できるという特徴を有する。
合物は、同一分子内に、フェノール基と、アルコキシシ
リル基，アルケニル基またはシラノール基とを含有し得
る新規な有機ケイ素化合物であり、このものは、硬化性
シリコーン組成物の硬化物に、フェノール樹脂やエポキ
シ樹脂などの有機樹脂、銅，アルミニウム，ステンレス
等の金属やガラスに対する優れた接着性を付与し得ると
いう利点を有する。また、本発明の製造方法は、このよ
うなフェノール基含有有機ケイ素化合物を生産性良く製
造できるという特徴を有する。
【図１】 図１は実施例１で合成したフェノール基含有
プロペノキシシランの核磁気共鳴分析チャートである。
プロペノキシシランの核磁気共鳴分析チャートである。
【図２】 図２は実施例１で合成したフェノール基含有
プロペノキシシランの赤外分光分析チャートである。
プロペノキシシランの赤外分光分析チャートである。
【図３】 図３は実施例２で合成したフェノール基含有
シランの核磁気共鳴分析チャートである。
シランの核磁気共鳴分析チャートである。
【図４】 図４は実施例２で合成したフェノール基含有
シランの赤外分光分析チャートである。
シランの赤外分光分析チャートである。
【図５】 図５は実施例３で合成したフェノール基含有
メトキシシランの核磁気共鳴分析チャートである。
メトキシシランの核磁気共鳴分析チャートである。
【図６】 図６は実施例３で合成したフェノール基含有
メトキシシランの赤外分光分析チャートである。
メトキシシランの赤外分光分析チャートである。
【図７】 図７は実施例４で合成したフェノール基含有
シラノールの核磁気共鳴分析チャートである。
シラノールの核磁気共鳴分析チャートである。
【図８】 図８は実施例４で合成したフェノール基含有
シラノールの赤外分光分析チャートである。
シラノールの赤外分光分析チャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H039 CA92 CD90 CE10 4H049 VN01 VP01 VQ03 VQ07 VQ17 VQ21 VR23 VR41 VS02 VS20 VT17 VT24 VT30 VU23 VW02 VW31 VW33
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、Yは式： 【化２】 （式中、R3はアルキル基であり、ｑは０または１〜４の
数である。）で示されるフェノール基であり、R1は炭素
原子数が２以上の同種もしくは異種の二価炭化水素基で
あり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基である。mおよびnは自然数である
が、m≧nであり、pは０または１である。]で示されるフ
ェノール基含有有機ケイ素化合物。 - 【請求項２】 Aがアルキル基，脂肪族不飽和結合含有
基または水素原子である請求項１記載のフェノール基含
有有機ケイ素化合物。 - 【請求項３】 Yが３-メトキシ-4-ヒドロキシフェニル
基または2-ヒドロキシフェニル基である請求項１記載の
フェノール基含有有機ケイ素化合物。 - 【請求項４】 （Ａ）一般式： 【化３】 [式中、R2は脂肪族不飽和結合含有一価炭化水素基であ
り、R3はアルキル基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含
まない同種もしくは異種の一価炭化水素基である。ｑは
０または１〜４の数であり、pは０または1である。]で
示される脂肪族不飽和結合とケイ素原子結合水素原子と
を含有する有機ケイ素化合物を、ヒドロシリル化反応用
触媒の存在下に分子内もしくは分子間で付加反応させた
後、 （Ｂ）一般式：A(OH)n [式中、Aはm価アルコールのn個の水酸基を除いた残基ま
たは水素原子であり、mおよびnは自然数であるが、m≧n
である。]で示されるアルコールまたは水を反応させる
ことを特徴とする、請求項１記載のフェノール基含有有
機ケイ素化合物の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP09057699A JP4408982B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
| US09/531,935 US6172252B1 (en) | 1999-03-31 | 2000-03-21 | Pheno-functional organosilicon compounds and method for the preparation |
| DE60014737T DE60014737T2 (de) | 1999-03-31 | 2000-03-29 | Phenolfunktionelle Organosilikonverbindungen und Verfahren zu deren Herstellung |
| EP00106058A EP1041076B1 (en) | 1999-03-31 | 2000-03-29 | Phenol-functional organosilicon compounds and method for the preparation thereof |
| KR1020000016102A KR100665486B1 (ko) | 1999-03-31 | 2000-03-29 | 페놀 관능성 유기규소 화합물 및 이의 제조방법 |
| TW089106090A TWI277618B (en) | 1999-03-31 | 2000-03-31 | Phenol-functional organosilicon compounds and method for the preparation thereof |
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|---|---|---|---|
| JP09057699A JP4408982B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000281686A true JP2000281686A (ja) | 2000-10-10 |
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ID=14002269
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09057699A Expired - Fee Related JP4408982B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
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| EP (1) | EP1041076B1 (ja) |
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| DE (1) | DE60014737T2 (ja) |
| TW (1) | TWI277618B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010500462A (ja) * | 2006-08-14 | 2010-01-07 | ダウ コ−ニング コ−ポレ−ション | シリコーン解離コーティング組成物 |
| CN111936582A (zh) * | 2018-08-17 | 2020-11-13 | 瓦克化学股份公司 | 可交联的有机硅氧烷组合物 |
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| EP3448350A1 (en) * | 2016-04-27 | 2019-03-06 | Dow Corning Corporation | Hydrophilic silanes |
| CN110997688A (zh) * | 2017-07-20 | 2020-04-10 | 美国陶氏有机硅公司 | 制备铂有机硅氧烷络合物的方法 |
| CN108841006B (zh) * | 2018-08-20 | 2020-09-29 | 贵阳学院 | 一种具有良好形变回复性能的生物基环氧树脂的制备方法 |
| CN110776640B (zh) * | 2019-10-30 | 2021-10-22 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种端酚基聚硅氧烷及其制备方法和一种聚硅氧烷-聚碳酸酯共聚物 |
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|---|---|---|---|---|
| DE1793228A1 (de) | 1967-08-23 | 1972-02-03 | Koslikow Wadim Lwowitsch | Verfahren zur Herstellung von 1,3-bis-hydroxyalkyl(aryl)-tetraorganodisiloxanen |
| GB1262266A (en) * | 1968-05-29 | 1972-02-02 | Midland Silicones Ltd | Organosilicon compounds |
| JPS6070729A (ja) * | 1983-09-27 | 1985-04-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体装置 |
| JPS6184022A (ja) | 1984-10-01 | 1986-04-28 | Nec Corp | 微細パタ−ン形成方法 |
| IT1215227B (it) * | 1984-11-13 | 1990-01-31 | Anic Spa | Procedimento per la preparazione di stabilizzanti per polimeri organici e stabilizzanti cosi'ottenuti. |
| JPS62275116A (ja) | 1986-05-22 | 1987-11-30 | Sony Corp | ケイ素原子を有するノボラツク樹脂 |
| JPH0689146B2 (ja) | 1988-12-20 | 1994-11-09 | 信越化学工業株式会社 | フェノール基含有シロキサン化合物 |
| JP2631739B2 (ja) | 1989-02-27 | 1997-07-16 | 信越化学工業株式会社 | フェノール基含有シロキサン化合物 |
| US5155250A (en) * | 1990-07-05 | 1992-10-13 | Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. | 2,6-di-alkyl-4-silyl-phenols as antiatheroscerotic agents |
| GB9214688D0 (en) | 1992-07-10 | 1992-08-19 | Bp Chem Int Ltd | Olfin hydration catalysts |
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| JP3756576B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2006-03-15 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | ヒドロキシフェニル基含有ポリオルガノシロキサン |
| US5998509A (en) * | 1996-11-29 | 1999-12-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resin composition and semiconductor device employing the same |
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-
1999
- 1999-03-31 JP JP09057699A patent/JP4408982B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-21 US US09/531,935 patent/US6172252B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 2000-03-29 EP EP00106058A patent/EP1041076B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-29 DE DE60014737T patent/DE60014737T2/de not_active Expired - Lifetime
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010500462A (ja) * | 2006-08-14 | 2010-01-07 | ダウ コ−ニング コ−ポレ−ション | シリコーン解離コーティング組成物 |
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