KR20000063048A - 페놀 관능성 유기 규소 화합물 및 이의 제조방법 - Google Patents
페놀 관능성 유기 규소 화합물 및 이의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20000063048A KR20000063048A KR1020000016102A KR20000016102A KR20000063048A KR 20000063048 A KR20000063048 A KR 20000063048A KR 1020000016102 A KR1020000016102 A KR 1020000016102A KR 20000016102 A KR20000016102 A KR 20000016102A KR 20000063048 A KR20000063048 A KR 20000063048A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- phenol
- functional organosilicon
- integer
- alcohol
- Prior art date
Links
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 62
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 19
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 13
- RRAFCDWBNXTKKO-UHFFFAOYSA-N eugenol Chemical compound COC1=CC(CC=C)=CC=C1O RRAFCDWBNXTKKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 2-allylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC=C QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- NPBVQXIMTZKSBA-UHFFFAOYSA-N Chavibetol Natural products COC1=CC=C(CC=C)C=C1O NPBVQXIMTZKSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005770 Eugenol Substances 0.000 claims description 4
- UVMRYBDEERADNV-UHFFFAOYSA-N Pseudoeugenol Natural products COC1=CC(C(C)=C)=CC=C1O UVMRYBDEERADNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960002217 eugenol Drugs 0.000 claims description 4
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical group 0.000 claims description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 68
- -1 siloxane chains Chemical group 0.000 description 29
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 24
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 18
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 10
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 10
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 10
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000005828 desilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJWAPAVRQYYSTK-UHFFFAOYSA-N [(dimethyl-$l^{3}-silanyl)amino]-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)N[Si](C)C GJWAPAVRQYYSTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy(dimethyl)silane Chemical class C[SiH](C)O[SiH](C)C NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- CYFGWAWQKXJFGI-UHFFFAOYSA-N prop-1-enoxysilane Chemical compound CC=CO[SiH3] CYFGWAWQKXJFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXRQXYSJYZPGJZ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OC=CC1=CC=CC=C1 FXRQXYSJYZPGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQSZOZMNAJHVML-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbut-1-yn-1-ol Chemical compound OC#CC(C)C1=CC=CC=C1 MQSZOZMNAJHVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAKCOSURAUIXFG-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxypropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)COCC=C PAKCOSURAUIXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical group CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014443 Pyrus communis Nutrition 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- FOLWCJNMVLHYKF-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy-dimethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(C)O[SiH](C)C FOLWCJNMVLHYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- RBCYCMNKVQPXDR-UHFFFAOYSA-N phenoxysilane Chemical group [SiH3]OC1=CC=CC=C1 RBCYCMNKVQPXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0836—Compounds with one or more Si-OH or Si-O-metal linkage
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/42—Platinum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
본 발명에 따라 화학식 1의 페놀 관능성 유기 규소 화합물이 제조된다.
화학식 1
위의 화학식 1에서,
A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고,
R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이며,
R1은 독립적으로 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,
m 및 n은 각각 1 내지 5의 정수(단, m은 n 이상이다)이며,
p는 0 또는 1의 정수이고,
Y는 화학식 2의 페놀 그룹이다.
화학식 2
위의 화학식 2에서,
R3은 알킬이고,
q는 0 내지 4의 정수이다.
또한, 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 제조방법도 기재되어 있다.
Description
본 발명은, 이후 페놀 관능성 유기 규소 화합물로 언급되는 페놀 그룹 함유 유기 규소 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
다수의 페놀 관능성 유기 규소 화합물과 이들의 합성 방법이 공지되어 있다. 예를 들면, 미국 특허 제3,622,609호에는, 2-알릴페놀 중의 하이드록실 그룹을 디메틸실릴화하고, 반응 생성물을 하이드로실릴화 중합시킨 다음, 수산화나트륨을 사용하여 개환시키고, 황산으로 처리하여 1,3-비스-γ-(o-하이드록시페닐)프로필-1,1,3,3-테트라메틸디실록산을 합성하는 방법이 교시되어 있다. 그러나, 이러한 방법으로는 페놀 그룹과 페놀 그룹 이외의 관능성 그룹을 둘 다 함유하는 화합물을 제공할 수 없다. 일본 공개특허공보 제(평)2-166123호(166,123/1990) 및 제(평)2-225524호(225,524/1990)에는, SiH 관능성 유기 실록산과 t-부톡시스티렌(t-부틸 그룹에 의해 보호된 페놀성 하이드록실)간의 부가 반응을 수행하고, 강산의 존재하에 탈t-부틸화를 수행하여 페놀 관능성 유기 실록산을 합성하는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 이러한 방법은 동일한 분자에 페놀 그룹과 알케닐을 함유하는 화합물을 제조할 수 없으며, 실록산 쇄가 강산에 의해 분열될 수도 있다는 단점이 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제(소)62-275116호(275,116/1987) 및 제(소)61-84022호(84,022/1986)에는 페놀 관능성 실란이 기재되어 있지만, 이들 화합물은 페놀 관능성 트리알킬실란에 대해 제한적이며 알콕시실릴 관능성 종류와 실라놀 관능성 종류를 포함하지 않는다. 또한, 이에 기재되어 있는 합성 방법은 매우 복잡하며 수율이 높지 않다.
본 발명자들은 알케닐 그룹과 페놀 그룹을 둘 다 함유하는 유기 실록산과 이의 합성 방법을 이미 기재하였다[참조: 일본 공개특허공보 제(평)10-294580(294,580/1998)]. 불행하게도, 이러한 방법의 수행에는 알케닐 그룹 함유 유기 규소 생성물이 정제 단계 동안 중합될 것이라는 위험이 따른다. 또한, 이러한 방법은 동일한 분자에 페놀 그룹과 알콕시실릴 그룹 또는 실라놀 그룹을 둘다 함유하는 화합물을 합성하는 데 사용할 수 없다.
특히, 본 발명의 목적은 동일한 분자에 페놀 그룹과 알콕시실릴, 알케닐 또는 실라놀 그룹을 둘 다 함유하는 신규한 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 신규한 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 화학식 1의 페놀 관능성 유기 규소 화합물에 관한 것이다.
위의 화학식 1에서,
A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고,
R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이며,
R1은 독립적으로 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,
m 및 n은 각각 1 내지 5의 정수(단, m은 n 이상이다)이며,
p는 0 또는 1의 정수이고,
Y는 화학식 2의 페놀 그룹이다.
위의 화학식 2에서,
R3은 알킬이고,
q는 0 내지 4의 정수이다.
또한, 본 발명은 화학식 3의 지방족 불포화 SiH 관능성 유기 규소 화합물을 하이드로실릴화 촉매의 존재하에 반응시켜 부가 반응 생성물을 형성하는 단계(A)와 부가 반응 생성물을 화학식 A(OH)n의 알콜(여기서, A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고, m 및 n은 1 내지 5의 정수이며, m은 n 이상이다) 또는 물과 반응시켜 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제조하는 단계(B)를 포함하는, 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
위의 화학식 3에서,
R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이고,
R2는 지방족 불포화 1가 탄화수소 그룹이며,
R3은 알킬이고,
p는 0 또는 1의 정수이며,
q는 0 내지 4의 정수이다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 동일한 분자에 페놀 그룹과 알콕시실릴, 알케닐 또는 실라놀 그룹을 둘 다 함유한다. 그 결과, 이들 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 함유하는 경화성 실리콘 조성물은 유리, 유기 수지(예: 페놀성 수지 및 에폭시 수지) 및 금속(예: 구리, 알루미늄 및 스테인레스 스틸)에 대한 접착력이 우수하다. 본 발명의 방법은 신규한 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제조하기 위한 매우 생산적인 방법이다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 경화성 실리콘 조성물에서 접착 촉진제로서 사용할 수 있다. 특히, 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 접착 촉진제 및 반응 경화 실리콘 조성물로서 사용하기에 매우 적합하다. 또한, 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 광학 매칭 오일과 중합 정지제로서 사용할 수 있다.
본 발명에 따르는 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 화학식 1이다.
화학식 1
위의 화학식 1에서,
A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고,
R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이며,
R1은 독립적으로 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,
m 및 n은 각각 1 내지 5의 정수(단, m은 n 이상이다)이며,
p는 0 또는 1의 정수이고,
Y는 화학식 2의 페놀 그룹이다.
화학식 2
위의 화학식 2에서,
R3은 알킬이고,
q는 0 내지 4의 정수이다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 화학식에서, 아래첨자 m 및 n은 전형적으로 1 내지 5이며, m은 n 이상이어야 한다.
A로 나타낸 알콜 유도된 잔사의 예로 다음의 1가, 2가 및 3가 그룹인 치환되지 않은 하이드로카빌, 알킬옥시알킬렌, 알케닐옥시알킬렌, 페닐옥시알킬렌, 하이드록시 관능성 하이드로카빌, 하이드록시 관능성 알킬옥시알킬렌 및 하이드록시 관능성 알케닐옥시알킬렌을 포함하지만, 이로 제한되지는 않는다. 다음은 1가 알콜로부터 하이드록시 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사의 예이다: 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 헥실, 알릴, 부테닐, 헥세닐 및 프로필렌 옥사이드. 2가 알콜로부터 한 개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사의 예는 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필, 2-하이드록시부틸, 3-하이드록시부틸 및 3-알릴옥시-2-하이드록시프로필이다. 2가 알콜로부터 두 개의 하이드록시 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사의 예는 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 헥실렌 및 에틸렌옥시프로필렌이다. 3가 알콜로부터 한 개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사의 예는 디하이드록시프로필, 디하이드록시부틸 및 디하이드록시헥실이다. 3가 알콜로부터 두 개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사의 예는 하이드록시프로필렌, 하이드록시부틸렌 및 하이드록시에틸렌이다.
그룹 A의 바람직한 양태는 다음과 같다: 수소원자; 알킬(예: 메틸 및 에틸) 및 지방족 불포화 그룹(예: 1가 알콜로부터 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사 중의 알킬, 부테닐 및 헥세닐); 및 하이드록실 관능성 알케닐옥시알킬렌 그룹(예: 2가 알콜로부터 한 개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔사 중의 3-알릴옥시-2-하이드록시프로필). 지방족 불포화 그룹은 이들의 접착 촉진 성능의 관점에서 특히 바람직하다.
R로 나타낸 1가 탄화수소 그룹의 예로 알킬(예: 메틸, 에틸, 부틸, 펜틸 및 헥실); 아릴(예: 페닐, 톨릴 및 크실릴); 및 아르알킬(예: 벤질 및 펜에틸)을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다. R1로 나타낸 2가 탄화수소 그룹의 예로 알킬렌 그룹(예: 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌 및 헥실렌) 및 아릴렌 그룹(예: 페닐렌)을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다.
Y로 나타낸 페놀 그룹에서, 하이드록실과 알콕시의 결합 위치는 중요하지 않다. 페놀 그룹의 예로 2-하이드록시페닐, 4-하이드록시페닐, 4-하이드록시-3-메톡시페닐 및 3,5-디메톡시-4-하이드록시페닐을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다. Y는 유용성을 기준으로 하여, 2-하이드록시페닐 또는 4-하이드록시-3-메톡시페닐이 바람직하다. 아래첨자 q는 전형적으로 0 또는 1이다.
페놀 그룹의 화학식에서 R3으로 나타낸 알킬 그룹의 예로 메틸, 에틸, 프로필 및 부틸을 포함하고, 메틸이 특히 바람직하지만 이에 제한되지는 않는다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 예로 다음의 실란들을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다:
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은, 예를 들면, 하이드로실릴화 촉매의 존재하에 지방족 불포화 SiH 관능성 유기 규소 화합물의 분자내 또는 분자간 부가 반응으로 합성할 수 있다. 특히, 본 발명에 따르는 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 제조방법은 화학식 3의 지방족 불포화 SiH 관능성 유기 규소 화합물을 하이드로실릴화 촉매의 존재하에 반응시켜 부가 반응 생성물을 형성하는 단계(A)와 부가 반응 생성물을 화학식 A(OH)n의알콜(여기서, A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고, m 및 n은 각각 1 내지 5의 정수이며, m은 n 이상이다) 또는 물과 반응시켜 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제조하는 단계(B)를 포함하는, 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
화학식 3
위의 화학식 3에서,
R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이고,
R2는 지방족 불포화 1가 탄화수소 그룹이며,
R3은 알킬이고,
p는 0 또는 1의 정수이며,
q는 0 내지 4의 정수이다.
화학식 3에서 R2로 나타낸 지방족 불포화 1가 탄화수소 그룹의 예로 비닐, 알릴, 부테닐 및 헥세닐을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다. 알릴은 비용과 유용성 면에서 바람직하다. 바람직한 SiH 관능성 유기 규소 화합물은 2-알릴페놀의 디메틸실릴 에테르와 유게놀의 디메틸실릴 에테르이다. A, R. R3, m, n, p 및 q는 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물에 대해 위에서 정의한 바와 같고, 예시되어 있다.
본 발명의 하이드로실릴화 촉매는, 예를 들면, 주기율표의 8족 전이 금속의 촉매 착물일 수 있다. 백금계 촉매는 이러한 촉매 그룹내에서 특히 효과적이고, 특정 예로는 백금 화합물(예: 클로로플라틴산과 이의 알콜 용액, 백금의 올레핀 착물 및 백금/비닐 관능성 실록산 착물)이 있다. 이들 촉매를 충분량 사용하여 각각 SiH 관능성 유기 규소 화합물 및 합한 알콜 또는 물의 100중량부당 백금 금속을 각각 0.001 내지 10,000중량부, 보다 바람직하게는 0.1 내지 100중량부 수득한다.
본 발명의 방법에 사용하기에 적합한 알콜의 예로 알릴 알콜, 글리세롤 α-모노알릴 에테르, 메탄올, 에탄올, 프로판올 및 에틸렌 글리콜을 포함하지만, 이에 제한되지는 않는다. 본 발명의 단계(B)에서 사용한 알콜 또는 물은 SiH 관능성 유기 규소 화합물 속의 실릴 페닐 에테르 그룹의 당량당 알콜 또는 물 속의 OH 당량수의 비가 1.0 이상, 바람직하게는 1.0 내지 50, 보다 바람직하게는 1.5 내지 10으로 되는 양이면 충분하다.
SiH 관능성 유기 규소 화합물의 분자내와 분자간 부가 반응이 발열이기 때문에, 갑작스런 가열을 방지하기 위해 본 발명의 방법은 우선 하이드로실릴화 촉매를 용매와 함께 혼합하여 혼합물을 형성한 다음, SiH 관능성 유기 규소 화합물을 당해 혼합물에 점차적으로 적가하여 수행하는 것이 바람직하다. 이러한 목적에 유용한 용매의 예는 방향족 용매(예: 벤젠, 톨루엔 및 크실렌); 지방족 용매(예: 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄 및 데칸); 에테르(예: 테트라하이드로푸란, 디에틸 에테르 및 디부틸 에테르); 케톤(예: 아세톤 및 메틸 에틸 케톤); 에스테르(예: 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트); 및 염소화 탄화수소(예: 사염화탄소, 트리클로로에탄, 메틸렌 디클로라이드 및 클로로포름)이다. 반응은 실온에서 수행할 수 있지만, 일반적으로 반응 속도의 관점에서 50 내지 200℃에서 반응이 실시하는 것이 바람직하다. 반응 기간 동안, 반응 혼합물을, 예를 들면, 기체 크로마토그래피(GLC) 또는 적외선 분광분석법(IR)으로 분석할 수 있고, 예를 들면, SiH 관능성 유기 규소 화합물에서 규소 결합 수소의 흡착 특성이 다소 완전히 사라지는 경우, 반응이 완결된 것으로 간주할 수 있다. 그 후, 물 또는 알콜을 탈실릴화 반응에서 생성된 부가 반응 생성물에 첨가한다. 탈실릴화 반응은 당해 분야에서 공지된 방법을 사용하여 수행할 수 있지만, 염기성 촉매(예: 아민 등)의 존재하의 가열에 의한 알콜 교환은 부반응이 발생하지 않으면서 고수율로 바람직한 유기 규소 화합물을 제조할 것이다[참조: 일본 공개특허공보 제(평)10-259258호(259,258/1998)]. 탈실릴화 반응의 완결 후, 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 저비점 물질(예: 미반응 물 또는 알콜 및, 예를 들면, 감압하에 가열하여 증류시킨 용매)을 제거하여 회수할 수 있다. 생성된 유기 규소 화합물을 증류시켜 정제하는 것이 바람직하다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물 속에 존재하는 페놀 그룹은 다양한 관능성 그룹과 쉽게 반응한다. 그 결과, 본 발명의 유기 규소 화합물을 경화성 실리콘 조성물 속으로 블렝딩시키고, 당해 조성물을 기판에 적용하여, 경화시키는 경우, 경화된 실리콘은 기판에 강하게 접착된다. 이를 다양한 기판, 예를 들면, 유기 수지(예: 페놀성 수지, 에폭시 수지, 폴리부틸렌 테레프탈레이트 수지 및 폴리카보네이트 수지), 금속(예: 구리, 알루미늄 및 스테인레스 스틸), 유리 등에 적용한다. 또한, 경화된 실리콘은 열경화 수지(예: 페놀성 수지 및 에폭시 수지)에 강하게 접착한다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 동일한 분자에 페놀 그룹과 알콕시실릴, 알케닐 또는 실라놀 그룹을 둘 다 함유한다. 그 결과, 이들 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 함유하는 경화성 실리콘 조성물은 유리, 유기 수지(예: 페놀성 수지 및 에폭시 수지) 및 금속(예: 구리, 알루미늄 및 스테인레스 스틸)에 강하게 접착한다. 본 발명의 방법은 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제조하기 위한 매우 생산적인 방법이다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 경화성 실리콘 조성물에서 접착 촉진제로서 사용할 수 있다. 특히, 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 부가 반응 경화 실리콘 조성물에 접착 촉진제로서 사용하기에 매우 적합하다. 또한, 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 광학 매칭 오일과 중합 정지제로서 사용할 수 있다.
실시예
다음 실시예는 청구항에 기재한 본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물 및 이의 제조방법을 추가로 설명한다.
참조실시예 1
1,1,3,3-테트라메틸디실라잔 10.0g(75.0mmol)과 유게놀 16.4g(99.9mol)을 온도계, 콘덴서 및 적가 깔대기를 갖춘 100mL들이 3구 플라스크에 도입한다. 유게놀의 GLC 시그날이 사라지는 지점인 80℃에서 내용물을 1시간 동안 교반한다. 그 후, 아스퍼레이터를 사용하여 저비점 물질을 반응 혼합물로부터 증류시켜 무색의 투명한 액체를 19.9g 수득한다. 이러한 액체를 핵자기 공명 분석법(NMR)과 IR로 분석하여 화학식의 알릴 및 SiH 관능성 실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 98%이다.
참조실시예 2
1,1,3,3-테트라메틸디실라잔 10.0g(75.0mmol)과 2-알릴페놀 8.4g(62.6mol)을 온도계, 콘덴서 및 적가 깔대기를 갖춘 100mL들이 3구 플라스크에 도입한다. 2-알릴페놀의 GLC 시그날이 사라지는 지점인 80℃에서 내용물을 1시간 동안 교반한다. 그 후, 아스퍼레이터를 사용하여 저비점 물질을 반응 혼합물로부터 증류시켜 무색의 투명한 액체를 11.8g 수득한다. 이러한 액체를 NMR과 IR로 분석하여 화학식의 알릴 및 SiH 관능성 실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 98%이다.
실시예 1
톨루엔 100g 및 클로로플라틴산과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산으로부터 제조한 백금/비닐실록산 착물의 톨루엔 용액(백금 금속 함량 = 2중량%) 50μL를 환류 콘덴서, 온도계 및 적가 깔대기를 갖춘 300mL들이 4구 플라스크에 도입한다. 내용물을 90℃로 가열한 후, 참조실시예 1에서 기재한 바와 같이 합성된 실란 113.80g(0.4774mol)을 적가한다. 실란 첨가를 완결한 후, 반응 용액을 100℃에서 3시간 동안 추가로 교반하는데, IR로 분석하면 SiH 시그널이 거의 완전히 사라졌었음을 나타내기 때문에, 반응이 완결된 것으로 간주한다. 그 후, 반응 용액을 환류 콘덴서, 온도계 및 교반 패들을 갖춘 500mL들이 4구 플라스크로 옮긴 다음, 알릴 알콜 101g, 테트라하이드로푸란 40g 및 디에틸아민 20mL를 첨가하고, 90℃에서 14시간 동안 교반한다. 교반을 완결한 후, 저비점 물질을 감압하에 가열하여 반응 혼합물로부터 증류시켜, 반응 생성물을 116.50g 수득한다. 이러한 액체를 NMR과 IR로 분석하여 화학식의 페놀 관능성 프로페녹시실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 93.4%이다.
실시예 2
톨루엔 100g 및 클로로플라틴산과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산으로부터 제조한 백금/비닐실록산 착물의 톨루엔 용액(백금 금속 함량 = 2중량%) 35μL를 환류 콘덴서, 온도계 및 적가 깔대기를 갖춘 300mL들이 4구 플라스크에 도입한다. 내용물을 90℃로 가열한 후, 참조실시예 1에서 기재한 바와 같이 합성된 실란 40.00g(179.9mmol)을 적가한다. 실란 첨가를 완결한 후, 반응 용액을 100℃에서 5시간 동안 추가로 교반하는데, IR로 분석하면 SiH 시그널이 거의 완전히 사라졌었음을 나타내기 때문에, 반응이 완결된 것으로 간주한다. 이러한 시점에서 톨루엔 용액의 중량은 120.01g이다. 이러한 톨루엔 용액을 IR로 분석하면 참조실시예 1에서 실란의 분자간 하이드로실릴화 중합에 의해 형성된 화학식의 반응 생성물의 톨루엔 용액임을 나타낸다.
그 후, 이러한 부가 반응 생성물의 톨루엔 용액 13.04g을 환류 콘덴서와 온도계를 갖춘 100mL들이 3구 플라스크로 옮긴 다음, 글리세롤 α-모노알킬 에테르 10.00g, 테트라하이드로푸란 10g 및 디에틸아민 2.0mL를 이에 첨가하고, 80 내지 90℃에서 9시간 동안 교반한다. 교반을 완결한 후, 저비점 물질을 감압하에 가열하여 증류시켜, 반응 생성물을 4.587g 수득한다. 이러한 반응 생성물을 NMR과 IR로 분석하여 화학식의 페놀 관능성 실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 80%이다. 나머지 20%는 출발 글리세롤 α-모노알킬 에테르이다.
실시예 3
톨루엔 100g 및 클로로플라틴산과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산으로부터 제조한 백금/비닐실록산 착물의 톨루엔 용액(백금 금속 함량 = 2중량%) 35μL를 환류 콘덴서, 온도계 및 적가 깔대기를 갖춘 300mL들이 4구 플라스크에 도입한다. 내용물을 90℃로 가열한 후, 참조실시예 1에서 기재한 바와 같이 합성된 실란을 40.00g(179.9mmol) 적가한다. 실란 첨가를 완결한 후, 반응 용액을 100℃에서 5시간 동안 추가로 교반하는데, IR로 분석하면 SiH 시그널이 거의 완전히 사라졌었음을 나타내기 때문에, 반응이 완결된 것으로 간주한다. 이러한 시점에서 톨루엔 용액의 중량은 120.01g이다. 이러한 톨루엔 용액을 IR로 분석하면 참조실시예 1에서 실란의 분자간 하이드로실릴화 중합에 의해 형성된 화학식의 반응 생성물의 톨루엔 용액임을 나타낸다.
그 후, 이러한 부가 반응 생성물의 톨루엔 용액 10.11g을 환류 콘덴서를 갖춘 50mL들이 배(pear) 모양의 플라스크로 옮긴 다음, 메탄올 10.12g, 테트라하이드로푸란 5.00g 및 디에틸아민 1.0mL를 이에 첨가하고, 108℃의 오일 욕 온도에서 가열하면서 8시간 동안 교반한다. 교반을 완결한 후, 저비점 물질을 감압하에 가열하여 반응 혼합물로부터 증류시켜, 반응 생성물을 2.9471g 수득한다. 이러한 반응 생성물을 NMR과 IR로 분석하여 화학식의 페놀 관능성 메톡시실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 94.9%이다.
실시예 4
톨루엔 100g 및 클로로플라틴산과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산으로부터 제조한 백금/비닐실록산 착물의 톨루엔 용액(백금 금속 함량 = 2중량%) 35μL를 환류 콘덴서, 온도계 및 추가 깔대기를 갖춘 300mL들이 4구 플라스크에 도입한다. 내용물을 90℃로 가열한 후, 참조실시예 1에서 기재한 바와 같이 합성된 실란 40.00g(179.9mmol)을 적가한다. 실란 첨가를 완결한 후, 반응 용액을 100℃에서 5시간 동안 추가로 교반하는데, IR로 분석하면 SiH 시그널이 거의 완전히 사라졌었음을 나타내기 때문에, 반응이 완결된 것으로 간주한다. 이러한 시점에서 톨루엔 용액의 중량은 120.01g이다. 이러한 톨루엔 용액을 IR로 분석하면 참조실시예 1에서 실란의 분자간 하이드로실릴화 중합에 의해 형성된 화학식의 반응 생성물의 톨루엔 용액임을 나타낸다.
그 후, 이러한 부가 반응 생성물의 톨루엔 용액 10.10g을 환류 콘덴서를 갖춘 100mL들이 배 모양의 플라스크로 옮긴 다음, 물 20g, 테트라하이드로푸란 10g 및 디에틸아민 1.0mL를 이에 첨가하고, 108℃의 오일 욕 온도에서 가열하면서 8시간 동안 교반한다. 교반을 완결한 후, 층을 분리하고, 회수된 유기 층을 물로 세척한 다음, 아세트산으로 중화시키고, 물로 다시 세척한 다음, 황산나트륨으로 건조시킨다. 건조제를 분리하기 위해 여과한 후, 저비점 물질을 감압하에 실온에서 반응 혼합물로부터 증류시켜, 반응 생성물을 2.46g 수득한다. 이러한 반응 생성물을 NMR과 IR로 분석하여 화학식의 페놀 관능성 실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 88%이다.
실시예 5
톨루엔 50g 및 클로로플라틴산과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산으로부터 제조한 백금/비닐실록산 착물의 톨루엔 용액(백금 금속 함량 = 2중량%) 30μL를 환류 콘덴서, 온도계 및 추가 깔대기를 갖춘 300mL들이 4구 플라스크에 도입한다. 내용물을 90℃로 가열한 후, 참조실시예 2에서 기재한 바와 같이 합성된 실란 50.3g(262mmol)을 적가한다. 실란 첨가를 완결한 후, 반응 용액을 100℃에서 5시간 동안 추가로 교반하는데, IR로 분석하면 SiH 시그널이 거의 완전히 사라졌었음을 나타내기 때문에, 반응이 완결된 것으로 간주한다. 65℃/3mmHg에서 증류한 분획을 44.8g 수득한다. 이러한 분획을 NMR과 IR로 분석하면 참조실시예 2에서 실란의 분자내 하이드로실릴화 중합에 의해 형성된 화학식의 반응 생성물인 유기 규소 화합물임을 나타낸다.
이러한 유기 규소 화합물 4.26g을 환류 콘덴서를 갖춘 50mL들이 배 모양의 플라스크로 옮긴다. 교반 막대기, 알릴 알콜 11.15g, 디에틸아민 1.00g을 첨가한 다음, 112℃의 오일 욕 온도에서 7시간 동안 가열하면서 교반한다. 교반을 완결한 후, 반응 용액을 분리 깔대기로 옮긴다. 물과 헥산을 첨가하고, 아세트산을 첨가하여 중화시킨 다음, 물로 세척한다. 이를 황산나트륨으로 건조시키고, 여과하여 건조제를 제거한다. 감압하에 가열시킨 반응 혼합물로부터 저비점 물질을 증류시켜, 반응 생성물을 1.664g 수득한다. 이러한 반응 생성물을 NMR과 IR로 분석하여 화학식의 페놀 관능성 프로펜옥시실란임을 확인한다. GLC에 의한 이러한 실란의 순도는 67%이다. 잔사는 위에서 기재한 바와 같은 출발 유기 규소 화합물이다.
실시예 6
경화성 유기폴리실록산 조성물은 다음을 혼합하여 제조한다:
화학식의 비닐디메틸실록시 말단 차단된 디메틸실록산 메틸하이드로겐실록산 공중합체 31.59g(규소 결합된 수소 함량 = 4.2mmol, 비닐 함량 = 1.9mmol), 헥사메틸디실라잔 처리된 훈증 실리카[에어로실(Aerosil) 200BX, 닛뽄 에어로실(Nippon Aerosil)에서 제조] 4.01g, 페닐부티놀 5.5mg, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란과 실라놀 말단 차단된 디메틸실록산-메틸비닐실록산 공중합체와의 반응 생성물 0.121g(비닐 함량 = 0.3mmol), 화학식의 실시예 1에서의 페놀 관능성 유기 규소 화합물 4.42g(비닐 함량 = 15.8mmol), 트리메틸실록시 말단 차단된 메틸하이드로겐폴리실록산(규소 결합된 수소 함량 = 17.5mmol) 1.11g 및 대개 당해 조성물에 대해 백금 금속을 1.7ppm 제공하기에 충분량의 클로로플라틴산/1,3-디비닐테트라메틸디실록산 착물. 페놀 관능성 유기 규소 화합물에서의 지방족 불포화 결합에 대한 트리메틸실록시 말단 차단된 메틸하이드로겐폴리실록산에서의 Si 결합된 수소의 이러한 조성물에서의 몰비는 1.2이다. 생성된 경화성 유기폴리실록산 조성물을 규소 칩(10mm×10mm×1mm)으로 피복하여 디스크를 형성하고, 180℃의 오븐에서 30분 동안 방치한다. 그 후, 경화성 에폭시 수지 조성물을 적용하여 경화된 실리콘을 피복시키고, 이를 180℃의 오븐에서 1시간 동안 방치하여 경화시킨다. 이러한 경화성 에폭시 수지 조성물은 에포토테(Epotote) YDF8170[도토 가세이 가카부시키가이샤(Toto Kasei Kabushiki Kaisha)에서 제조] 50부, 노바큐어(Novacure) HX-3721[아사히 가세이 고교 가부시키가이샤(Asahi Kasei Kogyo kabushiki Kaisha)에서 제조] 20부, 노클락(Noclac) NS5[오우치 신코 가가쿠 고교 가부시키가이샤(Ouchi Shinko Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)] 30부로 이루어진다. 생성된 경화된 생성물을 초음파 유동 검출기로 조사하는 경우, 박리는 에폭시 수지, 경화된 실리콘 및 규소 칩에 의해 형성된 각각의 접촉면과 세 개의 물질이 접촉한 접촉면에서 관찰되지 않으며, 따라서, 경화된 실리콘은 단단하게 결합되어 있음을 확인한다.
비교실시예 1
경화성 유기 규소 조성물은 실시예 1에서와 같이 반복하지만, 이러한 경우, 페놀 관능성 유기 규소를 뺀다. 실시예 1의 방법에 따라, 이러한 조성물을 경화시키고, 에폭시 수지를 생성된 경황된 생성물에 넣은 다음, 접착 시험을 수행한다. 그러나, 이러한 경우, 에폭시 수지에 대한 경화된 실리콘의 불만족스러운 접착을 나타내는 박리가 에폭시 수지/경화된 실리콘 접촉면에서 관찰된다.
본 발명의 페놀 관능성 유기 규소 화합물은 경화성 실리콘 조성물에서 접착 촉진제로서, 부가반응 경화 실리콘 조성물에서 접착 촉진제로서 적합하고, 광학 매칭 오일 및 중합 정지제로서도 사용할 수 있다.
Claims (9)
- 화학식 3의 지방족 불포화 SiH 관능성 유기 규소 화합물을 하이드로실릴화 촉매의 존재하에 반응시켜 부가 반응 생성물을 형성하는 단계(A)와부가 반응 생성물을 화학식 A(OH)n의 알콜(여기서, A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고, m 및 n은 각각 1 내지 5의 정수이며, m은 n 이상이다) 또는 물과 반응시켜 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 제조하는 단계(B)를 포함하는, 페놀 관능성 유기 규소 화합물의 제조방법.화학식 3위의 화학식 3에서,R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이고,R2는 지방족 불포화 1가 탄화수소 그룹이며,R3은 알킬이고,p는 0 또는 1의 정수이며,q는 0 내지 4의 정수이다.
- 제1항에 있어서, 알콜의 화학식에서 A가 수소, 알킬, 지방족 불포화 그룹 또는 하이드록실 관능성 알케닐옥시알킬렌 그룹인 방법.
- 제1항에 있어서, SiH 관능성 유기 규소 화합물이 알릴 페놀의 디메틸실릴 에테르 또는 유게놀의 디메틸실릴 에테르인 방법.
- 제1항에 있어서, 하이드로실릴화 촉매가 백금 화합물인 방법.
- 제1항에 있어서, SiH 관능성 유기 규소 화합물 속의 실릴 에테르 그룹의 당량수에 대한 알콜 또는 물 속의 하이드록실 그룹의 당량수의 비가 1.0 내지 50.0으로 되는 양으로 알콜 또는 물이 사용되는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계(A)가 하이드로실릴화 촉매를 용매와 혼합하여 혼합물을 형성하고, 이어서 SiH 관능성 유기 규소 화합물을 혼합물에 서서히 적가함으로써 수행되는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계(A)가 50 내지 200℃의 온도에서 수행되는 방법.
- 제1항에 있어서, 페놀 관능성 유기 규소 화합물을 증류하여 정제하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항의 방법에 따라 제조한 화학식 1의 페놀 관능성 유기 규소 화합물.화학식 1위의 화학식 1에서,A는 수소, 또는 m가 알콜로부터 n개의 하이드록실 그룹을 제거함으로써 제공된 잔기이고,R은 각각 독립적으로 지방족 불포화가 없는 1가 탄화수소 그룹이며,R1은 독립적으로 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,m 및 n은 각각 1 내지 5의 정수(단, m은 n 이상이다)이며,p는 0 또는 1의 정수이고,Y는 화학식 2의 페놀 그룹이다.화학식 2위의 화학식 2에서,R3은 알킬이고,q는 0 내지 4의 정수이다.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP99-090576 | 1999-03-31 | ||
JP09057699A JP4408982B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000063048A true KR20000063048A (ko) | 2000-10-25 |
KR100665486B1 KR100665486B1 (ko) | 2007-01-10 |
Family
ID=14002269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020000016102A KR100665486B1 (ko) | 1999-03-31 | 2000-03-29 | 페놀 관능성 유기규소 화합물 및 이의 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6172252B1 (ko) |
EP (1) | EP1041076B1 (ko) |
JP (1) | JP4408982B2 (ko) |
KR (1) | KR100665486B1 (ko) |
DE (1) | DE60014737T2 (ko) |
TW (1) | TWI277618B (ko) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0616021D0 (en) * | 2006-08-14 | 2006-09-20 | Dow Corning | Silicone release coating compositions |
JP2017520663A (ja) | 2014-07-03 | 2017-07-27 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | エステル官能性ポリシロキサンおよびそれから作られるコポリマー |
CN109069368A (zh) * | 2016-04-27 | 2018-12-21 | 美国陶氏有机硅公司 | 亲水性硅烷 |
KR102626451B1 (ko) * | 2017-07-20 | 2024-01-19 | 다우 실리콘즈 코포레이션 | 백금 유기실록산 착물의 제조 방법 |
US20210238366A1 (en) * | 2018-08-17 | 2021-08-05 | Wacker Chemie Ag | Crosslinkable organosiloxane compositions |
CN108841006B (zh) * | 2018-08-20 | 2020-09-29 | 贵阳学院 | 一种具有良好形变回复性能的生物基环氧树脂的制备方法 |
CN110776640B (zh) * | 2019-10-30 | 2021-10-22 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种端酚基聚硅氧烷及其制备方法和一种聚硅氧烷-聚碳酸酯共聚物 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1793228A1 (de) | 1967-08-23 | 1972-02-03 | Koslikow Wadim Lwowitsch | Verfahren zur Herstellung von 1,3-bis-hydroxyalkyl(aryl)-tetraorganodisiloxanen |
GB1262266A (en) * | 1968-05-29 | 1972-02-02 | Midland Silicones Ltd | Organosilicon compounds |
JPS6070729A (ja) * | 1983-09-27 | 1985-04-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体装置 |
JPS6184022A (ja) | 1984-10-01 | 1986-04-28 | Nec Corp | 微細パタ−ン形成方法 |
IT1215227B (it) * | 1984-11-13 | 1990-01-31 | Anic Spa | Procedimento per la preparazione di stabilizzanti per polimeri organici e stabilizzanti cosi'ottenuti. |
JPS62275116A (ja) | 1986-05-22 | 1987-11-30 | Sony Corp | ケイ素原子を有するノボラツク樹脂 |
JPH0689146B2 (ja) | 1988-12-20 | 1994-11-09 | 信越化学工業株式会社 | フェノール基含有シロキサン化合物 |
JP2631739B2 (ja) | 1989-02-27 | 1997-07-16 | 信越化学工業株式会社 | フェノール基含有シロキサン化合物 |
US5155250A (en) * | 1990-07-05 | 1992-10-13 | Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. | 2,6-di-alkyl-4-silyl-phenols as antiatheroscerotic agents |
GB9214688D0 (en) | 1992-07-10 | 1992-08-19 | Bp Chem Int Ltd | Olfin hydration catalysts |
NZ303624A (en) * | 1995-03-08 | 1999-01-28 | Du Pont | Reactive organosilicons as coatings, adhesives, and sealants |
JP3756576B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2006-03-15 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | ヒドロキシフェニル基含有ポリオルガノシロキサン |
US5998509A (en) * | 1996-11-29 | 1999-12-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resin composition and semiconductor device employing the same |
JP3602681B2 (ja) | 1997-03-19 | 2004-12-15 | 株式会社クラレ | 熱収縮フィルム |
JPH10294580A (ja) | 1997-04-18 | 1998-11-04 | Advantest Corp | 発熱体の伝熱部品 |
-
1999
- 1999-03-31 JP JP09057699A patent/JP4408982B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-21 US US09/531,935 patent/US6172252B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-29 DE DE60014737T patent/DE60014737T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-29 KR KR1020000016102A patent/KR100665486B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-03-29 EP EP00106058A patent/EP1041076B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-31 TW TW089106090A patent/TWI277618B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6172252B1 (en) | 2001-01-09 |
JP4408982B2 (ja) | 2010-02-03 |
EP1041076A3 (en) | 2002-04-10 |
KR100665486B1 (ko) | 2007-01-10 |
JP2000281686A (ja) | 2000-10-10 |
TWI277618B (en) | 2007-04-01 |
EP1041076B1 (en) | 2004-10-13 |
DE60014737D1 (de) | 2004-11-18 |
EP1041076A2 (en) | 2000-10-04 |
DE60014737T2 (de) | 2006-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0541988B1 (en) | Organopolysiloxane and method for the preparation thereof | |
US6911518B2 (en) | Polyhedral oligomeric -silsesquioxanes, -silicates and -siloxanes bearing ring-strained olefinic functionalities | |
EP0543384B1 (en) | Epoxy-containing organopolysiloxane and method for the preparation thereof | |
EP2287231A2 (en) | Ulltraviolet transmissive polyhedral silesquioxane polymers | |
EP0733637A1 (en) | Epoxy functional siloxanes | |
EP0530496B1 (en) | Organosilicon compounds and method for preparing same | |
JPH0488024A (ja) | カルビノール基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP4383555B2 (ja) | カルボシロキサンデンドリマー | |
KR100665486B1 (ko) | 페놀 관능성 유기규소 화합물 및 이의 제조방법 | |
WO2008020637A1 (fr) | Nouveau composé époxy et son procédé de fabrication | |
JP3756576B2 (ja) | ヒドロキシフェニル基含有ポリオルガノシロキサン | |
EP0546716B1 (en) | Hydrosilylation process | |
JP4469063B2 (ja) | アルミナ粉末用表面処理剤 | |
EP0475437B1 (en) | Organocyclosiloxane and method for its preparation | |
US6417309B2 (en) | Curable organosiloxane composition | |
JPH10298288A (ja) | 分岐状シロキサン・シルアルキレン共重合体 | |
US5290841A (en) | Organocyclosiloxane and method for its preparation | |
Duplock et al. | Synthesis of siloxanes containing reactive side chains | |
JP4436486B2 (ja) | ヒドロキシフェニル基含有有機けい素化合物およびその製造方法 | |
US5239085A (en) | Organocyclosiloxane and method for its preparation | |
JP3522860B2 (ja) | ハイドロシリレーション法 | |
KR100699195B1 (ko) | 올리고실록산 및 이의 제조방법 | |
JP2001181398A (ja) | 含ケイ素重合体およびその製造方法 | |
JP3029691B2 (ja) | オルガノシクロシロキサンおよびその製造方法 | |
JP2008105965A (ja) | オルガノジシロキサンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20111206 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121130 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |