JP2000277702A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JP2000277702A
JP2000277702A JP11081329A JP8132999A JP2000277702A JP 2000277702 A JP2000277702 A JP 2000277702A JP 11081329 A JP11081329 A JP 11081329A JP 8132999 A JP8132999 A JP 8132999A JP 2000277702 A JP2000277702 A JP 2000277702A
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JP
Japan
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circuit device
integrated circuit
semiconductor integrated
input
surge voltage
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JP11081329A
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English (en)
Inventor
Yosuke Yamamoto
洋介 山本
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】入力保護回路に基づく寄生トランジスタが生じ
ないようにした半導体集積回路装置を提供する。 【解決手段】入力端子1に入力された正のサージ電圧を
電源ラインに逃がす第1の一方向性導電素子と、入力端
子1に入力された負のサージ電圧をグランドラインに逃
がす第2の一方向性導電素子と、受光素子とをN型の半
導体基板に形成して成る半導体集積回路装置において、
第1の一方向性導電素子をNチャンネルMOSトランジ
スタ12で構成している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は受光素子を含む半導
体集積回路装置に関するものであり、特にその入力保護
回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は従来の入力保護回路を示してお
り、P1は入力端子1を通して入力された正のサージ電
圧を電源ライン3へ逃がす第1ダイオードであり、P2
は同じく負のサージ電圧をグランドへ逃がす第2ダイオ
ードである。2は第1、第2ダイオードP1、P2によ
りサージ電圧から保護される内部回路である。
【0003】ところで、図4に示すようにN型半導体基
板4に例えばフォトトランジスタ6等の受光素子が形成
されている近くに、基板4と共にダイオードP1を形成
するP型領域5が形成されると、フォトトランジスタ6
のベースを形成するP型領域7a、7bのうち特に領域
7aとの間で寄生のPNPトランジスタ8が形成されて
しまう。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような寄生のトラ
ンジスタ8が存在すると、次のような問題が生じる。即
ち、図3の入力端子1に回路2で使用されるパルス9
{図5(イ)参照}が入力されるが、パルス9に図5
(ロ)に示すようなオーバーシュート10やアンダーシ
ュート11が生じていると、オーバーシュート10の部
分で寄生トランジスタ8がONしてフォトトランジスタ
6に電流が流れてしまうことがある。このようになる
と、フォトトランジスタ6の出力が変化してしまい、光
電出力を正確に取り出すことができなくなる。
【0005】本発明は入力保護回路からフォトトランジ
スタにつながる寄生トランジスタが生じないようにした
半導体集積回路装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明では、入力端子に入力された正のサージ電圧を
電源ラインに逃がす第1の一方向性導電素子と、前記入
力端子に入力された負のサージ電圧をグランドラインに
逃がす第2の一方向性導電素子と、受光素子とをN型の
半導体基板に形成して成る半導体集積回路装置におい
て、前記第1の一方向性導電素子をNチャンネルMOS
トランジスタで構成している。
【0007】このような構成によると、入力保護回路か
らフォトダイオードにつながる寄生のトランジスタが形
成されることはないので、受光素子が影響を受けない。
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態を図面を参
照して説明する。図1に示すように、半導体集積回路装
置は、入力端子1と電源ライン3との間に挿入される一
方向性導電素子としてNチャンネルMOSトランジスタ
12を用いる。尚、入力端子1とグランド間に挿入され
る一方向性導電素子は従来通りダイオードP2で構成す
る。
【0009】2は半導体集積回路装置に設けられる回路
であり、この回路にはフォトトランジスタも含まれる。
前記NチャンネルMOSトランジスタ12のソースは電
源ライン3に接続され、ゲートとドレインは入力端子に
接続されている。
【0010】図2はN型基板4に形成される素子のう
ち、前記NチャンネルMOSトランジスタ12とフォト
トランジスタ6のみを示している。13は基板4内に形
成されたPウエル層であり、このPウエル層13内に2
つのN領域14、15を形成する。領域14はNチャン
ネルMOSトランジスタ12のソースであり、上述した
ように電源ライン3に接続される。一方、領域15はド
レインであり、ゲート16と共に入力端子1へ接続され
る。尚Pウエル層13はグランドへ接続されており、エ
ピタキシャル法により形成しても構わない。
【0011】一方、16と17はNPN型のフォトトラ
ンジスタ6のベースを構成するP領域であり、18はエ
ミッタである。尚、NPN型のフォトトランジスタ6の
コレクタは基板4が兼ねる。
【0012】上記構成によると、NチャンネルMOSト
ランジスタのソースとドレインはいずれもN型であるの
で、従来例(図4)のようにフォトトランジスタにつな
がる寄生のPNPトランジスタを生じることがない。
【0013】
【発明の効果】以上の通り本発明によれば、入力保護回
路に基づくフォトトランジスタにつながる寄生のトラン
ジスタが形成されることはないので、サージ入力によっ
て受光素子が影響を受けることがなく、光電出力が正確
に得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る半導体集積回路装置の
入力保護回路の構成を示す回路図
【図2】その半導体集積回路装置の要部の構造図
【図3】従来例の半導体集積回路装置の入力保護回路の
構成を示す回路図
【図4】その半導体集積回路装置の要部の構造図
【図5】半導体集積回路装置に入力される入力信号の波
形を示す図
【符号の説明】
1 入力端子 2 回路 3 電源ライン 4 N型半導体基板 6 フォトトランジスタ 12 NチャンネルMOSトランジスタ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】入力端子に入力された正のサージ電圧を電
    源ラインに逃がす第1の一方向性導電素子と、前記入力
    端子に入力された負のサージ電圧をグランドラインに逃
    がす第2の一方向性導電素子と、受光素子とをN型の半
    導体基板に形成して成る半導体集積回路装置において、 前記第1の一方向性導電素子をNチャンネルMOSトラ
    ンジスタで構成したことを特徴とする半導体集積回路装
    置。
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JPWO2008053555A1 (ja) * 2006-11-02 2010-02-25 株式会社島津製作所 高速アナログ信号の入力保護回路及び飛行時間型質量分析装置
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