JP2000217812A - 散乱線除去グリッドおよびその製造方法 - Google Patents
散乱線除去グリッドおよびその製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 6
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 8
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 abstract description 6
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 abstract description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 abstract description 2
- FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L difluorolead Chemical compound F[Pb]F FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920006248 expandable polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N oxobismuth;hydrochloride Chemical compound Cl.[Bi]=O BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放射線断層撮影装置の散乱線除去グリッドに
おいて、散乱線除去グリッドの製造を容易、且つ安価に
行う。 【解決手段】 散乱線除去グリッド１は、格子状に配置
された放射線吸収部２の間に、熱可塑性樹脂の放射線非
吸収部４が配置され、全体として球面状に形成されてい
る。
おいて、散乱線除去グリッドの製造を容易、且つ安価に
行う。 【解決手段】 散乱線除去グリッド１は、格子状に配置
された放射線吸収部２の間に、熱可塑性樹脂の放射線非
吸収部４が配置され、全体として球面状に形成されてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は放射線撮影装置に使
用される散乱線除去グリッド、およびその製造方法に関
し、特に球面状に形成された散乱線除去グリッドに関す
る。
用される散乱線除去グリッド、およびその製造方法に関
し、特に球面状に形成された散乱線除去グリッドに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線撮影装置に使用される散乱線
除去グリッドが知られている。例えば、図６に示すよう
に特開平２−２６３２７９号に開示された散乱線除去グ
リッド１００が使用されている。この散乱線除去グリッ
ド１００は、放射線吸収部１０２と放射線非吸収部１０
４とが交互に並設されて平板状に形成されてなり、照射
された放射線、例えばＸ線１０８が被写体１０６を透過
した透過線の内、被写体１０６に散乱されて斜めに進む
散乱線１０９を吸収して除去し、略直線的に透過する主
透過Ｘ線１１０のみを効率よく透過させて、画像の散乱
線によるノイズを低減するためのものである。この散乱
線除去グリッド１００は、放射線源（Ｘ線源）１１１の
方に向けてグリッドの周辺部になるほど角度が大きくな
るように放射線吸収部１０２を傾斜させ、被写体１０６
を透過した散乱しない主透過Ｘ線１１０の進行方向と整
列させることにより周辺部における透過率の低下を防止
している。
除去グリッドが知られている。例えば、図６に示すよう
に特開平２−２６３２７９号に開示された散乱線除去グ
リッド１００が使用されている。この散乱線除去グリッ
ド１００は、放射線吸収部１０２と放射線非吸収部１０
４とが交互に並設されて平板状に形成されてなり、照射
された放射線、例えばＸ線１０８が被写体１０６を透過
した透過線の内、被写体１０６に散乱されて斜めに進む
散乱線１０９を吸収して除去し、略直線的に透過する主
透過Ｘ線１１０のみを効率よく透過させて、画像の散乱
線によるノイズを低減するためのものである。この散乱
線除去グリッド１００は、放射線源（Ｘ線源）１１１の
方に向けてグリッドの周辺部になるほど角度が大きくな
るように放射線吸収部１０２を傾斜させ、被写体１０６
を透過した散乱しない主透過Ｘ線１１０の進行方向と整
列させることにより周辺部における透過率の低下を防止
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この散乱線除
去グリッド１００は、各放射線吸収部１０２毎に角度を
変えるように、その間に介在させる放射線非吸収部１０
４（例えば木、アルミニュウウム製）の形状を変えなけ
ればならず、製造のための工数がかかり、製造コストが
高くなる。
去グリッド１００は、各放射線吸収部１０２毎に角度を
変えるように、その間に介在させる放射線非吸収部１０
４（例えば木、アルミニュウウム製）の形状を変えなけ
ればならず、製造のための工数がかかり、製造コストが
高くなる。
【０００４】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あり、製造が容易、且つ安価な散乱線除去グリッド、お
よびその製造方法を提供することを目的とする。
あり、製造が容易、且つ安価な散乱線除去グリッド、お
よびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の散乱線除去グリ
ッドは、全体として一定の曲率を有する球面状に形成さ
れたことを特徴とするものである。
ッドは、全体として一定の曲率を有する球面状に形成さ
れたことを特徴とするものである。
【０００６】また、本発明の散乱線除去グリッドの製造
方法は、グリッド要素間に熱可塑性樹脂を有する板状の
グリッドを、所定の半径の相補形の球面を有する１組の
型の間に配置し、この１組の型によりグリッドを加圧し
て軟化温度まで加熱してグリッドを所定の曲率半径を有
する球面状に形成し、この球面状に形成されたグリッド
を冷却することを特徴とするものである。
方法は、グリッド要素間に熱可塑性樹脂を有する板状の
グリッドを、所定の半径の相補形の球面を有する１組の
型の間に配置し、この１組の型によりグリッドを加圧し
て軟化温度まで加熱してグリッドを所定の曲率半径を有
する球面状に形成し、この球面状に形成されたグリッド
を冷却することを特徴とするものである。
【０００７】ここで、グリッドとは、放射線吸収部が単
に平行に形成されたものに限定されるものではなく、格
子状に形成されたものも含むものとする。
に平行に形成されたものに限定されるものではなく、格
子状に形成されたものも含むものとする。
【０００８】
【発明の効果】本発明の散乱線除去の製造方法は、間隔
を置いて配された放射線吸収材料からなるグリッド要素
の間に熱可塑性樹脂を介在させた平板状のグリッドを軟
化温度まで加熱し、全体的に球面状に変形させ、その後
冷却するものである。従って、グリッドの個々の部分を
各々、別個の形状に形成する必要がなく、極めて容易
に、且つ効率的に散乱線除去グリッドを製造することが
できる。また、それによって得られた散乱線除去グリッ
ドは、安価、且つ製造容易であるので、Ｘ線源からの距
離が異なっても、放射されるＸ線の進行方向にグリッド
要素が整列するよう複数個用意することが比較的容易に
行え、低コストとも相俟って、応用範囲が広い。また、
散乱線除去グリッドの下部に配置する、Ｘ線のセンサ部
を球面状の散乱線除去グリッドに沿うように、略球面状
にすれば、透過したＸ線は略垂直にセンサに入射される
ので画像のゆがみも防止される。
を置いて配された放射線吸収材料からなるグリッド要素
の間に熱可塑性樹脂を介在させた平板状のグリッドを軟
化温度まで加熱し、全体的に球面状に変形させ、その後
冷却するものである。従って、グリッドの個々の部分を
各々、別個の形状に形成する必要がなく、極めて容易
に、且つ効率的に散乱線除去グリッドを製造することが
できる。また、それによって得られた散乱線除去グリッ
ドは、安価、且つ製造容易であるので、Ｘ線源からの距
離が異なっても、放射されるＸ線の進行方向にグリッド
要素が整列するよう複数個用意することが比較的容易に
行え、低コストとも相俟って、応用範囲が広い。また、
散乱線除去グリッドの下部に配置する、Ｘ線のセンサ部
を球面状の散乱線除去グリッドに沿うように、略球面状
にすれば、透過したＸ線は略垂直にセンサに入射される
ので画像のゆがみも防止される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について添付図を参照して詳細に説明する。図１は、本
発明の実施形態となる散乱線除去グリッド１を示し(A)
は、その斜視図、(B)はその側断面図を示す。
について添付図を参照して詳細に説明する。図１は、本
発明の実施形態となる散乱線除去グリッド１を示し(A)
は、その斜視図、(B)はその側断面図を示す。
【００１０】図１(A)、及び(B)を参照して説明する。散
乱線除去グリッド１は放射線吸収材料で形成された散乱
線吸収部（グリッド要素）２が格子状に形成され、この
格子に囲まれ、或いは接する部分に、放射線非吸収であ
り、且つ熱可塑性の材料で形成されたスペーサ部４が配
置され、全体として球面状に形成されている。散乱線吸
収部２は、本実施形態では格子状に形成されているが平
行に配列されてもよい。散乱線吸収部２に使用される散
乱線吸収材料としては、鉛箔、ビスマス等の単体でもよ
く、単体の粉体、あるいは鉛化合物、または、ビスマス
化合物、あるいは他の重金属化合物などの粉体を有機ポ
リマーを結合材とした溶液にし、それを塗布して被膜と
して形成しても良い。鉛化合物としては、PbF2、2PbCO3・
Pb(OH)2、Pb3O4 等があり、ビスマス化合物としてはBiF
3、BiOCl、Bi2(WO4)3、Bi12SiO20、Bi12GeO20等が考えられ
る。
乱線除去グリッド１は放射線吸収材料で形成された散乱
線吸収部（グリッド要素）２が格子状に形成され、この
格子に囲まれ、或いは接する部分に、放射線非吸収であ
り、且つ熱可塑性の材料で形成されたスペーサ部４が配
置され、全体として球面状に形成されている。散乱線吸
収部２は、本実施形態では格子状に形成されているが平
行に配列されてもよい。散乱線吸収部２に使用される散
乱線吸収材料としては、鉛箔、ビスマス等の単体でもよ
く、単体の粉体、あるいは鉛化合物、または、ビスマス
化合物、あるいは他の重金属化合物などの粉体を有機ポ
リマーを結合材とした溶液にし、それを塗布して被膜と
して形成しても良い。鉛化合物としては、PbF2、2PbCO3・
Pb(OH)2、Pb3O4 等があり、ビスマス化合物としてはBiF
3、BiOCl、Bi2(WO4)3、Bi12SiO20、Bi12GeO20等が考えられ
る。
【００１１】また、スペーサ部４としては、Ｘ線が吸収
されにくい材料が好適である。このような材料として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリウレタン、線状ポリエステル、アクリル樹脂、ポリ
エチレン、酢酸ビニル、ナイロン、あるいは天然ゴム、
シリコンゴム、エチレン酢酸ビニル重合体などのゴム等
が考えられる。また、気泡を含むフォーム状のポリスチ
ロール、ポリウレタンでもよい。或いは、不織布、ミク
ロフィルタでもよい。ミクロフィルタの材料としては、
ナイロン、酢酸セルロース、ポリスルホン、フッ素樹脂
等がある。
されにくい材料が好適である。このような材料として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリウレタン、線状ポリエステル、アクリル樹脂、ポリ
エチレン、酢酸ビニル、ナイロン、あるいは天然ゴム、
シリコンゴム、エチレン酢酸ビニル重合体などのゴム等
が考えられる。また、気泡を含むフォーム状のポリスチ
ロール、ポリウレタンでもよい。或いは、不織布、ミク
ロフィルタでもよい。ミクロフィルタの材料としては、
ナイロン、酢酸セルロース、ポリスルホン、フッ素樹脂
等がある。
【００１２】しかし、スペーサ部４に使用される材料は
熱可塑性樹脂（熱可塑性エラストマ）で有ることが必要
であり、加熱により、元は平板状であるグリッド１が、
全体として球面状に撓むことを可能にしている。また散
乱線吸収部２は、可撓性の点でスペーサ部４に劣るもの
の、鉛化合物、ビスマス化合物は、僅かな可撓性を有す
る。
熱可塑性樹脂（熱可塑性エラストマ）で有ることが必要
であり、加熱により、元は平板状であるグリッド１が、
全体として球面状に撓むことを可能にしている。また散
乱線吸収部２は、可撓性の点でスペーサ部４に劣るもの
の、鉛化合物、ビスマス化合物は、僅かな可撓性を有す
る。
【００１３】図１に示す散乱線除去グリッド１の上面６
は凹面（球面）であり、下面８は凸面となっている。散
乱線吸収部２は、上側が狭く下側が広い間隔となってお
り、上面６側に位置する放射線、即ちＸ線源（図示せ
ず）に向くように略整列している。換言すると、散乱線
吸収部２は、Ｘ線源を焦点とした場合、焦点から放射状
に発散する放射線の進行方向（焦点を中心とした半径方
向）に整列する。従って、散乱線吸収部２によってＸ線
が遮られる領域が増大しないので、Ｘ線の透過率は、散
乱線除去グリッド１の広範囲にわたって低下することが
ない。
は凹面（球面）であり、下面８は凸面となっている。散
乱線吸収部２は、上側が狭く下側が広い間隔となってお
り、上面６側に位置する放射線、即ちＸ線源（図示せ
ず）に向くように略整列している。換言すると、散乱線
吸収部２は、Ｘ線源を焦点とした場合、焦点から放射状
に発散する放射線の進行方向（焦点を中心とした半径方
向）に整列する。従って、散乱線吸収部２によってＸ線
が遮られる領域が増大しないので、Ｘ線の透過率は、散
乱線除去グリッド１の広範囲にわたって低下することが
ない。
【００１４】次に図２乃至図５を参照して、散乱線除去
グリッド１の製造方法について説明する。図２は、本発
明の散乱線除去グリッド１を製造する第１及び第２工
程、図３は第３工程、図４は第４及び第５工程を夫々示
す斜視図であり、図５は第６乃至第８工程を夫々示す断
面図である。
グリッド１の製造方法について説明する。図２は、本発
明の散乱線除去グリッド１を製造する第１及び第２工
程、図３は第３工程、図４は第４及び第５工程を夫々示
す斜視図であり、図５は第６乃至第８工程を夫々示す断
面図である。
【００１５】最初に図２を参照すると、第１工程とし
て、散乱線吸収部２と、スペーサ部４が交互に積層、接
着されて積層体（第１積層体）１０が構成される。接着
には接着剤を使用するが、接着フィルムを介在させても
良い。また、圧力をかけて圧着しても良い。この時各層
間に隙間が生じないように真空に引いて密接させること
が強度を付与するために好ましい。
て、散乱線吸収部２と、スペーサ部４が交互に積層、接
着されて積層体（第１積層体）１０が構成される。接着
には接着剤を使用するが、接着フィルムを介在させても
良い。また、圧力をかけて圧着しても良い。この時各層
間に隙間が生じないように真空に引いて密接させること
が強度を付与するために好ましい。
【００１６】次に第２工程として、積層体１０を図２に
示す如く、各層に垂直な面に沿って端部からスライス
し、即ち板状に切り離しを行い、図に示すグリッド（第
１グリッド）１１を得る。このグリッド１１では放射線
吸収部２が平行に配置されている。
示す如く、各層に垂直な面に沿って端部からスライス
し、即ち板状に切り離しを行い、図に示すグリッド（第
１グリッド）１１を得る。このグリッド１１では放射線
吸収部２が平行に配置されている。
【００１７】次に、図３を参照すると、第３工程とし
て、図２に示される積層体１０を切り離して形成したグ
リッド１１と、散乱線吸収材料から形成された散乱線吸
収板３とが重ね合わされて互いに接着されるよう交互に
用意される。
て、図２に示される積層体１０を切り離して形成したグ
リッド１１と、散乱線吸収材料から形成された散乱線吸
収板３とが重ね合わされて互いに接着されるよう交互に
用意される。
【００１８】第４工程として、これらを重ね合わせて図
４（Ａ）に示される積層体（第２積層体）２０が得られ
る。この積層体２０の端面２４は、散乱線吸収部２と散
乱線吸収板３が実質的に格子状に配置されており各格子
の中にスペーサ４が配置された構造となっている。
４（Ａ）に示される積層体（第２積層体）２０が得られ
る。この積層体２０の端面２４は、散乱線吸収部２と散
乱線吸収板３が実質的に格子状に配置されており各格子
の中にスペーサ４が配置された構造となっている。
【００１９】第５工程として、この積層体２０を仮想線
で示す如く端面２４近傍から順次、板状に切り離すこと
により、（Ｂ）に示すグリッド（第２グリッド）１１１
を得ることができる。ここに示す実施形態では、各グリ
ッド間にはグリッド１１で用いられた散乱線吸収部２と
同じ材料の散乱線吸収板３が材料の種類を少なくするた
めに使用されているが、同様のＸ線吸収特性を有するも
のであれば異なる材料であってもよい。このグリッド１
１１は、散乱線を均一に除去し、また、略均一な可撓性
を有する。このグリッド１１１の両面、即ちグリッド１
１１の上面６bおよび下面８bに変形可能な熱可塑性樹脂
の補強板（図示せず）を追加して接着しても良い。この
際、特に下面８bに使用される補強板は、伸縮性の大き
いものである必要がある。
で示す如く端面２４近傍から順次、板状に切り離すこと
により、（Ｂ）に示すグリッド（第２グリッド）１１１
を得ることができる。ここに示す実施形態では、各グリ
ッド間にはグリッド１１で用いられた散乱線吸収部２と
同じ材料の散乱線吸収板３が材料の種類を少なくするた
めに使用されているが、同様のＸ線吸収特性を有するも
のであれば異なる材料であってもよい。このグリッド１
１１は、散乱線を均一に除去し、また、略均一な可撓性
を有する。このグリッド１１１の両面、即ちグリッド１
１１の上面６bおよび下面８bに変形可能な熱可塑性樹脂
の補強板（図示せず）を追加して接着しても良い。この
際、特に下面８bに使用される補強板は、伸縮性の大き
いものである必要がある。
【００２０】次に図５を参照して平板状のグリッド１１
１を所定の曲率半径の湾曲面、即ち球面１２を有する散
乱線除去グリッド１を形成する方法について説明する。
(A)はグリッド１１１を、アルミ、ステンレス鋼等によ
り形成された金型（型）５０内に配置した状態を示す断
面図であり、(B)は金型５０を加圧してグリッド１１１
を撓めた状態の断面図であり、(C)は整形された散乱線
除去グリッド１を、金型５０と共に示す断面図である。
１を所定の曲率半径の湾曲面、即ち球面１２を有する散
乱線除去グリッド１を形成する方法について説明する。
(A)はグリッド１１１を、アルミ、ステンレス鋼等によ
り形成された金型（型）５０内に配置した状態を示す断
面図であり、(B)は金型５０を加圧してグリッド１１１
を撓めた状態の断面図であり、(C)は整形された散乱線
除去グリッド１を、金型５０と共に示す断面図である。
【００２１】最初に第６工程となる(A)を参照すると、
金型５０は所定の曲率を有する凸状の球面５２を有する
上型５４と、球面５２に対応して相補形の凹状の球面５
６を有する下型５８を有する。この上型５４と下型５８
の間に平板状のグリッド１１１が配置される。
金型５０は所定の曲率を有する凸状の球面５２を有する
上型５４と、球面５２に対応して相補形の凹状の球面５
６を有する下型５８を有する。この上型５４と下型５８
の間に平板状のグリッド１１１が配置される。
【００２２】次に第７工程として、(B)に示す如く、グ
リッド１１１が上型５４と下型５８により上下から、放
射線非吸収部４の軟化温度まで加熱されて押圧される
と、熱により軟化し、球面状に変形する。加熱手段とし
ては、金型５０内に温水を通す等がある。熱可塑性エラ
ストマでない場合は、融点まで金型５０の温度を上昇さ
せる。グリッドが軟化する際、熱可塑性樹脂の放射線非
吸収部４が、熱及び圧力により変形するので、放射線吸
収部２は上側が狭く、下側が広くなるように傾斜され、
方向付けられる。これによりＸ線源から放射されるＸ線
の進行方向と放射線吸収部２が、整列し、散乱線を効率
的に除去することが可能となる。
リッド１１１が上型５４と下型５８により上下から、放
射線非吸収部４の軟化温度まで加熱されて押圧される
と、熱により軟化し、球面状に変形する。加熱手段とし
ては、金型５０内に温水を通す等がある。熱可塑性エラ
ストマでない場合は、融点まで金型５０の温度を上昇さ
せる。グリッドが軟化する際、熱可塑性樹脂の放射線非
吸収部４が、熱及び圧力により変形するので、放射線吸
収部２は上側が狭く、下側が広くなるように傾斜され、
方向付けられる。これによりＸ線源から放射されるＸ線
の進行方向と放射線吸収部２が、整列し、散乱線を効率
的に除去することが可能となる。
【００２３】第８工程として、金型５０を開いて変形し
たグリッド１１１を取り出し、室温で冷却すると、(C)
に示す如く所定の球面１２を有する散乱線除去グリッド
１が得られる。
たグリッド１１１を取り出し、室温で冷却すると、(C)
に示す如く所定の球面１２を有する散乱線除去グリッド
１が得られる。
【００２４】金型５０に挿入するグリッド１１１の代わ
りにグリッド１１を使用してもよい。この場合、得られ
るグリッドは平行な放射線吸収部４を有するグリッドと
なる。グリッド１１の両面、即ち上面６a、８aに図示し
ない補強板を設けてもよいことは勿論である。
りにグリッド１１を使用してもよい。この場合、得られ
るグリッドは平行な放射線吸収部４を有するグリッドと
なる。グリッド１１の両面、即ち上面６a、８aに図示し
ない補強板を設けてもよいことは勿論である。
【図１】本発明の実施形態となる散乱線除去グリッドを
示し、(A)はその斜視図、(B)はその側断面図
示し、(A)はその斜視図、(B)はその側断面図
【図２】本発明の散乱線除去グリッドを製造する第１及
び第２工程を示す、積層体及びグリッドの斜視図
び第２工程を示す、積層体及びグリッドの斜視図
【図３】本発明の散乱線除去グリッドを製造する第３工
程を示す、グリッドと放射線吸収板の斜視図
程を示す、グリッドと放射線吸収板の斜視図
【図４】本発明の散乱線除去グリッドを製造する工程を
示し、(A)は第４工程、(B)は第５工程の積層体、及びグ
リッドを夫々示す斜視図
示し、(A)は第４工程、(B)は第５工程の積層体、及びグ
リッドを夫々示す斜視図
【図５】図５は金型によるグリッドの成形工程を示し、
(A)は、グリッドを金型内に配置した状態を示す第６工
程の断面図であり、(B)は、金型を加圧してグリッドを
撓めた状態の第７工程の断面図であり、(C)は成形され
た散乱線除去グリッドを、金型と共に示す第８工程の断
面図
(A)は、グリッドを金型内に配置した状態を示す第６工
程の断面図であり、(B)は、金型を加圧してグリッドを
撓めた状態の第７工程の断面図であり、(C)は成形され
た散乱線除去グリッドを、金型と共に示す第８工程の断
面図
【図６】従来の散乱線除去グリッドの概略断面図
１ 散乱線除去グリッド ２ グリッド要素 １１，１１１ グリッド ５０ 型 ５２，５６ 球面
Claims (2)
- 【請求項１】 全体として一定の曲率を有する球面状に
形成されたことを特徴とする散乱線除去グリッド。 - 【請求項２】 グリッド要素間に熱可塑性樹脂を介在さ
せて板状に形成し、 該板状に形成されたグリッドを、所定の半径の相補形の
球面を有する１組の型の間に配置し、 前記１組の型により前記グリッドを加圧すると共に軟化
温度まで加熱して、前記グリッドを所定の曲率半径を有
する球面状に形成し、 該球面状に形成されたグリッドを冷却することを特徴と
する散乱線除去グリッドの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11018562A JP2000217812A (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 散乱線除去グリッドおよびその製造方法 |
| US09/492,282 US6594878B2 (en) | 1999-01-27 | 2000-01-27 | Scattered ray removal grid and method of producing the same |
| US10/401,535 US6801600B2 (en) | 1999-01-27 | 2003-03-31 | Scattered ray removal grid and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11018562A JP2000217812A (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 散乱線除去グリッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000217812A true JP2000217812A (ja) | 2000-08-08 |
Family
ID=11975072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11018562A Pending JP2000217812A (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 散乱線除去グリッドおよびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6594878B2 (ja) |
| JP (1) | JP2000217812A (ja) |
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2000
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| US6801600B2 (en) | 2004-10-05 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A711 | Notification of change in applicant |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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| A02 | Decision of refusal |
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