JP2000217813A - 散乱線除去グリッド、グリッド装置、および散乱線除去グリッドの製造方法 - Google Patents
散乱線除去グリッド、グリッド装置、および散乱線除去グリッドの製造方法Info
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-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 放射線断層撮影装置のグリッドにおいて、放
射線源からの距離が変わっても良好な画質を維持する。 【解決手段】 グリッド1cは、柔軟なスペーサ部4と
放射線吸収部2が交互に並置されて構成され、全体とし
て可撓性を有する。グリッド1cを載置した、薄い可撓
性の板部材42が、センサの天板46に配置され、下方
からアクチュエータ48が板部材42の周辺部を持ち上
げると、板部材42、グリッド1cは、球面状に変形
し、放射線非吸収部2は球面の焦点に略位置するX線源
SからのX線の進行方向に整列する。これにより、グリ
ッドの周辺部においても画質が低下することがない。
射線源からの距離が変わっても良好な画質を維持する。 【解決手段】 グリッド1cは、柔軟なスペーサ部4と
放射線吸収部2が交互に並置されて構成され、全体とし
て可撓性を有する。グリッド1cを載置した、薄い可撓
性の板部材42が、センサの天板46に配置され、下方
からアクチュエータ48が板部材42の周辺部を持ち上
げると、板部材42、グリッド1cは、球面状に変形
し、放射線非吸収部2は球面の焦点に略位置するX線源
SからのX線の進行方向に整列する。これにより、グリ
ッドの周辺部においても画質が低下することがない。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は放射線撮影装置に使
用される散乱線除去グリッド、グリッド装置、及び散乱
線除去グリッドの製造方法に関し、特に球面状に変形可
能な柔軟な材料を使用した散乱線除去グリッド、グリッ
ド装置、及び散乱線除去グリッドの製造方法に関する。
用される散乱線除去グリッド、グリッド装置、及び散乱
線除去グリッドの製造方法に関し、特に球面状に変形可
能な柔軟な材料を使用した散乱線除去グリッド、グリッ
ド装置、及び散乱線除去グリッドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、X線撮影装置に使用される散乱線
除去グリッドが知られている。例えば、図8に示すよう
に特開平2−263279号に開示された散乱線除去グ
リッド100が使用されている。この散乱線除去グリッ
ド100は、放射線吸収部102と放射線非吸収部10
4とが交互に並設されて平板状に形成されてなり、照射
された放射線、例えばX線108が被写体106を透過
した透過線の内、被写体106に散乱されて斜めに進む
散乱線109を吸収して除去し、略直線的に透過する主
透過X線110のみを効率よく透過させて、画像の散乱
線によるノイズを低減するためのものである。この散乱
線除去グリッド100は、放射線源(X線源)111の
方に向けてグリッドの周辺部になるほど角度が大きくな
るように放射線吸収部102を傾斜させ、被写体106
を透過した散乱しない主透過X線110の進行方向と整
列させることにより周辺部における透過率の低下を防止
している。
除去グリッドが知られている。例えば、図8に示すよう
に特開平2−263279号に開示された散乱線除去グ
リッド100が使用されている。この散乱線除去グリッ
ド100は、放射線吸収部102と放射線非吸収部10
4とが交互に並設されて平板状に形成されてなり、照射
された放射線、例えばX線108が被写体106を透過
した透過線の内、被写体106に散乱されて斜めに進む
散乱線109を吸収して除去し、略直線的に透過する主
透過X線110のみを効率よく透過させて、画像の散乱
線によるノイズを低減するためのものである。この散乱
線除去グリッド100は、放射線源(X線源)111の
方に向けてグリッドの周辺部になるほど角度が大きくな
るように放射線吸収部102を傾斜させ、被写体106
を透過した散乱しない主透過X線110の進行方向と整
列させることにより周辺部における透過率の低下を防止
している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、グリッド10
0は、各放射線吸収部102毎に角度を変えるように、
その間に介在させる放射線非吸収部104、(例えば
木、アルミニュウム製)の形状を変えなければならず、
製造コストが高くなる。また、その放射線吸収部102
の傾斜角度は、常に固定しているため、X線源111と
グリッド100との距離が変化すると、X線進行方向と
の整列が崩れて透過率が低下し、その結果、画質が低下
するという問題が生じる。この問題を回避するために
は、X線源111との距離に応じて、放射線吸収部10
2の傾斜角度が異なるグリッドを、複数個用意する必要
がある。そしてX線源111との距離を変えて撮影する
都度、適切なグリッドを選択して取り付けなければなら
ないと言う作業効率の問題も生じる。また、グリッドを
複数個用意するために高価になるという問題もある。
0は、各放射線吸収部102毎に角度を変えるように、
その間に介在させる放射線非吸収部104、(例えば
木、アルミニュウム製)の形状を変えなければならず、
製造コストが高くなる。また、その放射線吸収部102
の傾斜角度は、常に固定しているため、X線源111と
グリッド100との距離が変化すると、X線進行方向と
の整列が崩れて透過率が低下し、その結果、画質が低下
するという問題が生じる。この問題を回避するために
は、X線源111との距離に応じて、放射線吸収部10
2の傾斜角度が異なるグリッドを、複数個用意する必要
がある。そしてX線源111との距離を変えて撮影する
都度、適切なグリッドを選択して取り付けなければなら
ないと言う作業効率の問題も生じる。また、グリッドを
複数個用意するために高価になるという問題もある。
【0004】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あり、X線源との距離に応じて常に適切な散乱線除去を
行うことのできる散乱線除去グリッド、及びグリッド装
置を提供することを目的とする。
あり、X線源との距離に応じて常に適切な散乱線除去を
行うことのできる散乱線除去グリッド、及びグリッド装
置を提供することを目的とする。
【0005】また、本発明の他の目的は、そのような散
乱線除去グリッドの製造方法を提供することである。
乱線除去グリッドの製造方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の散乱線除去グリ
ッドは、全体として球面状に形成され、その球面の曲率
を可変とする柔軟な材料で構成されたことを特徴とする
ものである。
ッドは、全体として球面状に形成され、その球面の曲率
を可変とする柔軟な材料で構成されたことを特徴とする
ものである。
【0007】また、本発明のグリッド装置は、そのよう
な散乱線除去グリッドと、夫々が異なる曲率の球面を有
し、この球面上に散乱線除去グリッドを球面状に支持す
る複数の交換可能なグリッド支持手段と、散乱線除去グ
リッドを球面に固定するための固定手段と、を備えてな
ることを特徴とするものである。例えば、散乱線除去グ
リッドが載置される所定の曲率半径を有する球面状の多
孔板と、該多孔板の背後を密閉して覆うハウジングと、
該ハウジングと連通して該ハウジング内の空気を吸引す
る吸引手段と、を備えるもの、或いは、あらかじめ、用
意された曲率半径の異なる球面を有する多数のグリッド
支持台と、この支持台上に接着テープ等でグリッドを固
着させる接着固定手段とを備えるもの等が実施可能であ
る。
な散乱線除去グリッドと、夫々が異なる曲率の球面を有
し、この球面上に散乱線除去グリッドを球面状に支持す
る複数の交換可能なグリッド支持手段と、散乱線除去グ
リッドを球面に固定するための固定手段と、を備えてな
ることを特徴とするものである。例えば、散乱線除去グ
リッドが載置される所定の曲率半径を有する球面状の多
孔板と、該多孔板の背後を密閉して覆うハウジングと、
該ハウジングと連通して該ハウジング内の空気を吸引す
る吸引手段と、を備えるもの、或いは、あらかじめ、用
意された曲率半径の異なる球面を有する多数のグリッド
支持台と、この支持台上に接着テープ等でグリッドを固
着させる接着固定手段とを備えるもの等が実施可能であ
る。
【0008】さらに、本発明のグリッド装置は、そのよ
うな散乱線除去グリッドと、散乱線除去グリッドを載置
する、例えば中央部が薄い球面状に曲率を変えるように
変形可能な可撓性板部材と、板部材の周辺部をグリッド
の中央部より高い任意の位置に変位させることによりグ
リッドを任意の曲率半径の球面状とする曲率変更手段
と、を備えてなることを特徴とするものである。
うな散乱線除去グリッドと、散乱線除去グリッドを載置
する、例えば中央部が薄い球面状に曲率を変えるように
変形可能な可撓性板部材と、板部材の周辺部をグリッド
の中央部より高い任意の位置に変位させることによりグ
リッドを任意の曲率半径の球面状とする曲率変更手段
と、を備えてなることを特徴とするものである。
【0009】本発明のグリッドの製造方法は、放射線吸
収材料で形成された第1層と、柔軟性を有する放射線非
吸収材料で形成された第2層を交互に重ね合わせ、接着
して積層体を形成し、該積層体を前記各層に垂直な面に
沿って板状に切り離してグリッドを形成することを特徴
とするものである。
収材料で形成された第1層と、柔軟性を有する放射線非
吸収材料で形成された第2層を交互に重ね合わせ、接着
して積層体を形成し、該積層体を前記各層に垂直な面に
沿って板状に切り離してグリッドを形成することを特徴
とするものである。
【0010】また、本発明のグリッドの製造方法は、放
射線吸収材料で形成された第1層と、柔軟性を有する放
射線非吸収材料で形成された第2層を交互に重ね合わ
せ、接着して第1積層体を形成し、該第1積層体を前記
各層に垂直な面に沿って板状に切り離して第1グリッド
を形成し、該第1グリッドと任意の放射線非吸収材料の
層を交互に積層して第2積層体を形成し、該第2積層体
を前記各層に垂直な面に沿って板状に切り離して第2グ
リッドを形成することを特徴とするものである。
射線吸収材料で形成された第1層と、柔軟性を有する放
射線非吸収材料で形成された第2層を交互に重ね合わ
せ、接着して第1積層体を形成し、該第1積層体を前記
各層に垂直な面に沿って板状に切り離して第1グリッド
を形成し、該第1グリッドと任意の放射線非吸収材料の
層を交互に積層して第2積層体を形成し、該第2積層体
を前記各層に垂直な面に沿って板状に切り離して第2グ
リッドを形成することを特徴とするものである。
【0011】ここで、多孔板とは、均質な材料の板に多
数の孔を穿孔したものに限らず、樹脂、布等を網状にし
たメッシュ状のものも含むものとする。また、放射線非
吸収材料とは、放射線を全く吸収しないものに限定され
るものではなく、多少は吸収するがその吸収の程度の小
さい材料も含むものとする。
数の孔を穿孔したものに限らず、樹脂、布等を網状にし
たメッシュ状のものも含むものとする。また、放射線非
吸収材料とは、放射線を全く吸収しないものに限定され
るものではなく、多少は吸収するがその吸収の程度の小
さい材料も含むものとする。
【0012】前記散乱線非吸収材料は、例えば、弾性の
大きいポリマーフィルム、或いはゴムであることが望ま
しい。
大きいポリマーフィルム、或いはゴムであることが望ま
しい。
【0013】前記任意の放射線吸収材料の層は、前記第
2層と同じ材料であることが望ましい。なお、上記「球
面」或いは「球面状」とは、正確な球面である必要はな
くグリッドの放射線吸収部を放射線照射方向に整列させ
ることができるもので有れば、多少球面からずれていて
もよい。
2層と同じ材料であることが望ましい。なお、上記「球
面」或いは「球面状」とは、正確な球面である必要はな
くグリッドの放射線吸収部を放射線照射方向に整列させ
ることができるもので有れば、多少球面からずれていて
もよい。
【0014】
【発明の効果】本発明の散乱線除去グリッドは、全体と
して球面状に形成され、球面の曲率を可変とする柔軟な
材料で構成されているので、放射線源とグリッドとの距
離が変化しても、球面の曲率を変化させて放射線吸収部
を常にX線の進む方向に平行になるようにすることがで
き、適切な散乱線除去を行うことができる。
して球面状に形成され、球面の曲率を可変とする柔軟な
材料で構成されているので、放射線源とグリッドとの距
離が変化しても、球面の曲率を変化させて放射線吸収部
を常にX線の進む方向に平行になるようにすることがで
き、適切な散乱線除去を行うことができる。
【0015】また、本発明のグリッド装置は、夫々が異
なる曲率の球面を有する複数のグリッド支持手段を有
し、この球面上に散乱線除去グリッドを球面状に支持
し、固定するようにしたので、安価なグリッド支持手段
を複数個用意すれば、X線源までの距離が異なっても、
複数の散乱線除去グリッドを用意する必要はなく、1種
類の散乱線除去グリッドで対応でき、安価である。
なる曲率の球面を有する複数のグリッド支持手段を有
し、この球面上に散乱線除去グリッドを球面状に支持
し、固定するようにしたので、安価なグリッド支持手段
を複数個用意すれば、X線源までの距離が異なっても、
複数の散乱線除去グリッドを用意する必要はなく、1種
類の散乱線除去グリッドで対応でき、安価である。
【0016】さらに本発明のグリッド装置は、板部材に
散乱線除去グリッドを載置し、この板部材の周辺部をグ
リッドの中央部より高い任意の位置に変位させて、グリ
ッドを任意の曲率半径の球面状とする曲率変更手段を備
えてなるので、X線源との距離に対応して板部材の曲率
を任意に変えて、撮影することができる。従って、作業
効率がよく、部品点数も少なくてすむので低コストであ
る。
散乱線除去グリッドを載置し、この板部材の周辺部をグ
リッドの中央部より高い任意の位置に変位させて、グリ
ッドを任意の曲率半径の球面状とする曲率変更手段を備
えてなるので、X線源との距離に対応して板部材の曲率
を任意に変えて、撮影することができる。従って、作業
効率がよく、部品点数も少なくてすむので低コストであ
る。
【0017】本発明のグリッドの製造方法は、放射線吸
収材料で形成された第1層と、柔軟性を有する放射線非
吸収材料で形成された第2層を交互に重ね合わせ、接着
して積層体を形成し、この積層体を各層に垂直な面に沿
って板状に切り離してグリッドを形成するので、グリッ
ド毎に各第1,第2層を形成する必要がなく、効率的、
且つ容易にグリッドを得ることができる。グリッド自体
に柔軟性を付与することとなり、変形可能な板状のグリ
ッドを得ることができる。
収材料で形成された第1層と、柔軟性を有する放射線非
吸収材料で形成された第2層を交互に重ね合わせ、接着
して積層体を形成し、この積層体を各層に垂直な面に沿
って板状に切り離してグリッドを形成するので、グリッ
ド毎に各第1,第2層を形成する必要がなく、効率的、
且つ容易にグリッドを得ることができる。グリッド自体
に柔軟性を付与することとなり、変形可能な板状のグリ
ッドを得ることができる。
【0018】また、本発明のグリッドの製造方法は、前
述の積層体(第1積層体)から得られるグリッド(第1
グリッド)と任意の放射線非吸収材料を交互に積層して
第2積層体を形成し、この第2積層体を各層に垂直な面
に沿って板状に切り離して第2グリッドを形成するの
で、グリッド毎に格子状の層を形成することなく、第2
積層体をスライスするのみで、きわめて効率的に、且つ
容易に柔軟性のある格子状のグリッドを得ることができ
る。
述の積層体(第1積層体)から得られるグリッド(第1
グリッド)と任意の放射線非吸収材料を交互に積層して
第2積層体を形成し、この第2積層体を各層に垂直な面
に沿って板状に切り離して第2グリッドを形成するの
で、グリッド毎に格子状の層を形成することなく、第2
積層体をスライスするのみで、きわめて効率的に、且つ
容易に柔軟性のある格子状のグリッドを得ることができ
る。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について添付図を参照して詳細に説明する。
について添付図を参照して詳細に説明する。
【0020】図1は、本発明の第1実施形態となる散乱
線除去グリッド(以下、単にグリッドという)1の側断
面図、図2はその製造過程を示す斜視図である。
線除去グリッド(以下、単にグリッドという)1の側断
面図、図2はその製造過程を示す斜視図である。
【0021】図1を参照すると、グリッド1は放射線吸
収材料で形成された散乱線吸収部(第1層)2と、放射
線非吸収材料で形成されたスペーサ部(第2層)4とが
交互に並設、接着されて形成される。散乱線吸収材料と
しては、鉛箔、ビスマス等の単体でもよく、単体の粉
体、あるいは鉛化合物、または、ビスマス化合物、ある
いは他の重金属化合物などの粉体を有機ポリマーを結合
材とした溶液にし、それを塗布して被膜として形成して
も良い。鉛化合物としては、PbF2、2PbCO3・Pb(OH)2、Pb3O
4 等があり、ビスマス化合物としてはBiF3、BiOCl、Bi
2(WO4)3、Bi12SiO20、Bi12GeO20等が考えられる。
収材料で形成された散乱線吸収部(第1層)2と、放射
線非吸収材料で形成されたスペーサ部(第2層)4とが
交互に並設、接着されて形成される。散乱線吸収材料と
しては、鉛箔、ビスマス等の単体でもよく、単体の粉
体、あるいは鉛化合物、または、ビスマス化合物、ある
いは他の重金属化合物などの粉体を有機ポリマーを結合
材とした溶液にし、それを塗布して被膜として形成して
も良い。鉛化合物としては、PbF2、2PbCO3・Pb(OH)2、Pb3O
4 等があり、ビスマス化合物としてはBiF3、BiOCl、Bi
2(WO4)3、Bi12SiO20、Bi12GeO20等が考えられる。
【0022】また、スペーサ部4としては、X線が吸収
されにくく、変形しやすい材料が好適である。このよう
な材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリウレタン、線状ポリエステル、アクリ
ル樹脂、ポリエチレン、酢酸ビニル、ナイロン、あるい
は天然ゴム、シリコンゴム、エチレン酢酸ビニル重合体
などのゴムが考えられる。また、気泡を含むフォーム状
のポリスチロール、ポリウレタンでもよい。或いは、不
織布、ミクロフィルタでもよい。ミクロフィルタの材料
としては、ナイロン、酢酸セルロース、ポリスルホン、
フッ素樹脂等がある。
されにくく、変形しやすい材料が好適である。このよう
な材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリウレタン、線状ポリエステル、アクリ
ル樹脂、ポリエチレン、酢酸ビニル、ナイロン、あるい
は天然ゴム、シリコンゴム、エチレン酢酸ビニル重合体
などのゴムが考えられる。また、気泡を含むフォーム状
のポリスチロール、ポリウレタンでもよい。或いは、不
織布、ミクロフィルタでもよい。ミクロフィルタの材料
としては、ナイロン、酢酸セルロース、ポリスルホン、
フッ素樹脂等がある。
【0023】このようにスペーサ部4に使用される材料
は柔軟性があり、グリッド1が全体として曲率を変える
ように撓むことを可能にしている。また散乱線吸収部2
は、可撓性の点でスペーサ部4に劣るものの鉛化合物、
ビスマス化合物などの皮膜は、僅かな可撓性を有する。
図1に示すグリッド1の上面6が凹面(球面)になるよ
うにグリッド1を湾曲させた場合、散乱線吸収部2は、
上側が狭く下側が広い間隔となり上面6側になる放射
線、即ちX線源(図示せず)に向くように略整列する。
換言すると、散乱線吸収部2は、X線源を焦点とした場
合、焦点から放射状に発散する放射線の進行方向(焦点
を中心とした半径方向)に整列する。従って、散乱線吸
収部2によってX線が遮られる領域が増大しないので、
X線の透過率は、グリッド1の広範囲にわたって低下す
ることがない。なお、ここで「整列」とは、完全に平行
になるものに限定されるものではなく吸収が大幅に減少
されるように方向が揃うものも含むものとする。
は柔軟性があり、グリッド1が全体として曲率を変える
ように撓むことを可能にしている。また散乱線吸収部2
は、可撓性の点でスペーサ部4に劣るものの鉛化合物、
ビスマス化合物などの皮膜は、僅かな可撓性を有する。
図1に示すグリッド1の上面6が凹面(球面)になるよ
うにグリッド1を湾曲させた場合、散乱線吸収部2は、
上側が狭く下側が広い間隔となり上面6側になる放射
線、即ちX線源(図示せず)に向くように略整列する。
換言すると、散乱線吸収部2は、X線源を焦点とした場
合、焦点から放射状に発散する放射線の進行方向(焦点
を中心とした半径方向)に整列する。従って、散乱線吸
収部2によってX線が遮られる領域が増大しないので、
X線の透過率は、グリッド1の広範囲にわたって低下す
ることがない。なお、ここで「整列」とは、完全に平行
になるものに限定されるものではなく吸収が大幅に減少
されるように方向が揃うものも含むものとする。
【0024】次に図2を参照して、第1実施形態のグリ
ッド1の製造方法について説明する。散乱線吸収部2
と、スペーサ部4が交互に積層、接着されて積層体(第
1積層体)10が構成される。接着には接着剤を使用す
るが、接着フィルムを介在させても良い。また、圧力を
かけて圧着しても良い。この際各層間に隙間が生じない
ように真空に引いて密接させることが強度を付与するた
めに好ましい。
ッド1の製造方法について説明する。散乱線吸収部2
と、スペーサ部4が交互に積層、接着されて積層体(第
1積層体)10が構成される。接着には接着剤を使用す
るが、接着フィルムを介在させても良い。また、圧力を
かけて圧着しても良い。この際各層間に隙間が生じない
ように真空に引いて密接させることが強度を付与するた
めに好ましい。
【0025】次に積層体10を図に示す如く、各層に垂
直な面に沿って端部からスライスし、即ち板状に切り離
しを行い、図に示すグリッド1を得る。このグリッド1
の上面6および下面8に変形可能な補強板(図示せず)
を追加して接着しても良い。この際、特に下面8に使用
される補強板は、伸縮性の大きいものである必要があ
る。
直な面に沿って端部からスライスし、即ち板状に切り離
しを行い、図に示すグリッド1を得る。このグリッド1
の上面6および下面8に変形可能な補強板(図示せず)
を追加して接着しても良い。この際、特に下面8に使用
される補強板は、伸縮性の大きいものである必要があ
る。
【0026】次に、図3乃至図4を参照して第2実施形
態のグリッド70の製造方法について説明する。図3
は、グリッド70の構成部品を分離した状態を示す斜視
図である。図4(A)はこれらの部品を重ね合わせた積層
体(第2積層体)72の斜視図であり、(B)は、積層
体を分離して得られたグリッド70の斜視図である。最
初に図3を参照すると、図2に示される、積層体10を
切り離して形成したグリッド1と、散乱線吸収材料から
形成された、放射線吸収材料の層となる散乱線吸収板3
とが重ね合わされて互いに接着されるよう交互に用意さ
れる。これらを重ね合わせて図4(A)に示される積層
体72が得られる。この積層体72の端面74は、散乱
線吸収部2と散乱線吸収板3が実質的に格子状に配置さ
れており各格子の中にスペーサ4が配置された構造とな
っている。
態のグリッド70の製造方法について説明する。図3
は、グリッド70の構成部品を分離した状態を示す斜視
図である。図4(A)はこれらの部品を重ね合わせた積層
体(第2積層体)72の斜視図であり、(B)は、積層
体を分離して得られたグリッド70の斜視図である。最
初に図3を参照すると、図2に示される、積層体10を
切り離して形成したグリッド1と、散乱線吸収材料から
形成された、放射線吸収材料の層となる散乱線吸収板3
とが重ね合わされて互いに接着されるよう交互に用意さ
れる。これらを重ね合わせて図4(A)に示される積層
体72が得られる。この積層体72の端面74は、散乱
線吸収部2と散乱線吸収板3が実質的に格子状に配置さ
れており各格子の中にスペーサ4が配置された構造とな
っている。
【0027】この積層体72を仮想線で示す如く端面近
傍から順次、板状に切り離すことにより、(B)に示す
グリッド70を得ることができる。ここに示す実施形態
では、各グリッド1間にはグリッド1で用いられた散乱
線吸収部2と同じ材料の散乱線吸収板3が材料の種類を
少なくするために使用されているが、同様のX線吸収特
性を有するものであれば異なる材料であってもよい。こ
のグリッド70は、散乱線を均一に除去し、また、略均
一な可撓性を有する。このグリッド70の両面に、第1
実施形態のグリッド1に施したのと同様に、図示しない
補強板を設けて補強してもよい。
傍から順次、板状に切り離すことにより、(B)に示す
グリッド70を得ることができる。ここに示す実施形態
では、各グリッド1間にはグリッド1で用いられた散乱
線吸収部2と同じ材料の散乱線吸収板3が材料の種類を
少なくするために使用されているが、同様のX線吸収特
性を有するものであれば異なる材料であってもよい。こ
のグリッド70は、散乱線を均一に除去し、また、略均
一な可撓性を有する。このグリッド70の両面に、第1
実施形態のグリッド1に施したのと同様に、図示しない
補強板を設けて補強してもよい。
【0028】次に図5を参照して所定の曲率半径の湾曲
面、即ち球面23を有するグリッド1aを形成する、第
1実施形態のグリッド装置20について説明する。図5
はグリッド装置20の断面図である。グリッド装置20
は、ハウジング22と、このハウジング22内に配置さ
れた、メッシュ板等の多孔板24を有する。グリッド支
持手段となる多孔板24は多数の孔25を有し、必要と
される曲率半径r1の球面32に形成され、加圧下で変
形しないよう十分な剛性を有する。多孔板24は、曲率
の異なるものを複数個用意し、交換することが可能であ
る。
面、即ち球面23を有するグリッド1aを形成する、第
1実施形態のグリッド装置20について説明する。図5
はグリッド装置20の断面図である。グリッド装置20
は、ハウジング22と、このハウジング22内に配置さ
れた、メッシュ板等の多孔板24を有する。グリッド支
持手段となる多孔板24は多数の孔25を有し、必要と
される曲率半径r1の球面32に形成され、加圧下で変
形しないよう十分な剛性を有する。多孔板24は、曲率
の異なるものを複数個用意し、交換することが可能であ
る。
【0029】ハウジング22の側部には吸引ポンプ用の
開口26、及びこの開口26に連通するパイプ28が形
成されている。このハウジング22にグリッド1を図の
ように載置し、パイプ28に接続された吸引ポンプ等の
吸引手段29で多孔板24の背後からハウジング22内
の空気を吸引すると、可撓性を有するグリッド1は、図
に鎖線で示す如く湾曲して多孔板24に押しつけられ、
所定の曲率の球面を有するグリッド1aが形成される。
これにより、グリッド1aの放射線非吸収部2は、スペ
ーサ部4が変形することによりX線源Sに対し整列す
る。
開口26、及びこの開口26に連通するパイプ28が形
成されている。このハウジング22にグリッド1を図の
ように載置し、パイプ28に接続された吸引ポンプ等の
吸引手段29で多孔板24の背後からハウジング22内
の空気を吸引すると、可撓性を有するグリッド1は、図
に鎖線で示す如く湾曲して多孔板24に押しつけられ、
所定の曲率の球面を有するグリッド1aが形成される。
これにより、グリッド1aの放射線非吸収部2は、スペ
ーサ部4が変形することによりX線源Sに対し整列す
る。
【0030】図6は、第2実施形態のグリッド装置30
の断面図を示す。このグリッド装置30は、上面に所定
の曲率半径r2の湾曲面、即ち球面33が形成された型
34を有する。グリッド支持手段となる型34の球面3
3には、全面、或いは適宜位置にマジックテープ36a
が接着される。他方グリッド1の下面8にも、同様のマ
ジックテープ36bが接着される。これらのマジックテ
ープ36a、36bを固定手段36という。グリッド1を
型34の球面33、即ち凹面に押圧するとグリッド1
は、仮想線で示す如く所定の曲率半径の球面状に変形し
て、型34に固定されたグリッド1bが得られる。この
時、第1実施形態と同様に、放射線非吸収部4は下部が
拡大し、上部縮小するように変形するので、放射線吸収
部2はX線源Sから放射されるX線源の進行方向に対し
整列する。図ではこれらの整列状態は一部のみ示すが、
実際は全体に渡り整列されている。この実施形態におい
ては、マジックテープ36を使用したが、接着手段とし
てマグネットフィルムと磁性体フィルムの組み合わせで
もよい。
の断面図を示す。このグリッド装置30は、上面に所定
の曲率半径r2の湾曲面、即ち球面33が形成された型
34を有する。グリッド支持手段となる型34の球面3
3には、全面、或いは適宜位置にマジックテープ36a
が接着される。他方グリッド1の下面8にも、同様のマ
ジックテープ36bが接着される。これらのマジックテ
ープ36a、36bを固定手段36という。グリッド1を
型34の球面33、即ち凹面に押圧するとグリッド1
は、仮想線で示す如く所定の曲率半径の球面状に変形し
て、型34に固定されたグリッド1bが得られる。この
時、第1実施形態と同様に、放射線非吸収部4は下部が
拡大し、上部縮小するように変形するので、放射線吸収
部2はX線源Sから放射されるX線源の進行方向に対し
整列する。図ではこれらの整列状態は一部のみ示すが、
実際は全体に渡り整列されている。この実施形態におい
ては、マジックテープ36を使用したが、接着手段とし
てマグネットフィルムと磁性体フィルムの組み合わせで
もよい。
【0031】図7は、第3実施形態のグリッド装置40
を示し、(A)は、グリッド装置40を分離して示す斜
視図であり、(B)は、グリッド1を球面状にした状態
の断面図である。(A)を参照すると、グリッド1は、
薄い板部材42の上に載置されている。グリッド1は、
単に板部材42上に載置するだけでよいが、接着シート
等の適宜手段により接着してもよい。板部材42は、中
央部分が円形状に薄く形成された薄肉部分44を有す
る。薄肉部分44は、中央部がもっとも薄く周辺に離れ
るに従って厚みを増すように形成してもよい。板部材4
4は、金属製でもよく、比較的硬質のプラスチック等の
フィルムでもよい。
を示し、(A)は、グリッド装置40を分離して示す斜
視図であり、(B)は、グリッド1を球面状にした状態
の断面図である。(A)を参照すると、グリッド1は、
薄い板部材42の上に載置されている。グリッド1は、
単に板部材42上に載置するだけでよいが、接着シート
等の適宜手段により接着してもよい。板部材42は、中
央部分が円形状に薄く形成された薄肉部分44を有す
る。薄肉部分44は、中央部がもっとも薄く周辺に離れ
るに従って厚みを増すように形成してもよい。板部材4
4は、金属製でもよく、比較的硬質のプラスチック等の
フィルムでもよい。
【0032】グリッド1と板部材42からなる組立体4
5は、台、即ちセンサ(図示せず)の天板46に載置さ
れる。天板46には板部材42の周辺部に沿って天板4
6から円柱状の4本のアクチュエータ48が突出する。
これらのアクチュエータ48は図示しない駆動機構によ
り、天板46の開口46aから任意の高さに突出するよ
う構成されている。これらの駆動機構、アクチュエータ
を曲率変更手段という。
5は、台、即ちセンサ(図示せず)の天板46に載置さ
れる。天板46には板部材42の周辺部に沿って天板4
6から円柱状の4本のアクチュエータ48が突出する。
これらのアクチュエータ48は図示しない駆動機構によ
り、天板46の開口46aから任意の高さに突出するよ
う構成されている。これらの駆動機構、アクチュエータ
を曲率変更手段という。
【0033】次に(B)を参照して組立体45を天板4
6に載置した状態で、アクチュエータ48を駆動して板
部材42の周辺を下方から押圧するように上昇させる
と、板部材42の周辺は、上方に持ち上げられ、中央部
は組立体45の重みでそのまま残るので板部材42は全
体として球面52に形成される。従って板部材42上の
グリッド1は球面52に沿って湾曲し、所望のグリッド
1cが得られる。アクチュエータ48の突出高さを変え
ることにより所望の曲面を得ることができる。スペーサ
部4が変形して、放射線非吸収部2が放射線源Sに整列
することは、前述の各実施形態と同様である。
6に載置した状態で、アクチュエータ48を駆動して板
部材42の周辺を下方から押圧するように上昇させる
と、板部材42の周辺は、上方に持ち上げられ、中央部
は組立体45の重みでそのまま残るので板部材42は全
体として球面52に形成される。従って板部材42上の
グリッド1は球面52に沿って湾曲し、所望のグリッド
1cが得られる。アクチュエータ48の突出高さを変え
ることにより所望の曲面を得ることができる。スペーサ
部4が変形して、放射線非吸収部2が放射線源Sに整列
することは、前述の各実施形態と同様である。
【0034】板部材42は天板46上に配置した際、移
動しないように任意の接着手段で接着してもよい。アク
チュエータ48の配置は、グリッド1の中央部に対し、
放射状に均等な距離にあることが、正確な湾曲面を形成
するために必要である。この実施形態では4本使用した
が、適宜本数を使用することができる。
動しないように任意の接着手段で接着してもよい。アク
チュエータ48の配置は、グリッド1の中央部に対し、
放射状に均等な距離にあることが、正確な湾曲面を形成
するために必要である。この実施形態では4本使用した
が、適宜本数を使用することができる。
【図1】本発明の第1実施形態の散乱線除去グリッドの
側断面図
側断面図
【図2】図1の散乱線除去グリッドの製造過程を示す斜
視図
視図
【図3】本発明の第2実施形態のグリッドの構成部品を
分離した斜視図
分離した斜視図
【図4】(A)は、第2積層体の斜視図であり、(B)
は、第2積層体から形成された、第2実施形態のグリッ
ドの斜視図
は、第2積層体から形成された、第2実施形態のグリッ
ドの斜視図
【図5】本発明の第1実施形態のグリッド装置の断面図
【図6】本発明の第2実施形態のグリッド装置の断面図
【図7】本発明の第3実施形態のグリッド装置であり、
(A)は、組立体を分離した斜視図(B)は、グリッドを球面
に変形させたときの断面図
(A)は、組立体を分離した斜視図(B)は、グリッドを球面
に変形させたときの断面図
【図8】従来の散乱線除去グリッドの一例を示す断面図
1,1a,1b,1c 散乱線除去グリッド 2 第1層 4 第2層 10 第1積層体 20,30,40 グリッド装置 32,33 球面 24,34 グリッド支持手段 36 固定手段 42 板部材 44 中央部 48 曲率変更手段 70 第2グリッド 72 第2積層体
Claims (5)
- 【請求項1】 全体として球面状に形成され、球面の曲
率を可変とする柔軟な材料で構成されたことを特徴とす
る散乱線除去グリッド。 - 【請求項2】 請求項1記載の散乱線除去グリッドと、 夫々が異なる曲率の球面を有し、該球面上に前記散乱線
除去グリッドを球面状に支持する複数の交換可能なグリ
ッド支持手段と、 前記散乱線除去グリッドを前記球面に固定するための固
定手段と、を備えてなることを特徴とするグリッド装
置。 - 【請求項3】 請求項1記載の散乱線除去グリッドと、 該散乱線除去グリッドを載置する、球面状に曲率を変え
るように変形可能な可撓性板部材と、 該板部材の周辺部を前記グリッドの中央部より高い任意
の位置に変位させることにより前記グリッドを任意の曲
率半径の球面状とする曲率変更手段と、を備えてなるこ
とを特徴とするグリッド装置。 - 【請求項4】 放射線吸収材料で形成された第1層と、
柔軟性を有する放射線非吸収材料で形成された第2層を
交互に重ね合わせ、接着して積層体を形成し、 該積層体を前記各層に垂直な面に沿って板状に切り離し
てグリッドを形成することを特徴とする散乱線除去グリ
ッドの製造方法。 - 【請求項5】放射線吸収材料で形成された第1層と、柔
軟性を有する放射線非吸収材料で形成された第2層を交
互に重ね合わせ、接着して第1積層体を形成し、 該第1積層体を前記各層に垂直な面に沿って板状に切り
離して第1グリッドを形成し、該第1グリッドと任意の
放射線非吸収材料の層を交互に積層して第2積層体を形
成し、 該第2積層体を前記各層に垂直な面に沿って板状に切り
離して第2グリッドを形成することを特徴とする散乱線
除去グリッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11018561A JP2000217813A (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 散乱線除去グリッド、グリッド装置、および散乱線除去グリッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11018561A JP2000217813A (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 散乱線除去グリッド、グリッド装置、および散乱線除去グリッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000217813A true JP2000217813A (ja) | 2000-08-08 |
Family
ID=11975045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11018561A Withdrawn JP2000217813A (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 散乱線除去グリッド、グリッド装置、および散乱線除去グリッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000217813A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1182671A2 (en) | 2000-08-24 | 2002-02-27 | General Electric Company | X-ray anti-scatter grid |
WO2003092503A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Arcoma Ab | X-ray grid arrangement |
WO2004013866A3 (en) * | 2002-08-02 | 2004-07-15 | Mecall S R L | Device for adjustment of the anti-scattering grid to the focal length for radiological equipment |
CN1314053C (zh) * | 2002-01-26 | 2007-05-02 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于吸收x射线的栅 |
JP2008048910A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Shimadzu Corp | X線グリッド |
DE102012217965A1 (de) * | 2012-10-01 | 2014-04-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Streustrahlenraster mit variablem Fokusabstand und Verfahren zum Einstellen des Fokusabstands eines Streustrahlenrasters |
KR101485836B1 (ko) * | 2013-10-28 | 2015-01-26 | 제이피아이헬스케어 주식회사 | 가압방식을 이용한 x선 그리드 제조방법 |
CN112788995A (zh) * | 2018-10-04 | 2021-05-11 | 皇家飞利浦有限公司 | 自适应防散射设备 |
-
1999
- 1999-01-27 JP JP11018561A patent/JP2000217813A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002191596A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-07-09 | General Electric Co <Ge> | X線散乱防止グリッド |
EP1182671A2 (en) | 2000-08-24 | 2002-02-27 | General Electric Company | X-ray anti-scatter grid |
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US7127038B2 (en) | 2002-04-30 | 2006-10-24 | Arcoma Ab | X-ray grid arrangement |
WO2003092503A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Arcoma Ab | X-ray grid arrangement |
WO2004013866A3 (en) * | 2002-08-02 | 2004-07-15 | Mecall S R L | Device for adjustment of the anti-scattering grid to the focal length for radiological equipment |
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