JP4746245B2 - 散乱線除去格子 - Google Patents

散乱線除去格子 Download PDF

Info

Publication number
JP4746245B2
JP4746245B2 JP2001571425A JP2001571425A JP4746245B2 JP 4746245 B2 JP4746245 B2 JP 4746245B2 JP 2001571425 A JP2001571425 A JP 2001571425A JP 2001571425 A JP2001571425 A JP 2001571425A JP 4746245 B2 JP4746245 B2 JP 4746245B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
absorbing elements
scattered
generally
grating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001571425A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003529087A (ja
JP2003529087A5 (ja
Inventor
キャスルベリー,ドナルド・アール
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of JP2003529087A publication Critical patent/JP2003529087A/ja
Publication of JP2003529087A5 publication Critical patent/JP2003529087A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4746245B2 publication Critical patent/JP4746245B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/025Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Description

【0001】
【発明の背景】
本発明は、全般的には、放射線撮影法に関し、さらに詳細には、放射線写真画像を改善するための散乱線除去格子、並びに散乱線除去格子を形成するための方法及び装置に関する。
【0002】
医用イメージング・システムでは、感光性フィルムまたは検出器に到達するX線放射は、有用な画像を形成する減衰を受けた1次放射線と、画像を劣化させる散乱放射線との両方を含んでいる。多くの場合、散乱線除去格子を患者と感光性フィルムまたは検出器との間に挿入して1次放射線の大部分を通過させながら散乱放射線を減衰させている。
【0003】
散乱線除去格子の一タイプは、交互配置とした鉛箔のストリップと、中実の高分子材料または中実の高分子材料/ファイバの複合材料などのすきま材料と、を含んでいる。鉛箔のストリップは、典型的には、1次放射線の減衰が最小となるように、X線源の方向に整列させて積み重ねられる。中実のすきま材料を使用する欠点は、このすきま材料が放射線写真画像の品質に悪影響を与える放射線の減衰や散乱を示すことである。
【0004】
このタイプの散乱線除去格子での別の欠点は、従来の製造工程が、鉛箔ストリップと中実のすきま材料とを個々に時間をかけて貼り合わせること、すなわち、鉛箔ストリップとすきま材料の層を交互に互いに糊付けしこうした交互の層の数千層により1つのスタックを構成させること、より成り立っていることである。さらに、収束させた散乱線除去格子を製作するには、個々の層を互いに対して若干の角度をもたせて配置し各層を集束点(すなわち、放射線源)に固定して収束させるように精密な方式により個々の層を配置する必要がある。
【0005】
鉛箔ストリップとすきま材料の複合物をスタックに組み上げた後、次いでこのスタックをその主面に沿って切断し、希望する格子厚さになるまで慎重に機械加工する。この厚さは僅か0.5ミリメートル程度の薄さとすることもある。例えば、40センチメートル×40センチメートル×0.5ミリメートルのような脆弱な複合物では取り扱いが困難である。そのスタックが機械加工及び取り扱いの工程に耐える場合は、このスタックには機械加工した表面に沿って保護用カバーを貼り合わせ脆弱な層状アセンブリを補強し、当該分野で使用するのに十分な機械的強度を与える。
【0006】
いわゆる「空気クロスグリッド」という別のタイプの散乱線除去格子では、格子パネルを通過して延びる極めて多数の連続した気体通路(open air passage)を有している。この格子パネルは区画セグメントにより画定される開口を通るようにフォトエッチングして生成させた複数の薄い金属箔シートを貼り合わせることにより製作されている。エッチングしたシートは貼り合わされた格子パネルが形成されるように整列させて結合させる。こうした散乱線除去格子は、大きな労力を要すると共に製作に費用がかかり、かつ区画セグメントの大きさによっては製造及び使用の間に損傷を受けやすい。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
放射線写真画像の分解能及びコントラストを上昇させることができる堅牢構造の散乱線除去格子が必要とされている。さらに、放射線源と整列させた複数の放射線吸収ストリップを有する散乱線除去格子を形成するための装置及び方法が必要とされている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一態様では、放射線撮影で使用するための散乱線除去格子であって、複数の概して放射線吸収性のエレメントと、この複数の概して放射線吸収性のエレメントの間に間隔をとって1次放射線を該散乱線除去格子を通過させるための複数の概して放射線非吸収性のエレメントとを含み、この複数の概して放射線非吸収性のエレメントは複数の空隙を含むようにした散乱線除去格子である。
【0009】
別の態様では、放射線撮影用の散乱線除去格子を形成するための一装置は、第1の端部部分と第2の端部部分を有するアームを含んでいる。このアームの第1の端部部分は、第2の部分が円弧状に移動可能となるように1つの軸の周りでピボット可能である。第2の端部部分はこの軸と整列させることができる表面を有しており、この表面は間隔をとった複数の放射線吸収性のエレメントをこの軸と整列させるように動作可能である。
【0010】
また別の態様では、放射線撮影用の散乱線除去格子を形成するための一方法は、1つの軸と整列可能であると共にこの軸の周りで1つの円弧に沿って移動可能である表面を提供すること、複数の概して放射線吸収性のエレメントを提供すること、並びにこの表面を使用して複数の概して放射線吸収性のエレメントを間隔をとった関係で配置して該複数の放射線吸収性のエレメントをこの軸に整列するように角度設定すること、を含んでいる。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1は放射線写真撮影の仕組みを図示したものである。X線管などの管1は、患者身体の一部分などの身体3に向けて伝搬されるX線放射2を発生させかつ放出する。X線放射経路のある部分4は身体3により吸収され、X線放射のある部分は経路5及び6に沿って1次放射線として貫通して伝搬し、またさらに別のX線放射は経路7に沿って散乱放射線として方向が逸らされて伝搬する。経路5、6及び7は代表例であり、限定ではなく例示の目的で示したものである。
【0012】
経路5、6及び7からの放射線は感光性フィルム8の方向に伝搬し、このフィルムの位置で放射線は増感用スクリーン(増感紙)9により吸収される。この増感用スクリーンには、可視光の波長で蛍光を発してこれにより感光性フィルム8に潜像を露光する(放射線写真を撮影する)ための感光材料がコーティングされている。
【0013】
別法として、感光性フィルムではなく、ディジタルX線検出器(図示せず)などの検出器を適宜利用することもできる。例えば、適当な検出器の1つは、約100マイクロメートルの画素ピッチを有するアモルファス・シリコン製のトランジスタ・フォトダイオードのアレイ上にヨウ化セシウム蛍光体(シンチレータ)を含むことがある。別の適当な検出器としては、電荷結合素子(CCD)や、X線を直接ディジタル信号に変換している直接式ディジタル検出器などを含むことがある。この感光性フィルムは平坦でありかつ平坦な画像面を画定しているように示しているが、感光性フィルムやディジタル検出器に関して別の構成(例えば、曲がった画像面を有する曲面状の感光性フィルムまたはディジタル検出器)も適宜利用することができる。
【0014】
本発明の図示した散乱線除去格子10(すなわち、コリメータ)は、身体3と感光性フィルム8の間に配置させフィルム8に到達する前に放射線経路5、6及び7が散乱線除去格子10と交差するようにしている。限定としてではなく一例として、放射線経路6は散乱線除去格子10の複数の概して放射線非吸収性のエレメント11のうちの1つを通過して伝搬し、また放射線経路5及び7の両者は複数の概して放射線吸収性のエレメント12のうちの別々の1つの上に入射して吸収される。
【0015】
放射線経路7に沿った散乱ビームの吸収により悪影響を及ぼす散乱放射線が除去される。放射線経路5に沿ったビームの吸収により1次放射線の一部分が除去される。1次放射線の残りの部分を意味している放射線経路6は感光性フィルム8(または、その他の検出器)に向けて伝搬し、増感用感光性スクリーン9により吸収される。この増感用感光性スクリーン9は可視光の波長で蛍光を発しており、これにより感光性フィルム8に潜像が露光される。
【0016】
概して放射線非吸収性のエレメント11は、概して放射線吸収性のエレメント12と比較して、放射線撮影で使用される放射線に対して低い放射線吸収を示す。概して放射線吸収性のエレメントは、この概して放射線吸収性のエレメントに当たる1次放射線の少なくとも90パーセント、好ましくは少なくとも95パーセント、を吸収するように動作可能な材料及び高さ(以下で検討するが、この値はストリップの角度により異なる)を備えることが望ましい。概して放射線非吸収性のエレメントは、以下で検討するような大きさ及び構成として、この概して放射線非吸収性のエレメントに当たる1次放射線の少なくとも90パーセント、好ましくは少なくとも95パーセント、を通過させることができるように動作可能である。
【0017】
図2は、本発明の散乱線除去格子10の一部分の側面の拡大断面図である。この複数の概して放射線吸収性のエレメント12は、例えば、間隔をとった鉛箔からなるストリップを備えている。その他の適当な概して放射線吸収性の材料としては、タングステンやタンタルなどがある。外側保護用カバー22及び24は、典型的にはグラファイト/エポキシの複合材から形成されており、概して放射線吸収性のエレメントと概して放射線非吸収性のエレメントを交互配置した層を保護するためにその上面及び底面に配置している。
【0018】
図3で最良に示すように、複数の概して放射線非吸収性のエレメント11は成形可能なエポキシや高分子材料13と、空気または気体を満たした複数の中空の微小球15とからなる複合物を備えている。この複数の中空の微小球15により概して放射線非吸収性のエレメント11内の複数の空隙17のそれぞれが画定されている。概して放射線非吸収性のエレメント内に空隙を設けることにより散乱線除去格子内で生じる減衰及び散乱の量を、中実の概して放射線非吸収性のエレメントと比較して減少させることができる。
【0019】
さらに、間隔をとった概して放射線吸収性のエレメント同士の間のすきまの概して全体を複数の空隙を有する概して放射線非吸収性のエレメントにより占有させる(すなわち、満たす)ことにより、構造が堅牢であり中実のすきま材料を有する従来の散乱線除去格子と比べ1次放射線の吸収をより少なくすることができる散乱線除去格子10が得られ、また高分解能で高コントラストな放射線写真画像を得ながら、放射線撮影の際に感光性フィルムまたは検出器の適正な露光に必要な放射線量を減少させることができる。
【0020】
中空の微小球は、典型的には、プラスチックやガラスにより製作される。中空の微小球はエポキシやその他の高分子結合剤と混合し、望ましくは概して放射線非吸収性のエレメントを形成するように剛体材料を形成させる。例えば、中空の微小球は、その密度がエポキシや結合剤だけの場合の約4分の1である概して非放射線吸収性のエレメントが得られるような体積分率(volume fraction)で使用されるのが通例である。エポキシまたは結合剤は熱硬化可能とし(例えば、熱を使用して)短時間で硬化を受けて散乱線除去格子において1回あたり1つの層を迅速に作り上げられるようにすることが望ましい(これについては以下でさらに詳細に説明する)。
【0021】
中空の微小球の平均粒子サイズ(例えば、球の平均外径)は約20マイクロメートルと約150マイクロメートルの間にあり、約50マイクロメートルが望ましい。適当なガラス製の中空微小球としては、3M Speciality Materials(St.Paul,Minnesota)が製造している3M SCOTCHLITEガラス泡(glass bubble)などがある。適当なプラスチックまたは高分子製の中空微小球としては、Asia Pacific Microspheres Sdn Bhd(Selangor,Malaysia)が製造しているPHENOSETフェノール微小球などがある。
【0022】
上記の製品は例として提示したものである。当業者であれば、提示した説明から、中空の微小球を形成するために、ガラス、セラミック、プラスチック材料、あるいはこれらの複合材など、その他の様々な材料を使用することができることを理解するであろう。さらに、結合剤や充填用すきま材料としては、その他の様々なエポキシや高分子材料を適宜使用することができる。
【0023】
さらに、当業者であれば、提示した説明から、中実の形態の材料と比較して十分な構造上の一体性を示しながら内部の空隙により放射線の吸収及び散乱を減少させた概して放射線非吸収性のエレメントのために、空隙を有する別の材料を使用することもできることを理解するであろう。例えば、こうした代替材料としては、発泡プラスチック(expanded plastics)、連続気泡フォーム(open cell foam)、独立気泡フォーム(closed cell foam)、などがある。
【0024】
例えば、多数の発泡性または気泡性の組成で使用される材料としては、酢酸セルロース、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、シリコーン、ユリアホルムアルデヒド樹脂、ポリウレタン、フォームラバー(latex foam rubber)、天然ゴム、合成ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレンなどがある。
【0025】
再び図2を参照すると、医学診断用の放射線撮影では、保護用カバー22、24の各内面間の高さhと、平均離間距離d(例えば、格子の中心線に沿って計測する)との比として定義される格子比は、一般に2:1から16:1までの範囲にある。放射線吸収性ストリップの典型的な寸法は、それぞれ約1.5ミリメートルの高さ(高さはストリップの角度により異なる)と約0.02ミリメートルの厚さtとを含み、約0.3ミリメートルのストリップ間ピッチを含む。
【0026】
図4は、放射線撮影用の散乱線除去格子を形成するための一装置40を表している。装置40は概して放射線吸収性のエレメントと概して放射線非吸収性のエレメントからなる様々な層を積み重ねるように動作可能であると共に、概して放射線吸収性のエレメントは放射線源と整列するように角度付けする(例えば、図1に示すように角度A1、A2、...、Anに整列させる)と有利である。
【0027】
装置40は一般に、支柱42と、延長させたアーム50と、スタンド60と、位置決め手段70と、を含む。アーム50は、第1の端部部分52と、その反対側の第2の端部部分54と、を含む。アーム50の第1の端部部分52は、支柱42のピボット44に対してピボット動作するように装着し、第1の端部部分52が軸A(図4では、紙面を貫通して延びるように示す)の周りにピボット可能であり、かつ第2の端部部分54が円弧Cにわたって移動可能としている。アーム50の第2の端部部分54は、軸Aに整列した概して平面状の表面56を含む。軸Aとスタンド60は、放射線撮影時の放射線源と散乱線除去格子の位置関係に対応した間隔をとる。
【0028】
散乱線除去格子110を形成させるための装置40の操作を次に示す。先ず、散乱線除去格子の所望の最終的高さを超えるサイズとした鉛箔などの放射線吸収性のエレメント112を、スタンド60の傾斜させた表面62上に配置する。この傾斜表面62は概して放射線吸収性のエレメントの最外側の角度(例えば、X線源から放出される扇形に拡散するビームの中心ビーム経路に対する角度)に対応させることが望ましい。この鉛箔上には、放射線非吸収性のエレメント111を形成するため、望ましくは成形可能なエポキシまたは高分子材料を1つの玉状に配置させる。しかる後に、同様に散乱線除去格子の所望の最終的高さを超えるサイズとした放射線吸収性のエレメント112を次にアーム50の表面56に装着する。アーム50は、第1の鉛箔112からある間隔をとった位置まで下げられる。精密直線アクチュエータなどの位置決め手段70は、所望の位置でアーム50を停止させるよう従来通りに制御して鉛箔を位置決めできることが望ましい。
【0029】
表面56を加熱すると有利である。例えば、表面56を加熱するための加熱手段58としては、ヒータや加熱コイルを含むことができる。加熱した表面を使用することにより、鉛箔が加熱され、次いで加熱された鉛箔がエポキシまたは高分子材料を加熱することにより、次の層を付加するまでにエポキシまたは高分子材料を十分に硬化させる及び硬くするのに要する時間が短縮される。この過程は格子の所望の全体サイズ(約1,000層)が達成されるまで反復させる。
【0030】
当業者であれば、提示した説明から、ストリップの放射線源に対する角度が小さい(例えば、数度である)場合には、表面62を水平とすることもできることを理解するであろう。最外側のストリップは軸または放射線源と整列しないことになるが、すきま材料により、その次の層並びに残りの層を放射線源と整列させることができる。さらに、様々なサイズの散乱線除去格子に対応するために、スタンド60は垂直方向に位置決め可能で調節可能な表面を含むことができることも理解するであろう。
【0031】
次いで、この一体構造の集合体は、散乱線除去格子の所望の厚さになるまで機械加工する。図5に示すように、装置40を使用して形成した散乱線除去格子110(すなわち、コリメータ)は、概して放射線吸収性のエレメント112と中実で概して放射線非吸収性のエレメント111とからなる交互配置の層を含んでいる。別法として、上述のように、装置40を使用して空隙をもつ概して放射線非吸収性のエレメントを有する散乱線除去格子を形成することもできる。
【0032】
外側保護層122及び124は、典型的には、グラファイト/エポキシの複合材であり、概して放射線吸収性のエレメント及び概して放射線非吸収性のエレメントの擦り傷を防ぐための外側保護用カバーを形成するように両面に貼り合わされる。研磨、塗装、ラミネート加工、化学的グラフト加工、吹き付け、接着など様々な表面仕上げ技法のうちの任意の技法を利用して、格子に対する全体的保護や美観上のアピールを施すために格子を清浄したり覆ったりすることができる。さらに、この保護層は、放射線吸収性のエレメントが鉛などの金属を含む場合に安全上の問題からも有用である。
【0033】
当業者であれば、提示した説明から、間隔をとった放射線吸収性のエレメントの位置を調整するための位置決め手段は、サーボ作動式のモータ、歯車、その他の適当な機構を含むことができることを理解するであろう。硬化可能な放射線非吸収性の材料の堆積、並びに放射線吸収層の堆積及び位置決めは、自動で実行することが望ましい。
【0034】
本発明の散乱線除去格子内では、減衰が少なくなり、また使用する放射線の量(例えば、患者が受ける線量)を大幅に増加させることがない。さらに、2つの散乱線除去格子を、一方の散乱線除去格子の放射線吸収性ストリップがもう一方の散乱線除去格子の放射線吸収性ストリップに対して直角に向くように重ね合わせることにより、散乱放射線をさらに減少させることができる。
【0035】
このように、本発明の様々な実施形態について図示し説明してきたが、当業者であれば、本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、本発明に対して多くの変更や修正を行うことができることを理解するであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の散乱線除去格子を備えた放射線写真撮影の仕組みの正面図である。
【図2】 図1の散乱線除去格子の一部分の拡大断面図である。
【図3】 図2の散乱線除去格子の概して放射線非吸収性のエレメントの一部分の拡大断面図である。
【図4】 本発明による散乱線除去格子を形成するための一装置の正面模式図である。
【図5】 図4の装置を使用して形成した散乱線除去格子の拡大断面図である。
【符号の説明】
1 X線管
2 X線放射、放射線
3 身体
4 放射経路(身体により吸収される放射線)
5 放射経路(放射線吸収性エレメントに入射する1次放射線)
6 放射経路(放射線非吸収性エレメントを通過する1次放射線)
7 放射経路(放射線吸収性エレメントに入射する散乱放射線)
8 感光性フィルム
9 増感用スクリーン
10 散乱線除去格子
11 概して放射線非吸収性のエレメント
12 概して放射線吸収性のエレメント
13 エポキシ、高分子材料
15 中空の微小球
17 空隙
22 外側保護用カバー
24 外側保護用カバー
40 散乱線除去格子の形成装置
42 支柱
44 ピボット
50 アーム
52 アームの第1の端部部分
54 アームの第2の端部部分
56 表面
58 加熱手段
60 スタンド
62 傾斜表面
70 位置決め手段
110 散乱線除去格子
111 放射線非吸収性のエレメント
112 放射線吸収性のエレメント、鉛箔
122 外側保護層
124 外側保護層

Claims (8)

  1. 放射線撮影で使用するための散乱線除去格子あって、 複数放射線吸収性のエレメント(12)と、
    複数の空隙(17)を含み、前記複数放射線吸収性のエレメント(12)の間に間隔をとって1次放射線を該散乱線除去格子通過させるための複数放射線非吸収性のエレメント(11)と、
    前記複数の空隙(17)を画定している複数の中空の微小球(15)と、を備える、散乱線除去格子
  2. 前記複数放射線非吸収性のエレメント(11)が熱硬化可能な材料を含む、請求項1に記載の散乱線除去格子
  3. 前記複数放射線非吸収性のエレメント(11)がエポキシ及び高分子材料(13)のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の散乱線除去格子
  4. 前記複数放射線非吸収性のエレメント(11)の密度が前記エポキシ及び前記高分子材料(13)のうちの前記少なくとも1つの密度の約4分の1である、請求項3に記載の散乱線除去格子
  5. 前記複数放射線吸収性のエレメント(12)が前記複数放射線非吸収性のエレメント(11)と異なる材料を含む、請求項1に記載の散乱線除去格子
  6. 前記複数放射線吸収性のエレメント(12)が鉛を含み、かつ前記複数放射線非吸収性のエレメント(11)がエポキシ及び高分子材料(13)のうちの少なくとも1つを含む、請求項5に記載の散乱線除去格子
  7. 前記複数放射線吸収性のエレメント(11)と前記複数放射線非吸収性のエレメント(12)とにより交互配置された層を構成している、請求項1に記載の散乱線除去格子
  8. さらに第1の保護用カバー(22)と第2の保護用カバー(24)とを備えていると共に、前記複数放射線吸収性のエレメント(12)及び前記複数放射線非吸収性のエレメント(11)は前記第1の保護用カバー(22)と前記第2の保護用カバー(24)の間に配置されている、請求項1に記載の散乱線除去格子
JP2001571425A 2000-03-28 2001-02-21 散乱線除去格子 Expired - Fee Related JP4746245B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/536,850 2000-03-28
US09/536,850 US6438210B1 (en) 2000-03-28 2000-03-28 Anti-scatter grid, method, and apparatus for forming same
PCT/US2001/005442 WO2001073794A1 (en) 2000-03-28 2001-02-21 Anti-scatter grid, method, and apparatus for forming same

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003529087A JP2003529087A (ja) 2003-09-30
JP2003529087A5 JP2003529087A5 (ja) 2008-04-10
JP4746245B2 true JP4746245B2 (ja) 2011-08-10

Family

ID=24140174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001571425A Expired - Fee Related JP4746245B2 (ja) 2000-03-28 2001-02-21 散乱線除去格子

Country Status (7)

Country Link
US (2) US6438210B1 (ja)
EP (1) EP1185986B1 (ja)
JP (1) JP4746245B2 (ja)
KR (1) KR100801118B1 (ja)
AT (1) ATE305168T1 (ja)
DE (1) DE60113492T2 (ja)
WO (1) WO2001073794A1 (ja)

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6438210B1 (en) * 2000-03-28 2002-08-20 General Electric Company Anti-scatter grid, method, and apparatus for forming same
CA2448736C (en) 2001-06-05 2010-08-10 Mikro Systems, Inc. Methods for manufacturing three-dimensional devices and devices created thereby
US7785098B1 (en) 2001-06-05 2010-08-31 Mikro Systems, Inc. Systems for large area micro mechanical systems
US7141812B2 (en) * 2002-06-05 2006-11-28 Mikro Systems, Inc. Devices, methods, and systems involving castings
DE10136946A1 (de) * 2001-07-28 2003-02-06 Philips Corp Intellectual Pty Streustrahlenraster für eine Röntgeneinrichtung
FR2834377B1 (fr) * 2001-12-31 2004-03-26 Ge Med Sys Global Tech Co Llc Grille anti-diffusante et procede de fabrication d'une telle grille
KR20030086400A (ko) * 2002-05-04 2003-11-10 정원정밀공업 주식회사 디지털 방사선 시스템에 적용되는 비산란 그리드 및 그제조방법
US7099428B2 (en) * 2002-06-25 2006-08-29 The Regents Of The University Of Michigan High spatial resolution X-ray computed tomography (CT) system
AU2003255736A1 (en) * 2002-07-26 2004-02-16 Bede Plc Optical device for high energy radiation
DE10241424B4 (de) * 2002-09-06 2004-07-29 Siemens Ag Streustrahlenraster oder Kollimator sowie Verfahren zur Herstellung
DE10241423B4 (de) * 2002-09-06 2007-08-09 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung und Aufbringung eines Streustrahlenrasters oder Kollimators auf einen Röntgen- oder Gammadetektor
JP4149230B2 (ja) * 2002-10-16 2008-09-10 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影システムおよび放射線画像検出器
US7564940B2 (en) * 2003-07-22 2009-07-21 Koninklijke Philips Electronics N.V. Radiation mask for two dimensional CT detector
FR2877761B1 (fr) * 2004-11-05 2007-02-02 Gen Electric Grilles anti-diffusantes a multiples dimensions d'ouverture
WO2007034352A2 (en) * 2005-09-19 2007-03-29 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Grid for selective absorption of electromagnetic radiation and method for its manufacture
US7418076B2 (en) * 2005-11-16 2008-08-26 General Electric Company System and method for cross table tomosynthesis imaging for trauma applications
KR100687654B1 (ko) * 2005-11-23 2007-03-09 정원정밀공업 주식회사 그리드 일체형 디지털 x선 검출기 모듈 및 그 제조방법
US7208739B1 (en) 2005-11-30 2007-04-24 General Electric Company Method and apparatus for correction of pileup and charge sharing in x-ray images with energy resolution
JP2007155638A (ja) * 2005-12-08 2007-06-21 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc コリメータ・ユニット、補強コリメータ、ct用検出器およびct装置
WO2007088498A2 (en) * 2006-02-02 2007-08-09 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Anti-scatter device, method and system
US20080118033A1 (en) * 2006-11-16 2008-05-22 General Electric Company Antiscatter grid arrangement
JP2008237631A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Fujifilm Corp 放射線画像撮像装置
US7687790B2 (en) * 2007-06-07 2010-03-30 General Electric Company EMI shielding of digital x-ray detectors with non-metallic enclosures
US20090213984A1 (en) * 2008-02-26 2009-08-27 United Technologies Corp. Computed Tomography Systems and Related Methods Involving Post-Target Collimation
US8238521B2 (en) * 2008-03-06 2012-08-07 United Technologies Corp. X-ray collimators, and related systems and methods involving such collimators
US20090225954A1 (en) * 2008-03-06 2009-09-10 United Technologies Corp. X-Ray Collimators, and Related Systems and Methods Involving Such Collimators
US7876875B2 (en) * 2008-04-09 2011-01-25 United Technologies Corp. Computed tomography systems and related methods involving multi-target inspection
US7888647B2 (en) * 2008-04-30 2011-02-15 United Technologies Corp. X-ray detector assemblies and related computed tomography systems
US20090274264A1 (en) * 2008-04-30 2009-11-05 United Technologies Corp. Computed Tomography Systems and Related Methods Involving Localized Bias
JP4748282B2 (ja) * 2008-08-11 2011-08-17 株式会社島津製作所 放射線グリッドおよびそれを備えた放射線撮影装置
EP2559533B1 (en) 2008-09-26 2020-04-15 United Technologies Corporation Casting
JP5282645B2 (ja) * 2009-04-28 2013-09-04 株式会社島津製作所 放射線撮影装置
US20110291016A1 (en) * 2009-12-15 2011-12-01 Scott Metzler Novel collimator and method for fabricating the same
KR100986151B1 (ko) * 2010-04-01 2010-10-08 유영실 자기력 평형 전기발생장치
US8287187B2 (en) 2010-06-21 2012-10-16 Miller Zachary A Adjustable dynamic X-ray filter
US8917815B2 (en) 2010-06-21 2014-12-23 Zachary A. Miller Adjustable dynamic filter
KR101042049B1 (ko) * 2010-06-21 2011-06-16 주식회사 디알텍 전자기식 그리드, 전자기식 그리드 제어 장치 및 이를 이용한 엑스선 장치
JP2012093429A (ja) * 2010-10-25 2012-05-17 Fujifilm Corp 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに、放射線画像撮影システム
JP2012130586A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Fujifilm Corp 放射線画像検出装置、放射線撮影装置、及び放射線撮影システム
US20120163553A1 (en) * 2010-12-27 2012-06-28 Analogic Corporation Three-dimensional metal printing
US8813824B2 (en) 2011-12-06 2014-08-26 Mikro Systems, Inc. Systems, devices, and/or methods for producing holes
KR101650894B1 (ko) * 2014-10-13 2016-08-24 (주)동문 산란 방지 그리드 원단의 제조방법
KR101581338B1 (ko) * 2014-10-13 2015-12-30 (주)동문 엑스레이 그리드 조립 장치
WO2017207734A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 Koninklijke Philips N.V. X-ray imaging apparatus for compact (quasi-)isotropic multi source x-ray imaging
CN107582089B (zh) * 2017-09-29 2021-06-29 上海联影医疗科技股份有限公司 准直器、成像设备、焦点位置跟踪方法及校正方法
US10816486B2 (en) * 2018-03-28 2020-10-27 Kla-Tencor Corporation Multilayer targets for calibration and alignment of X-ray based measurement systems
DE102018216805B3 (de) * 2018-09-28 2020-01-02 Siemens Healthcare Gmbh Streustrahlenraster für eine medizinische Röntgen-Bildgebungsanlage
US10799193B2 (en) 2019-02-12 2020-10-13 Malcova LLC Method and apparatus for anatomically-specified conformation computed tomography
US11139088B2 (en) 2019-06-12 2021-10-05 alephFS—Systems for Imaging Grid for X-ray imaging
US10531844B1 (en) 2019-08-09 2020-01-14 Malcova LLC Narrow beam CT using a 3D fluence modulation and scatter shield system
JP6976306B2 (ja) * 2019-12-25 2021-12-08 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ コリメータモジュール、医用装置、およびコリメータモジュールの製造方法
CN112089428A (zh) * 2020-06-19 2020-12-18 上海创投机电工程有限公司 一种基于正交结构的x射线抗散射格栅
US11622735B1 (en) 2022-10-20 2023-04-11 MALCOVA, Inc. Plural-plane narrow-beam computed tomography

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11104119A (ja) * 1997-07-10 1999-04-20 Siemens Ag 散乱線除去用格子及びその製造方法
JPH11231099A (ja) * 1997-10-24 1999-08-27 Trw Inc シリコンウエーハで形成された格子
JP2000214266A (ja) * 1999-01-25 2000-08-04 Analogic Corp X線検出器アレイ用のx線を吸収し光を反射する媒体
JP2001194462A (ja) * 1999-11-24 2001-07-19 Xerox Corp 微細加工されたx線画像コントラストグリッド

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3675790A (en) * 1970-11-25 1972-07-11 A & T Development Corp Bag stacking machine
US3704833A (en) * 1971-02-17 1972-12-05 Fred O Wheat Solenoid valve assembly
US3850319A (en) * 1971-12-06 1974-11-26 Owens Illinois Inc Corrugated board bundle stacker
US3917081A (en) * 1974-01-09 1975-11-04 Aircraft Mechanics Brick handling system
US4344727A (en) * 1980-09-22 1982-08-17 St. Regis Paper Company Method and apparatus for stacking and collating articles
FR2505540A1 (fr) 1981-05-07 1982-11-12 Ainf Structure anti-diffusion des rayonnements
JPS5821582A (ja) * 1981-07-31 1983-02-08 Toshiba Corp 放射線検出器
US4706269A (en) 1985-03-11 1987-11-10 Reina Leo J Anti-scatter grid structure
US5231655A (en) 1991-12-06 1993-07-27 General Electric Company X-ray collimator
US5231654A (en) 1991-12-06 1993-07-27 General Electric Company Radiation imager collimator
NL9300654A (nl) 1993-04-16 1994-11-16 Univ Delft Tech Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
US5581592A (en) 1995-03-10 1996-12-03 General Electric Company Anti-scatter X-ray grid device for medical diagnostic radiography
IN187505B (ja) 1995-03-10 2002-05-11 Gen Electric
US5557650A (en) * 1995-03-10 1996-09-17 General Electric Company Method for fabricating an anti-scatter X-ray grid device for medical diagnostic radiography
US5606589A (en) 1995-05-09 1997-02-25 Thermo Trex Corporation Air cross grids for mammography and methods for their manufacture and use
US6438210B1 (en) * 2000-03-28 2002-08-20 General Electric Company Anti-scatter grid, method, and apparatus for forming same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11104119A (ja) * 1997-07-10 1999-04-20 Siemens Ag 散乱線除去用格子及びその製造方法
JPH11231099A (ja) * 1997-10-24 1999-08-27 Trw Inc シリコンウエーハで形成された格子
JP2000214266A (ja) * 1999-01-25 2000-08-04 Analogic Corp X線検出器アレイ用のx線を吸収し光を反射する媒体
JP2001194462A (ja) * 1999-11-24 2001-07-19 Xerox Corp 微細加工されたx線画像コントラストグリッド

Also Published As

Publication number Publication date
KR100801118B1 (ko) 2008-02-05
ATE305168T1 (de) 2005-10-15
US20020168052A1 (en) 2002-11-14
JP2003529087A (ja) 2003-09-30
US6438210B1 (en) 2002-08-20
WO2001073794A1 (en) 2001-10-04
EP1185986A1 (en) 2002-03-13
EP1185986B1 (en) 2005-09-21
DE60113492D1 (de) 2005-10-27
DE60113492T2 (de) 2006-06-29
US6594342B2 (en) 2003-07-15
KR20020026433A (ko) 2002-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4746245B2 (ja) 散乱線除去格子
US5949850A (en) Method and apparatus for making large area two-dimensional grids
US20060055087A1 (en) Method for producing an anti-scatter grid or collimator made from absorbing material
US6951628B2 (en) Method for producing a scattered radiation grid or collimator
KR100882035B1 (ko) 산란 방지 및 콜리메이팅을 수행하기 위한 장치와 상기 장치의 제조 방법
CN100523796C (zh) 用于x射线装置的抗散射格栅
US7922923B2 (en) Anti-scatter grid and collimator designs, and their motion, fabrication and assembly
US5581592A (en) Anti-scatter X-ray grid device for medical diagnostic radiography
JP4922510B2 (ja) 放射線散乱防止グリッド及び、放射線散乱防止グリッドによりx線画像のコントラストを高める方法
JP4750938B2 (ja) 微細加工されたx線画像コントラストグリッドおよびその製造方法
US7149283B2 (en) Method for producing and applying an antiscatter grid or collimator to an x-ray or gamma detector
US20040251420A1 (en) X-ray detectors with a grid structured scintillators
JP3851678B2 (ja) 医療診断用放射線写真法に用いる散乱防止x線格子を製造する方法及び医療診断用放射線写真法に用いる散乱防止x線格子
JP2005274526A (ja) 放射線検出器およびその製造方法
US20110110490A1 (en) Method and apparatus for x-ray radiographic imaging
JP2008510131A (ja) シンチレータおよび抗散乱グリッドの配置
US7430281B2 (en) Anti-scatter grid with mechanical resistance
WO2017169049A1 (ja) 放射線検出器及びシンチレータパネル
Tang et al. Anti-scattering X-ray grid

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080219

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110214

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110214

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20110214

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110419

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110513

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees