NL9300654A - Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan. - Google Patents
Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan. Download PDFInfo
- Publication number
- NL9300654A NL9300654A NL9300654A NL9300654A NL9300654A NL 9300654 A NL9300654 A NL 9300654A NL 9300654 A NL9300654 A NL 9300654A NL 9300654 A NL9300654 A NL 9300654A NL 9300654 A NL9300654 A NL 9300654A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- spacers
- grid
- package
- slats
- thickness
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
Titel: Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan
De uitvinding heeft betrekking op een grid te noemenspleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
De onderhavige grids zijn met name bedoeld voor hetmet behulp van satellieten waarnemen van electromagnetischestraling, in het bijzonder röntgen- en gammastraling. Eendetectie-inrichting voor het waarnemen van dergelijke stralingis in het algemeen voorzien van een tweetal zogenaamde arrays,die elk een aantal grids bevatten, en van een uitstralingsdetectoren opgebouwd detectie-oppervlak. Elk gridheeft een oppervlak dat ligt in het gebied van 50 mm bij 50 mmtot 200 mm bij 200 mm. Een array bevat bijvoorbeeld 32 grids,waarbij elk grid een andere spleetbreedte en/of spleetrichtingheeft. Beide arrays zijn identiek en zijn evenwijdig,loodrecht boven elkaar en op afstand van elkaar opgesteld. Eengeschikte afstand tussen de beide arrays is bijvoorbeeld 6 m.De straling valt in op het eerste array en wordt afhankelijkvan de invalshoek doorgelaten of geabsorbeerd. Het doorgelatendeel van de straling valt op het tweede array en wordt ookdaar afhankelijk van de invalshoek doorgelaten ofgeabsorbeerd. Achter het tweede array is een detectie-oppervlak met stralingsdetectoren opgesteld. De op hetdetectie-oppervlak vallende straling levert na detectie endaarop volgende signaalverwerking en bewerking een beeld opvan de stralingsbron.
De spleetbreedte van de grids in een array dient tevariëren van ca. 4 mm tot ca. 50 μιη. Voor een grid met eenspleetbreedte van ca. 50 μΓη is de steek te noemen afstandtussen de middens van twee naast elkaar gelegen spleten ca.
100 μιη en mag de afwijking van de spleetbreedte niet meer danenkele micrometers bedragen. De resolutie van de detectie-inrichting wordt bepaald door het grid met de kleinstespleetbreedte en door de onderlinge afstand van de arrays.
Op zich is het geen probleem in dun materiaal eenspleetpatroon met een spleetbreedte van 50 |lm en steek van 100|im te vervaardigen. Met behulp van etstechnieken is diteenvoudig te realiseren.
Het probleem is echter dat de onderhavige grids eendikte moeten hebben van minimaal ca. 3 mm. De verhoudingtussen de hoogte en de breedte van een spleet is derhalve tenminste 60:1. Een dergelijk patroon is niet meer met behulp vanetstechniek te vervaardigen.
De grids moeten bovendien bestand zijn tegen detrillingen die optreden bij de lancering van de satellietwaarin de grids zich bevinden en tegen de grotetemperatuurschommelingen die optreden wanneer de satellietvanuit het zonlicht in de schaduw beweegt of omgekeerd.
De uitvinding beoogt een grid dat aan de hierbovengestelde eisen voldoet.
De uitvinding verschaft hiertoe een grid te noemenspleetpatroon, dat is voorzien van een aantal evenwijdigopgestelde lamellen, die ter vorming van een spleetpatroon opafstand van elkaar worden gehouden door tussen de lamellenopgestelde spacers te noemen afstandhouders.
Een aldus opgebouwd grid biedt het voordeel dat deafzonderlijke onderdelen daarvan, zoals de lamellen en despacers op zeer nauwkeurige wijze kunnen worden vervaardigdtegen relatief geringe kosten en dat na montage, hetgeen inwezen niet meer inhoudt dan het op elkaar stapelen van deafzonderlijke spacers onder tussenvoeging van de afzonderlijkelamellen, een grid wordt verkregen dat aan de gestelde eisenvoldoet.
Teneinde de lamellen de mogelijkheid te verschaffenvrij in lengterichting uit te zetten en te krimpen, hetgeenvan belang is voor het behoud van de nauwkeurigheid van hetgrid indien het wordt blootgesteld aan temperatuurschommelingen, wordt het grid volgens een nadereuitwerking van de uitvinding gekenmerkt doordat de spacers eendikte hebben die in hoofdzaak overeenstemt met de gewenste steek van de spleten, waarbij de spacers over een deel van hunoppervlak dunner zijn uitgevoerd, zodat bij stapeling van despacers tussen twee opeenvolgende spacers een opening aanwezigis waarin een lamel schuifbaar opneembaar is.
Bovendien heeft een grid met aldus uitgevoerde spacershet voordeel dat de steek van de spleten uitsluitend wordtbepaald door de dikte van de spacers, terwijl de steek van despleten van een grid dat is gevormd door het om en om stapelenvan lamellen en spacers tevens wordt bepaald door de dikte vande lamellen. Ten opzichte van een grid dat is gevormd door hetom en om stapelen van lamellen en spacers heeft het grid datis uitgevoerd met spacers die over een deel van hun oppervlakdunner zijn uitgevoerd de helft van het aantal steekbepalendecontactvlakken. Door de reductie van het aantal contactvlakkenis de mogelijkheid tot het optreden van positiefouten van delamellen met de helft verminderd.
Teneinde een stabiele stapeling van de spacers teverschaffen is het volgens een nadere uitwerking van deuitvinding bijzonder gunstig wanneer grid is voorzien van eenaantal, verdeeld over de lengte van de lamellen aangebrachte,zich loodrecht op de hoofdoppervlakken van de lamellenuitstrekkende geleiders, waarbij de geleiders en de spacerszodanig zijn uitgevoerd dat elke spacer door een geleideralthans in zich evenwijdig aan de hoofdoppervlakken van delamellen uitstrekkende richtingen is geborgd tegenverplaatsingen.
Naast een stabiele stapeling van de spacers biedt eenaldus uitgevoerd grid bovendien het voordeel dat de lamellenop meerdere plaatsen over hun lengte door spacers op afstandvan elkaar worden gehouden, zodat de kans op verbuiging van delamellen ten opzichte van elkaar, waardoor het spleetpatroonzou worden verstoord, tot een minimum wordt beperkt.
Wanneer de dikte van de spacers afwijkt van denominale dikte, wordt niet de gewenste steek tussen de spletenbereikt. De spacers kunnen echter zo worden vervaardigd dat deafwijking in de dikte van de spacers zeer gering is. Door de stapeling van de spacers wordt deze zeer geringe afwijkingechter telkens bij de vorige afwijking opgeteld. Aldusontstaat bij stapeling van een groot aantal, op zich met eennauwkeurige dikte vervaardigde spacers, door cumulatie van dedikte-afwijkingen van de spacers, toch nog een nietacceptabele positie-afwijking.
Teneinde dit probleem op te heffen wordt het gridvolgens een nadere uitwerking gekenmerkt doordat de geleidersin een richting loodrecht op de hoofdoppervlakken van delamellen positioneerbaar en fixeerbaar zijn verbonden met eenframe en zijn voorzien van, over de lengte van de geleidersverdeeld aangebrachte referentievlakken, tussen welkereferentievlakken telkens een pakket van een beperkt aantalspacers opneembaar is.
Ten eerste worden de lamellen bij een aldus uitgevoerdgrid niet alleen op meerdere plaatsen over hun lengte doorspacers op afstand van elkaar gehouden, maar bovendien doorde, op de geleiders voorziene referentievlakken nauwkeuriggepositioneerd, zodat eventueel optredende verbuiging van delamellen niet alleen ten opzichte van elkaar, maar bovendienten opzichte van de nominaal gewenste posities wordtverhinderd. Bovendien biedt een van aldus uitgevoerdegeleiders voorzien grid het voordeel dat de, door cumulatievan dikte-afwijkingen van de spacers opgebouwde positiefoutper pakket spacers dat is opgenomen tussen tweereferentievlakken tot nul wordt gereduceerd. Slechts binneneen pakket kan een positiefout optreden door dikte-afwijkingenvan de spacers binnen het pakket. Door het beperkte aantalspacers binnen een pakket blijft de positiefout echter binnende gestelde marges. Nog een ander voordeel van de toepassingvan, van referentievlakken voorziene geleiders is dat dethermische uitzetting of inkrimping van het grid in derichting loodrecht op de hoofdoppervlakken van de lamellenuitsluitend nog wordt bepaald door de coëfficiënt vanthermische uitzetting van de geleiders. Door een geschikte keuze van het materiaal van de geleiders kan deze uitzettingklein worden gehouden.
Een probleem dat optreedt bij het tussen tweereferentievlakken opnemen van een, uit een beperkt aantalspacers opgebouwd pakket is, dat, door de dikte-onnauwkeurigheid van de spacers in het pakket, de ruimtetussen twee referentie-vlakken net te groot of net te klein isvoor het op te nemen aantal spacers. Indien de ruimte te grootis ontstaat er speling tussen de spacers, welke speling denauwkeurigheid van het grid in negatieve zin beïnvloedt.
Indien de ruimte tussen de referentie vlakken te klein is moeteen spacer uit het pakket spacers worden weggelaten, hetgeenweer leidt tot een te grote ruimte tussen de referentievlakkenvoor het daarbij behorende pakket spacers met de hierbovengenoemde nadelen.
Teneinde deze problemen op te heffen wordt het gridvolgens een nadere uitwerking van de uitvinding gekenmerktdoordat de spacers zodanig zijn uitgevoerd dat een tot eenpakket gestapeld aantal spacers tegen veerkracht insamendrukbaar is.
Een pakket dat wordt gevormd door aldus uitgevoerdespacers is telkens spelingsvrij inklembaar tussen tweereferentievlakken. Bovendien wordt de positie van de lamellenvan het samendrukbare pakket voor elke zich in het pakketbevindende lamel gerelateerd aan het referentievlak en wordteen, door cumulatie van de dikte-afwijkingen van spacersopgebouwde positiefout door de samendrukking gelijkelijkverdeeld over de zich in het pakket bevindende lamellen.
Het is bijzonder gunstig wanneer volgens een nadereuitwerking van de uitvinding de referentievlakken van degeleiders paarsgewijs naar elkaar toe zijn gekeerd en dat zichtussen naar elkaar toegekeerde referentievlakken een pakketspacers bevindt met een stijve veercoëfficiënt, van welk stijfpakket de aan de buitenzijden gelegen spacers, al dan nietonder tussenkomst van een steunplaat, aanliggen tegen de naarelkaar toegekeerde referentievlakken, waarbij tussen twee stijve pakketten een pakket spacers is ingeklemd met eenslappere veercoëfficiënt.
Een aldus uitgevoerd grid biedt het voordeel dat debuitenste spacers van het stijve pakket met een relatief grotekracht tegen de referentievlakken of tegen de op hetreferentievlak gelegen steunplaat worden aangedrukt zodat dezespacers zich op de juiste en gewenste positie bevinden. Debuitenste spacers van het slappe pakket, dat tussen tweestijve pakketten is ingeklemd, bevinden zich eveneens op degewenste positie doordat deze, al dan niet onder tussenkomstvan een tussenelement, tegen de buitenste spacers van hetstijve pakket aanliggen. Het slappe pakket is meer geneigd totinveren dan de, het slappe pakket begrenzende stijve pakkettenzodat de buitenste spacers van de stijve pakketten de aan dereferentievlakken gerelateerde positie behouden, en daarmeetevens de buitenste spacers van het slappe pakket een gewenstepositie verkrijgen. Het tussenelement kan bijvoorbeeld eenspacer zijn die verkort is uitgevoerd teneinde ruimte vrij telaten voor de tegen het referentievlak gelegen steunplaat.
De uitvinding heeft tevens betrekking op een werkwijzevoor de vervaardiging van een grid te noemen spleetpatroon,dat althans is voorzien van spacers te noemen afstandhoudersen lamellen.
Bij de werkwijze volgens de uitvinding worden despacers door middel van een fotochemisch etsproces vervaardigduit plaatmateriaal dat een dikte heeft die overeenstemt met degewenste steek van het grid, waarbij het grid wordt gemonteerddoor het om en om stapelen van de lamellen en de spacers.
Het door middel van etsen vervaardigen van de spacersbiedt de mogelijkheid de spacers zeer nauwkeurig tedimensioneren.
Teneinde een deel van het oppervlak van de spacersdunner uit te voeren wordt het fotochemische etsproces in tweestappen uitgevoerd, waarbij in een eerste stap de fotolaag ophet plaatmateriaal zodanig wordt belicht dat na belichting bijde eerste etsstap het materiaal rond de buitencontouren van de spacers, afgezien van enige hechtpunten, wordt verwijderd, enwaarbij in een tweede stap de fotolaag op het plaatmateriaalzodanig wordt belicht dat na belichting bij de tweede etsstapeen deel van het oppervlak van de spacers wordt verwijderd,zodat de dikte van de spacers ter plaatse van de bij de tweedestap belichte delen kleiner is.
Het moge duidelijk zijn dat bij het verwijderen vanslechts een laag van plaatmateriaal voor het reduceren van dedikte daarvan, de concentratie van de etsvloeistof en de duurvan de etsbewerking zeer nauw luistert.
Ter verduidelijking van de uitvinding zal eenuitvoeringsvoorbeeld van een grid en een werkwijze voor devervaardiging daarvan, onder verwijzing naar de tekening,worden beschreven.
Fig. 1 is een vooraanzicht van eenuitvoeringsvoorbeeld van het grid volgens de uitvinding; fig. 2 is een perspectief-aanzicht van een geleider;fig. 3 is een perspectief-aanzicht van een niet-verende spacer; fig. 4 is een perspectief-aanzicht van een verendespacer met een relatief stijve veercoëfficiënt; fig. 5 is een perspectief-aanzicht van een verendespacer met een relatief slappe veercoëfficiënt; fig. 6 is een perspectief-aanzicht van de wijze waaropspacers rond een referentievlak van een geleider wordengestapeld; en fig. 7. toont vergroot een deel van het doorsnede-aanzicht over lijn VII-VII uit fig. 1.
Het in de tekening weergegeven uitvoeringsvoorbeeld isvoorzien van een frame dat is opgebouwd uit een U-vormig deel1 en een sluitbalk 2. Het frame is verder voorzien van eenaantal geleiders 3 waaroverheen spacers 4 (fign 3, 4, 5)kunnen worden geschoven. De spacers 4 houden lamellen 5 opafstand van elkaar. Het in fig. 1 weergegeven grid is ongeveerop ware grootte afgebeeld met dien verstande dat de afstandtussen de lamellen 5 in verband met tekentechnische overwegingen vergroot is weergegeven. In het onderhavigeuitvoeringsvoorbeeld is de werkelijke afstand tussen delamellen 50 |im.
Zoals weergegeven in de fign. 3-5 zijn de spacers 4a,4b, 4c rechthoekig en nabij de korte zijden voorzien van tweeopeningen 6. De spacers 4a, 4b, 4c hebben een dikte dieovereenstemt met de gewenste steek van de spleten. De steekvan de spleten wordt gedefinieerd door de afstand tussen demiddens van twee naast elkaar gelegen spleten. Een middendeel8, tussen beide openingen 6, van het oppervlak van de spacers4a, 4b, 4c is met behulp van een fotochemisch etsprocesverwijderd teneinde de dikte van de spacers 4a, 4b, 4c in hetmiddendeel 8 te verminderen. Bij stapeling van de spacers 4a,4b, 4c ontstaan derhalve bij de middendelen 8 met verminderdedikte openingen 7 (zie fig. 7) waarin de lamellen 5 schuifbaaropneembaar zijn. De middendelen 8 van de spacers 4a, 4b, 4cvormen een steunvlak voor de lamellen 5. De in fig. 3weergegeven spacer 4a heeft bij de, de opening 6 begrenzendeoppervlakken 9 de oorspronkelijke dikte, zodat een tot eenpakket gestapelde verzameling spacers 4a van dat type nietsamendrukbaar is. Van de in fign. 4 en 5 weergegeven spacers4b, 4c zijn de, de openingen 6 begrenzende oppervlakken 9gedeeltelijk dunner uitgevoerd. De verdunningen zijn zodanigaangebracht dat de oppervlakken 9, die de langsranden van dei opening 6 begrenzen aan de ene zijde van de opening 6 tweeverdikte dammen 10a, en aan de andere zijde één verdikte dam10b bevatten. Bij het, de opening 6 begrenzende oppervlak 9met de enkele dam 10b is de dam 10b in het midden van delangsrand van de opening 6 aangebracht. Bij het, de opening 6I begrenzende oppervlak 9 met twee dammen 10a zijn de dammen 10anabij de uiteinden van de langsrand van de opening 6geplaatst. Een pakket dat is samengesteld uit spacers vanafwisselend het type uit fig. 3 en fig. 4 of 5, waarbij despacers 4b, 4c van het type uit fig. 4 of 5 zodanig zijn> gestapeld dat tegenover een dam 10 een verdund oppervlakte-deel ligt van de volgende verende spacer, is tegen veerkracht in samendrukbaar. De breedte van de dammen 10 bepaalt deveercoëfficiënt van een pakket spacers 4b, 4c. Naarmate dedammen 10 breder zijn wordt de stijfheid van het pakketgroter. In fig. 7 is duidelijk weergegeven op welke wijze despacers 4a, 4b, of 4c zijn gestapeld in een pakket. Fig. 4toont een spacer met smalle dammen 10 en fig. 5 toont eenspacer met bredere dammen 10.
De geleiders 3 zijn in hoofdzaak U-vormig. De benen 11van de geleiders 3 hebben zodanige afmetingen en zijn zodaniggepositioneerd dat deze corresponderen met de openingen 6 inde spacers 4a, 4b, 4c. De spacers 4a, 4b, 4c kunnen derhalveover de geleiders 3 worden geschoven en aldus wordengestapeld. Tussen de benen 11 van een geleider 3 strekken delamellen 5 zich loodrecht uit op deze geleider 3. De basis 12van de geleider 3 is voorzien van een voet 13, die past ineen, in de basis la van het U-vormige frame 1 aangebrachtevatting (niet weergegeven) . De voet 13 is in het weergegevenuitvoeringsvoorbeeld voorzien van twee evenwijdige sleuven 14waarin twee parallelle bladveren (niet weergegeven) opneembaarzijn, welke bladveren nabij de vatting zijn verbonden met debasis la van het U-vormige frame 1. De bladveren dienen voorde positionering van de geleiders 3 in de lengterichtingdaarvan. Na positionering van de geleiders 3 in het frame 1kunnen de geleiders 3 worden gefixeerd door middel van eenniet weergegeven borgmoer of door middel van lak. Depositionering van de geleiders 3 in de lengterichting daarvanis van groot belang aangezien de geleiders 3 zijn voorzien vaneen aantal, op regelmatige afstand in de benen 11 aangebrachteopeningen 13, in welke openingen 13 telkens één, zichloodrecht op de lengterichting van de geleiders 3 uitstrekkendreferentievlak 15 is aangebracht. De referentievlakken 15 zijnpaarsgewijs naar elkaar toegekeerd. In de gemonteerde toestandvan het grid ligt tegen elk referentievlak 15 een steunplaat16 aan, die aan weerszijden van de geleider 3 buiten degeleider 3 uitsteekt. De buiten de geleider 3 uitstekendedelen van de steunplaat 16 dienen als aanligvlak voor een spacer. Tussen twee paarsgewijs naar elkaar toegekeerdereferentievlakken 15 bevindt zich een pakket spacers 17 meteen stijve veercoëfficiënt. De buitenste spacers 4a van hetstijve pakket spacers 17 liggen elk aan tegen een steunplaat16, resp. 16a die elk weer aanliggen tegen de naar elkaartoegekeerde referentievlakken 15. Het pakket spacers 17 met destijve veercoëfficiënt drukt de steunplaten 16, 16a met krachttegen de referentievlakken 15 aan. Aangezien de dikte van desteunplaten 16, 16a nauwkeurig is bepaald bevinden debuitenste spacers van het stijve pakket 17 zich op de gewenstepositie. Positie-afwijkingen van lamellen 5 die ontstaancumulatie van dikte-afwijkingen van de spacers 4 kunnen nuslechts nog binnen het pakket 17 optreden. Wanneer het pakket17 niet meer dan 50, en bij voorkeur niet meer dan 35 spacersbevat, blijven de positie-afwijkingen binnen het pakket binnende tolerantiegrenzen. Bij voorkeur stemt de dikte van desteunplaat 16 overeen met de dikte van de spacers 4. Terhoogte van de steunplaat 16 kan een korte spacer 4d (zie fign.6 en 7) worden opgenomen ter opvulling van de spleet dieontstaat door de steunplaat 16. Tussen twee stijve pakketten17 wordt een pakket spacers 18 met een slappereveercoëfficiënt opgenomen waarvan de buitenste spacers 4asteunen tegen de korte spacer 4d en de naar het referentievlak15 toegekeerde zijde van de steunplaat 16. Doordat het stijvepakket 17 de steunplaat 16 met meer kracht tegen hetreferentievlak 15 aandrukt dan dat het slappe pakket 18 desteunplaat 16 van het referentievlak 15 los drukt zijn deposities van de buitenste spacers 4a van zowel het stijve alshet slappe pakket 17, resp. 18 spacers nauwkeurig gerelateerdaan het referentievlak 15.
De spacers 4a, 4b, 4c, 4d worden vervaardigd doormiddel van fotochemisch etsen. De vervaardiging vindt plaatsin twee belichtings- en twee etsstappen, waarbij alsuitgangsmateriaal een roestvrijstalen plaat wordt gebruikt meteen dikte van 100 μπι. De roestvrijstalen plaat wordt behandeldmet fotolak. In de eerste belichtingsstap wordt de lak rond de buitencontouren van de spacers, afgezien van enigehechtpunten, belicht. In de eerste etsstap wordt het materiaaldat is belicht volledig, afgezien van de niet belichtehechtpunten, door etsen verwijderd. De spacers 4 zijn na deeerste etsstap nog slechts met de roestvrijstalen plaatverbonden door middel van de hechtpunten. In een tweedebelichtingsstap worden delen 8, 9 van het oppervlak van despacers 4 belicht. Vervolgens worden in de tweede etsstap debelichte delen 8, 9 gedeeltelijk door etsen verwijderd, zodatop deze oppervlaktedelen de spacers 4 een· kleinere diktekrijgen. De lamellen 5 van het grid kunnen bijvoorbeeld zijnvervaardigd uit platgewalste wolframdraad. Dergelijke lamellen5 hebben een goede oppervlaktekwaliteit, een zeer constantedikte en vertonen geen bramen of andere schadelijkeoneffenheden. Het frame 1 en de geleiders 3 kunnen met behulpvan vonkerosie zijn vervaardigd uit bijvoorbeeld een ijzer-nikkel-cobalt legering.
Na het plaatsen van de geleiders 3 in het frame 1 enhet nauwkeurig in de lengterichting van de geleiderspositioneren daarvan kunnen de spacers 4 en lamellen 5 wordengemonteerd door het om en om stapelen daarvan. Positioneringvan de spacers 4 en de lamellen 5 vindt plaats door hetaanbrengen van de steunplaten 16. Tot slot wordt een sluitbalk2 op het U-vormige frame 1 geplaatst, waarna het grid gereedis voor montage in een array.
Het is duidelijk dat de uitvinding niet is beperkt tothet beschreven uitvoeringsvoorbeeld maar dat diversewijzigingen binnen het raam van de uitvinding mogelijk zijn.
Claims (8)
1. Grid te noemen spleetpatroon voorzien van een aantalevenwijdig opgestelde lamellen, die ter vorming van eenspleetpatroon op afstand van elkaar worden gehouden doortussen de lamellen opgestelde spacers te noemen afstandhouders.
2. Grid volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat despacers een dikte hebben die in hoofdzaak overeenstemt met degewenste steek van de spleten, waarbij de spacers over eendeel van hun oppervlak dunner zijn uitgevoerd, zodat bijstapeling van de spacers tussen twee opeenvolgende spacers eenopening aanwezig is waarin een lamel schuifbaar opneembaar is.
3. Grid volgens conclusie 1 of 2, gekenmerkt door eenaantal, verdeeld over de lengte van de lamellen aangebrachte,zich loodrecht op de hoofdoppervlakken van de lamellenuitstrekkende geleiders, waarbij de geleiders en de spacerszodanig zijn uitgevoerd dat elke spacer door een geleideralthans in zich evenwijdig aan de hoofdoppervlakken van delamellen uitstrekkende richtingen is geborgd tegenverplaatsingen.
4. Grid volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat degeleiders in een richting loodrecht op de hoofdoppervlakkenvan de lamellen positioneerbaar en fixeerbaar zijn verbondenmet een frame en zijn voorzien van, over de lengte van degeleiders verdeeld aangebrachte referentievlakken, tussenwelke referentievlakken telkens een pakket van een beperktaantal spacers opneembaar is.
5. Grid volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat despacers zodanig zijn uitgevoerd dat een tot een pakketgestapeld aantal spacers tegen veerkracht in samendrukbaar is.
6. Grid volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat dereferentievlakken van de geleiders paarsgewijs naar elkaar toezijn gekeerd en dat zich tussen naar elkaar toegekeerde referentievlakken een pakket spacers bevindt met een stijveveercoëfficiënt, van welk stijf pakket de aan de buitenzijdengelegen spacers, al dan niet onder tussenkomst van eensteunplaat, aanliggen tegen de naar elkaar toegekeerdereferentievlakken, waarbij tussen twee stijve pakketten eenpakket spacers is ingeklemd met een slappere veercoëfficiënt.
7. Werkwijze voor de vervaardiging van een grid te noemenspleetpatroon dat althans is voorzien spacers te noemenafstandhouders en lamellen, waarbij de spacers door middel vaneen fotochemisch etsproces worden vervaardigd uitplaatmateriaal dat een dikte heeft die overeenstemt met degewenste steek tussen door de lamellen gevormde spleten van degrid, waarbij het grid wordt gemonteerd door het om en omstapelen de lamellen en de spacers.
8. Werkwijze volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat,teneinde een deel van het oppervlak van de spacers dunner uitte voeren, het fotochemische etsproces in twee stappen wordtuitgevoerd, waarbij in een eerste stap de fotolaag op hetplaatmateriaal zodanig wordt belicht dat na belichting bij deeerste etsstap het materiaal rond de buitencontouren van despacers, afgezien van enige hechtpunten, wordt verwijderd, enwaarbij in een tweede stap de fotolaag op het plaatmateriaalzodanig wordt belicht dat na belichting bij de tweede etsstapeen deel van het oppervlak van de spacers wordt verwijderd,zodat de dikte van de spacers ter plaatse van de bij de tweedestap belichte delen kleiner is.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9300654A NL9300654A (nl) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
EP94915293A EP0694199B1 (en) | 1993-04-16 | 1994-04-15 | Grid and method of manufacturing such grid |
DE69404834T DE69404834T2 (de) | 1993-04-16 | 1994-04-15 | Gitter und dessen herstellungsverfahren |
AU66587/94A AU6658794A (en) | 1993-04-16 | 1994-04-15 | Grid and method of manufacturing such grid |
PCT/NL1994/000078 WO1994024676A1 (en) | 1993-04-16 | 1994-04-15 | Grid and method of manufacturing such grid |
JP6523005A JPH08511617A (ja) | 1993-04-16 | 1994-04-15 | グリッドおよびその製造方法 |
US08/535,221 US5689118A (en) | 1993-04-16 | 1994-04-15 | Grid and method of manufacturing such grid |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9300654A NL9300654A (nl) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
NL9300654 | 1993-04-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9300654A true NL9300654A (nl) | 1994-11-16 |
Family
ID=19862292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9300654A NL9300654A (nl) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5689118A (nl) |
EP (1) | EP0694199B1 (nl) |
JP (1) | JPH08511617A (nl) |
AU (1) | AU6658794A (nl) |
DE (1) | DE69404834T2 (nl) |
NL (1) | NL9300654A (nl) |
WO (1) | WO1994024676A1 (nl) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6438210B1 (en) * | 2000-03-28 | 2002-08-20 | General Electric Company | Anti-scatter grid, method, and apparatus for forming same |
JP5172705B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2013-03-27 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 散乱防止装置、方法及びシステム |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB764937A (en) * | 1954-02-08 | 1957-01-02 | Philips Electrical Ind Ltd | Improvements in or relating to grid diaphragms for minimising secondary x-ray radiation |
US3749911A (en) * | 1970-06-30 | 1973-07-31 | Nasa | Collimator of multiple plates with axially aligned identical random arrays of apertures |
FR2657192A1 (fr) * | 1990-01-17 | 1991-07-19 | Commissariat Energie Atomique | Collimateur a lames minces. |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4465540A (en) * | 1979-05-03 | 1984-08-14 | Albert Richard D | Method of manufacture of laminate radiation collimator |
US4288696A (en) * | 1979-06-29 | 1981-09-08 | Halliburton Company | Well logging neutron generator control system |
US4419585A (en) * | 1981-02-26 | 1983-12-06 | Massachusetts General Hospital | Variable angle slant hole collimator |
US4460832A (en) * | 1981-06-15 | 1984-07-17 | Bigham Keith E | Attenuator for providing a test image from a radiation source |
JPH03120500A (ja) * | 1989-10-04 | 1991-05-22 | Toshiba Corp | 多孔コリメータ及びその製造方法 |
US4951305A (en) * | 1989-05-30 | 1990-08-21 | Eastman Kodak Company | X-ray grid for medical radiography and method of making and using same |
-
1993
- 1993-04-16 NL NL9300654A patent/NL9300654A/nl not_active Application Discontinuation
-
1994
- 1994-04-15 EP EP94915293A patent/EP0694199B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-15 AU AU66587/94A patent/AU6658794A/en not_active Abandoned
- 1994-04-15 WO PCT/NL1994/000078 patent/WO1994024676A1/en active IP Right Grant
- 1994-04-15 US US08/535,221 patent/US5689118A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-15 DE DE69404834T patent/DE69404834T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-15 JP JP6523005A patent/JPH08511617A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB764937A (en) * | 1954-02-08 | 1957-01-02 | Philips Electrical Ind Ltd | Improvements in or relating to grid diaphragms for minimising secondary x-ray radiation |
US3749911A (en) * | 1970-06-30 | 1973-07-31 | Nasa | Collimator of multiple plates with axially aligned identical random arrays of apertures |
FR2657192A1 (fr) * | 1990-01-17 | 1991-07-19 | Commissariat Energie Atomique | Collimateur a lames minces. |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
MEISTER ET AL.: "Neutron collimators with plates of self-contracting foils", NUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS, vol. 108, no. 1, March 1973 (1973-03-01), AMSTERDAM NL, pages 107 - 111 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5689118A (en) | 1997-11-18 |
JPH08511617A (ja) | 1996-12-03 |
WO1994024676A1 (en) | 1994-10-27 |
AU6658794A (en) | 1994-11-08 |
DE69404834T2 (de) | 1998-02-05 |
EP0694199A1 (en) | 1996-01-31 |
EP0694199B1 (en) | 1997-08-06 |
DE69404834D1 (de) | 1997-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69636941T2 (de) | Vorrichtung zur Kontrolle der Ausgangsleistung, Projektionsanzeigevorrichtung, Infrarotsensor und berührungsloses Thermometer | |
DE69320716T3 (de) | Gerät zur Detektion von Verschiebungsinformation | |
US4836652A (en) | Liquid crystal shutter array having microlenses corresponding to the pixel electrodes | |
DE69529745T3 (de) | Vorrichtung zur feststellung einer relativen bewegung | |
US4815854A (en) | Method of alignment between mask and semiconductor wafer | |
US5231655A (en) | X-ray collimator | |
DE3140217C2 (nl) | ||
US20120201349A1 (en) | Grid for use in radiation imaging and grid producing method, and radiation imaging system | |
DE69418819T3 (de) | Drehkodierer | |
EP0849567A2 (de) | Lichtelektrische Positionsmesseinrichtung | |
JPS6312522B2 (nl) | ||
DE19827423A1 (de) | Zweidimensionale Laserdiodenanordnung | |
DE4123791C2 (de) | Digitale Flächenkamera mit Mehrfachoptik | |
NL9300654A (nl) | Grid te noemen spleetpatroon en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan. | |
EP1759395A2 (en) | Anti-scatter-grid | |
DE2723902C2 (de) | Verfahren zur Parallelausrichtung und Justierung der Lage einer Halbleiterscheibe relativ zu einer Bestrahlungsmaske bei der Röntgenstrahl-Fotolithografie | |
DE4334084A1 (de) | Verfahren und Anlage zur Herstellung eines mehrfachen holografischen Elements | |
DE3637948C2 (nl) | ||
DE2948646C2 (de) | Projektionskopiervorrichtung | |
US20120148029A1 (en) | Grid for use in radiation imaging, method for producing the same, and radiation imaging system | |
JP6515682B2 (ja) | X線タルボ撮影装置及び格子保持具 | |
DE19521295A1 (de) | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung | |
DE102008038443A1 (de) | Maskenloser Belichtungsapparat | |
DE3323388A1 (de) | Optisches system | |
DE4006789A1 (de) | Optisches abtastsystem fuer rasterteilungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |