JP5172705B2 - 散乱防止装置、方法及びシステム - Google Patents
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- 散乱放射線を抑制する散乱防止装置であって、
複数のX線吸収層と、
各スペーサ層が、前記複数のX線吸収層を予め規定された向きに保持するために、前記複数のX線吸収層の任意の2つの間に配される、複数のスペーサ層と、
を有し、前記スペーサ層が、各スペーサ層の少なくとも一部に入射するX線の吸収を低減するために形成される複数の密閉されないボイドを各スペーサ層に有し、各スペーサ層が複数のスライスを含み、前記複数のスライスを適切に且つ正確に配置することにより、各スライスの間にボイドを残し、それによって前記スペーサ層に前記複数の密閉されないボイドを形成する、散乱防止装置。 - 前記複数の密閉されないボイドは、機械的手段、化学的手段、光学的手段又はそれらの組み合わせを介して、形成される、請求項1に記載の散乱防止装置。
- 前記スペーサ層が、少なくとも繊維材料を含む、請求項1に記載の散乱防止装置。
- 前記複数のX線吸収層の少なくとも1つが、接合材料を介して、前記複数のスペーサ層のうちの少なくとも1つに結合される、請求項1に記載の散乱防止装置。
- 散乱放射線を抑制する散乱防止装置を製造する方法であって、
スペーサ材料の層の第1の表面に第1の接合材料を適用するステップであって、前記スペーサ材料の層は、前記スペーサ材料の層の少なくとも一部に入射するX線の吸収を低減するために形成される複数の密閉されないボイドを有し、前記スペーサ材料の層が複数のスライスを含み、前記複数のスライスを適切に且つ正確に配置することにより、各スライスの間にボイドを残し、それによって前記スペーサ材料の層に前記複数の密閉されないボイドを形成する、ステップと、
第2の接合材料を介して、前記スペーサ材料の層の前記第1の表面と異なる第2の表面に少なくともX線吸収材料の層を付着させて、複合薄膜を形成するステップと、
前記複合薄膜から、複数の複合ストリップを形成するステップと、
前記複数の複合ストリップからの各複合ストリップを、前記複数の複合ストリップからの別の複合ストリップ上にスタックするステップと、
前記スタックされた複合ストリップに熱を加えて前記第1の接合材料を活性化して、予め規定された向きに前記複数の複合ストリップを接合するステップと、
を含む方法。 - 前記第1の接合材料を適用する前に、前記複数の密閉されないボイドを形成することを含む、請求項5に記載の散乱防止装置を製造する方法。
- 前記複合薄膜を形成する前であって、前記第1の接合材料を適用した後に、前記複数の密閉されないボイドを形成することを含む、請求項5に記載の散乱防止装置を製造する方法。
- 前記複数の密閉されないボイドを形成するために、機械的手段、化学的手段又は光学的手段のうちの少なくとも1つを介して、前記スペーサ材料の層を処理するステップを含む、請求項5に記載の散乱防止装置を製造する方法。
- X線イメージング装置において散乱放射線を抑制する散乱防止装置の使用であって、
前記X線イメージング装置の検出表面に取り付けるための散乱防止装置を準備することを含み、前記検出表面は、前記X線イメージング装置によって放出されるX線の少なくとも一部を、前記散乱防止装置を介して受け取るように構成され、
前記散乱防止装置は更に、
予め規定された向きに配された複数のX線吸収層と、
各スペーサ層が、前記複数のX線吸収層の任意の2つの間に配され、予め規定された向きに前記複数のX線吸収層を保持するように配される、複数のスペーサ層と、を有し、
各スペーサ層が、前記複数のスペーサ層の各々の少なくとも一部に入射するX線の吸収を低減するために配される複数の密閉されないボイドを有し、各スペーサ層が複数のスライスを含み、前記複数のスライスを適切に且つ正確に配置することにより、各スライスの間にボイドを残し、それによって前記スペーサ層に前記複数の密閉されないボイドを形成する、散乱防止装置の使用。
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