JP2000198848A - 触媒組成物の作製方法 - Google Patents
触媒組成物の作製方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩素化溶媒を使用しないで線状ハロゲン化ホ
スホニトリルを作製する。 【解決手段】 不活性非塩素化溶媒中で、冷却下に、Ｐ
Ｘ5およびジシラザンを反応させる第１工程および該反
応混合物を、ハロゲン化ホスホニトリルを製造するに充
分な時間、少なくとも５０℃まで加熱する第２工程を含
むことを特徴とする、式：（Ｘ(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+Ａ-
（式中、Ｘはハロゲンを示し、ＡはＸまたは（ＰＸ6）-
を示し、さらに、ａは１〜９の整数である）を有する。
スホニトリルを作製する。 【解決手段】 不活性非塩素化溶媒中で、冷却下に、Ｐ
Ｘ5およびジシラザンを反応させる第１工程および該反
応混合物を、ハロゲン化ホスホニトリルを製造するに充
分な時間、少なくとも５０℃まで加熱する第２工程を含
むことを特徴とする、式：（Ｘ(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+Ａ-
（式中、Ｘはハロゲンを示し、ＡはＸまたは（ＰＸ6）-
を示し、さらに、ａは１〜９の整数である）を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は触媒組成物の作製方
法、特にハロゲン化ホスホニトリル触媒組成物を作製す
る方法に関する。
法、特にハロゲン化ホスホニトリル触媒組成物を作製す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ハロゲン化ホスホニトリル化合物は、重
合反応によりオルガノポリシロキサンを調製するに際し
て、触媒として使用することが当該分野で周知である。
例えば、英国特許明細書第765,744 号には、液状オルガ
ノシロキサン重合のための好ましいハロゲン化ホスホニ
トリルとして、式：（ＰＮＣｌ2)n（式中、ｎは少なく
とも３、最も好ましくは３〜６の整数である）で示され
る重合性クロライドを使用することが開示され、また、
英国特許明細書第910,513 号には、安定化高粘性オルガ
ノポリシロキサン油の製造法に使用するハロゲン化ホス
ホニトリル触媒が開示される。オルガノポリシロキサン
重合のための触媒として、当該分野で特に好ましいもの
は、式：（Ｘ(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+Ｘ-、または式：（Ｘ
(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+(ＰＸ6)-（式中、Ｘはハロゲン、
好ましくは塩素であり、およびａは１〜９の整数、好ま
しくは２である）のハロゲン化ホスホニトリル化合物で
ある。最も一般的に使用される、これら後者ハロゲン化
ホスホニトリル触媒を作製する方法は、米国特許第3,83
9,388 号に開示され、該方法は高沸点塩素化溶媒、例え
ば、トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼンまたは１，
１，２，２−テトラクロロエタン中で、五塩化リンを塩
化アンモニウムと反応させることを含む。
合反応によりオルガノポリシロキサンを調製するに際し
て、触媒として使用することが当該分野で周知である。
例えば、英国特許明細書第765,744 号には、液状オルガ
ノシロキサン重合のための好ましいハロゲン化ホスホニ
トリルとして、式：（ＰＮＣｌ2)n（式中、ｎは少なく
とも３、最も好ましくは３〜６の整数である）で示され
る重合性クロライドを使用することが開示され、また、
英国特許明細書第910,513 号には、安定化高粘性オルガ
ノポリシロキサン油の製造法に使用するハロゲン化ホス
ホニトリル触媒が開示される。オルガノポリシロキサン
重合のための触媒として、当該分野で特に好ましいもの
は、式：（Ｘ(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+Ｘ-、または式：（Ｘ
(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+(ＰＸ6)-（式中、Ｘはハロゲン、
好ましくは塩素であり、およびａは１〜９の整数、好ま
しくは２である）のハロゲン化ホスホニトリル化合物で
ある。最も一般的に使用される、これら後者ハロゲン化
ホスホニトリル触媒を作製する方法は、米国特許第3,83
9,388 号に開示され、該方法は高沸点塩素化溶媒、例え
ば、トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼンまたは１，
１，２，２−テトラクロロエタン中で、五塩化リンを塩
化アンモニウムと反応させることを含む。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな塩素化溶媒の使用は、その毒性およびオゾン消耗を
誘因する能力から、ますます受け入れられなくなってお
り、問題は線状ハロゲン化ホスホニトリルは大抵の他の
通常の有機溶媒への溶解性が非常に低いとの事実とから
みあっている。それゆえ、塩素化溶媒を使用しないで線
状ハロゲン化ホスホニトリルを得る別な方法が必要とさ
れている。
うな塩素化溶媒の使用は、その毒性およびオゾン消耗を
誘因する能力から、ますます受け入れられなくなってお
り、問題は線状ハロゲン化ホスホニトリルは大抵の他の
通常の有機溶媒への溶解性が非常に低いとの事実とから
みあっている。それゆえ、塩素化溶媒を使用しないで線
状ハロゲン化ホスホニトリルを得る別な方法が必要とさ
れている。
【０００４】
【課題を解決する手段】本発明者らは、オルガノポリシ
ロキサンの調製に使用する触媒として有用であるハロゲ
ン化ホスホニトリル化合物への経路であって、塩素化溶
媒を使用しない経路を見出した。
ロキサンの調製に使用する触媒として有用であるハロゲ
ン化ホスホニトリル化合物への経路であって、塩素化溶
媒を使用しない経路を見出した。
【０００５】
【発明の実施の態様】本明細書で使用される場合、「含
む(comprises) 」との語は、「含む(includes)」、「包
含する(comprehends)」および「成る(consists of) 」
との概念を意味し、かつ包含するとのそのもっとも広い
意義をもって使用される。
む(comprises) 」との語は、「含む(includes)」、「包
含する(comprehends)」および「成る(consists of) 」
との概念を意味し、かつ包含するとのそのもっとも広い
意義をもって使用される。
【０００６】本発明では、不活性非塩素化溶媒中で、冷
却下に、ＰＸ5およびジシラザンを反応させる第１工程
と、ハロゲン化ホスホニトリルを製造するに充分な時
間、少なくとも５０℃まで該反応混合物を加熱する第２
工程と、を含む、式：（Ｘ(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+Ａ-（式
中、Ｘはハロゲンを示し、ＡはＸまたは（ＰＸ6)-を示
し、さらに、ａは１〜９の整数である）のハロゲン化ホ
スホニトリルを作製する方法が提供される。
却下に、ＰＸ5およびジシラザンを反応させる第１工程
と、ハロゲン化ホスホニトリルを製造するに充分な時
間、少なくとも５０℃まで該反応混合物を加熱する第２
工程と、を含む、式：（Ｘ(ＰＸ2＝Ｎ)aＰＸ3)+Ａ-（式
中、Ｘはハロゲンを示し、ＡはＸまたは（ＰＸ6)-を示
し、さらに、ａは１〜９の整数である）のハロゲン化ホ
スホニトリルを作製する方法が提供される。
【０００７】本発明の方法は、線状および環状の両方の
種を製造する米国特許第3,839,388号の先行技術方法に
比べて、実質的に線状ハロゲン化ホスホニトリル種のみ
を製造することに利点を有する。環状ハロゲン化ホスホ
ニトリルは、オルガノポリシロキサンを重合する触媒と
して実質的に不活性であり、したがって、反応生成物と
しては望ましくない。本発明の方法は上記式を有する線
状ハロゲン化ホスホニトリル種の混合物を製造し、生成
物の大部分はａ＝１〜３を有し、より高い種、すなわ
ち、ａ＞３は少量である。オルガノポリシロキサンを重
合する触媒として最も有効なハロゲン化ホスホニトリル
は、ａ＝２または３のものである。
種を製造する米国特許第3,839,388号の先行技術方法に
比べて、実質的に線状ハロゲン化ホスホニトリル種のみ
を製造することに利点を有する。環状ハロゲン化ホスホ
ニトリルは、オルガノポリシロキサンを重合する触媒と
して実質的に不活性であり、したがって、反応生成物と
しては望ましくない。本発明の方法は上記式を有する線
状ハロゲン化ホスホニトリル種の混合物を製造し、生成
物の大部分はａ＝１〜３を有し、より高い種、すなわ
ち、ａ＞３は少量である。オルガノポリシロキサンを重
合する触媒として最も有効なハロゲン化ホスホニトリル
は、ａ＝２または３のものである。
【０００８】本発明の方法の第１工程では、ジシラザン
は式：Ｒ3ＳｉＮＨＳｉＲ3（式中、基Ｒはそれぞれ独立
してアルキル基、好ましくはＣ1〜Ｃ6のアルキル基、よ
り好ましくはメチル基、アルケニル基、例えば、ビニル
またはヘキセニル基、または水素原子である）を有して
いてもよい。好ましいジシラザンはヘキサメチルジシラ
ザンである。
は式：Ｒ3ＳｉＮＨＳｉＲ3（式中、基Ｒはそれぞれ独立
してアルキル基、好ましくはＣ1〜Ｃ6のアルキル基、よ
り好ましくはメチル基、アルケニル基、例えば、ビニル
またはヘキセニル基、または水素原子である）を有して
いてもよい。好ましいジシラザンはヘキサメチルジシラ
ザンである。
【０００９】本発明の方法の第１工程では、ＰＸ5とジ
シラザンとの反応は、該反応が発熱反応であることか
ら、冷却下で実施される。好ましくは、該反応は０℃以
下、例えば、塩または固体ＣＯ2で冷却しながら、また
は冷蔵再循環式冷却浴を使用して実施される。不活性非
塩素化溶媒はＰＸ5とジシラザンとの反応を阻害しない
溶媒、例えば炭化水素などの非官能性溶媒であれば、い
かなるものであってもよい。好適な溶媒としてはトルエ
ン、ヘプタン、キシレンおよびシクロヘキサンが挙げら
れ、トルエンが好ましい。
シラザンとの反応は、該反応が発熱反応であることか
ら、冷却下で実施される。好ましくは、該反応は０℃以
下、例えば、塩または固体ＣＯ2で冷却しながら、また
は冷蔵再循環式冷却浴を使用して実施される。不活性非
塩素化溶媒はＰＸ5とジシラザンとの反応を阻害しない
溶媒、例えば炭化水素などの非官能性溶媒であれば、い
かなるものであってもよい。好適な溶媒としてはトルエ
ン、ヘプタン、キシレンおよびシクロヘキサンが挙げら
れ、トルエンが好ましい。
【００１０】本発明の方法の第２工程では、第１工程で
調製された反応混合物を５０℃以上の温度、例えば、溶
媒還流下に加熱する。ハロゲン化ホスホニトリル生成物
を製造するに要する時間は、その反応条件に依存してい
る。しかしながら、通常の条件は１〜４時間、溶媒の還
流下に加熱することである。ハロゲン化ホスホニトリル
生成物は、該反応混合物から容易に除去可能である溶媒
から分離する。
調製された反応混合物を５０℃以上の温度、例えば、溶
媒還流下に加熱する。ハロゲン化ホスホニトリル生成物
を製造するに要する時間は、その反応条件に依存してい
る。しかしながら、通常の条件は１〜４時間、溶媒の還
流下に加熱することである。ハロゲン化ホスホニトリル
生成物は、該反応混合物から容易に除去可能である溶媒
から分離する。
【００１１】有機溶媒中のハロゲン化ホスホニトリルの
可溶性を増加させ、取扱いを容易にし、さらに湿分感受
性を減少させるために、これらをさらに、式：((ＣＨ3)
2ＳｉＯ)b（ヨ−ロッパ特許第0305737号に開示の方法参
照) （式中、ｂは３〜６の整数（例えば、ヘキサメチル
シクロトリシロキサンまたはオクタメチルシクロテトラ
シロキサン）、好ましくは３である）のシクロシロキサ
ンと反応させて、式：Ｚ−((ＣＨ3)2ＳｉＯ)b−Ｚ（式
中、ＺはＸまたは基：ＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2−であ
り、さらにＸおよびａは上記したものである）の線状化
合物を得てもよい。該シクロシロキサンは上記した第１
および第２工程の実施により生成した反応混合物と単に
混合し、さらに、好ましくは溶媒の還流下に加熱しても
よい。該反応は化合物の混合物を製造し、その内のある
ものは、両末端基ＺにＸを有し、あるものは両末端基に
基：ＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2−を有し、あるものは、
片方の末端基にＸを、他方にＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2
−を有する。触媒的活性種は、少なくとも１つのホスホ
ニトリル末端基、すなわち、少なくとも１つの末端基Ｚ
にＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2−を有する。ハロゲン化ホ
スホニトリル含有種は、いくつかの有機溶媒、例えば、
エチレングリコールジアセテートに可溶性であり、この
特定の溶媒はハロゲン化ホスホニトリル含有種に対して
不活性であり、さらにシロキサンに非常に可溶性である
との利点を有する。該ハロゲン化ホスホニトリル含有種
をエチレングリコールジアセテートに溶解して得られる
溶液は、長期に安定であり、溶解したハロゲン化ホスホ
ニトリル含有種は数ケ月間も触媒活性を保持することが
できる。上記した反応は、以下のように概略的に表され
得る。
可溶性を増加させ、取扱いを容易にし、さらに湿分感受
性を減少させるために、これらをさらに、式：((ＣＨ3)
2ＳｉＯ)b（ヨ−ロッパ特許第0305737号に開示の方法参
照) （式中、ｂは３〜６の整数（例えば、ヘキサメチル
シクロトリシロキサンまたはオクタメチルシクロテトラ
シロキサン）、好ましくは３である）のシクロシロキサ
ンと反応させて、式：Ｚ−((ＣＨ3)2ＳｉＯ)b−Ｚ（式
中、ＺはＸまたは基：ＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2−であ
り、さらにＸおよびａは上記したものである）の線状化
合物を得てもよい。該シクロシロキサンは上記した第１
および第２工程の実施により生成した反応混合物と単に
混合し、さらに、好ましくは溶媒の還流下に加熱しても
よい。該反応は化合物の混合物を製造し、その内のある
ものは、両末端基ＺにＸを有し、あるものは両末端基に
基：ＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2−を有し、あるものは、
片方の末端基にＸを、他方にＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2
−を有する。触媒的活性種は、少なくとも１つのホスホ
ニトリル末端基、すなわち、少なくとも１つの末端基Ｚ
にＯＰＸ2(ＮＰＸ2)aＮＰＸ2−を有する。ハロゲン化ホ
スホニトリル含有種は、いくつかの有機溶媒、例えば、
エチレングリコールジアセテートに可溶性であり、この
特定の溶媒はハロゲン化ホスホニトリル含有種に対して
不活性であり、さらにシロキサンに非常に可溶性である
との利点を有する。該ハロゲン化ホスホニトリル含有種
をエチレングリコールジアセテートに溶解して得られる
溶液は、長期に安定であり、溶解したハロゲン化ホスホ
ニトリル含有種は数ケ月間も触媒活性を保持することが
できる。上記した反応は、以下のように概略的に表され
得る。
【００１２】
【化１】
【００１３】
【実施例】本発明を、ここに実施例を用いて詳細に記述
する。比較例 ４．８３ｇ（２９．９４ミリモル）のヘキサメチルジシ
ラザン（ＨＭＤＺ）を、９．５６ｇ（４６．４ミリモ
ル）のＰＣｌ5および５０ｍｌの無水トルエンを入れた
１００ｍｌフラスコに加えた。この混合物を窒素雰囲気
下に２時間、還流下に加熱した。反応生成物は２相、す
なわち上部無色液体相と下部黄色固体相を示した。上部
液体相は蒸留により除去した。固体相について31Ｐ Ｎ
ＭＲを調べ、所望の線状塩化ホスホニトリル種：（Ｃｌ
(ＰＮＣｌ2＝Ｎ)aＰＣｌ3)+Ａ-（式中、ＡはＣｌ-およ
び（ＰＣｌ6)-の混合物である）は、ａ＝１が２％モ
ル、ａ＝２が２３％モル、ａ＝３が３７％モル、および
ａ≧４が１２％モルの量で、環状物１０％モルとともに
存在することを確認した。
する。比較例 ４．８３ｇ（２９．９４ミリモル）のヘキサメチルジシ
ラザン（ＨＭＤＺ）を、９．５６ｇ（４６．４ミリモ
ル）のＰＣｌ5および５０ｍｌの無水トルエンを入れた
１００ｍｌフラスコに加えた。この混合物を窒素雰囲気
下に２時間、還流下に加熱した。反応生成物は２相、す
なわち上部無色液体相と下部黄色固体相を示した。上部
液体相は蒸留により除去した。固体相について31Ｐ Ｎ
ＭＲを調べ、所望の線状塩化ホスホニトリル種：（Ｃｌ
(ＰＮＣｌ2＝Ｎ)aＰＣｌ3)+Ａ-（式中、ＡはＣｌ-およ
び（ＰＣｌ6)-の混合物である）は、ａ＝１が２％モ
ル、ａ＝２が２３％モル、ａ＝３が３７％モル、および
ａ≧４が１２％モルの量で、環状物１０％モルとともに
存在することを確認した。
【００１４】実施例１ ８．７２ｇ（４１．８ミリモル）のＰＣｌ5および４０
ｍｌのトルエンをフラスコ中で混合し、４．５０ｇ（２
７．９２ミリモル）のＨＭＤＺを滴下して添加する前
に、これを、固体二酸化炭素を使用して冷却した。次い
で、このフラスコを室温まで加温し、２時間の還流下に
加熱する前に、２０分間放置した。生成物は黄色で透明
な液体相と黄色固体相を有していた。溶媒を除去して、
黄色固体を残し、冷却により結晶化させた。31Ｐ ＮＭ
Ｒを調べ、線状塩化ホスホニトリル種：（Ｃｌ(ＰＮＣ
ｌ2＝Ｎ)aＰＣｌ3)+Ａ-（式中、ＡはＣｌ-および（ＰＣ
ｌ6)-の混合物である）は、ａ＝１が２％モル、ａ＝２
が１８％モル、ａ＝３が４０％モル、およびａ≧４が２
６％モルの量で、環状物１％モルとともに存在すること
を確認した。
ｍｌのトルエンをフラスコ中で混合し、４．５０ｇ（２
７．９２ミリモル）のＨＭＤＺを滴下して添加する前
に、これを、固体二酸化炭素を使用して冷却した。次い
で、このフラスコを室温まで加温し、２時間の還流下に
加熱する前に、２０分間放置した。生成物は黄色で透明
な液体相と黄色固体相を有していた。溶媒を除去して、
黄色固体を残し、冷却により結晶化させた。31Ｐ ＮＭ
Ｒを調べ、線状塩化ホスホニトリル種：（Ｃｌ(ＰＮＣ
ｌ2＝Ｎ)aＰＣｌ3)+Ａ-（式中、ＡはＣｌ-および（ＰＣ
ｌ6)-の混合物である）は、ａ＝１が２％モル、ａ＝２
が１８％モル、ａ＝３が４０％モル、およびａ≧４が２
６％モルの量で、環状物１％モルとともに存在すること
を確認した。
【００１５】実施例２ ６０．２６ｇ（２８９．７１ミリモル）のＰＣｌ5およ
び２５０ｍｌのトルエンをフラスコ中で混合し、３１．
１７ｇ（１９３．１４ミリモル）のＨＭＤＺを滴下して
添加する前に、これを、固体二酸化炭素を使用して冷却
した。その添加後、このフラスコを室温まで加温し、２
時間の還流下に加熱する前に、１０分間放置した。生成
物は透明な液体トルエン相と黄色液体塩化ホスホニトリ
ル含有相を示した。トルエンを除去し、黄色生成物を結
晶化させて、31Ｐ ＮＭＲにより分析した。生成物は、
線状塩化ホスホニトリル種：（Ｃｌ(ＰＮＣｌ2＝Ｎ)aＰ
Ｃｌ3)+Ａ-（式中、ＡはＣｌ-および（ＰＣｌ6)-の混合
物である）を、ａ＝１が２％モル、ａ＝２が１５％モ
ル、ａ＝３が３９％モル、およびａ≧４が２２．９％モ
ルの量で、環状物１％モルとともに含んでいた。次い
で、１５ｍｌのトルエンに２５．５８ｇ（１１５．２ミ
リモル）の無水Ｄ 3を溶かした溶液をフラスコに加え、
反応を１５時間、一夜、還流下に続けた。次いで、トル
エンを除去して、黄色液体を残し、31Ｐおよび29Ｓｉ
ＮＭＲにより分析した。これらの調査は、ＯＣｌ2ＰＮ
ＰＣｌ2ＮＰＣｌ2ＯＳｉ−基の存在を示した。
び２５０ｍｌのトルエンをフラスコ中で混合し、３１．
１７ｇ（１９３．１４ミリモル）のＨＭＤＺを滴下して
添加する前に、これを、固体二酸化炭素を使用して冷却
した。その添加後、このフラスコを室温まで加温し、２
時間の還流下に加熱する前に、１０分間放置した。生成
物は透明な液体トルエン相と黄色液体塩化ホスホニトリ
ル含有相を示した。トルエンを除去し、黄色生成物を結
晶化させて、31Ｐ ＮＭＲにより分析した。生成物は、
線状塩化ホスホニトリル種：（Ｃｌ(ＰＮＣｌ2＝Ｎ)aＰ
Ｃｌ3)+Ａ-（式中、ＡはＣｌ-および（ＰＣｌ6)-の混合
物である）を、ａ＝１が２％モル、ａ＝２が１５％モ
ル、ａ＝３が３９％モル、およびａ≧４が２２．９％モ
ルの量で、環状物１％モルとともに含んでいた。次い
で、１５ｍｌのトルエンに２５．５８ｇ（１１５．２ミ
リモル）の無水Ｄ 3を溶かした溶液をフラスコに加え、
反応を１５時間、一夜、還流下に続けた。次いで、トル
エンを除去して、黄色液体を残し、31Ｐおよび29Ｓｉ
ＮＭＲにより分析した。これらの調査は、ＯＣｌ2ＰＮ
ＰＣｌ2ＮＰＣｌ2ＯＳｉ−基の存在を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サラ・エル・オヘア イギリス国、ダイナス・ポーイズ・シーエ フ64・４ジェイピー、セイント・デイヴィ ッド・アベニュー ３ (72)発明者 リチャード・ジー・テイラー イギリス国、バリー・シーエフ63・８エイ チティ、セイント・ポールズ・アベニュー 11 (72)発明者 ダヴィド・エグラン フランス国、77200 トルシー、リュー・ ド・パリ 77
Claims (9)
- 【請求項１】 式：（Ｘ（ＰＸ2＝Ｎ）aＰＸ3）+Ａ
-（式中、Ｘはハロゲンを示し、ＡはＸまたは（ＰＸ6）
-を示し、さらに、ａは１〜９の整数である）のハロゲ
ン化ホスホニトリルの作製方法であって、不活性非塩素
化溶媒中で、冷却下に、ＰＸ5およびジシラザンを反応
させる第１工程と、ハロゲン化ホスホニトリルを製造す
るに充分な時間、少なくとも５０℃まで該反応混合物を
加熱する第２工程と、を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項２】 さらに、前記ジシラザンはヘキサメチル
ジシラザンであることを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項３】 さらに、前記Ｘは塩素であることを特徴
とする請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 さらに、前記第１工程は０℃以下の温度
で行うことを特徴とする請求項１、２または３記載の方
法。 - 【請求項５】 さらに、前記第２工程は前記溶媒の還流
下に行うことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいず
れか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 さらに、前記溶媒はトルエンである請求
項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項７】 さらに、前記第２工程により得られた反
応混合物へ、式：（（ＣＨ3）2ＳｉＯ）b（式中、ｂは
３〜６の整数である）のシクロシロキサンを添加して、
式：Ｚ−（（ＣＨ3）2ＳｉＯ）b−Ｚ（式中、ＺはＸま
たは基：ＯＰＸ2（ＮＰＸ2）aＮＰＸ2−である）のハロ
ゲン化ホスホニトリル含有種を生成する第３工程を含
み、該ハロゲン化ホスホニトリル含有種は、式：ＯＰＸ
2（ＮＰＸ2）aＮＰＸ2−の基を少なくとも１つ有する、
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項８】 さらに、前記シクロシロキサンは、実質
的にヘキサメチルシクロトリシロキサンからなることを
特徴とする請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 さらに、前記ハロゲン化ホスホニトリル
含有種は、エチレングリコールジアセテート中に溶解さ
れていることを特徴とする請求項７または８記載の方
法。
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