JP2000173906A - 現像液供給方法及び現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板全面に現像液を液盛りして現像処理を均
一に行う。 【解決手段】 スピンチャックに保持された基板Ｗに対
向する対向面２１を備えた現像液供給ノズル２０と、ス
ピンチャックに保持された基板Ｗとを近接させて、その
間に多孔質材２３を通して順次供給される現像液Ｑを介
在させた状態で、現像液供給ノズル２０と基板Ｗとを相
対変位させて基板Ｗに現像液Ｑを供給して基板Ｗに現像
液Ｑを液盛りする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に現像液を液盛りす
るために基板に現像液を供給する現像液供給方法及びそ
の方法を実施する現像装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の現像装置として、例え
ば、図６に示すような装置がある。図６に示す現像装置
は、基板Ｗを水平姿勢で保持して鉛直方向の軸芯Ｊ周り
で回転させるスピンチャック１や、所定の現像液供給位
置に位置されて側方に設けられた多数の吐出孔１０１か
ら基板Ｗに現像液Ｑを供給する現像液供給ノズル１００
を備えている。

【０００３】この従来装置による基板Ｗへの現像液Ｑの
液盛りは以下のようにして行われる。すなわち、基板Ｗ
の中心を軸芯Ｊに一致させて基板Ｗがスピンチャック１
に保持されると、その基板Ｗの上方であって、基板Ｗの
中心（軸芯Ｊ）から若干ずれた所定の現像液供給位置に
現像液供給ノズル１００が位置される。そして、スピン
チャック１によって基板Ｗをその中心（軸芯Ｊ）周りで
回転させながら、現像液供給位置に位置した現像液供給
ノズル１００の側方の吐出孔１０１から現像液Ｑが基板
Ｗに供給される。これにより、基板Ｗに供給された現像
液Ｑは、基板Ｗの回転に伴う遠心力によって基板Ｗの全
面にひろげられて基板Ｗに現像液Ｑが液盛りされる。

【０００４】基板Ｗへの現像液Ｑの液盛りが完了する
と、スピンチャック１による基板Ｗの回転が停止され
て、所定の現像時間の間、基板Ｗは静止される。この間
に現像処理が進行して、基板Ｗに塗布されたフォトレジ
スト膜に対して露光されて焼き付けられたパターンが得
られる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。近年、パターンの微細化に伴ってフォトレジスト
の種類が多様化しており、その中には、現像液Ｑとの密
着性が悪い疎水性のフォトレジストも存在する。このよ
うな疎水性のフォトレジストが塗布された基板Ｗに対し
て、従来装置を用いて従来方法で現像液Ｑを供給して液
盛りした場合、従来方法では、単に基板Ｗの回転に伴う
遠心力で基板Ｗの全面（に塗布されたフォトレジスト膜
上）に現像液Ｑをひろげているだけであるので、現像液
Ｑとフォトレジスト膜との密着度が弱く、フォトレジス
ト膜上で現像液Ｑが弾かれて液盛りされない箇所が発生
し、基板Ｗの全面で現像処理を均一に行えないという問
題が発生している。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板全面に現像液を液盛りして現像処
理を均一に行うことができる現像液供給方法及び現像装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板に現像液を液盛りす
るために基板に現像液を供給する現像液供給方法であっ
て、基板に対向する対向面を備えた対向部材と、基板と
を近接させて、その間に現像液を介在させた状態で前記
対向部材と基板とを相対変位させて基板に現像液を供給
することを特徴とするものである。

【０００８】請求項２に記載の発明は、基板に現像液を
供給して基板に現像液を液盛りし、現像処理を行う現像
装置であって、基板を保持する基板保持手段と、前記基
板保持手段に保持された基板に対向する対向面を備えた
対向部材と、前記対向部材と前記基板保持手段に保持さ
れた基板との間に現像液を供給する現像液供給手段と、
前記対向部材と前記基板保持手段に保持された基板とを
近接させて、その間に前記現像液供給手段によって供給
される現像液を介在させた状態で前記対向部材と基板と
を相対変位させる相対変位手段と、を備えたことを特徴
とするものである。

【０００９】請求項３に記載の発明は、上記請求項２に
記載の現像装置において、前記対向部材は、基板に対向
する対向面を備えた多孔質材を含み、前記現像液供給手
段は、前記多孔質材を通して前記対向部材と前記基板保
持手段に保持された基板との間に現像液を供給すること
を特徴とするものである。

【００１０】請求項４に記載の発明は、上記請求項２ま
たは３に記載の現像装置において、前記相対変位手段
は、前記基板保持手段に保持された基板をその中心周り
で回転させながら、前記対向部材を前記基板保持手段に
保持された基板の周縁と中心との間で移動させることを
特徴とするものである。

【００１１】請求項５に記載の発明は、上記請求項２な
いし４のいずれかに記載の現像装置において、前記相対
変位手段は、基板に対して前記対向部材を回転させるこ
とを特徴とするものである。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の発明に係る現像液供給方法に
よれば、基板に対向する対向面を備えた対向部材と、基
板とを近接させて、その間に現像液を介在させた状態で
対向部材と基板とを相対変位させて基板に現像液を供給
して基板に現像液を液盛りする。これにより、対向部材
の対向面全体で広い面積にわたって基板（に塗布された
フォトレジスト膜）に現像液を擦り付けるようにして現
像液を供給することができ、その供給過程で、基板（に
塗布されたフォトレジスト膜）に現像液が強制的に密着
させられる。従って、疎水性のフォトレジストが塗布さ
れた基板に対して現像液を供給して液盛りする場合で
も、フォトレジスト膜上で現像液が弾かれることを抑制
することができ、基板全面に現像液を液盛りすることが
できる。

【００１３】請求項２に記載の発明に係る現像装置は、
上記請求項１に記載の現像液供給方法を好適に実施する
装置であり、その作用は次のとおりである。

【００１４】すなわち、相対変位手段によって、基板保
持手段に保持された基板に対向する対向面を備えた対向
部材と、基板保持手段に保持された基板とを近接させ
て、その間に現像液供給手段によって供給される現像液
を介在させた状態で対向部材と基板とを相対変位させて
基板に現像液を供給して基板に現像液を液盛りする。

【００１５】請求項３に記載の発明に係る現像装置によ
れば、現像液供給手段は、対向部材に設けられた多孔質
材を通して対向部材と、基板保持手段に保持された基板
との間に現像液を供給する。これにより、対向部材と基
板保持手段に保持された基板との間に現像液を均一な流
速分布で均等に供給することができる。

【００１６】請求項４に記載の発明に係る現像装置によ
れば、相対変位手段は、少なくとも基板保持手段に保持
された基板をその中心周りで回転させながら、対向部材
を基板保持手段に保持された基板の周縁と中心との間で
移動させる。基板の周縁と中心との間の対向部材の移動
は複数回行ってもよい。これにより、基板よりも小さい
対向部材（対向面）であっても、基板全面に隈なく対向
部材（対向面）を近接対向させて現像液を供給すること
ができる。

【００１７】請求項５に記載の発明に係る現像装置によ
れば、相対変位手段は、対向面と基板との相対変位とし
て、少なくとも基板に対して対向部材を回転させる。こ
れにより、対向部材と基板との間の現像液をより強く基
板（詳しくは、基板に塗布されたフォトレジスト膜）に
擦り付けことができ、基板と現像液とをより強固に密着
させることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の一実施例に係る現
像装置の全体構成を示す平面図であり、図２はその要部
の縦断面図、図３は実施例装置に備えた現像液供給ノズ
ルの拡大縦断面図である。

【００１９】図２に示すように、この実施例装置は、基
板Ｗを水平姿勢で保持する基板保持手段に相当するスピ
ンチャック１を備えている。このスピンチャック１は、
図示しない真空ラインにつながっていて基板Ｗを真空吸
着保持する基板保持台２を有する。また、基板保持台２
は、回転軸３を介して電動モーター４に連動連結されて
いて、電動モーター４の回転駆動によって、基板Ｗを保
持した状態で鉛直方向の軸芯Ｊ周りで回転可能に構成さ
れている。基板Ｗはその中心が軸芯Ｊに一致されて基板
保持台２に保持されることで、スピンチャック１ととも
に基板Ｗをその中心周りで回転させることができるよう
になっている。

【００２０】スピンチャック１およびそれによって保持
された基板Ｗの周囲にはカップ５が配備されている。こ
のカップ５は、図示しない昇降機構によって昇降可能に
構成されている。基板Ｗの搬入搬出の際には、カップ５
は下降されて、スピンチャック１の基板保持台２がカッ
プ５の上方に突出され、スピンチャック１（基板保持台
２）と図示しない基板搬送機構の基板搬送アームとの間
での基板Ｗの受渡しが許容される。また、後述するよう
に、基板Ｗが回転される際には、カップ５が上昇され
て、スピンチャック１およびそれに保持された基板Ｗの
周囲にカップ５を配置させ、回転に伴って基板Ｗから周
囲に飛散される現像液などを受け止めて回収するように
なっている。

【００２１】カップ５の一方の側部には、アーム駆動機
構１０によって鉛直方向の軸芯Ｓを支点として揺動可能
に、かつ、昇降可能に支持アーム１１が配設されてい
る。この支持アーム１１の先端部には支軸１２が回転可
能に垂設され、この支軸１２の下端部に後述する現像液
供給ノズル２０が支軸１２と一体回転可能に連結されて
いる。支持アーム１１を軸芯Ｓの周りに揺動させること
で、現像液供給ノズル２０を平面視で図１のＲ１方向に
沿って移動させることができ、現像液供給ノズル２０
を、スピンチャック１に保持された基板Ｗの周縁と中心
との間で移動させることができるようになっている。

【００２２】また、支持アーム１１には、電動モーター
１３が設けられ、この電動モーター１３と支軸１２とが
図示しないベルト伝動機構などを介して連動連結されて
いて、電動モーター１３の回転駆動によって、支軸１２
とともに現像液供給ノズル２０が鉛直方向の軸芯Ｔ周り
で回転可能に構成され、スピンチャック１に保持された
基板Ｗに対して現像液供給ノズル２０を回転（自転）さ
せることができるようになっている。カップ５の支持ア
ーム１１側の側部には、待機中の現像液供給ノズル２０
を待機させるための待機ポット１４も設けられている。

【００２３】カップ５の他方の側部には、純水などのリ
ンス液を供給するリンス液供給ノズル１５が、昇降可能
で、かつ、支持アーム１６の揺動によって図１のＲ２方
向に移動可能に配設されている。

【００２４】本発明における対向部材に相当する現像液
供給ノズル２０は、その底面がスピンチャック１に保持
された基板Ｗの上面（フォトレジスト膜が塗布された表
面）に対向する対向面２１を備えている。現像液供給ノ
ズル２０内には、その上部に液溜まり部２２が設けられ
ているとともに、その液溜まり部２２の下側に多孔質材
２３が配設されている。この多孔質材２３の底面が対向
面２１の大部分を構成している。液溜まり部２２には、
現像液供給源から支持アーム１１などに内設された供給
管（いずれも図示せず）及び支軸１２内に形成された供
給路２４を介して現像液Ｑが供給されるようになってい
る。そして、液溜まり部２２内の現像液Ｑが多孔質材２
３を通って対向面２１から吐出されるようになってい
る。すなわち、本実施例では、対向面２１は現像液Ｑの
供給口にもなっていて、この対向面２１から現像液Ｑが
滲み出るようにして吐出されるようになっている。

【００２５】多孔質材２３としては、多孔質材２３の対
向面２１から均一な流速分布で現像液Ｑを均等に吐出供
給できるものであればよく、例えば、多数の中空糸状の
ファイバーを束ねたものやポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）などを用いることができる。なお、多数の中空糸状
のファイバーを束ねた多孔質材２３を用いた場合には、
現像液Ｑのろ過が可能で、脱気（現像液Ｑ内の気体を分
離）することも可能である。例えば、図２、図３に示す
ように、多孔質材２３の側方に開放部２５を形成すれば
（好ましくは、開放部２５を減圧吸引して）、現像液Ｑ
から分離された気体を開放部２５から放出することがで
きる。

【００２６】対向面２１は、例えば、直径５mm〜８０mm
程度の円形に形成されるが、対向面２１の形状は円形に
限らず、楕円形や正方形、長方形、その他の多角形など
で形成してもよい。ただし、対向面２１は、後述する現
像液Ｑを基板Ｗ（に塗布されたフォトレジスト膜）に擦
り付ける力としてより強い力が得られるように、水平面
内で互いに直交する２軸方向の各寸法がそれぞれある程
度の大きさを有する周囲に広がりを有する面形状であ
り、その面積もある程度大きくするように形成してい
る。すなわち、例えば、略線状のような形状の対向面の
場合、現像液Ｑを基板Ｗ（に塗布されたフォトレジスト
膜）に擦り付けるのに十分な力が得られないので、その
ような形状は好ましくない。

【００２７】なお、本実施例では、現像液供給源や支持
アーム１１などに内設された供給管、支軸１２内に形成
された供給路２４、液溜まり部２２、多孔質材２３が、
本発明における現像液供給手段を構成する。また、電動
モーター４、１３、アーム駆動機構１０が、本発明にお
ける相対変位手段を構成する。

【００２８】次に、上記構成を有する実施例装置の動作
を説明する。まず、現像液供給ノズル２０が待機ポット
１４内に待機されているとともに、リンス液供給ノズル
１５がカップ５の側方に待機され、カップ５が下降され
ている状態で、図示しない基板搬送機構の基板搬送アー
ムによって搬入されてきた基板Ｗを、その中心を軸芯Ｊ
と一致させて基板保持台２で受け取って保持する。スピ
ンチャック１（基板保持台２）が基板Ｗを保持し、基板
搬送機構の基板搬送アームが退避されると、カップ５が
上昇されて、スピンチャック１及びそれによって保持さ
れた基板Ｗの周囲にカップ５が配置される。

【００２９】次に、アーム駆動機構１０によって、支持
アーム１１が上昇されて現像液供給ノズル２０が待機ポ
ット１４から引き上げられ、さらに、図１のＲ１方向に
沿って反時計方向に所定量移動されて、カップ５の内側
であって、スピンチャック１に保持された基板Ｗの周縁
の外側の所定の準備位置Ｐ０（図１、図２参照）にまで
移動されると、支持アーム１１を下降させて現像液供給
ノズル２０を走査高さＳＨに位置させる。この走査高さ
ＳＨは、対向面２１とスピンチャック１に保持された基
板Ｗの表面とを近接させ、対向面２１とスピンチャック
１に保持された基板Ｗの表面との間に現像液Ｑを介在さ
せた状態で相対変位し得る高さ位置であり、対向面２１
とスピンチャック１に保持された基板Ｗの表面との間の
間隔Ｂが、０mm＜Ｂ≦１０mm程度の範囲内に納まる高さ
である。

【００３０】そして、対向面２１からの現像液Ｑの吐出
を開始し、電動モーター４を回転駆動させて基板Ｗをそ
の中心周りに回転させながら、支持アーム１１を軸芯Ｓ
周りに揺動させて、走査高さＳＨを維持しながら、現像
液供給ノズル２０をスピンチャック１に保持された基板
Ｗの周縁と中心との間を所定回数（往復）移動させる。
このとき、電動モーター１３を回転駆動させて現像液供
給ノズル２０を軸芯Ｔ周りで回転させながら、基板Ｗの
周縁と中心との間を移動させてもよい。

【００３１】以上の動作により、図４に示すように、ス
ピンチャック１に保持された基板Ｗに対向する現像液供
給ノズル２０の対向面２１とスピンチャック１に保持さ
れた基板Ｗとを近接させて、その間に多孔質材２３を通
して順次供給される現像液Ｑを介在させた状態で現像液
供給ノズル２０（対向面２１）と基板Ｗとを相対変位さ
せて基板Ｗに現像液Ｑを供給して基板Ｗに現像液Ｑを液
盛りすることができる。

【００３２】このような方法で基板Ｗに現像液Ｑを供給
することにより、現像液供給ノズル２０の対向面２１全
体で広い面積にわたって基板Ｗ（に塗布されたフォトレ
ジスト膜）に現像液Ｑを擦り付けるようにして現像液Ｑ
を供給することができ、その供給過程で、基板Ｗ（に塗
布されたフォトレジスト膜）に現像液Ｑを強制的に密着
させることができる。従って、疎水性のフォトレジスト
が塗布された基板Ｗに対して現像液Ｑを供給して液盛り
する場合でも、フォトレジスト膜上で現像液Ｑが弾かれ
ることを抑制することができ、基板Ｗの全面に現像液Ｑ
を液盛りすることができる。

【００３３】また、現像液供給ノズル２０（対向面２
１）とスピンチャック１に保持された基板Ｗとの間に、
多孔質材２３を通して現像液Ｑを供給するようにしてい
るので、現像液供給ノズル２０（対向面２１）とスピン
チャック１に保持された基板Ｗとの間に現像液Ｑを均一
な流速分布で均等に供給することができ、現像液Ｑを基
板Ｗに擦り付ける力が対向面２１全体で均一になり、現
像液Ｑを基板Ｗにムラなく供給することができる。

【００３４】また、スピンチャック１に保持された基板
Ｗをその中心周りで回転させながら、現像液供給ノズル
２０（対向面２１）をスピンチャック１に保持された基
板Ｗの周縁と中心との間で移動させて、基板Ｗに現像液
Ｑを供給するので、基板Ｗよりも小さい現像液供給ノズ
ル２０（対向面２１）であっても基板Ｗの全面に隈なく
現像液供給ノズル２０（対向面２１）を近接対向させて
現像液Ｑを供給することができる。

【００３５】さらに、基板Ｗに対して現像液供給ノズル
２０を軸芯Ｔ周りで回転させながら基板Ｗに現像液Ｑを
供給すれば、現像液供給ノズル２０（対向面２１）と基
板Ｗとの間の現像液Ｑをより強く基板Ｗ（詳しくは、基
板Ｗに塗布されたフォトレジスト膜）に擦り付けことが
でき、基板Ｗと現像液Ｑとをより強固に密着させること
ができ、フォトレジスト膜上で現像液Ｑが弾かれること
をより一層抑制することができる。

【００３６】基板Ｗの全面への現像液Ｑの供給を終える
と、アーム駆動機構１０によって現像液供給ノズル２０
が、準備位置Ｐ０に戻され、対向面２１からの現像液Ｑ
の吐出が停止される。その後、アーム駆動機構１０によ
って、支持アーム１１が上昇され、さらに、待機ポット
１４の上方まで現像液供給ノズル２０を移動させると、
支持アーム１１を下降させて現像液供給ノズル２０を待
機ポット１４内に待機させる。

【００３７】一方、基板Ｗへ現像液Ｑを液盛りした後
は、電動モーター４の回転駆動を停止して、スピンチャ
ック１による基板Ｗの回転が停止され、所定の現像時間
の間、基板Ｗは静止される。この間に現像処理が行われ
る。現像時間が経過すると、電動モーター４を回転駆動
して基板Ｗを高速に回転させ、基板Ｗ上の現像液Ｑが振
り切られる。その後、リンス液供給ノズル１５を基板Ｗ
の上方に移動させてそのノズル１５からリンス液を回転
中の基板Ｗ上に供給して、基板Ｗ上に残留する現像液Ｑ
を洗い流すリンス処理が行われる。所定時間リンス処理
を行うと、リンス液の供給を停止してリンス液供給ノズ
ル１５をカップ５の外側に戻す。そして、基板Ｗに付着
しているリンス液を振り切り乾燥した後、スピンチャッ
ク１の回転を停止する。その後、カップ５を下降させ、
基板搬送機構の基板搬送アームによって基板Ｗが搬出さ
れて、一連の現像処理を終了する。

【００３８】以上のようにこの実施例装置によれば、基
板Ｗの全体に現像液Ｑを液盛りして、基板Ｗの全面で現
像処理を均一に行うことができる。

【００３９】なお、本発明は、上記実施例の構成に限定
されるものではない。例えば、多孔質材２３を通して現
像液Ｑを供給することや、対向面２１から現像液Ｑを供
給することなどは必ずしも必須要件ではなく、例えば、
図５各図に示すような構成で変形実施することも可能で
ある。

【００４０】図５（ａ）に示す変形例は、基板Ｗに対向
する対向面２１を備えた対向部材３０を備えている。対
向部材３０は、対向面２１を基板Ｗと近接させた状態
で、基板Ｗを相対変位可能に構成されている。また、こ
の対向部材３０の中央部に形成された現像液Ｑの供給路
３１の下端部の吐出口３２から、対向部材３０（対向面
２１）と基板Ｗとの間に現像液Ｑを供給するように構成
している。なお、基板Ｗの保持や、対向部材３０と基板
Ｗとの相対変位などは、上記実施例と同様の構成で行
う。

【００４１】図５（ｂ）に示す変形例は、現像液Ｑの供
給路４１から供給される現像液Ｑを溜める液溜まり部４
２を対向部材４０の内部に有し、対向面２１に穿設され
た複数の吐出孔４３から対向部材４０（対向面２１）と
基板Ｗとの間に現像液Ｑを供給するように構成してい
る。それ以外は、図５（ａ）に示す変形例と同様であ
る。

【００４２】図５（ｃ）に示す変形例は、基板Ｗに対向
する対向面２１を備えた対向部材５０の周囲（より詳し
くは、対応部材５０の移動方向の先頭側）に設けられた
ノズル５１から、対向部材３０（対向面２１）と基板Ｗ
との間に現像液Ｑを供給するように構成している。それ
以外は、図５（ａ）に示す変形例と同様である。なお、
図５（ｃ）の構成では、ノズル５１に多孔質材を備え
て、その多孔質材を通して現像液Ｑを供給してもよい。

【００４３】図５各図に示す構成であっても本発明に係
る現像液供給方法を実現することができる。

【００４４】また、本発明は、半導体ウエハのような円
形基板に限らず、液晶表示器用のガラス基板にも適用す
ることができる。

【００４５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明に係る現像液供給方法によれば、基板に
対向する対向面を備えた対向部材と、基板とを近接させ
て、その間に現像液を介在させた状態で対向部材と基板
とを相対変位させて、基板に現像液を供給して基板に現
像液を液盛りするので、対向部材の対向面全体で広い面
積にわたって基板に現像液を擦り付けるようにして現像
液を供給することができ、その供給過程で、基板に現像
液を強制的に密着させることができる。従って、疎水性
のフォトレジストが塗布された基板に対して現像液を供
給して液盛りする場合でも、フォトレジスト膜上で現像
液が弾かれることを抑制することができ、基板全面に現
像液を液盛りすることができ、基板全面で現像処理を均
一に行うことができる。

【００４６】請求項２に記載の発明によれば、上記請求
項１に記載の現像液供給方法を好適に実施する現像装置
を実現することができる。

【００４７】請求項３に記載の発明に係る現像装置によ
れば、請求項２に記載の現像装置において、現像液供給
手段は、対向部材に設けられた多孔質材を通して対向部
材と基板保持手段に保持された基板との間に現像液を供
給するので、対向部材と基板保持手段に保持された基板
との間に現像液を均一な流速分布で均等に供給すること
ができ、現像液を基板に擦り付ける力が対向面全体で均
一になり、現像液を基板にムラなく供給することができ
る。

【００４８】請求項４に記載の発明によれば、請求項２
または３に記載の現像装置において、相対変位手段は、
基板保持手段に保持された基板をその中心周りで回転さ
せながら、対向部材を基板保持手段に保持された基板の
周縁と中心との間で移動させるので、基板よりも小さい
対向部材（対向面）であっても基板全面に隈なく対向部
材（対向面）を近接対向させて現像液を供給することが
できる。

【００４９】請求項５に記載の発明に係る現像装置によ
れば、請求項２ないし４に記載の現像装置において、相
対変位手段は、基板に対して対向部材を回転させるの
で、対向部材と基板との間の現像液をより強く基板に擦
り付けことができ、基板と現像液とをより強固に密着さ
せることができ、フォトレジスト膜上で現像液が弾かれ
ることをより一層抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る現像装置の全体構成を
示す平面図である。

【図２】実施例装置の要部の縦断面図である。

【図３】実施例装置に備えた現像液供給ノズルの拡大縦
断面図である。

【図４】実施例装置による現像液の供給状態を示す縦断
面図である。

【図５】本発明を実現する各種の変形例の要部構成を示
す縦断面図である。

【図６】従来装置及び従来方法を示す正面図である。

【符号の説明】

１：スピンチャック ４、１３：電動モーター １０：アーム駆動機構 ２０：現像液供給ノズル ２１、対向面 ２２：液溜まり部 ２３：多孔質材 ２４：供給路 ３０、４０、５０：対向部材 ３２：吐出口 ４３：吐出孔 ５１：ノズル Ｗ：基板 Ｑ：現像液

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 晶子 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 玉田 修 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 松永 実信 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H096 AA25 GA30 5F046 LA03 LA04 LA14

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に現像液を液盛りするために基板に
   現像液を供給する現像液供給方法であって、 基板に対向する対向面を備えた対向部材と、基板とを近
   接させて、その間に現像液を介在させた状態で前記対向
   部材と基板とを相対変位させて基板に現像液を供給する
   ことを特徴とする現像液供給方法。
2. 【請求項２】 基板に現像液を供給して基板に現像液を
   液盛りし、現像処理を行う現像装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に対向する対向面を
   備えた対向部材と、 前記対向部材と前記基板保持手段に保持された基板との
   間に現像液を供給する現像液供給手段と、 前記対向部材と前記基板保持手段に保持された基板とを
   近接させて、その間に前記現像液供給手段によって供給
   される現像液を介在させた状態で前記対向部材と基板と
   を相対変位させる相対変位手段と、 を備えたことを特徴とする現像装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の現像装置において、 前記対向部材は、基板に対向する対向面を備えた多孔質
   材を含み、 前記現像液供給手段は、前記多孔質材を通して前記対向
   部材と前記基板保持手段に保持された基板との間に現像
   液を供給することを特徴とする現像装置。
4. 【請求項４】 請求項２または３に記載の現像装置にお
   いて、 前記相対変位手段は、前記基板保持手段に保持された基
   板をその中心周りで回転させながら、前記対向部材を前
   記基板保持手段に保持された基板の周縁と中心との間で
   移動させることを特徴とする現像装置。
5. 【請求項５】 請求項２ないし４のいずれかに記載の現
   像装置において、 前記相対変位手段は、基板に対して前記対向部材を回転
   させることを特徴とする現像装置。