JP2018026505A - 接液ノズルの洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
接液ノズルの洗浄方法及び洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018026505A JP2018026505A JP2016158795A JP2016158795A JP2018026505A JP 2018026505 A JP2018026505 A JP 2018026505A JP 2016158795 A JP2016158795 A JP 2016158795A JP 2016158795 A JP2016158795 A JP 2016158795A JP 2018026505 A JP2018026505 A JP 2018026505A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- liquid
- contact nozzle
- liquid contact
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
140 スピンチャック
154 純水供給ノズル
155、159 ノズル駆動部
158 現像液供給ノズル
170 ノズルバス
171 駆動機構
172 発光部
173 受光部
200 制御部
P 純水
R レジスト膜
W ウェハ
Claims (15)
- 基板上に処理液を供給して当該基板を処理する液処理装置内に設けられ、前記処理の際に基板上の処理液と接触する接液ノズルを洗浄する方法であって、
前記液処理装置内で前記接液ノズルの汚れ具合を検査し、当該検査の結果に基づいて前記接液ノズルを洗浄することを特徴とする、接液ノズルの洗浄方法。 - 前記接液ノズルは、光を透過させる材料からなり、前記検査は、接液ノズルに対して光を照射して行うことを特徴とする、請求項1に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 前記検査は、接液ノズルを撮像して行うことを特徴とする、請求項1に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 前記検査の結果に基づいて行う洗浄は、前記接液ノズルを受容する受容部内に洗浄液を供給することによって行うことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 前記検査の結果に基づいて行う洗浄は、既に行った洗浄の回数に基づいて、前記接液ノズルを受容する受容部内に洗浄液を供給することによって行うかまたはより洗浄度合いの高い洗浄方法によって行うことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 前記より洗浄度合いの高い洗浄方法は、前記接液ノズルを受容する受容部内に洗浄液を供給し、さらに前記受容部内に洗浄液の液流を発生させることによって行うことを特徴とする、請求項5に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 前記より洗浄度合いの高い洗浄方法は、前記接液ノズルを受容する受容部内に洗浄液を供給し、さらに当該受容部内を加熱することによって行うことを特徴とする、請求項5または6のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 前記より洗浄度合いの高い洗浄方法は、前記接液ノズルを受容する受容部内に洗浄液を供給し、当該受容部内で前記接液ノズルに対してブラシ部材を接触させることによって行うことを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄方法。
- 基板上に処理液を供給して当該基板を処理する液処理装置内に設けられ、前記処理の際に基板上の処理液と接触する接液ノズルを洗浄する装置であって、
前記液処理装置内に設けられ、前記接液ノズルを受容する受容部と、前記接液ノズルの汚れ具合を検査する検査装置とを有することを特徴とする、接液ノズルの洗浄装置。 - 前記接液ノズルは、光を透過する材料からなり、前記検査装置は、前記接液ノズルに対して光を照射する発光部と、接液ノズルを透過した光を受光する受光部とを有することを特徴とする、請求項9に記載の接液ノズルの洗浄装置。
- 前記検査装置は、前記接液ノズルを撮像する撮像装置と、当該撮像装置からの画像に基づいて汚れ具合を判断する判定装置とを有することを特徴とする、請求項9に記載の接液ノズルの洗浄装置。
- 前記受容部の少なくとも底部は回転自在に構成されていることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄装置。
- 前記受容部の底部には、凹凸が形成されていることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄装置。
- 前記受容部内には、前記接液ノズルに接触可能なブラシ部材が設けられていることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄装置。
- 前記受容部内を加熱するヒータを有することを特徴とする、請求項9〜14のいずれか一項に記載の接液ノズルの洗浄装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016158795A JP6752081B2 (ja) | 2016-08-12 | 2016-08-12 | 接液ノズルの洗浄方法及び洗浄装置 |
KR1020170098503A KR102405151B1 (ko) | 2016-08-12 | 2017-08-03 | 접액 노즐의 세정 방법 및 세정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016158795A JP6752081B2 (ja) | 2016-08-12 | 2016-08-12 | 接液ノズルの洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018026505A true JP2018026505A (ja) | 2018-02-15 |
JP6752081B2 JP6752081B2 (ja) | 2020-09-09 |
Family
ID=61195416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016158795A Active JP6752081B2 (ja) | 2016-08-12 | 2016-08-12 | 接液ノズルの洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6752081B2 (ja) |
KR (1) | KR102405151B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021029274A1 (ja) * | 2019-08-13 | 2021-02-18 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173906A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 現像液供給方法及び現像装置 |
JP2001232250A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-08-28 | Tokyo Electron Ltd | 膜形成装置 |
JP2001319869A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置および現像処理方法 |
US20060147620A1 (en) * | 2004-12-31 | 2006-07-06 | Lg Philips Lcd Co., Ltd. | Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same |
JP2006192328A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Ptc Engineering:Kk | 洗浄装置 |
JP2009181982A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
JP2010279932A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Toshiba Corp | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2012049153A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び液処理方法 |
JP2012114237A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | ノズル洗浄装置および電子部品実装機 |
JP2014200726A (ja) * | 2013-04-03 | 2014-10-27 | 小島産業株式会社 | 揮発性有機溶剤を使用した洗浄装置 |
JP2015230957A (ja) * | 2014-06-04 | 2015-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
JP2016004894A (ja) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2016029703A (ja) * | 2014-07-23 | 2016-03-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6616760B2 (en) * | 1999-12-17 | 2003-09-09 | Tokyo Electron Limited | Film forming unit |
-
2016
- 2016-08-12 JP JP2016158795A patent/JP6752081B2/ja active Active
-
2017
- 2017-08-03 KR KR1020170098503A patent/KR102405151B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173906A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 現像液供給方法及び現像装置 |
JP2001232250A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-08-28 | Tokyo Electron Ltd | 膜形成装置 |
JP2001319869A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置および現像処理方法 |
US20060147620A1 (en) * | 2004-12-31 | 2006-07-06 | Lg Philips Lcd Co., Ltd. | Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same |
JP2006192328A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Ptc Engineering:Kk | 洗浄装置 |
JP2009181982A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
JP2010279932A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Toshiba Corp | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2012049153A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び液処理方法 |
JP2012114237A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | ノズル洗浄装置および電子部品実装機 |
JP2014200726A (ja) * | 2013-04-03 | 2014-10-27 | 小島産業株式会社 | 揮発性有機溶剤を使用した洗浄装置 |
JP2015230957A (ja) * | 2014-06-04 | 2015-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
JP2016004894A (ja) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2016029703A (ja) * | 2014-07-23 | 2016-03-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021029274A1 (ja) * | 2019-08-13 | 2021-02-18 | ||
WO2021029274A1 (ja) * | 2019-08-13 | 2021-02-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、ノズル検査方法、及び、記憶媒体 |
JP7313449B2 (ja) | 2019-08-13 | 2023-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、ノズル検査方法、及び、記憶媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6752081B2 (ja) | 2020-09-09 |
KR102405151B1 (ko) | 2022-06-07 |
KR20180018348A (ko) | 2018-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11287798B2 (en) | Substrate processing capable of suppressing a decrease in throughput while reducing the impact on exposure treatment caused by warping of a substrate | |
JP5443070B2 (ja) | インプリントシステム | |
US7281869B2 (en) | Coating and developing system and coating and developing method | |
JP4494332B2 (ja) | リンス処理方法、現像処理装置、および制御プログラム | |
TWI658341B (zh) | Substrate processing device, substrate processing method, and memory medium | |
TWI828772B (zh) | 塗布顯像裝置及塗布顯像方法 | |
JP2008198820A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JP2018036235A (ja) | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法 | |
JP3178129U (ja) | 基板検査装置 | |
JP4295175B2 (ja) | 塗布成膜装置及び塗布成膜方法 | |
TWI660251B (zh) | 顯影處理方法及電腦記錄媒體 | |
JP2006049757A (ja) | 基板処理方法 | |
JP3801849B2 (ja) | 基板処理装置及びその方法 | |
JP6752081B2 (ja) | 接液ノズルの洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP2013098476A (ja) | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP4872448B2 (ja) | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体。 | |
JP6524185B2 (ja) | 基板処理システム | |
JP6334449B2 (ja) | 塗布液供給装置、塗布液供給装置における洗浄方法及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP3725069B2 (ja) | 基板処理システム | |
JP2021043130A (ja) | ノズル内部における気液界面の検出方法および基板処理装置 | |
JP7455972B2 (ja) | 基板処理装置の運用方法 | |
JP2017092306A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6291409B2 (ja) | 現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
TW200409182A (en) | Solution treatment unit | |
JP2003272986A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190201 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190514 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200721 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200818 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6752081 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |