JP2016058712A - 現像方法、現像装置及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回転自在な基板保持部12に水平に保持された露光後の基板Wに対し、前記基板Wの表面と対向するように設けられた接触部を備えた第1の現像液ノズル3を用いて基板Wの表面の一部に液溜まりを形成し、回転している基板Wの上方で第1の現像液ノズル3を移動させて基板の表面全体に液溜まりを広げて現像処理を行う。さらに、この現像処理を行う前、または後に、基板Wの面内における現像の進行度合いの分布を揃えるために、基板を回転させた状態で第2の現像液ノズル61により基板の表面に現像液を供給する。そして、第1、第2の現像液ノズル3、61からの現像液の供給は、先に供給された現像液が基板Wの表面から取り除かれた後に行われる。
【選択図】図1
Description
前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部を備えたノズルにより構成された第1の現像液ノズルを用い、前記第1の現像液ノズルの吐出口から現像液を吐出して、前記基板保持部上の基板の表面の一部に液溜まりを形成する工程と、続いて前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で当該液溜まりに現像液を供給しながら、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に前記第1の現像液ノズルが移動することにより当該液溜まりを基板の表面全体に広げる工程と、を含む現像液展開工程と、
前記現像液展開工程による前記基板の面内における現像の進行度合いの分布を揃えるために、基板を回転させた状態で第2の現像液ノズルにより基板の表面に現像液を供給する現像液供給工程と、
前記現像液展開工程と前記現像液供給工程との間に行われ、前記基板の表面上の現像液を取り除く工程と、を含むことを特徴とする。
(a)前記現像液供給工程は、他の領域に比べて現像が不足している領域についての現像を進行させるように現像液の供給を行う現像調整工程であること。
(b)(a)において、前記現像液展開工程は、現像調整工程よりも前に実施されること。
(c)(a)において、前記液溜まりを基板に広げる工程は、回転している基板の中央部から周縁部側に前記第1の現像液ノズルが移動する工程であり、前記現像調整工程は、前記第2の現像液ノズルから現像液を吐出させながら、現像液の供給位置を基板の周縁部及び中央部の一方側から他方側に移動させる工程であること。
(d)(a)において、前記現像調整工程は、前記第2の現像液ノズルから基板の径方向の位置において局所的に現像液を吐出する工程であること。このとき前記局所的に現像液を吐出する工程は、前記第2の現像液ノズルを停止させた状態で行われること。前記現像調整工程は、基板の径方向で見たときに前記第2の現像液ノズルから現像液が吐出される位置が不連続で複数設定されていること。前記局所的に現像液を吐出する工程は、前記第2の現像液ノズルを停止させた状態で行われ、前記第2の現像液ノズルから現像液が吐出される複数の位置のうちの一つは他の一つと比較して、現像液の吐出流量、基板の単位時間当たりの回転数及び前記第2の現像液ノズルからの現像液の供給時間の少なくとも一つが異なること。
(e)前記現像液供給工程は、当該現像液展開工程の前に、基板の表面に液膜を形成するように現像液を供給して前記現像液展開工程の準備を行う現像準備工程であること。
(f)(e)において、前記液溜まりを基板に広げる工程は、回転している基板の周縁部から中央部側に前記第1の現像液ノズルが移動する工程であること。
(g)前記第2の現像液ノズルは前記接触部を備えたノズルにより構成されていること。このとき、前記第1の現像液ノズル、及び第2の現像液ノズルは、共通のノズルにより構成されていること。
(h)前記基板上の現像液を取り除く工程は、基板を回転させることにより現像液を基板から振り切る工程であること。
図1〜図3を用いて第1の実施形態に係る現像装置1の構成について説明する。現像装置1は、基板保持部であるスピンチャック12と、液受け用のカップ2と、主現像液ノズル(第1の現像液ノズル)3と、調整用現像液ノズル(第2の現像液ノズル)61と、を備えている。
スピンチャック12は、ウエハWの裏面中央部を吸着して、ウエハWを水平に保持するものであり、回転軸131を介して回転機構13により鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。
先ず、表面にレジスト膜が形成され、露光された後のウエハWが、図示しない基板搬送機構によって現像装置1内に搬入される。このウエハWがスピンチャック12に保持されると、待機部5からウエハWの中央部の上方位置へ主現像液ノズル3が移動する。そして、図4に模式的に示すようにウエハWの上面から数mm程度上方側に接触部32が配置されるように主現像液ノズル3を降下させる。続いて、ウエハWを停止させた状態で、または、上面側から見て例えば時計回りに10rpm以下の回転速度でウエハWを回転させた状態で、吐出口31から現像液を供給する。この結果、主現像液ノズル3の接触部32とウエハWとの間に、当該接触部32に接するように液溜まり30が形成される(図3、図4)。このときの現像液の吐出流量は、接触部32の面積にも依存するが、例えば60〜600ml/分である。
図4、図5を用いて説明した動作は、現像液展開工程に相当する。
本例の現像装置1においては、調整用現像液ノズル61を用いてウエハWの表面に再度、現像液を供給し、ウエハW面内における現像の進行度合いの分布を揃える調整を行う。
そこで図7に示すように、例えば100〜1000rpmの回転速度にて静止現像後のウエハWを回転させ、ウエハWの表面から溶解成分を含む現像液を振り切って排出する。この結果、ウエハWの表面は静止現像時の液溜まり30よりも薄い現像液の液膜30aが形成された状態か、乾燥した状態となる(図7〜図8、図12〜図14には液膜30aが形成された状態を示してある)。現像液を振り切る動作が行われる時間は、例えば1秒以下である。なお、この振り切り動作の実行後、ウエハWの表面に洗浄液を供給してリンス洗浄を行ってもよい。
図8を用いて説明した上述の動作は、回転するウエハWの表面に現像液を供給する現像液供給工程であって、そのなかでも他の領域に比べて現像が不足している領域についての現像を進行させるように現像液の供給を行う現像調整工程に相当する。
例えばウエハWに形成されるLSに着目し、LSの線幅が図9のグラフに示す分布を示したとする。この場合には、図9のグラフの下段に併記しているように、ウエハWの周縁部側のb点におけるLSの線幅wが、中央部側のa点における線幅w’よりも大きく、当該周縁部側の現像が不足していると理解することができる。
次に図11〜図14を参照しながら第2の実施形態に係る現像処理について説明を行う。本現像処理で用いられる現像装置1は、図1〜図3を用いて説明した第1の実施の形態に係る現像装置1と共通なので、再度の説明を省略する。また図12〜図14において、図1〜図6に示したものと共通の構成要素には、これらの図にて用いたものと共通の符号を付してある。
以下、現像液の撹拌機構の構成例について説明する。なお、図15、図16に示すパッド型ノズル3a、3bにおいて、図3に示したものと共通の構成要素には、図3にて用いたものと共通の符号を付してある。また、図3に示した構成のパッド型ノズルについては、「パッド型ノズル3」と記載する場合がある。
各現像液ノズル3、61から供給される現像液についても、ネガ型レジスト膜の現像液に限らず、現像するレジスト膜の種類に応じてポジ型レジスト膜の現像液の供給を行ってもよいことは勿論である。
次に、ウエハWの全面に現像液を短時間だけ供給する現像準備と、その後の現像液除去とを行うことにより、主現像液ノズル3による現像処理を行った際のウエハW面内における現像の進行度合いの違い(現像の進行度合いのばらつき)を小さくする手法について説明する。
ここで、溶解成分の多くは、現像液がレジスト膜と接触した直後に発生することから、現像の初期段階で発生した溶解成分をウエハWの表面から除去し、現像処理時にウエハWの表面に存在する溶解成分を低減できれば、上述の各要因に伴う現像の進行度合いの違いを小さくすることができる。
一方で既述のように、主現像液ノズル3を用いない従来法による現像液の供給時間が長くなると、現像の進行度合いの異なる領域が放射状に散在する分布が形成されてしまうことも考慮しなくてはならない(図31)。また、溶解成分がウエハWの表面に残存していると、当該溶解成分に阻害されてレジスト膜の現像が十分に進行しない現像欠陥が発生するおそれもある。
現像液ノズル(第2の現像液ノズル)61による現像液の供給は、現像液供給工程であって、特に主現像液ノズル(第1の現像液ノズル)3による現像処理(現像液展開工程)の準備を行う現像準備工程に相当する。
しかる後、ウエハWを例えば1000rpmの回転速度で回転させて、液溜まり30を振り切ると共に、スピンチャック12の側方に配置された裏面洗浄ノズル68を用い、ウエハWの下面側周縁領域の洗浄を行う(図22)。
予め設定された時間だけ洗浄処理を行ったら、洗浄液ノズル62からの洗浄液の供給を停止し、ウエハWの回転速度を3000rpmまで上昇させてウエハWの振り切り乾燥を行う(図24)。ウエハWの表面から洗浄液が除去され、乾燥した状態となったら、ウエハWの回転を停止し、現像処理を終えたウエハWを搬出する。
さらにこれらパッド型ノズル3、3a、3bを振動させたり、ウエハWを正転方向、逆転方向に交互に回転させたりする各種の撹拌促進を行ってもよいことは勿論である。
図1〜図3に記載の主現像液ノズル3を用いてウエハWの現像処理を行い、ウエハWの面内における現像度の進行度合いの分布を確認した。また、従来の短管状のノズルを用いて現像処理を行った場合の分布を確認する実験も行った。
A.実験条件
(参考例1)直径40mmの主現像液ノズル3を用い、直径300mmのウエハWの中央部にて現像液の吐出を開始し、周縁部まで主現像液ノズル3を移動させるスキャンアウトにより、ウエハWの全面に液溜まり30を形成して現像を行った。現像液の吐出期間中のウエハWの回転速度は30rpm、現像液の吐出流量は60ml/分、主現像液ノズル3の移動速度は20mm/秒である。
(参考例2)参考例1と同様の条件で、ウエハWの周縁部側から中央部側まで主現像液ノズル3を移動させるスキャンインの手法により液溜まり30を形成して現像処理を行った。
(参考例3)参考例1と同様の条件でスキャンアウトの手法により現像処理を行った後のウエハWに対し、参考例2と同様の条件でスキャンインの手法により2回目の現像処理を行った。
(参考例4)短管状の現像液ノズルを用い、直径300mmのウエハWの中央部にて現像液の吐出を開始し、周縁部まで現像液ノズルを移動させて現像処理を行った。現像液の吐出期間中のウエハWの回転速度は100rpm、現像液の吐出流量は20ml/分、現像液ノズルの移動速度は20mm/秒である。
参考例1の実験結果を図25、図26に、参考例2の結果を図27、図28に、参考例3の結果を図29、図30に各々示す。また参考例4の結果を図31に示す。図25、図27、図29、図31は、ウエハW上に形成されたレジスト膜に対し、ウエハWの面内の各位置で同じ孔径のCHパターンを露光した後、現像処理を行った場合の孔径の面内分布を示している。実際の面内分布図は、CHの孔径に応じて異なる色彩が割り当てられたカラー図面となっているが、図示の制約上、ここではモノクロパターンで示してある。また図26、図28、図30は、ウエハWの径方向で見たCHの孔径分布を示している。これらの図において、横軸はウエハWの中心からの距離、縦軸はCHの孔径を示している。
これらのことから、主現像液ノズル3を用いた現像処理により、ウエハWの径方向に変化する現像の進行度合いの分布が形成されたとき、この分布を相殺するように現像液を供給することにより、現像の進行度合いの分布を揃える調整を行うことができることが確認できた。
以上の結果から、現像処理を行った後のウエハWに再度、現像液を供給して現像の進行度合いを揃える調整は、ウエハWの表面と対向するように設けられた接触部32を備える主現像液ノズル3を用いて現像を行う場合に特に有効な手法であるといえる。
図4〜図8を用いて説明した手法によりLSの現像処理及びその後の調整を行い、各々の処理の後におけるLSの線幅分布を計測した。
A.実験条件
(実施例1)直径40mmの主現像液ノズル3を用い、直径300mmのウエハWの中央部にて現像液の吐出を開始し、周縁部まで主現像液ノズル3を移動させるスキャンアウトにより、ウエハWの全面に液溜まり30を形成して現像処理を行った。現像液の吐出期間中のウエハWの回転速度は30rpm、現像液の吐出流量は60ml/分、主現像液ノズル3の移動速度は20mm/秒である。
次いで調整用現像液ノズル61を用いてスキャンインの手法により、ウエハWの周縁から5mm内側の位置より、20mm内側の位置までの領域に現像液を供給して、現像の進行度合いの調整を行った。調整の期間中のウエハWの回転速度は100rpm、現像液の吐出流量は20ml/分、調整用現像液ノズル61の移動速度は20mm/秒である。
実施例1の実験結果を図32に示す。図32の横軸はウエハWの中心からの径方向の距離[mm]、縦軸はLSの線幅[nm]を示している。また、グレーのプロットは調整用現像液ノズル61による補正前のLSの線幅の計測結果を示し、黒のプロットは調整用現像液ノズル61による補正後のLSの線幅の計測結果を示している。
第3の実施形態に係る手法に基づいて現像準備及びLSの現像処理を行い、LSの線幅分布を計測した。
A.実験条件
(実施例2−1) 直径40mmの主現像液ノズル3を用い、直径300mmのウエハWに対して移動速度10mm/秒でスキャンインの手法で現像処理を行った。その他の実験条件については、図17〜図24を用いて説明した例と同様である。
(実施例2−2) 主現像液ノズル3の移動速度を20mm/秒としてスキャンインを開始し、ウエハWの中心から75mmの位置にて移動速度が10mm/秒となるように次第に移動速度を低下させ、その後、当該移動速度を維持した点を除いて、実施例2−1と同様の条件で現像処理を行った。
(実施例2−3) 主現像液ノズル3の移動速度を5mm/秒としてスキャンインを開始し、ウエハWの中心から75mmの位置にて移動速度が10mm/秒となるように次第に移動速度を上昇させ、その後、当該移動速度を維持した点を除いて、実施例2−1と同様の条件で現像処理を行った。
実施例2−1〜2−3の実験結果を図33に示す。図33の横軸はウエハWの中心からの径方向の距離[mm]、縦軸は各実施例におけるLSの平均の線幅から、各位置のLSの線幅の測定結果を差し引いた差分値[nm]を示している。図33において、実施例2−1の実験結果を四角のプロットで示し、実施例2−2の実験結果をひし形のプロットで示し、さらに実施例2−3の実験結果を三角のプロットで示してある。
また、実施例2−2、2−3の実験結果に示すように、主現像液ノズル3の移動速度を速くすることにより、現像の進行が遅くなってラインの線幅が太くなり(実施例2−2におけるウエハWの周縁側領域)、移動速度を遅くすることにより、現像の進行が速くなってラインの線幅が細くなった(実施例2−3におけるウエハWの周縁側領域)。
1 現像装置
12 スピンチャック
3 主現像液ノズル(パッド型ノズル)
3a、3b パッド型ノズル
30 液溜まり
31 吐出口
32 接触部
61 調整用現像液ノズル
Claims (17)
- 露光後の基板を回転自在な基板保持部に水平に保持する工程と、
前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部を備えたノズルにより構成された第1の現像液ノズルを用い、前記第1の現像液ノズルの吐出口から現像液を吐出して、前記基板保持部上の基板の表面の一部に液溜まりを形成する工程と、続いて前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で当該液溜まりに現像液を供給しながら、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に前記第1の現像液ノズルが移動することにより当該液溜まりを基板の表面全体に広げる工程と、を含む現像液展開工程と、
前記現像液展開工程による前記基板の面内における現像の進行度合いの分布を揃えるために、基板を回転させた状態で第2の現像液ノズルにより基板の表面に現像液を供給する現像液供給工程と、
前記現像液展開工程と前記現像液供給工程との間に行われ、前記基板の表面上の現像液を取り除く工程と、を含むことを特徴とする現像方法。 - 前記現像液供給工程は、他の領域に比べて現像が不足している領域についての現像を進行させるように現像液の供給を行う現像調整工程であることを特徴とする請求項1記載の現像方法。
- 前記現像液展開工程は、現像調整工程よりも前に実施されることを特徴とする請求項2記載の現像方法。
- 前記液溜まりを基板に広げる工程は、回転している基板の中央部から周縁部側に前記第1の現像液ノズルが移動する工程であり、
前記現像調整工程は、前記第2の現像液ノズルから現像液を吐出させながら、現像液の供給位置を基板の周縁部及び中央部の一方側から他方側に移動させる工程であることを特徴とする請求項2または3記載の現像方法。 - 前記現像調整工程は、前記第2の現像液ノズルから基板の径方向の位置において局所的に現像液を吐出する工程であることを特徴とする請求項2または3記載の現像方法。
- 前記局所的に現像液を吐出する工程は、前記第2の現像液ノズルを停止させた状態で行われることを特徴とする請求項5記載の現像方法。
- 前記現像調整工程は、基板の径方向で見たときに前記第2の現像液ノズルから現像液が吐出される位置が不連続で複数設定されていることを特徴とする請求項5または6記載の現像方法。
- 前記局所的に現像液を吐出する工程は、前記第2の現像液ノズルを停止させた状態で行われ、
前記第2の現像液ノズルから現像液が吐出される複数の位置のうちの一つは他の一つと比較して、現像液の吐出流量、基板の単位時間当たりの回転数及び前記第2の現像液ノズルからの現像液の供給時間の少なくとも一つが異なることを特徴とする請求項7記載の現像方法。 - 前記現像液供給工程は、当該現像液展開工程の前に、基板の表面に液膜を形成するように現像液を供給して前記現像液展開工程の準備を行う現像準備工程であることを特徴とする請求項1記載の現像方法。
- 前記液溜まりを基板に広げる工程は、回転している基板の周縁部から中央部側に前記第1の現像液ノズルが移動する工程であることを特徴とする請求項9記載の現像方法。
- 前記第2の現像液ノズルは前記接触部を備えたノズルにより構成されていることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一つに記載の現像方法。
- 前記第1の現像液ノズル、及び第2の現像液ノズルは、共通のノズルにより構成されていることを特徴とする請求項11記載の現像方法。
- 前記基板上の現像液を取り除く工程は、基板を回転させることにより現像液を基板から振り切る工程であることを特徴とする請求項1ないし12のいずれか一つに記載の現像方法。
- 露光後の基板を水平に保持する回転自在な基板保持部と、
前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部と、現像液の吐出口とを備えたノズルにより構成され、前記吐出口から現像液を吐出して基板保持部上の基板の表面の一部に液溜まりを形成し、続いて前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で当該液溜まりに現像液を供給しながら、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に移動して当該液溜まりを基板の表面全体に広げて基板の現像処理を行うための第1の現像液ノズルと、
前記第1の現像液ノズルによる現像処理を行う前、またはこの現像処理を行った後に、基板を回転させた状態で基板の表面に現像液を供給することにより、前記第1の現像液ノズルを用いた現像処理による前記基板の面内における現像の進行度合いの分布を揃えるために現像液の供給を行う第2の現像液ノズルと、を備え、
前記第1の現像液ノズルを用いた現像処理、及び第2の現像液ノズルを用いた現像液の供給は、先に供給された基板の表面上の現像液が取り除かれた後に行われることを特徴とする現像装置。 - 前記第2の現像液ノズルは、前記接触部を備えたノズルにより構成され、前記吐出口から現像液を吐出して基板保持部上の基板の表面に形成した液溜まりに前記接触部を接触させた状態で現像処理を行うことを特徴とする請求項14記載の現像装置。
- 第1の現像液ノズル、及び第2の現像液ノズルは、共通のノズルにより構成されていることを特徴とする請求項15記載の現像装置。
- 露光後のレジスト膜が形成されている基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う現像装置に用いられるコンピュータプログラムを格納したコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項1ないし12のいずれか一つに記載された現像方法を実行させるようにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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