JP2000143435A - 化粧料 - Google Patents
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- JP2000143435A JP2000143435A JP32673998A JP32673998A JP2000143435A JP 2000143435 A JP2000143435 A JP 2000143435A JP 32673998 A JP32673998 A JP 32673998A JP 32673998 A JP32673998 A JP 32673998A JP 2000143435 A JP2000143435 A JP 2000143435A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 （Ａ）分子中にカチオン性基と架橋構造
とを有する共重合体であって、その０．５重量％ハイド
ロゲルの、２５℃、シェアレート１sec-1の粘度η1 、
シェアレート１０sec-1の粘度η2 が、０．３≦η1 ≦
２０（Pa・sec）、０．０１≦η2 ≦５（Pa・sec）、か
つη1 ＞η2 である共重合体、及び（Ｂ）水を含有する
化粧料。 【効果】 塗布時から乾燥後までの感触が良好である。
とを有する共重合体であって、その０．５重量％ハイド
ロゲルの、２５℃、シェアレート１sec-1の粘度η1 、
シェアレート１０sec-1の粘度η2 が、０．３≦η1 ≦
２０（Pa・sec）、０．０１≦η2 ≦５（Pa・sec）、か
つη1 ＞η2 である共重合体、及び（Ｂ）水を含有する
化粧料。 【効果】 塗布時から乾燥後までの感触が良好である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗布時から乾燥後
までの感触が良好な化粧料に関する。
までの感触が良好な化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術】化粧料の粘度を調整し、使用性を高める
ため、種々の増粘剤等が用いられている。しかし、従来
の増粘剤等により増粘された化粧料は、塗布時に伸びが
十分でなく、均一に塗布し難かったり、乾燥に至るまで
にべたつくなど、塗布時から乾燥後までの感触の点で十
分満足できるものではない。
ため、種々の増粘剤等が用いられている。しかし、従来
の増粘剤等により増粘された化粧料は、塗布時に伸びが
十分でなく、均一に塗布し難かったり、乾燥に至るまで
にべたつくなど、塗布時から乾燥後までの感触の点で十
分満足できるものではない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗布
時から乾燥後までの感触が良好な化粧料を提供すること
にある。
時から乾燥後までの感触が良好な化粧料を提供すること
にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定のレ
オロジー特性を有する共重合体を用いれば、塗布時に伸
びが良く、べたつかず、塗布時から乾燥後までの感触が
良好な化粧料が得られることを見出した。
オロジー特性を有する共重合体を用いれば、塗布時に伸
びが良く、べたつかず、塗布時から乾燥後までの感触が
良好な化粧料が得られることを見出した。
【０００５】すなわち、本発明は、次の成分（Ａ）及び
（Ｂ）： （Ａ）分子中にカチオン性基と架橋構造とを有する共重
合体であって、その０．５重量％ハイドロゲルの、２５
℃、シェアレート１sec-1の粘度η1 、シェアレート１
０sec-1の粘度η2 が、０．３≦η1 ≦２０（Pa・se
c）、０．０１≦η2≦５（Pa・sec）、かつη1 ＞η2
である共重合体（以下、共重合体（Ａ））、（Ｂ）水を
含有する化粧料を提供するものである。
（Ｂ）： （Ａ）分子中にカチオン性基と架橋構造とを有する共重
合体であって、その０．５重量％ハイドロゲルの、２５
℃、シェアレート１sec-1の粘度η1 、シェアレート１
０sec-1の粘度η2 が、０．３≦η1 ≦２０（Pa・se
c）、０．０１≦η2≦５（Pa・sec）、かつη1 ＞η2
である共重合体（以下、共重合体（Ａ））、（Ｂ）水を
含有する化粧料を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明で用いられる共重合体
（Ａ）は、上記η1 、η2 について、０．３≦η1 ≦２
０（Pa・sec）、０．０１≦η2 ≦５（Pa・sec）、かつ
η1＞η2 である。粘度挙動がこの範囲内にあれば毛髪
への塗布が容易であり、毛髪への残留感が得られ、上記
のような良好な使用感を得ることができる。特に、共重
合体（Ａ）が０．４≦η1 ≦１０（Pa・sec）、０．５
≦η2 ≦３（Pa・sec）であるとき、一層好ましい使用
感が得られる。
（Ａ）は、上記η1 、η2 について、０．３≦η1 ≦２
０（Pa・sec）、０．０１≦η2 ≦５（Pa・sec）、かつ
η1＞η2 である。粘度挙動がこの範囲内にあれば毛髪
への塗布が容易であり、毛髪への残留感が得られ、上記
のような良好な使用感を得ることができる。特に、共重
合体（Ａ）が０．４≦η1 ≦１０（Pa・sec）、０．５
≦η2 ≦３（Pa・sec）であるとき、一層好ましい使用
感が得られる。
【０００７】共重合体（Ａ）の０．５重量％ハイドロゲ
ルの、２５℃、ひずみ周波数６．２８rad/sec 、ひずみ
１％での複素弾性率ε1 、損失正接tan δ1 、ひずみ５
００％での複素弾性率ε2 、損失正接tan δ2 が、１≦
ε1 ≦３００（Ｎ／ｍ2）、tan δ1 ≦２、かつ、０．
０１≦ε2 ≦３０（Ｎ／ｍ2）、tan δ2 ≧１であると
き、より好ましい感触の化粧料を得ることができる。こ
こで、共重合体（Ａ）の損失正接が、tan δ1 ≦１．
５、更にはtan δ1 ≦１．０となるに従って、より好ま
しい感触の化粧料を得ることができる。
ルの、２５℃、ひずみ周波数６．２８rad/sec 、ひずみ
１％での複素弾性率ε1 、損失正接tan δ1 、ひずみ５
００％での複素弾性率ε2 、損失正接tan δ2 が、１≦
ε1 ≦３００（Ｎ／ｍ2）、tan δ1 ≦２、かつ、０．
０１≦ε2 ≦３０（Ｎ／ｍ2）、tan δ2 ≧１であると
き、より好ましい感触の化粧料を得ることができる。こ
こで、共重合体（Ａ）の損失正接が、tan δ1 ≦１．
５、更にはtan δ1 ≦１．０となるに従って、より好ま
しい感触の化粧料を得ることができる。
【０００８】また、上記共重合体（Ａ）が、その２．０
重量％エタノールゲルの、２５℃、シェアレート１sec
-1の粘度η3 、シェアレート１０sec-1の粘度η4 が、
０．３≦η3 ≦２０（Pa・sec）、０．０１≦η4 ≦５
（Pa・sec）、かつη3 ＞η4 であるとき、感触に優
れ、かつエタノール併用時もその感触を保持し得る化粧
料を得ることができる。
重量％エタノールゲルの、２５℃、シェアレート１sec
-1の粘度η3 、シェアレート１０sec-1の粘度η4 が、
０．３≦η3 ≦２０（Pa・sec）、０．０１≦η4 ≦５
（Pa・sec）、かつη3 ＞η4 であるとき、感触に優
れ、かつエタノール併用時もその感触を保持し得る化粧
料を得ることができる。
【０００９】η1 〜η4 の測定は、以下の方法による。
検体１、２とも測定方法は同じ。 検体１；イオン交換水に粉末試料（平均粒径５０μｍ以下）を加え、５０℃、 半日保持して調製した０．５重量％のハイドロゲル。 検体２；水に代えてエタノールを用い、上記と同様に調製した２．０重量％の エタノールゲル。 測定装置；ＨＡＡＫＥ社製粘度計、Rotovisco RV-20、 測定条件；測定頭Ｍ10、共軸２重円筒型ローター、 測定温度２５℃、試料量１５ml、 シェアレート；２分間で０sec-1から１５sec-1まで上昇、 測定点数；上記シェアレート範囲に亙り６０点測定。 計算方法；上記測定値からRotation Version 2.8のプログラムにより算出。
検体１、２とも測定方法は同じ。 検体１；イオン交換水に粉末試料（平均粒径５０μｍ以下）を加え、５０℃、 半日保持して調製した０．５重量％のハイドロゲル。 検体２；水に代えてエタノールを用い、上記と同様に調製した２．０重量％の エタノールゲル。 測定装置；ＨＡＡＫＥ社製粘度計、Rotovisco RV-20、 測定条件；測定頭Ｍ10、共軸２重円筒型ローター、 測定温度２５℃、試料量１５ml、 シェアレート；２分間で０sec-1から１５sec-1まで上昇、 測定点数；上記シェアレート範囲に亙り６０点測定。 計算方法；上記測定値からRotation Version 2.8のプログラムにより算出。
【００１０】δ1 、δ2 、ε1 、ε2 の測定は下記の方
法による。 検体；上記検体１と同じ。 測定装置；Rheometrics 社製、Fluids Spectrometer RFS-II 測定条件；Dynamic Strain Sweep (動的ひずみ掃引) モード コーンプレート：直径５０mm、ギャップ０．０５mm、アングル０． ０４rad 、ひずみ周波数６．２rad/sec 、ひずみ０．５〜５００％ 。 測定温度：２５℃。
法による。 検体；上記検体１と同じ。 測定装置；Rheometrics 社製、Fluids Spectrometer RFS-II 測定条件；Dynamic Strain Sweep (動的ひずみ掃引) モード コーンプレート：直径５０mm、ギャップ０．０５mm、アングル０． ０４rad 、ひずみ周波数６．２rad/sec 、ひずみ０．５〜５００％ 。 測定温度：２５℃。
【００１１】このようなレオロジー特性を示す共重合体
（Ａ）としては、例えば、カチオン性基含有ビニル単量
体（以下、単量体（ａ1））の少なくとも１種と、一般
式（１）又は（２）
（Ａ）としては、例えば、カチオン性基含有ビニル単量
体（以下、単量体（ａ1））の少なくとも１種と、一般
式（１）又は（２）
【００１２】
【化３】
【００１３】〔式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示
し、Ｒ2 及びＲ3 は同一又は異なって、水素原子又は炭
素数１〜４の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基もしくは
アルケニル基を示す。〕
し、Ｒ2 及びＲ3 は同一又は異なって、水素原子又は炭
素数１〜４の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基もしくは
アルケニル基を示す。〕
【００１４】
【化４】
【００１５】〔式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を示し、Ａ
1 及びＡ2 は同一又は異なって、式-(CH2)n-（ｎは２〜
６の整数を示す）で表される基を示し、Ｂは-O-又は-CH
2-基を示す。〕で表される親水性ノニオン性基含有ビニ
ル単量体（以下、単量体（ａ2））の少なくとも１種
と、２個以上のビニル基を分子中に有する架橋性ビニル
単量体（以下、単量体（ａ3））の少なくとも１種とを
必須構成単量体とし、ラジカル重合することにより得ら
れるカチオン性基含有共重合体（以下、共重合体
（Ａ1））が挙げられる。
1 及びＡ2 は同一又は異なって、式-(CH2)n-（ｎは２〜
６の整数を示す）で表される基を示し、Ｂは-O-又は-CH
2-基を示す。〕で表される親水性ノニオン性基含有ビニ
ル単量体（以下、単量体（ａ2））の少なくとも１種
と、２個以上のビニル基を分子中に有する架橋性ビニル
単量体（以下、単量体（ａ3））の少なくとも１種とを
必須構成単量体とし、ラジカル重合することにより得ら
れるカチオン性基含有共重合体（以下、共重合体
（Ａ1））が挙げられる。
【００１６】共重合体（Ａ1）を構成する単量体のう
ち、単量体（ａ1）としては、ジアルキルアミノ基を有
する（メタ）アクリル酸エステル又は（メタ）アクリル
アミド類、（メタ）アクロイルアルキルトリアルキル４
級アンモニウム塩類、ジアルキルアミノ基を有するスチ
レン類、ビニルピリジン類、Ｎ−ビニル複素環化合物
類、アミノ基を有する単量体の酸中和物あるいは４級ア
ンモニウム塩、ジアリル型４級アンモニウム塩などが挙
げられる。
ち、単量体（ａ1）としては、ジアルキルアミノ基を有
する（メタ）アクリル酸エステル又は（メタ）アクリル
アミド類、（メタ）アクロイルアルキルトリアルキル４
級アンモニウム塩類、ジアルキルアミノ基を有するスチ
レン類、ビニルピリジン類、Ｎ−ビニル複素環化合物
類、アミノ基を有する単量体の酸中和物あるいは４級ア
ンモニウム塩、ジアリル型４級アンモニウム塩などが挙
げられる。
【００１７】これらの単量体（ａ1）のうち、一般式
（３）又は（４）で表わされる化合物が好ましい。
（３）又は（４）で表わされる化合物が好ましい。
【００１８】
【化５】
【００１９】〔式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を示し、Ｒ
4 及びＲ5 は同一又は異なって、炭素数１〜４のアルキ
ル基又はアルケニル基を示し、Ｒ6 は水素原子又は炭素
数１〜４のアルキル基を示し、Ｙは-O-、-NH-、-CH2-
又は-O-CH2CH(OH)-基を示し、Ｚは炭素数１〜４（ただ
しＹが-CH2- のときは炭素数０〜３）の直鎖又は分岐鎖
のアルキレン基を示し、Ｘは酸の共役塩基、ハロゲン原
子又は炭素数１〜４のアルキルサルフェート基を示
す。〕
4 及びＲ5 は同一又は異なって、炭素数１〜４のアルキ
ル基又はアルケニル基を示し、Ｒ6 は水素原子又は炭素
数１〜４のアルキル基を示し、Ｙは-O-、-NH-、-CH2-
又は-O-CH2CH(OH)-基を示し、Ｚは炭素数１〜４（ただ
しＹが-CH2- のときは炭素数０〜３）の直鎖又は分岐鎖
のアルキレン基を示し、Ｘは酸の共役塩基、ハロゲン原
子又は炭素数１〜４のアルキルサルフェート基を示
す。〕
【００２０】
【化６】
【００２１】〔式中、Ｒ7 及びＲ8 は同一又は異なっ
て、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ9及びＲ10は同一
又は異なって、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基
を示し、Ｘは前記と同じ意味を示す。〕
て、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ9及びＲ10は同一
又は異なって、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基
を示し、Ｘは前記と同じ意味を示す。〕
【００２２】化合物（３）又は（４）の塩を得るために
用いる好ましい酸としては、塩酸、硫酸、酢酸、クエン
酸、コハク酸、アジピン酸、スルファミン酸などが挙げ
られ、４級アンモニウム塩を得るための好ましい４級化
剤としては、塩化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化
アルキル、硫酸ジエチル、硫酸ジ−ｎ−プロピル等が挙
げられる。
用いる好ましい酸としては、塩酸、硫酸、酢酸、クエン
酸、コハク酸、アジピン酸、スルファミン酸などが挙げ
られ、４級アンモニウム塩を得るための好ましい４級化
剤としては、塩化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化
アルキル、硫酸ジエチル、硫酸ジ−ｎ−プロピル等が挙
げられる。
【００２３】単量体（ａ1）の好ましい具体例として
は、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエ
チルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミ
ノプロピル（メタ）アクリルアミド、ジエチルアミノプ
ロピル（メタ）アクリルアミドを前記の４級化剤で４級
化した４級アンモニウム塩、あるいはジメチルジアリル
アンモニウムクロライド等が挙げられる。
は、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエ
チルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミ
ノプロピル（メタ）アクリルアミド、ジエチルアミノプ
ロピル（メタ）アクリルアミドを前記の４級化剤で４級
化した４級アンモニウム塩、あるいはジメチルジアリル
アンモニウムクロライド等が挙げられる。
【００２４】単量体（ａ2）としては、Ｎ−メチル（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブ
チルアクリルアミド、Ｎ−（メタ）アクロイルモルホリ
ン等が挙げられる。これらのうち、Ｎ，Ｎ−ジ置換アク
リルアミドを用いた場合に使用感が好ましく、さらには
Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
エチル（メタ）アクリルアミド等が、特に好ましい。
タ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブ
チルアクリルアミド、Ｎ−（メタ）アクロイルモルホリ
ン等が挙げられる。これらのうち、Ｎ，Ｎ−ジ置換アク
リルアミドを用いた場合に使用感が好ましく、さらには
Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
エチル（メタ）アクリルアミド等が、特に好ましい。
【００２５】単量体（ａ3）としては、多価アルコール
又は不飽和アルコールの（メタ）アクリル酸エステル、
アクリルアミド、ジビニル化合物、ポリアリル化合物等
が挙げられる。これらのうち、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールのアリルエー
テル化体、ビニル（メタ）アクリレート、アリル（メ
タ）アクリレート等が、特に好ましい。
又は不飽和アルコールの（メタ）アクリル酸エステル、
アクリルアミド、ジビニル化合物、ポリアリル化合物等
が挙げられる。これらのうち、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールのアリルエー
テル化体、ビニル（メタ）アクリレート、アリル（メ
タ）アクリレート等が、特に好ましい。
【００２６】単量体（ａ1）と単量体（ａ2）との好まし
い配合比率は、（ａ1）／（ａ2）のモル比で、２／９８
〜９８／２であり、さらに好ましくは３／９７〜６０／
４０である。上記モル比が小さい場合はチキソトロピー
性の発現が、モル比が大きい場合は低シェアレート時の
粘度保持が夫々容易となるが、両特性発現には上記範囲
内である方が好ましい。
い配合比率は、（ａ1）／（ａ2）のモル比で、２／９８
〜９８／２であり、さらに好ましくは３／９７〜６０／
４０である。上記モル比が小さい場合はチキソトロピー
性の発現が、モル比が大きい場合は低シェアレート時の
粘度保持が夫々容易となるが、両特性発現には上記範囲
内である方が好ましい。
【００２７】単量体（ａ3）の割合は、単量体全量に対
して０．００２〜５重量％が好ましく、０．００２重量
％以上０．１重量％未満が特に好ましい。単量体
（ａ3）の割合が０．００２重量％以上であれば、共重
合体（Ａ1）から形成されるハイドロゲルの粘度が十分
であり、また５重量％以下であれば、ハイドロゲルの感
触は柔らかく、すべりの良いものとなる。
して０．００２〜５重量％が好ましく、０．００２重量
％以上０．１重量％未満が特に好ましい。単量体
（ａ3）の割合が０．００２重量％以上であれば、共重
合体（Ａ1）から形成されるハイドロゲルの粘度が十分
であり、また５重量％以下であれば、ハイドロゲルの感
触は柔らかく、すべりの良いものとなる。
【００２８】共重合体（Ａ1）は、必須構成単位である
前記の３種類のビニル単量体のそれぞれ１種以上の他、
これらと共重合可能な他のビニル単量体を構成成分とす
ることができる。他のビニル単量体としては、例えばメ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト等の（メタ）アクリル酸誘導体；アクリル酸、メタア
クリル酸等のアニオン性基含有単量体；Ｎ−（３−スル
ホプロピル）−Ｎ−アクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−カルボキシメチ
ル−Ｎ−メタクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアンモニウムベタイン等のベタイン類などが挙げられ
る。
前記の３種類のビニル単量体のそれぞれ１種以上の他、
これらと共重合可能な他のビニル単量体を構成成分とす
ることができる。他のビニル単量体としては、例えばメ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト等の（メタ）アクリル酸誘導体；アクリル酸、メタア
クリル酸等のアニオン性基含有単量体；Ｎ−（３−スル
ホプロピル）−Ｎ−アクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−カルボキシメチ
ル−Ｎ−メタクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアンモニウムベタイン等のベタイン類などが挙げられ
る。
【００２９】共重合体（Ａ1）を製造する方法は、水溶
液重合法、逆相懸濁重合法、沈澱重合法などが好まし
い。例えば、特開平４−２３０２５０号公報第１２頁第
２２欄第２８〜３４行に記載のような水溶液重合法を用
いる場合、重合開始温度２０〜９０℃、反応時間１〜１
０時間程度で行うのが好ましい。
液重合法、逆相懸濁重合法、沈澱重合法などが好まし
い。例えば、特開平４−２３０２５０号公報第１２頁第
２２欄第２８〜３４行に記載のような水溶液重合法を用
いる場合、重合開始温度２０〜９０℃、反応時間１〜１
０時間程度で行うのが好ましい。
【００３０】重合開始剤としては、特開平４−２３０２
５０号公報第１２頁第２２欄第４６行〜第１３頁第２３
欄第１８行のような、アゾビス系化合物が単独で、ある
いは還元剤と組合せて用いられる。
５０号公報第１２頁第２２欄第４６行〜第１３頁第２３
欄第１８行のような、アゾビス系化合物が単独で、ある
いは還元剤と組合せて用いられる。
【００３１】共重合体（Ａ1）の水溶液重合法による製
造には、例えば特開昭５３−３４１０１号公報第３頁右
上欄第１４行〜同右下欄第８行記載の、回転する攪拌腕
を有する容器が用いられる。
造には、例えば特開昭５３−３４１０１号公報第３頁右
上欄第１４行〜同右下欄第８行記載の、回転する攪拌腕
を有する容器が用いられる。
【００３２】共重合体（Ａ）は、１種以上を用いること
ができ、全組成中に０．０１〜１０重量％、特に０．３
〜５重量％、さらに０．５〜２重量％配合するのが、塗
布時の感触、安定性、使用性の点で好ましい。
ができ、全組成中に０．０１〜１０重量％、特に０．３
〜５重量％、さらに０．５〜２重量％配合するのが、塗
布時の感触、安定性、使用性の点で好ましい。
【００３３】成分（Ｂ）の水は、全組成中に５０〜９
９．９９重量％、特に８０〜９９重量％配合するのが好
ましい。
９．９９重量％、特に８０〜９９重量％配合するのが好
ましい。
【００３４】本発明の化粧料には、上記必須成分のほ
か、通常の化粧料に用いられるアニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、カチオン性界
面活性剤、アニオン性重合体、非イオン性重合体、カチ
オン性重合体、エチレンオキシド・プロピレンオキシド
ブロック共重合体、アルコール類、油分、粉体、シリコ
ーン類、金属キレート剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、保
湿剤、香料などを、適宜配合できる。
か、通常の化粧料に用いられるアニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、カチオン性界
面活性剤、アニオン性重合体、非イオン性重合体、カチ
オン性重合体、エチレンオキシド・プロピレンオキシド
ブロック共重合体、アルコール類、油分、粉体、シリコ
ーン類、金属キレート剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、保
湿剤、香料などを、適宜配合できる。
【００３５】本発明の化粧料は、通常の方法に従って製
造でき、例えば乳液、クリーム、ジェル等の皮膚化粧
料；ヘアクリーム、ヘアトリートメント、ヘアジェル等
の毛髪化粧料などとすることができる。
造でき、例えば乳液、クリーム、ジェル等の皮膚化粧
料；ヘアクリーム、ヘアトリートメント、ヘアジェル等
の毛髪化粧料などとすることができる。
【００３６】
【発明の効果】本発明の化粧料は、塗布時の伸びが良
く、べたつかず、塗布時から乾燥後までの感触が良好で
ある。
く、べたつかず、塗布時から乾燥後までの感触が良好で
ある。
【００３７】
【実施例】製造例１ Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリル酸ジエチル硫
酸塩（MOEDES：日東化学工業社製）２３．８５ｇ、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアクリルアミド７１．３７ｇ、ポリエチレ
ングリコールジメタクリレート（NK-9G：新中村化学社
製）０．０４２９ｇ、イオン交換水３５０ｇからなる予
め窒素置換した単量体水溶液を入れ、２０分間さらに窒
素を吹き込み、反応系内を窒素置換しながら５５℃まで
昇温した。次いで、重合開始剤（２，２′−アゾビス
（２−アミジノプロパン）２塩酸塩）を０．２２ｇ添加
した。３０分〜１時間後に重合し始め、全体が柔らかい
ゲル状となった。そのまま攪拌を続け、重合開始剤添加
４時間後、重合を停止させた。餅状の内容物を取り出
し、５リットルのエタノール中で１０分攪拌洗浄し、乾
燥させた。その後、コーヒーミル、ジェットミルで粉砕
し、粉砕粒子をハイボルターで分級し、カチオン性基含
有共重合体Ｎｏ．１を得た。
酸塩（MOEDES：日東化学工業社製）２３．８５ｇ、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアクリルアミド７１．３７ｇ、ポリエチレ
ングリコールジメタクリレート（NK-9G：新中村化学社
製）０．０４２９ｇ、イオン交換水３５０ｇからなる予
め窒素置換した単量体水溶液を入れ、２０分間さらに窒
素を吹き込み、反応系内を窒素置換しながら５５℃まで
昇温した。次いで、重合開始剤（２，２′−アゾビス
（２−アミジノプロパン）２塩酸塩）を０．２２ｇ添加
した。３０分〜１時間後に重合し始め、全体が柔らかい
ゲル状となった。そのまま攪拌を続け、重合開始剤添加
４時間後、重合を停止させた。餅状の内容物を取り出
し、５リットルのエタノール中で１０分攪拌洗浄し、乾
燥させた。その後、コーヒーミル、ジェットミルで粉砕
し、粉砕粒子をハイボルターで分級し、カチオン性基含
有共重合体Ｎｏ．１を得た。
【００３８】製造例２〜８ 表１に示す単量体を用い、製造例１と同様にして、カチ
オン性基含有共重合体Ｎｏ．２〜Ｎｏ．８を製造した。
オン性基含有共重合体Ｎｏ．２〜Ｎｏ．８を製造した。
【００３９】試験例１ 製造例１〜８で得られたカチオン性基含有共重合体につ
いて、０．５重量％ハイドロゲルの２５℃での粘度、及
び動的粘弾性を前記方法で測定した。結果を表１に示
す。
いて、０．５重量％ハイドロゲルの２５℃での粘度、及
び動的粘弾性を前記方法で測定した。結果を表１に示
す。
【００４０】
【表１】
【００４１】実施例１ 表２に示す組成の乳液を常法により製造し、皮膚への塗
布時及び乾燥時の感触について評価した。結果を表２に
併せて示す。
布時及び乾燥時の感触について評価した。結果を表２に
併せて示す。
【００４２】（評価方法）１０人のパネラーにより、各
乳液を皮膚に塗布したときの感触、及び乾燥時の感触を
以下の基準で官能評価した。平均点を求め、４点以上を
○、２．５以上４点未満を△、２．５点未満を×として
示した。
乳液を皮膚に塗布したときの感触、及び乾燥時の感触を
以下の基準で官能評価した。平均点を求め、４点以上を
○、２．５以上４点未満を△、２．５点未満を×として
示した。
【００４３】（１）塗布時の感触： ５；よくすべり、なじみやすい（塗布しやすい）。 ４；ややすべる。 ３；ふつう。 ２；すべりがやや悪い。 １；すべりが悪く、塗布し難い。
【００４４】（２）乾燥時の感触： ５；べたつきがなく、良くすべる。 ４；べたつきがほとんどない。 ３；ふつう。 ２；ややべたつく。 １；べたつく。
【００４５】
【表２】
【００４６】実施例２（乳液） 以下に示す組成の乳液（pH５．５）を常法により製造し
た。
た。
【表３】 （成分） （重量％） カチオン性基含有共重合体Ｎｏ．４ ０．３ エタノール １０．０ 防腐剤 ０．２ 香料 ０．３ pH調整剤 適量 イオン交換水 バランス
【００４７】実施例３（クリーム） 以下に示す組成のクリーム（pH５．６）を常法により製
造した。
造した。
【表４】 （成分） （重量％） カチオン性基含有共重合体Ｎｏ．３ １．０ セタノール １２．５ ポリオキシエチレン（12）ラウリルエーテル ５．０ 液状パラフィン １０．０ グリセリン ５．０ 香料 ０．３ 防腐剤 適量 pH調整剤 適量 イオン交換水 バランス
【００４８】実施例４（ヘアトリートメント） 以下に示す組成のヘアトリートメントを常法により製造
した。
した。
【表５】 （成分） （重量％） カチオン性基含有共重合体Ｎｏ．５ ０．７５ カチオン性基含有共重合体Ｎｏ．６ ０．７５ 塩化セチルトリメチルアンモニウム １．５ セタノール ４．５ 高重合ジメチルポリシロキサン ３．０ プロピレングリコール ５．０ 香料 ０．３ イオン交換水 バランス
【００４９】実施例５（ヘアジェル） 以下に示す組成のヘアジェルを常法により製造した。
【表６】 （成分） （重量％） カチオン性基含有共重合体Ｎｏ．８ ２．０ エタノール ２５．０ 香料 ０．５ イオン交換水 バランス
【００５０】実施例２〜５で得られた化粧料はいずれ
も、塗布時の伸びが良く、べたつかず、塗布時から乾燥
後までの感触が良好であった。
も、塗布時の伸びが良く、べたつかず、塗布時から乾燥
後までの感触が良好であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 101/02 Ｃ０８Ｌ 101/02 // Ｃ０８Ｆ 220/52 Ｃ０８Ｆ 220/52 (72)発明者 澤田 道隆 和歌山県和歌山市湊1334 花王株式会社研 究所内 (72)発明者 鬼塚 聡 東京都墨田区文花２−１−３ 花王株式会 社研究所内 Ｆターム(参考） 4C083 AB051 AB052 AC022 AC102 AC122 AC182 AC692 AD071 AD072 AD152 BB34 CC05 CC33 DD31 DD41 EE06 4J002 BG071 BG131 BJ001 DE026 GB00 HA04 4J100 AF10P AJ02R AL02R AL03R AL08P AL08R AM15Q AM17Q AM19Q AM21P AN04P BA03P BA32P BA32R BA58R CA04 CA05 JA61
Claims (3)
- 【請求項１】 次の成分（Ａ）及び（Ｂ）： （Ａ）分子中にカチオン性基と架橋構造とを有する共重
合体であって、その０．５重量％ハイドロゲルの、２５
℃、シェアレート１sec-1の粘度η1 、シェアレート１
０sec-1の粘度η2 が、０．３≦η1 ≦２０（Pa・se
c）、０．０１≦η2≦５（Pa・sec）、かつη1 ＞η2
である共重合体、（Ｂ）水を含有する化粧料。 - 【請求項２】 成分（Ａ）が、その０．５重量％ハイド
ロゲルの、２５℃、ひずみ周波数６．２８rad/sec 、ひ
ずみ１％での複素弾性率ε1 、損失正接tanδ1 、ひず
み５００％での複素弾性率ε2 、損失正接tan δ2 が、
１≦ε1 ≦３００（Ｎ／ｍ2）、tan δ1 ≦２、かつ、
０．０１≦ε2 ≦３０（Ｎ／ｍ2）、tan δ2 ≧１であ
る請求項１記載の化粧料。 - 【請求項３】 次の成分（Ａ）及び（Ｂ）： （Ａ）カチオン性基含有ビニル単量体の少なくとも１種
と、一般式（１）又は（２） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2 及び
Ｒ3 は同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜４の
直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基もしくはアルケニル基
を示す。〕 【化２】 〔式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を示し、Ａ1 及びＡ2 は
同一又は異なって、式-(CH2)n-（ｎは２〜６の整数を示
す）で表される基を示し、Ｂは-O-又は-CH2-基を示
す。〕で表される親水性ノニオン性基含有ビニル単量体
の少なくとも１種と、２個以上のビニル基を分子中に有
する架橋性ビニル単量体の少なくとも１種とを必須構成
単量体とし、ラジカル重合することにより得られるカチ
オン性基含有共重合体、（Ｂ）水を含有する化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32673998A JP2000143435A (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | 化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32673998A JP2000143435A (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | 化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143435A true JP2000143435A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=18191150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32673998A Pending JP2000143435A (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | 化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000143435A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003238693A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Kao Corp | ハイドロゲル粒子 |
| JP2005533887A (ja) * | 2002-07-22 | 2005-11-10 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | コポリマー及び個人ケア用組成物中におけるその使用 |
| JP2006321756A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Kao Corp | 毛髪用洗浄剤組成物 |
| JP2008285437A (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Kao Corp | 毛髪処理方法 |
-
1998
- 1998-11-17 JP JP32673998A patent/JP2000143435A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003238693A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Kao Corp | ハイドロゲル粒子 |
| JP2005533887A (ja) * | 2002-07-22 | 2005-11-10 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | コポリマー及び個人ケア用組成物中におけるその使用 |
| JP2011137012A (ja) * | 2002-07-22 | 2011-07-14 | Ciba Holding Inc | コポリマー及び個人ケア用組成物中におけるその使用 |
| JP2006321756A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Kao Corp | 毛髪用洗浄剤組成物 |
| JP2008285437A (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Kao Corp | 毛髪処理方法 |
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