JP2000114628A - 画像形成装置、及び複写機 - Google Patents

画像形成装置、及び複写機

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JP2000114628A JP10282599A JP28259998A JP2000114628A JP 2000114628 A JP2000114628 A JP 2000114628A JP 10282599 A JP10282599 A JP 10282599A JP 28259998 A JP28259998 A JP 28259998A JP 2000114628 A JP2000114628 A JP 2000114628A
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道晴 増田
Akio Ito
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久嗣 田原
Yukio Yokoyama
幸生 横山
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    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体レーザ光源が発生するレーザ光により
画像を形成する画像形成装置において、半導体レーザ光
源の光量を調整する手段が、仮にレーザ光源を破壊する
ような電流を、レーザ光源に流そうとした場合に、いつ
でもレーザ光源に流れる電流を規制して、レーザ光源を
破壊から守る。 【解決手段】 自動光量制御期間には、半導体レーザ光
源が発生するレーザ光量を検出し、検出された光量が設
定光量を上回った場合に電流源回路を働かせなくして、
それ以外の期間には、半導体レーザを流れる電流を検出
して、検出された光量が自動光量制御期間に検出された
電流を一定割合以上上回った場合に電流源回路を働かせ
なくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザの発する光に
より画像を形成する画像形成装置、及びこの画像形成装
置を載置する複写機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】本願出願人は、複数のレーザ光源の発す
るレーザ光により画像を形成する画像形成装置におい
て、レーザ光源の数より少ない光量検出手段を用い、時
分割でレーザ光源の発するレーザ光の光量を一定に制御
する手段を備えることを特徴とする画像形成装置として
特開平7−199096号公報に開示の発明をしてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとしている課題】この発明において
は、レーザ光源の発するレーザ光の光量が一定になるよ
うに制御するために、レーザ光源に流す電流を制御する
が、この制御においては、流すべき電流値がレーザ光源
を破壊する領域にまで達してしまう場合に、これを制限
する方法が無い。流すべき電流値が増大してしまう原因
としては、制御系にある回路の誤動作、破壊などが考え
られる。このような場合に、制御系は、レーザ光源に流
すべき電流を高く設定してしまい、この結果、レーザ光
源が破壊されてしまうことがあり得る。
【0004】従って、本発明の課題は、レーザ光源の光
量を調整する手段が、仮にレーザ光源を破壊するような
電流を、レーザ光源に流そうとした場合に、いつでもレ
ーザ光源に流れる電流を規制して、レーザ光源を破壊か
ら守ろうということである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明による画像形成装
置は、光源の放射する光により感光体上に画像データを
書込み可視像化する手段を備え、前記画像データより被
転写紙上に画像形成する画像形成装置において、前記光
源の放射する光量を検出して光量検出値を出力する光量
検出手段と、前記光量検出値をサンプルホルドするサン
プルホルド手段と、前記光源が光を放射していて且つ該
光が前記感光体を書き込んでいない制御期間に前記光量
検出値と基準値との差に応じて前記光量を負帰還制御す
る光量制御手段と、前記光量検出値と所定値とを比較し
て、前記サンプルホルド手段がサンプル状態の時のみ第
1の有効比較出力を出力する第1の比較手段と、前記光
源に流れる電流を検出して電流検出値を出力する電流検
出手段と、前記光量制御手段が前記制御期間の前記電流
検出値の割増値を保持する電流検出値保持手段と、前記
検出値保持手段による保持された前記割増値と現在の前
記電流検出値とを比較して、前記サンプルホルド手段が
ホルド状態の時のみ第2の有効比較出力を出力する第2
の比較手段と、前記第1又は第2の有効比較出力に応じ
て前記光源に流れる電流を遮断する電流遮断手段とを備
えることを特徴とする。
【0006】本発明による画像形成装置は、前記光源、
前記サンプルホルド手段、前記光量制御手段、前記第1
の比較手段、前記電流検出手段、前記電流検出値保持手
段、前記第2の比較手段、電流遮断手段は複数組あり、
前記光量検出手段の個数が前記の光源の個数よりも少な
く、前記光量検出手段が時分割で利用されることを特徴
とする。
【0007】本発明による複写機は、上記の画像形成装
置を備えることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】[実施形態1]以下、図面に示す
実施形態に基づいて本発明を説明する。図3は、本発明
による画像形成装置を載置する複写機の一例を示した装
置全体の概念的断面図である。基本的な動作について図
3を用いて説明する。1つの原稿給紙装置上に積載され
た原稿は、1枚づつ順次、原稿台ガラス面2の上に搬送
される。原稿が搬送されると、スキャナー部分の光源で
あるランプ3が点灯し、かつスキャナーユニット4が移
動して原稿を照射する。原稿の反射光はミラー5,6,
7を介して集光レンズ8を通過し、その後イメージセン
サー部9に入力される。イメージセンサー部9に入力さ
れた画像信号は、直接、あるいは、一旦図示しない画像
メモリに記憶されてから、読み出される。露光制御部1
0は、後述するように2つの半導体レーザを持ってい
て、各々の半導体レーザを上記画像信号に応じて駆動
し、画像信号に応じて変調された2つのレーザビームを
同時に直線状に感光体ドラム11を走査することによっ
て感光体ドラム11上に潜像が形成される。露光制御部
10が、感光体ドラム11が回転している間にこの様な
動作を繰り返し行うことによって感光ドラム上に1頁分
の潜像が形成される。露光によって感光体上に作られた
潜像は、トナーを含む現像器12、あるいは現像器13
によって現像される。潜像とタイミングを合わせて被転
写紙積載部14、あるいは被転写紙積載部15より被転
写紙が搬送され、転写部16に於いて、現像されたトナ
ー像が被転写紙に転写される。被転写紙に転写されたト
ナー像は定着部17にて被転写紙に定着された後、排紙
部18より装置外部に排出される。
【0009】図4は、図3の露光制御部10の主要部の
概念的構成を示している。図において31は2つの光源
を有するツインレーザ、例えば半導体ツインレーザであ
る。ツインレーザ31の内部には、各々の半導体レーザ
のレーザ光の1部の光量を検出する光量検出手段として
のフォトダイオード58(図1)が設けられ、フォトダ
イオード58の検出信号を用いて各半導体レーザの光量
を一定にする制御が行われる(以下、この制御をAPC
と記す)。ツインレーザ31から発せられたレーザビー
ムはコリメータレンズ35、及び、絞り32により、ほ
ぼ平行光にされて、所定のビーム径で回転多面鏡33に
入射する。
【0010】回転多面鏡33は、曲線矢印の様な方向に
等角速度の回転を行っており、この回転に伴って、入射
したツインレーザ31の光ビームが連続的に角度を変え
る偏向ビームとなって反射される。偏向ビームとなった
光はf−θレンズ34により集光作用を受ける。一方、
f−θレンズ34が同時に走査の時間的な直線性を保証
するような歪曲収差の補正を行う為に、光ビームは、像
担持体としての感光体11上を図の直線矢印の方向に等
速で結合走査する。なお、36は回転多面鏡33からの
反射光を検出するビームディテクト(以下、BDと記
す)センサーであり、BDセンサー36の検出信号(B
D信号)は回転多面鏡33の回転とデータの書き込みの
同期をとる為の同期信号として用いられる。
【0011】ここで本発明の構成について図1を用いて
説明する。これ以降の説明では、半導体レーザ59側の
回路については括弧無しで、半導体レーザ60側の回路
については括弧を付けて説明をする。
【0012】図1は本実施形態のツインレーザを制御す
る制御回路の構成を示したブロック図である。図1にお
いて、システムコントローラ68は図3の装置の各部を
制御する制御回路、画像処理部69は図3のイメージセ
ンサー部9で読み取られた画像信号を処理する回路であ
る。画像処理部69は、イメージセンサー部9(図3)
からの画像信号をBD信号に同期して2ラインずつレー
ザ駆動回路に供給したり、あるいは後述するように2つ
の半導体レーザのAPC制御を行うための信号を出力す
る。制御信号発生部74(75)は各々2つの半導体レ
ーザのAPC制御の引き込みに必要なタイミングを生成
する回路である。破線で囲まれた31は図4に示したツ
インレーザであり、半導体レーザ59(60)とこれら
の半導体レーザ光の1部を検出するフォトダイオード5
8からなっている。フォトダイオード58は、半導体レ
ーザ59の発するレーザ光の一部と半導体レーザ60の
発するレーザ光の一部とを同等に受光する。半導体レー
ザ59のみが発光しているときには半導体レーザ59の
光量センサとして働き、半導体レーザ60のみが発光し
ているときには半導体レーザ60の光量センサとして働
く。36は図4に示したBDセンサーであり、同期信号
の検出に用いる。
【0013】また、バイアス電流源51(54)、トー
タル電流源52(55)は半導体レーザ59、60の制
御に用いられる電流源である。
【0014】スイッチ53(56)は画像領域(図2)
で画像信号に応じてオン/オフするスイッチである。ス
イッチ53(56)はHIGHレベル信号が入力される
とオフになり、半導体レーザ59(60)はトータル電
流源52(55)から供給されるトータル電流によって
点灯する。また、スイッチ53(56)は画像処理部6
9の出力端子DATA1(DATA2)からLOWレベ
ル信号が入力されるとオンし、この時トータル電流源5
2(55)のトータル電流はバイアス電流源51(5
4)に供給されて、半導体レーザ59(60)に供給さ
れる電流がレーザ発振するための電流に満たなくなるの
で、半導体レーザ59(60)は消灯する。この様にス
イッチ53(56)を画像信号に応じて制御することに
よって半導体レーザ59(60)を駆動し、感光ドラム
11に光書き込みを行う。
【0015】スイッチ71(72)はコンパレータ回路
87(97)の出力とコンパレータ回路82(92)の
出力との論理和によってオン/オフがコントロールされ
るスイッチである。なお、この論理和は論理和回路84
(94)で作成される。論理和回路84(94)の出力
電圧レベルがHIGHとなったときにスイッチ71(7
2)は開き、トータル電流源52(55)は遮断され動
作しなくなる。
【0016】1水平走査毎に行われるレーザダイオード
59(60)の通常のラインAPC制御においては、非
画像領域の制御期間T1(図2)(T2(図2))でス
イッチ53(56)をオフにし、スイッチ56(53)
をオンにしてレーザ59(60)のみを点灯させる。ま
た、これに同期してサンプルホルド回路62(65)を
スルー状態とする。なお、通常はサンプルホルド回路の
状態はサンプル状態かホルド状態をとるが、本実施形態
においては、サンプル期間に、サンプルホルド回路を通
る信号の電圧レベルが変動し、この変動を伴うAPCに
主眼をおいているので、サンプル状態という言葉の代わ
りにスルー状態という言葉を用いる。この時レーザ59
(60)のみのレーザ光の一部がフォトダイオード58
(58)で検出され、その信号は電流電圧変換器(I/
V)61(61)にて電圧信号に変換される。この変換
後の信号はサンプルホルド回路62(65)をスルー状
態で通り、オペレーショナルアンプ64(67)に供給
される。オペレーショナルアンプ64(67)ではサン
プルホルド回路62(65)の出力信号と基準電圧発生
器63(66)の基準電圧を比較し、その差信号に応じ
てトータル電流源52(55)の電流を制御する。即
ち、基準電圧発生器63(66)で基準電圧として設定
されている目標光量となるようにトータル電流源52
(55)の電流を制御することによってレーザ59(6
0)の光量が所望の光量となるようにAPC制御が行わ
れる。
【0017】一方、画像領域においては、制御期間の電
流電圧変換器(I/V)61の出力信号がサンプルホル
ド回路62(65)にホルドされており、オペレーショ
ナルアンプ64(67)でホルドされた信号と基準電圧
発生部63(66)で発生する基準電圧によって半導体
レーザ59(60)の光量が一定値に制御され続ける。
【0018】次に、本実施形態の半導体レーザの保護に
ついて説明する。
【0019】第1の比較手段のコンパレータ82(9
2)の(+)側の入力端子にはサンプルホルド回路62
(65)の出力が接続されている。サンプルホルド回路
62(65)が制御期間T1(図2)(T2(図2))
においてスルー状態の時に、コンパレータ回路82(9
2)に入力しているサンプルホルド信号の電圧レベルが
HIGHであり、コンパレータ回路82(92)は動作
可能(HIGHレベルを出力でき得る状態)となる。従
って、コンパレータ回路82(92)は制御期間T1
(T2)においてスルー状態であるときのみ比較動作可
能な回路である。半導体レーザ59(60)がこれ以上
の光では破壊してしまう恐れがある光量に対応するリミ
ット電圧がリミット電圧保持回路83(93)にて設定
されている。このリミット電圧保持回路83(93)が
出力するリミット電圧はコンパレータ回路82(92)
の(−)側の入力端子に接続されている。コンパレータ
回路82(92)は、サンプルホルド回路62(65)
がスルー状態である制御期間T1(T2)においての
み、サンプルホルド回路62(65)の出力とリミット
電圧保持回路83(93)が出力するリミット電圧と比
較を行う。この時にリミット電圧保持回路83(93)
が出力するリミット電圧よりサンプルホルド回路62
(65)の出力が高くなった場合に、コンパレータ回路
82(92)の出力電圧レベルはHIGHになり、これ
が論理和回路84(94)に入力され、トータル電流源
52(55)のスイッチ71(72)がオフになり、半
導体レーザ59(60)に供給される電流は遮断され
る。即ち、トータル電流源52(55)が出力するトー
タル電流を調整している期間T1(T2)においてレー
ザの光量が破壊領域に達しそうな場合に、レーザの点灯
は中断される。なお、コンパレータ回路82(92)の
出力電圧レベルは、期間T1項(T2)以外の期間では
ずっとLOWに保持される。
【0020】次に、サンプルホルド回路62(65)が
ホルド中の時の説明を行う。ホルド中には、上述のコン
パレータ82(92)の動作は禁止されている。85
(95)は差動増幅器であり、レーザ59(60)に流
れる電流を入力端子間の抵抗の両端の電圧により検出す
る。差動増幅器85(95)によって検出された半導体
レーザ59(60)に流れている電流に対応した差動増
幅器85(95)の出力が、1.2倍のゲインを持つサ
ンプルホルド回路86(96)に入力される。差動増幅
器85(95)の出力はコンパレータ回路87(97)
にも入力される。1.2倍のゲインを持つサンプルホル
ド回路86(96)は、サンプルホルド回路62(6
5)と同期してサンプルホルドを行うので、APC制御
によって決定した半導体レーザ59(60)に流れる電
流量に対応した差動増幅器85(95)の出力電圧の
1.2倍の電圧をホルドする。コンパレータ87(9
7)はホルド中のみ比較動作するコンパレータである。
コンパレータ回路87(97)は、ホルド中に前述のA
PC制御によって決定した半導体レーザ59(60)に
流れる電流量に対応した差動増幅器85(95)の出力
電圧の1.2倍の電圧と、ホルド中に実際に半導体レー
ザ59(60)に流入している電流に対応した差動増幅
器85(95)の出力電圧とを比較する。実際に流れて
いる電流量がAPCが決定した電流量の1.2倍以上に
なった場合に、コンパレータ回路87(97)の出力電
圧レベルはHIGHになり、これが論理和回路84(9
4)に入力され、論理和回路84(94)の出力電圧レ
ベルがHIGHになり、これを入力するトータル電流源
52(55)のスイッチ71(72)がオフになり、半
導体レーザ59(60)に供給される電流が遮断され
る。即ち、ホルド中にレーザの光量がAPCで定まる量
の1.2倍の破壊領域に達しそうな場合、レーザ59
(60)の点灯は中断される。
【0021】なお、本実施形態ではサンプルホルド回路
86(96)のゲインを1.2倍としているが、このゲ
インはこの値に限られるものではなく、半導体レーザ5
9(60)が破壊しないための電流上限値を規定し、且
つ、誤動作が発生しないように定めるものである。
【0022】また、半導体レーザの光量の調整は、図2
に示すように半導体レーザ59については期間T1に行
われ、半導体レーザ60については期間T2に行われる
ので、フォトダイオード58と電流電圧変換器(I/
V)61は時分割で利用されることとなり、これらは1
系統あるだけでよい。
【0023】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、レーザ光源が発光している如何なる時でも保護回路
を有効に動作させることが可能となり、レーザ光源を破
壊から守ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による実施形態1の構成及び動作説明
図。
【図2】本発明による実施形態1のタイミングチャート
である。
【図3】本発明および従来例における画像形成装置の断
面図。
【図4】図2の露光制御部内の光学構成図。
【符号の説明】
10 露光制御部 11 感光体ドラム 31 ツインレーザ 32 絞り 33 回転多面鏡 34 f−θレンズ 35 コリメータレンズ 36 ビームディテクト(BD)センサー 68 システムコントローラ 69 画像処理部 73〜75 制御信号発生部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 秋生 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 田原 久嗣 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 横山 幸生 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 5F072 AB13 GG09 HH02 HH03 HH04 JJ05 YY20

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源の放射する光により感光体上に画像
    データを書込み可視像化する手段を備え、前記可視画像
    より被転写紙上に画像形成する画像形成装置において、 前記光源の放射する光量を検出して光量検出値を出力す
    る光量検出手段と、 前記光量検出値をサンプルホルドするサンプルホルド手
    段と、 前記光源が光を放射していて且つ前記サンプルホルド手
    段がサンプル状態である制御期間に前記光量検出値と光
    量基準値との差に応じて前記光量を負帰還制御する光量
    制御手段と、 前記制御期間に、前記光量検出値と最大許容光量とを比
    較して、第1の有効比較出力を出力する第1の比較手段
    と、 前記光源に流れる電流を検出して電流検出値を出力する
    電流検出手段と、 前記制御期間の前記電流検出値の割増値を保持する電流
    検出値保持手段と、 前記制御期間以外の時に、前記割増値と現在の前記電流
    検出値とを比較して、第2の有効比較出力を出力する第
    2の比較手段と、 前記第1又は第2の有効比較出力に応じて前記光源に流
    れる電流を遮断する電流遮断手段とを備えることを特徴
    とする画像形成装置。
  2. 【請求項2】 前記光源と、前記サンプルホルド手段、
    前記光量制御手段、前記第1の比較手段、前記電流検出
    手段、前記電流検出値保持手段、前記第2の比較手段、
    前記電流遮断手段が複数組あり、前記光量検出手段の個
    数が該組数よりも少なく、前記光量検出手段が時分割で
    利用されることを特徴とする請求項1に記載の画像形成
    装置。
  3. 【請求項3】 光源の放射する光により感光体上に画像
    データを書き込み可視像化する手段を備え、前記可視画
    像より被転写紙上に画像形成する画像形成装置におい
    て、 前記光源の放射する光量を検出する光量検出手段と、 前記光源の放射する光量を前記光量検出手段の出力に応
    じて自動制御する光量調整手段と、 前記自動制御期間に光量が設定光量を上回った場合に光
    源の電流源回路を働かせなくする第1の保護手段と、 前記自動制御期間外に光源を流れる電流が前記自動制御
    期間に定まった電流を一定割合以上上回った場合に電流
    源回路を働かせなくする第2の保護手段とを備えること
    を特徴とする画像形成装置。
  4. 【請求項4】 前記光源と、前記光量調整手段、前記第
    1の保護手段、前記第2の保護手段が複数組あり、前記
    光量検出手段の個数が該組数より少なく、前記光量検出
    手段が時分割で利用されることを特徴とする請求項3に
    記載の画像形成装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の
    画像形成装置を備えることを特徴とする複写機。
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