JP2000071376A

JP2000071376A - 積層フィルムおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2000071376A
Application number: JP10249556A
Authority: JP
Inventors: Motonobu Furuta; 元信古田; Tozo Yamaguchi; 登造山口
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1998-09-03
Filing date: 1998-09-03
Publication date: 2000-03-07

Abstract

(57)【要約】【課題】耐熱性、ガスバリア性、耐屈曲性などに優
れ、吸水率が低く、積層フィルムの各層の接着性が良好
であり、フィルム外観も良好で、しかも安価な積層フィ
ルム、該積層フィルムの製造方法、並びに、該積層フィ
ルムからなるＴＡＢテープ、プリント回路基板、磁気記
録媒体、壁紙または化粧紙を提供すること。【解決手段】溶融時に光学的異方性を示す樹脂よりな
るフィルム、および該フィルム表面に形成された金属ま
たは金属化合物のスパッタリング膜からなる積層フィル
ム、並びに、該積層フィルムからなるＴＡＢテープ、プ
リント回路基板、磁気記録媒体、壁紙または化粧紙。真
空下でアルゴンガスを導入し、金属または金属化合物を
ターゲットとし、スパッタリング法により、溶融時に光
学的異方性を示す樹脂よりなるフィルム上にスパッタリ
ング膜を形成する積層フィルムの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は優れた耐熱性、ガス
バリア性、耐屈曲性を有し、吸水率が低くしかも安価な
積層フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、市場における電気、電子部品の小
型軽量化、低価格化の要求に伴い、プリント回路用基板
や磁気記録媒体などとして金属箔あるいは蒸着金属と樹
脂フィルムとからなる積層フィルムが幅広く用いられて
いる。しかしながら、従来の樹脂フィルムの性能では市
場における高性能積層フィルムへの要求に対し、充分に
は対応できないという問題も生じている。

【０００３】例えば、かかる樹脂フィルムとしてポリエ
チレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂を
用いた場合には、金属の蒸着処理を施す際に高温により
樹脂が変形することや、ガスバリア性が不十分であると
いう問題点があった。ポリ塩化ビニルあるいはポリ塩化
ビニリデンは、ポリオレフィン系樹脂と同様に耐熱性が
低く、しかも使用後の燃焼時に有毒ガスを発生すると指
摘され、問題視されている。ポリエステル、ポリアミド
などは、耐熱性やガスバリア性が依然不十分である。ポ
リイミドは耐熱性、電気的性質などは優れているが吸水
率が高い、非常に高価であるなどの問題点が市場から指
摘されている。

【０００４】また、積層フィルムとして、金属箔と樹脂
フィルムの積層フィルムは軽量化が困難である、蒸着金
属と樹脂フィルムとの積層フィルムは、各層間で剥離が
生じ易い、膜厚が均一にならず外観が不良となる場合が
あるなどの問題点が市場から指摘されている。これらの
問題点を改良した積層フィルムは市場から強く要求され
ていた。

【０００５】電子、電気工業界においてはＬＳＩの高集
積化による端子数の急激な増大に対応して、従来のワイ
ヤーボンディング方式から、多ピンの一括ボンディング
が可能で小型薄型パッケージが得られるテープオートメ
ーテッドボンディング（以下ＴＡＢ）方式が広く用いら
れるところとなっている。基本的に、例えばＴＡＢテー
プは基材フィルムと金属層から構成されるが、その基材
フィルムとしては優れた電気絶縁性、耐熱性、耐屈曲
性、ガスバリア性、成形加工性などが要求され、ポリイ
ミドが一般に用いられている。しかしながら、基材フィ
ルムとしてポリイミドを用いた場合には、高価である、
吸水率が比較的高い、ガスバリア性が不十分であるなど
の問題点が市場から指摘されており、それらが改善され
たＴＡＢテープが市場から強く求められていた。また、
建築業界などにおいては、機械的強度があり、水蒸気バ
リア性を有し、外観が良好な、壁紙、あるいは化粧紙な
どへの要求がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】かかる実状に鑑み本発
明が解決しようとする課題は、耐熱性、ガスバリア性、
耐屈曲性などに優れ、吸水率が低く、積層フィルムの各
層の接着性が良好であり、フィルム外観も良好で、しか
も安価な積層フィルム、該積層フィルムの製造方法、並
びに、該積層フィルムからなるＴＡＢテープ、プリント
回路基板、磁気記録媒体、壁紙または化粧紙を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達し
た。即ち本発明は、溶融時に光学的異方性を示す樹脂よ
りなるフィルム、および該フィルム表面に形成された金
属または金属化合物のスパッタリング膜からなる積層フ
ィルム、並びに、該積層フィルムからなるＴＡＢテー
プ、プリント回路基板、磁気記録媒体、壁紙または化粧
紙に関するものである。また本発明は、真空下でアルゴ
ンガスを導入し、金属または金属化合物をターゲットと
し、スパッタリング法により、溶融時に光学的異方性を
示す樹脂よりなるフィルム上にスパッタリング膜を形成
する積層フィルムの製造方法に関するものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】次に、本発明を更に詳細に説明す
る。本発明で用いる溶融時に光学的異方性を示す樹脂は
液晶性ポリマーとして種々知られており、例えば全芳香
族系もしくは半芳香族系のポリエステル、ポリエステル
イミド、ポリエステルアミドなどや、それらを含有する
樹脂組成物などが挙げられる。本発明においては、かか
る液晶性ポリマーとして好ましくは液晶ポリエステルま
たは液晶ポリエステルを一成分として用いてなる組成物
が用いられるが、成形加工性、得られるフィルムの性能
などの点から、本発明においては（Ａ）液晶ポリエステ
ルを連続相とし（Ｂ）液晶ポリエステルと反応性を有す
る官能基を有する共重合体を分散相とする液晶ポリエス
テル樹脂組成物がさらに好ましい。

【０００９】ここでいう液晶ポリエステルは、サーモト
ロピック液晶ポリマーと呼ばれるポリエステルであり、
具体的には、（１）芳香族ジカルボン酸と芳香族ジオールと芳香族ヒ
ドロキシカルボン酸とを反応させて得られるもの。（２）異種の芳香族ヒドロキシカルボン酸の組み合わせ
を反応させて得られるもの。（３）芳香族ジカルボン酸と核置換芳香族ジオールとを
反応させて得られるもの。（４）ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル
に芳香族ヒドロキシカルボン酸を反応させて得られるも
の。などが挙げられ、４００℃以下の温度で異方性溶融体を
形成するものが好ましい。なお、これらの芳香族ジカル
ボン酸、芳香族ジオール及び芳香族ヒドロキシカルボン
酸の代わりに、それらのエステル誘導体が使用されるこ
ともある。

【００１０】該液晶ポリエステルの繰返し構造単位とし
ては、下記の芳香族ジカルボン酸に由来する繰返し構
造単位、芳香族ジオールに由来する繰返し構造単位、
芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し構造単
位を例示することができるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００１１】芳香族ジカルボン酸に由来する繰り返し
構造単位：

【００１２】

【００１３】芳香族ジオールに由来する繰返し構造単
位：

【００１４】

【００１５】芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する
繰返し構造単位：

【００１６】耐熱性、機械的特性、加工性のバランスか
ら特に好ましい液晶ポリエステルはなる繰り返し構造単位を含むものであり、さらに好まし
くはかかる繰り返し構造単位を少なくとも全体の３０モ
ル％以上含むものである。具体的には繰り返し構造単位
の組み合わせが下記（Ｉ）〜（VI）のいずれかのものが
好ましい。

【００１７】

【００１８】

【００１９】

【００２０】

【００２１】

【００２２】

【００２３】該液晶ポリエステル（Ｉ）〜（VI）の製法
については、例えば特公昭４７−４７８７０号公報、特
公昭６３−３８８８号公報、特公昭６３−３８９１号公
報、特公昭５６−１８０１６号公報、特開平２−５１５
２３号公報などに記載されている。これらの中で好まし
くは（Ｉ）、（II）または（IV）の組合せであり、さら
に好ましくは（Ｉ）または（II）の組み合せが挙げられ
る。

【００２４】本発明において、高い耐熱性が要求される
分野には成分（Ａ）の液晶ポリエステルが、下記の繰り
返し単位（ａ’）が３０〜８０モル％、繰り返し単位
（ｂ’）が０〜１０モル％、繰り返し単位（ｃ’）が１
０〜２５モル％、繰り返し単位（ｄ’）が１０〜３５モ
ル％からなる液晶ポリエステルが好ましく使用される。

【００２５】（式中、Ａｒは２価の芳香族基である。）

【００２６】本発明の積層フィルムとして、環境問題の
見地から使用後の焼却などの廃棄の容易さが求められる
分野には、ここまで挙げたそれぞれに要求される分野の
好ましい組み合わせの中で特に炭素、水素、酸素のみの
元素からなる組み合わせによる液晶ポリエステルが特に
好ましく使用される。

【００２７】上記の液晶ポリエステル樹脂組成物に用い
られる成分（Ｂ）は、液晶ポリエステルと反応性を有す
る官能基を有する共重合体である。かかる液晶ポリエス
テルと反応性を有する官能基としては、液晶ポリエステ
ルと反応性を有すれば何でもよく、具体的には、オキサ
ゾリル基やエポキシ基、アミノ基等が挙げられる。好ま
しくは、エポキシ基である。エポキシ基等は他の官能基
の一部として存在していてもよく、そのような例として
は例えばグリシジル基が挙げられる。

【００２８】共重合体（Ｂ）において、かかる官能基を
共重合体中に導入する方法としては特に限定されるもの
ではなく、周知の方法で行うことができる。例えば共重
合体の合成段階で、該官能基を有する単量体を共重合に
より導入することも可能であるし、共重合体に該官能基
を有する単量体をグラフト共重合することも可能であ
る。

【００２９】液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
を有する単量体、中でもグリシジル基を含有する単量体
としては、不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび
／または不飽和グリシジルエーテルが好ましく用いられ
る。

【００３０】不飽和カルボン酸グリシジルエステルは好
ましくは一般式（Ｒはエチレン系不飽和結合を有する炭素数２〜１３の
炭化水素基である。）で表される化合物であり、また不
飽和グリシジルエーテルは好ましくは一般式（Ｒはエチレン系不飽和結合を有する炭素数２〜１８の
炭化水素基であり、Ｘは−ＣＨ₂−Ｏ−またはである。）で表される化合物である。

【００３１】具体的には、不飽和カルボン酸グリシジル
エステルとしては、例えばグリシジルアクリレート、グ
リシジルメタクリレート、イタコン酸ジグリシジルエス
テル、ブテントリカルボン酸トリグリシジルエステル、
ｐ−スチレンカルボン酸グリシジルエステルなどを挙げ
ることができる。不飽和グリシジルエーテルとしては、
例えばビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテル、２−メチルアリルグリシジルエーテル、メタク
リルグリシジルエーテル、スチレン−ｐ−グリシジルエ
ーテル等が例示される。

【００３２】上記の液晶ポリエステルと反応性を有する
官能基を有する共重合体（Ｂ）は、好ましくは、不飽和
カルボン酸グリシジルエステル単位および／または不飽
和グリシジルエーテル単位を０．１〜３０重量％含有す
る共重合体である。

【００３３】また、上記の液晶ポリエステルと反応性を
有する官能基を有する共重合体（Ｂ）は、熱可塑性樹脂
であってもゴムであってもよいし、熱可塑性樹脂とゴム
の混合物であってもよい。ゴムを用いると組成物の成形
加工性がより優れ、好ましい。

【００３４】さらに好ましくは、上記の液晶ポリエステ
ルと反応性を有する官能基を有する共重合体（Ｂ）は、
結晶の融解熱量が３Ｊ／ｇ未満の共重合体である。また
共重合体（Ｂ）としては、ムーニー粘度が３〜７０のも
のが好ましく、３〜３０のものがさらに好ましく、４〜
２５のものが特に好ましい。ここでいうムーニー粘度
は、ＪＩＳＫ６３００に準じて１００℃ラージロータ
ーを用いて測定した値をいう。

【００３５】ここでいうゴムとは、新版高分子辞典（高
分子学会編、１９８８年出版、朝倉書店）による室温に
てゴム弾性を有する高分子物質に該当するものであり、
その具体例としては、天然ゴム、ブタジエン重合体、ブ
タジエン−スチレン共重合体（ランダム共重合体、ブロ
ック共重合体（ＳＥＢＳゴムまたはＳＢＳゴム等を含
む）、グラフト共重合体などすべて含まれる）又はその
水素添加物、イソプレン重合体、クロロブタジエン重合
体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、イソブチ
レン重合体、イソブチレン−ブタジエン共重合体ゴム、
イソブチレン−イソプレン共重合体、アクリル酸エステ
ル−エチレン系共重合体ゴム、エチレン−プロピレン共
重合体ゴム、エチレン−ブテン共重合体ゴム、エチレン
−プロピレン−スチレン共重合体ゴム、スチレン−イソ
プレン共重合体ゴム、スチレン−ブチレン共重合体、ス
チレン−エチレン−プロピレン共重合体ゴム、パーフル
オロゴム、ふっ素ゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴ
ム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン−非共役ジ
エン共重合体ゴム、チオールゴム、多硫化ゴム、ポリウ
レタンゴム、ポリエーテルゴム（例えばポリプロピレン
オキシド等）、エピクロルヒドリンゴム、ポリエステル
エラストマー、ポリアミドエラストマー等が挙げられ
る。中でも、アクリル酸エステル−エチレン系共重合体
が好ましく用いられ、（メタ）アクリル酸エステル−エ
チレン系共重合体ゴムがさらに好ましい。

【００３６】これらのゴム様物質は、いかなる製造法
（例えば乳化重合法、溶液重合法等）、いかなる触媒
（例えば過酸化物、トリアルキルアルミニウム、ハロゲ
ン化リチウム、ニッケル系触媒等）でつくられたもので
もよい。

【００３７】そして、共重合体（Ｂ）としてのゴムは上
記のようなゴムにおいて、液晶ポリエステルと反応性を
有する官能基を有するゴムである。かかるゴムにおい
て、液晶ポリエステルと反応性を有する官能基をゴム中
に導入する方法としては、特に限定されるものではな
く、周知の方法で行うことができる。例えばゴムの合成
段階で、該官能基を有する単量体を共重合により導入す
ることも可能であるし、ゴムに該官能基を有する単量体
をグラフト共重合することも可能である。

【００３８】液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
を有する共重合体（Ｂ）の具体例として、エポキシ基を
有するゴムとしては、（メタ）アクリル酸エステル−エ
チレン−（不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび
／または不飽和グリシジルエーテル）共重合体ゴムを挙
げることができる。

【００３９】ここで（メタ）アクリル酸エステルとは、
アクリル酸またはメタクリル酸とアルコールから得られ
るエステルである。アルコールとしては、炭素原子数１
〜８のアルコールが好ましい。（メタ）アクリル酸エス
テルの具体例としては、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメ
タクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒ
ｔ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、２−エチルヘキシルメタクリレートなどを挙げ
ることができる。なお、（メタ）アクリル酸エステルと
しては、その一種を単独で使用してもよく、または二種
以上を併用してもよい。

【００４０】好ましくは、（メタ）アクリル酸エステル
単位が４０重量％をこえ９７重量％未満、さらに好まし
くは４５〜７０重量％、エチレン単位が３重量％以上５
０重量％未満、さらに好ましくは１０〜４９重量％、不
飽和カルボン酸グリシジルエーテル単位および／または
不飽和グリシジルエーテル単位が０．１〜３０重量％、
さらに好ましくは０．５〜２０重量％である。上記の範
囲外であると、組成物から得られるフィルムやシート等
の成形体の熱安定性や機械的性質が不十分となる場合が
あり好ましくない。

【００４１】該共重合体ゴムは、通常の方法、例えばフ
リーラジカル開始剤による塊状重合、乳化重合、溶液重
合などによって製造することができる。なお、代表的な
重合方法は、特公昭４６−４５０８５号公報、特公昭６
１−１２７７０９号公報などに記載された方法、フリー
ラジカルを生成する重合開始剤の存在下、圧力５００ｋ
ｇ／ｃｍ²以上、温度４０〜３００℃の条件により製造
することができる。

【００４２】上記の共重合体（Ｂ）に使用できるゴムと
して他には、液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
を有するアクリルゴムや、液晶ポリエステルと反応性を
有する官能基を有するビニル芳香族炭化水素化合物−共
役ジエン化合物ブロック共重合体ゴムも例示することが
できる。

【００４３】ここでいうアクリルゴムとして好ましく
は、一般式（１）（式中、Ｒ¹は炭素原子数１〜１８のアルキル基または
シアノアルキル基を示す。）、一般式（２）（式中、Ｒ²は炭素原子数１〜１２のアルキレン基、Ｒ³
は炭素原子数１〜１２のアルキル基を示す。）、および
一般式（３）（式中、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基、Ｒ⁵炭素原子数
３〜３０のアルキレン基、Ｒ⁶は炭素原子数１〜２０の
アルキル基またはその誘導体、ｎは１〜２０の整数を示
す。）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の
単量体を主成分とするものである。

【００４４】上記一般式（１）で表されるアクリル酸ア
ルキルエステルの具体例としては、例えばメチルアクリ
レート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、
ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘキシル
アクリレート、アクチルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、ノニルアクリレート、デシルアクリ
レート、ドデシルアクリレート、シアノエチルアクリレ
ートなどを挙げることができる。

【００４５】また、上記一般式（２）で表されるアクリ
ル酸アルコキシアルキルエステルとしては、例えばメト
キシエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、エトキシプロピルア
クリレートなどを挙げることができる。これらの１種あ
るいは２種以上を該アクリルゴムの主成分として用いる
ことができる。

【００４６】かかるアクリルゴムの構成成分として、必
要に応じて上記の一般式（１）〜（３）で表される化合
物から選ばれる少なくとも一種の単量体と共重合可能な
不飽和単量体を用いることができる。このような不飽和
単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、
アクリロニトリル、ハロゲン化スチレン、メタクリロニ
トリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニルナ
フタレン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、酢酸ビニ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ベンジルアクリレー
ト、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸
などが挙げられる。

【００４７】液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
を有するアクリルゴムの好ましい構成成分比は、上記の
一般式（１）〜（３）で表される化合物から選ばれる少
なくとも一種の単量体４０．０〜９９．９重量％、不飽
和カルボン酸グリシジルエステルおよび／または不飽和
グリシジルエーテル０．１〜３０．０重量％、上記の一
般式（１）〜（３）で表される化合物から選ばれる少な
くとも一種の単量体と共重合可能な不飽和単量体０．０
〜３０．０重量％である。該アクリルゴムの構成成分比
が上記の範囲内であると、組成物の耐熱性や耐衝撃性、
成形加工性が良好であり好ましい。

【００４８】該アクリルゴムの製法は特に限定するもの
ではなく、例えば特開昭５９−１１３０１０号公報、特
開昭６２−６４８０９号公報、特開平３−１６０００８
号公報、あるいはＷＯ９５／０４７６４号公開明細書な
どに記載されているような周知の重合法を用いることが
でき、ラジカル開始剤の存在下で乳化重合、懸濁重合、
溶液重合あるいはバルク重合で製造することができる。

【００４９】前記液晶ポリエステルと反応性を有する官
能基を有するビニル芳香族炭化水素化合物−共役ジエン
化合物ブロック共重合体ゴムとして好ましくは、（ａ）
ビニル芳香族炭化水素化合物を主体とするシーケンスと
（ｂ）共役ジエン化合物を主体とするシーケンスからな
るブロック共重合体をエポキシ化して得られるゴム、ま
たは該ブロック共重合体の水添物をエポキシ化して得ら
れるゴムである。

【００５０】ビニル芳香族炭化水素化合物−共役ジエン
化合物ブロック共重合体あるいはその水添物は、周知の
方法で製造することができ、例えば、特公昭４０−２３
７９８号公報、特開昭５９−１３３２０３号公報等に記
載されている。

【００５１】芳香族炭化水素化合物としては、例えば、
スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、α−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレン
などを挙げることができ、中でもスチレンが好ましい。
共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソ
プレン、ピレリレン、１，３−ペンタジエン、３−ブチ
ル−１，３−オクタジエンなどを挙げることができ、ブ
タジエンまたはイソプレンが好ましい。

【００５２】共重合体（Ｂ）として用いるゴムとして好
ましくは、（メタ）アクリル酸エステル−エチレン−
（不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび／または
不飽和グリシジルエーテル）共重合体ゴムが用いられ
る。

【００５３】共重合体（Ｂ）として用いるゴムは、必要
に応じて加硫を行い、加硫ゴムとして用いることができ
る。上記の（メタ）アクリル酸エステル−エチレン−
（不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび／または
不飽和グリシジルエーテル）共重合体ゴムの加硫は、多
官能性有機酸、多官能性アミン化合物、イミダゾール化
合物などを用いることで達成されるが、これらに限定さ
れるものではない。

【００５４】また、液晶ポリエステルと反応性を有する
官能基を有する共重合体（Ｂ）の具体例として、エポキ
シ基を有する熱可塑性樹脂としては（ａ）エチレン単位
が５０〜９９重量％、（ｂ）不飽和カルボン酸グリシジ
ルエステル単位および／または不飽和グリシジルエーテ
ル単位が０．１〜３０重量％、好ましくは０．５〜２０
重量％、（ｃ）エチレン系不飽和エステル化合物単位が
０〜５０重量％からなるエポキシ基含有エチレン共重合
体を挙げることができる。

【００５５】エチレン系不飽和エステル化合物（ｃ）と
しては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル等のカルボン酸ビニルエステル、α，β−不飽和カル
ボン酸アルキルエステル等が挙げられる。特に酢酸ビニ
ル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルが好ましい。

【００５６】該エポキシ基含有エチレン共重合体の具体
例としては、たとえばエチレン単位とグリシジルメタク
リレート単位からなる共重合体、エチレン単位とグリシ
ジルメタクリレート単位およびアクリル酸メチル単位か
らなる共重合体、エチレン単位とグリシジルメタクリレ
ート単位およびアクリル酸エチル単位からなる共重合
体、エチレン単位とグリシジルメタクリレート単位およ
び酢酸ビニル単位からなる共重合体等が挙げられる。

【００５７】該エポキシ基含有エチレン共重合体のメル
トインデックス（以下、ＭＦＲということがある。ＪＩ
ＳＫ６７６０、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重）は、好
ましくは０．５〜１００ｇ／１０分、更に好ましくは２
〜５０ｇ／１０分である。メルトインデックスはこの範
囲外であってもよいが、メルトインデックスが１００ｇ
／１０分を越えると組成物にした時の機械的物性の点で
好ましくなく、０．５ｇ／１０分未満では成分（Ａ）の
液晶ポリエステルとの相溶性が劣り好ましくない。

【００５８】また、該エポキシ基含有エチレン共重合体
は、曲げ剛性率が１０〜１３００ｋｇ／ｃｍ²の範囲の
ものが好ましく、２０〜１１００ｋｇ／ｃｍ²のものが
さらに好ましい。曲げ剛性率がこの範囲外であると組成
物の成形加工性や機械的性質が不十分となる場合があり
好ましくない。

【００５９】該エポキシ基含有エチレン共重合体は、通
常不飽和エポキシ化合物とエチレンをラジカル発生剤の
存在下、５００〜４０００気圧、１００〜３００℃で適
当な溶媒や連鎖移動剤の存在下または不存在下に共重合
させる高圧ラジカル重合法により製造される。また、ポ
リエチレンに不飽和エポキシ化合物およびラジカル発生
剤を混合し、押出機の中で溶融グラフト共重合させる方
法によっても作られる。

【００６０】上記の液晶ポリエステル樹脂組成物は、
（Ａ）液晶ポリエステルを連続相とし（Ｂ）液晶ポリエ
ステルと反応性を有する官能基を有する共重合体を分散
相とする樹脂組成物である。液晶ポリエステルが連続相
でない場合には、液晶ポリエステル樹脂組成物よりなる
フィルムのガスバリア性、耐熱性などが著しく低下する
場合があり、好ましくない。

【００６１】このような官能基を有する共重合体と液晶
ポリエステルとの樹脂組成物においては、機構の詳細は
不明ではあるが、該組成物の成分（Ａ）と成分（Ｂ）と
の間で反応が生起し、成分（Ａ）が連続相を形成すると
ともに成分（Ｂ）が微細分散し、そのために該組成物の
成形加工性が向上するものと考えられる。

【００６２】かかる液晶ポリエステル樹脂組成物の流動
開始温度（ＦＴ１）は、［該組成物の成分（Ａ）の液晶
ポリエステルの流動開始温度（ＦＴ２）−１０］℃より
高いことが好ましい。ＦＴ１がＦＴ２より高いことがよ
り好ましい。ＦＴ１が［ＦＴ２−１０］℃より高いと該
組成物の成形加工性が向上し好ましい。ここで、流動開
始温度とは、毛細管型レオメーター（例えば島津製作所
製島津フローテスターＣＦＴ−５００型）を用いて測定
され、４℃／分の昇温速度で加熱溶融された樹脂を、荷
重１００ｋｇｆ／ｃｍ²のもとで、内径１ｍｍ、長さ１
０ｍｍのノズルから押し出したときに、溶融粘度が４８
０００ポイズを示す温度（℃）をいう。

【００６３】上記の液晶ポリエステル樹脂組成物の一実
施態様としては、（Ａ）液晶ポリエステル５６．０〜９
９．９重量％、好ましくは６５．０〜９９．９重量％、
さらに好ましくは７０〜９８重量％、および（Ｂ）液晶
ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体
４４．０〜０．１重量％、好ましくは３５．０〜０．１
重量％、さらに好ましくは３０〜２重量％を含有する樹
脂組成物である。成分（Ａ）が５６．０重量％未満であ
ると該組成物から得られるフィルムまたはシート等の成
形体のガスバリア性、耐熱性が低下する場合があり好ま
しくない。また成分（Ａ）が９９．９重量％を超えると
該組成物の成形加工性が低下する場合があり、また価格
的にも高価なものとなり好ましくない。

【００６４】上記の液晶ポリエステル樹脂組成物を製造
する方法としては周知の方法を用いることができる。た
とえば、溶液状態で上記組成比の各成分を混合し、溶剤
を蒸発させるか、溶剤中に沈殿させる方法が挙げられ
る。工業的見地からみると溶融状態で上記組成比の各成
分を混練する方法が好ましい。溶融混練には一般に使用
されている一軸または二軸の押出機、各種のニーダー等
の混練装置を用いることができる。特に二軸の高混練機
が好ましい。溶融混練に際しては、混練装置のシリンダ
ー設定温度は２００〜３６０℃の範囲が好ましく、さら
に好ましくは２３０〜３５０℃である。

【００６５】混練に際しては、各成分は予めタンブラー
もしくはヘンシェルミキサーのような装置で各成分を均
一に混合してもよいし、必要な場合には混合を省き、混
練装置にそれぞれ別個に定量供給する方法も用いること
ができる。

【００６６】本発明で使用する溶融時に光学的異方性を
示す樹脂においては、所望により無機充填剤が用いられ
る。このような無機充填剤としては、炭酸カルシウム、
タルク、クレー、シリカ、炭酸マグネシウム、硫酸バリ
ウム、酸化チタン、アルミナ、石膏、ガラスフレーク、
ガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ
繊維、ホウ酸アルミニウムウィスカ、チタン酸カリウム
繊維等が例示される。

【００６７】本発明で使用する溶融時に光学的異方性を
示す樹脂に、必要に応じて、さらに、有機充填剤、酸化
防止剤、熱安定剤、光安定剤、難燃剤、滑剤、帯電防止
剤、防錆剤、架橋剤、発泡剤、蛍光剤、表面平滑剤、表
面光沢改良剤、フッ素樹脂などの離型改良剤などの各種
の添加剤を製造工程中あるいはその後の加工工程におい
て、フィルムの透明性を著しく損なわない範囲で用いる
ことができる。

【００６８】本発明で使用する溶融時に光学的に異方性
を示す樹脂を成膜機へ供給する際の該樹脂の吸水率とし
ては、０．０５ｗｔ％以下が好ましい。それを超えると
得られた樹脂フィルムの表面が荒れたり、発泡したりし
て好ましくない。ここでいう吸水率とは、溶融時に光学
的に異方性を示す樹脂について市販の水分計を用いて測
定するもので、その方法には特に制限はなく既知の方法
で測定することができる。該樹脂はペレット形状のもの
を用いて測定するのが好ましい。また、かかる含水量を
実現する方法には特に制限はなく、液晶ポリエステル樹
脂組成物を直接加熱乾燥してもよいし、真空乾燥しても
よい。

【００６９】本発明における溶融時に光学的に異方性を
示す樹脂よりなるフィルムの成形方法は特に制限するも
のではなく、周知の方法で行うことができる。

【００７０】溶融時に光学的に異方性を示す樹脂を成膜
する方法としては、例えば、Ｔダイから溶融樹脂を押出
し巻き取るＴダイ法、環状ダイスを設置した押出し機か
ら溶融樹脂を円筒状に押出し、冷却し巻き取るインフレ
ーション成膜法によりフィルムまたはシートを得ること
もできるし、あるいは射出成形法や押出し法で得られた
シートをさらに一軸延伸してフィルムまたはシートを得
ることもできる。

【００７１】溶融時に光学的に異方性を示す樹脂として
組成物を射出成形、押出成形する場合には、あらかじめ
混練の工程を経ることなく、各成分のペレットを成形時
にドライブレンドして溶融成形して、フィルムまたはシ
ートを得ることもできる。

【００７２】Ｔダイ法では、Ｔダイを通して押出した溶
融樹脂を巻き取り機方向（長手方向）に延伸しながら巻
き取って得られる一軸延伸フィルム、または二軸延伸フ
ィルムが好ましく用いられる。

【００７３】一軸延伸フィルムの成膜時における押出機
の設定条件は液晶性ポリマーの性質に応じて適宜設定で
きるが、シリンダー設定温度は２００〜３６０℃の範囲
が好ましく、２３０〜３５０℃の範囲がさらに好まし
い。この範囲外であると液晶性ポリマーの熱分解が生じ
たり、成膜が困難となる場合があり好ましくない。

【００７４】Ｔダイのスリット間隔は、０．２〜２.０
ｍｍが好ましく、０.２〜１.２ｍｍがさらに好ましい。
一軸延伸フィルムのドラフト比は、１．１〜４０の範囲
のものが好ましく、さらに好ましくは１０〜４０であ
り、特に好ましくは１５〜３５である。

【００７５】ここでいうドラフト比とは、Ｔダイスリッ
トの断面積を長手方向に垂直な面のフィルム断面積で除
した値をいう。ドラフト比が１．１未満であるとフィル
ム強度が不十分であり、ドラフト比が４５を越すとフィ
ルムの表面平滑性が不十分となる場合があり、好ましく
ない。ドラフト比は押出機の設定条件、巻き取り速度な
どを制御して設定することができる。

【００７６】二軸延伸フィルムは、一軸延伸フィルムの
成膜と同様の押出機の設定条件、すなわちシリンダー設
定温度が好ましくは２００〜３６０℃の範囲、さらに好
ましくは２３０〜３５０℃の範囲、Ｔダイのスリット間
隔が好ましくは０．２〜１.２ｍｍの範囲で液晶性ポリ
マーの溶融押出しを行い、Ｔダイから押出した溶融体シ
ートを長手方向および長手方向と垂直方向（横手方向）
に同時に延伸する方法、またはＴダイから押出した溶融
体シートをまず長手方向に延伸し、ついでこの延伸シー
トを同一工程内で１００〜３００℃の高温下でテンター
より横手方向に延伸する逐次延伸の方法などにより得ら
れる。

【００７７】二軸延伸フィルムを得る際、その延伸比は
長手方向に１．２〜２０倍、横手方向に１．２〜２０倍
の範囲が好ましい。延伸比が上記の範囲外であると、フ
ィルムの強度が不十分となったり、または均一な厚みの
フィルムを得るのが困難となる場合があり好ましくな
い。

【００７８】円筒形のダイから押出した溶融体シートを
インフレーション法で成膜して得られる、インフレーシ
ョンフィルムなども好ましく用いられる。

【００７９】すなわち、液晶性ポリマーは環状スリット
のダイを備えた溶融混練押出機に供給され、シリンダー
設定温度２００〜３６０℃、好ましくは２３０〜３５０
℃で溶融混練を行って押出機の環状スリットから筒状フ
ィルムは上方または下方へ溶融樹脂が押出される。環状
スリット間隔は通常０．１〜５ｍｍ、好ましくは０．２
〜２ｍｍ、環状スリットの直径は通常２０〜１０００ｍ
ｍ、好ましくは２５〜６００ｍｍである。

【００８０】溶融押出しされた溶融樹脂フィルムに長手
方向（ＭＤ）にドラフトをかけるとともに、この筒状フ
ィルムの内側から空気または不活性ガス、例えば窒素ガ
スなどを吹き込むことにより長手方向と直角な横手方向
（ＴＤ）にフィルムを膨張延伸させる。

【００８１】インフレーション成形（成膜）において、
好ましいブロー比は１．５〜１０、好ましいＭＤ延伸倍
率は１．５〜４０である。インフレーション成膜時の設
定条件が上記の範囲外であると厚さが均一でしわの無い
高強度のフィルムを得るのが困難となる場合があり好ま
しくない。

【００８２】膨張させたフィルムは、その円周を空冷あ
るいは水冷させた後、ニップロールを通過させて引き取
る。

【００８３】インフレーション成膜に際しては液晶性ポ
リマーの性質に応じて、筒状の溶融体フィルムが均一な
厚みで表面平滑な状態に膨張するような条件を選択する
ことができる。

【００８４】フィルムの厚みは好ましくは３〜１０００
μｍ、さらに好ましくは３〜５００μｍである。

【００８５】本発明で使用する溶融時に光学的異方性を
示す樹脂よりなるフィルムの表面には、必要に応じて表
面処理を施すことができる。このような表面処理法とし
ては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処
理、紫外線処理、赤外線処理、スパッタリング処理、溶
剤処理、研磨処理などが挙げられる。

【００８６】本発明で使用する溶融時に光学的異方性を
示す樹脂よりなるフィルムの吸水率は低く、電気、電子
部品用途の積層フィルムとして好適である。本発明で使
用する溶融時に光学的異方性を示す樹脂よりなるフィル
ムとしては、その吸水率が０．０５重量％以下であるフ
ィルムが好ましい。ここでいうフィルムの吸水率は、Ａ
ＳＴＭＤ−５７０に基づき２３℃、２４ｈｒ水中浸漬
後測定した値であり、同様にして測定したポリエチレン
テレフタレートフィルムの吸水率０．４重量％、ポリイ
ミドの吸水率２．９重量％（いずれもカタログ値）と
比較すると圧倒的に小さく、電子、電気部品用途の積層
フィルムとして好ましい。

【００８７】本発明における積層フィルムは、上記の溶
融時に光学的異方性を示す樹脂よりなるフィルムと該フ
ィルム表面に形成された金属または金属化合物のスパッ
タリング膜から構成される。ここで、スパッタリングと
は、放電などにより生じた原子やイオンが高速で固体表
面に衝突する際に、固体を形成する原子が表面から叩き
出され、この放出された原子が樹脂フィルム表面などに
被着する手法をいう。

【００８８】スパッタリングの基本的方法は、一対の電
極を密封された容器内におき、容器内を高真空に排気し
たのち少量の不活性気体を装置内にいれ、電極間に直流
電圧を印加し、放電を起こすことにより、不活性ガス分
子は電離して陽イオンとしてターゲットの金属または金
属化合物に衝突してターゲットの原子を叩き出し、樹脂
フィルム上にこのターゲットの原子が堆積されてスパッ
タリング膜が形成されるというものである。

【００８９】ここで不活性ガスとしては、具体的には
アルゴン、キセノン、ネオン、窒素などが挙げられ、こ
れらは混合して用いてもよい。中でもアルゴンが好まし
い。

【００９０】本発明において、チャンバー内に導入され
る不活性ガスの圧力は、10^-2〜10^-4Ｔｏｒｒの範囲が好
ましい。不活性ガスの圧力がこの範囲外であると系内で
電圧を印加しても放電が生じにくくなり好ましくない。
ここで印加する電圧は５０Ｗ〜１０ＫＷの範囲が好まし
い。

【００９１】またここでいうターゲットの金属または金
属化合物とは、ターゲット表面に用いられる金属、合金
や金属化合物を総称するものであり、具体的には、金、
銀、銅、アルミニウム、アルミナ、シリカ、窒化チタ
ン、ステンレス、クロム、亜鉛、コバルト、ニッケル、
ニッケル−クロム合金、コバルト−ニッケル合金などを
挙げることができる。なかでも、銅、アルミニウム、
銀、シリカまたはアルミナが好ましく、さらには銅また
はアルミニウムが好ましい。

【００９２】スパッタリング法としては、具体的にイオ
ンビームスパッタリング法、高周波スパッタリング法、
直流マグネトロンスパッタリング法、グロー放電法など
が挙げられるが、どの方法も本発明に適用することがで
きる。

【００９３】スパッタリング装置としては、具体的には
特開昭６０−１１０９７２号公報に記載された、縦型低
温ハイレートスパッタリング装置、あるいは、特開昭６
０−１１０９７１号公報に記載のように、高周波スパッ
タリング装置などを使用できる。

【００９４】本発明の積層フィルムにおいては、溶融時
に光学的異方性を示す樹脂よりなるフィルムと、該フィ
ルム表面に形成されたスパッタリング層とは、密着性が
非常に良好であり、両者の界面での剥離などが生じにく
い。またスパッタリング層は厚みが均一なものを得るこ
とが容易であり、外観も非常に良好であるという特徴が
ある。このような該スパッタリング層と該フィルムとの
密着性が良好である理由は必ずしも明らかではないが、
該スパッタリング層の一部が該フィルムの表面層中に侵
入した効果によるものと考えられる。

【００９５】ここでスパッタリング膜の厚さは特に制限
するものではなく目的に応じて厚さを選択することがで
きるが、１００ナ〜１μｍ厚の範囲が好ましい。

【００９６】本発明における積層フィルムの両面もしく
は片面に、必要に応じて熱可塑性樹脂（但し、溶融時に
光学的異方性を示す樹脂を除く。）層を積層したものを
好適に使用できる。

【００９７】ここでいう熱可塑性樹脂としては、例えば
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−α−オレフ
ィン共重合体のごときポリオレフィン、ポリスチレン、
ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートやポリ
ブチレンテレフタレートのごときポリエステル、ポリア
セタール、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリ
エーテルサルホン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサ
ルファイド、フッ素樹脂などが挙げられる。これらの中
でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−α−
オレフィン共重合体、ポリエチレンテレフタレートが好
ましい。熱可塑性樹脂としては１種または２種以上のも
のを混合して用いることができる。また、熱可塑性樹脂
としては、分子鎖に官能基を導入し、変性した熱可塑性
樹脂も用いられる。

【００９８】積層フィルムにこのような積層構造体を用
いる際には、必要に応じて各樹脂層の間にホットメルト
接着剤、ポリウレタン接着剤などを使用して各層間の接
着強度を向上させることも可能である。

【００９９】本発明における積層フィルムの金属スパッ
タリング膜上には、必要に応じて銅めっきなどを施すこ
ともできる。

【０１００】本発明における積層フィルムに加熱処理、
加圧処理、加熱加圧処理、超音波処理などを施してもよ
い。

【０１０１】本発明の積層フィルムは、耐熱性、ガスバ
リア性、耐屈曲性などが優れ、吸水率が低く、各層間の
接着性が良好で、フィルム外観も良好であり、薄くしか
も安価なものも得られることから、ＴＡＢテープ、プリ
ント回路基板、磁気記録媒体、壁紙、あるいは化粧紙な
どとして、幅広い分野で産業界で使用することができ
る。本発明の積層フィルムをＴＡＢテープまたはプリン
ト回路基板に適用する場合には、金属または金属化合物
としては銅が最も好ましい。

【０１０２】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、こ
れらは単なる例示であり、本発明はこれらに限定される
ことはない。

【０１０３】（１）成分（Ａ）の液晶ポリエステル（ｉ）ｐ−アセトキシ安息香酸８．３ｋｇ（６０モ
ル）、テレフタル酸２．４９ｋｇ（１５モル）、イソフ
タル酸０．８３ｋｇ（５モル）および４，４’−ジアセ
トキシジフェニル５．４５ｋｇ（２０．２モル）を櫛型
撹拌翼をもつ重合槽に仕込み、窒素ガス雰囲気下で撹拌
しながら昇温し３３０℃で１時間重合させた。この間に
副生する酢酸ガスを冷却管で液化し回収、除去しなが
ら、強力な撹拌下で重合させた。その後、系を徐々に冷
却し、２００℃で得られたポリマーを系外へ取出した。
この得られたポリマーを細川ミクロン（株）製のハンマ
ーミルで粉砕し、２．５ｍｍ以下の粒子とした。これを
更にロータリーキルン中で窒素ガス雰囲気下に２８０℃
で３時間処理することによって、流動開始温度が３２４
℃の粒子状の下記の繰り返し構造単位からなる全芳香族
ポリエステルを得た。ここで流動開始温度とは、島津製
作所製島津フローテスターＣＦＴ−５００型を用いて、
４℃／分の昇温速度で加熱溶融された樹脂を、荷重１０
０ｋｇｆ／ｃｍ²のもとで、内径１ｍｍ、長さ１０ｍｍ
のノズルから押し出したときに、溶融粘度が４８０００
ポイズを示す温度（℃）をいう。以下該液晶ポリエステ
ルをＡ−１と略記する。このポリマーは加圧下で３４０
℃以上で光学異方性を示した。液晶ポリエステルＡ−１
の繰り返し構造単位は、次の通りである。

【０１０４】

【０１０５】（２）成分（Ｂ）の共重合体（ｉ）特開昭６１−１２７７０９号公報の実施例５に記
載の方法に準じて、ＭＡ／Ｅ／ＧＭＡ＝５９．０／３
８．７／２．３（重量比）、ムーニー粘度＝１５の共重
合体ゴムを得た。以下該共重合体ゴムを、Ｂ―１と略称
することがある。ここで、Ｅはエチレン、ＭＡはアクリ
ル酸メチル、ＧＭＡはグリシジルメタクリレートをそれ
ぞれ示す。またムーニー粘度は、ＪＩＳＫ６３００に
準じて１００℃、ラージローターを用いて測定した値で
ある。

【０１０６】（３）物性の測定法（ｉ）酸素ガス透過率：ＪＩＳＫ７１２６Ａ法（差
圧法）に準拠して温度２０℃の条件で測定した。単位は
ｃｃ／ｍ²・２４ｈｒ・１ａｔｍである。

【０１０７】（ii）水蒸気透過率：ＪＩＳＺ０２０８
（カップ法）に準拠して温度４０℃、相対湿度９０％の
条件で測定した。単位はｇ／ｍ²・２４ｈｒ・１ａｔｍ
である。なお酸素ガス透過率と水蒸気透過率は膜厚みを
２５μｍに換算して求めた。

【０１０８】(iii）耐屈曲性：積層フィルムのＭＤ方
向、ＴＤ方向に積層材料を切り出し、それぞれについて
東洋精機（株）製ＭＩＴ屈曲試験機Ｆｏｌｄｉｎｇ
ＥｎｄｕｒａｎｃｅＴｅｓｔｅｒＭＩＴ−Ｄ型を使
用し、ＪＩＳ−ｐ−８１１５に基づいて荷重１Ｋｇｆ、
折り曲げ角１３５度、折り曲げ面曲率半径１ｍｍ、
折り曲げ速度１７５回／ｍｉｎで屈曲試験を行った。

【０１０９】（iv）吸水率：ＡＳＴＭＤ５７０に基づ
き、２３℃、で２４ｈｒペレットあるいはフィルムを水
に浸漬後の吸水率を求めた。

【０１１０】（ｖ）積層フィルム外観：積層フィルム外
観は以下の基準に基づいて評価した。 ○：フィルムに厚みむら、皺、金属膜の剥離などがほと
んど認められない。 ×：フィルムに厚みむら、皺、金属膜の剥離などが認め
られる。

【０１１１】実施例１Ａ−１８０重量％、およびＢ−１２０重量％を、日
本製鋼（株）製ＴＥＸ−３０型二軸押出機を用い、シ
リンダー設定温度３５０℃、スクリュー回転数２００ｒ
ｐｍで溶融混練を行って組成物ペレットを得た。該ペレ
ットは加圧下で３４０℃以上で光学異方性を示した。ま
た、該ペレットの流動開始温度は３２８℃であった。得
られたペレットを熱風循環式オーブンを使用して、１２
０℃で３時間加熱乾燥させたのち、吸水率を測定したと
ころ０．００７重量％であった。この乾燥後の組成物の
ペレットを円筒ダイを備えた６０ｍｍ径の単軸押出し機
に供給し、シリンダー設定温度３５０℃、スクリュー回
転数９０ｒｐｍで溶融押出しして、ダイ径５０ｍｍ、リ
ップ間隔１．５ｍｍ、ダイ設定温度３５０℃の円筒ダイ
から溶融樹脂を上方へ押出し、この筒状フィルムの中空
部へ乾燥空気を圧入してブロー比３．６として筒状フ
ィルムを膨張させ、次に冷却させたのち、ニップロール
に通して巻き取り速度２７ｍ／ｍｉｎで巻き取った（Ｍ
Ｄ延伸倍率７．７）。得られたフィルムの厚みは３６μ
ｍであった。酸素透過度は０．３ｃｃ／ｍ²・２４ｈｒ
・１ａｔｍ、水蒸気透過率度は０．３ｇ／ｍ²・２４ｈ
ｒ・１ａｔｍであった。また得られたフィルムの吸水率
は０．０４％であった。

【０１１２】得られた該液晶ポリエステル樹脂フィルム
からサイズ２０×３０ｃｍを切り出し、そのフィルムを
真空チャンバー内に入れ、直流マグネトロンスパッタリ
ング法により、装置内真空度１×１０^-6Ｔｏｒｒとした
のち、アルゴンガスを導入して、アルゴンガス圧１×１
０^-3Ｔｏｒｒの状態で銅をターゲットとし、電圧５ＫＷ
Ｈで１００秒間スパッタリングした結果、該フィルム表
面に厚さ１０００Åの銅のスパッタリング膜が形成され
た。スパッタリングを行った際に該フィルム表面に樹脂
の損傷、変質、発泡などのフィルム外観変化は認められ
なかった。該スパッタリング膜の表面で、１ｃｍの電極
間隔で測定した表面抵抗は０．３Ωであった。該積層フ
ィルムの外観評価は○であった。また、得られた積層フ
ィルムの耐屈曲性の試験結果は１０万回試験後で、樹脂
フィルム、スパッタリング膜のいずれにもクラック、破
断は認められなかった。

【０１１３】

【発明の効果】本発明の溶融時に光学的異方性を示す樹
脂フィルムおよびその表面に形成されるスパッタリング
層からなる積層フィルムは、耐熱性、ガスバリア性、耐
屈曲性などが優れ、吸水率が低く、各層間の接着性が良
好で、フィルム外観も良好であり、薄くしかも安価なも
のも得られることから、ＴＡＢテープ、プリント回路基
板、磁気記録媒体、壁紙、あるいは化粧紙などとして、
幅広い分野で産業界で使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4F100 AA17B AA19B AA20B AB01B AB10B AB17B AK01A AK24A AK24J AK41A AL01A AL05A AL06A AN00A BA02 EH662 EJ592 EJ602 GB08 GB41 GB43 HB00 JA11A JD02 JD15A JJ03 JK04 JK06 JM02B JN30A YY00A

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】溶融時に光学的異方性を示す樹脂よりなる
フィルム、および該フィルム表面に形成された金属また
は金属化合物のスパッタリング膜からなることを特徴と
する積層フィルム。
【請求項２】金属または金属化合物が、銅、アルミニウ
ム、アルミナまたはシリカであることを特徴とする請求
項１記載の積層フィルム。
【請求項３】溶融時に光学的異方性を示す樹脂が、
（Ａ）液晶ポリエステルを連続相とし（Ｂ）液晶ポリエ
ステルと反応性を有する官能基を有する共重合体を分散
相とする液晶ポリエステル樹脂組成物であるものである
ことを特徴とする請求項１または２記載の積層フィル
ム。
【請求項４】溶融時に光学的異方性を示す樹脂が、
（Ａ）液晶ポリエステル５６．０〜９９．９重量％、お
よび（Ｂ）液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を
有する共重合体４４．０〜０．１重量％を溶融混練して
得られる液晶ポリエステル樹脂組成物であることを特徴
とする請求項１または２記載の積層フィルム。
【請求項５】液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
が、オキサゾリル基、エポキシ基またはアミノ基である
ことを特徴とする請求項３または４記載の積層フィル
ム。
【請求項６】液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
を有する共重合体（Ｂ）が、不飽和カルボン酸グリシジ
ルエステル単位および／または不飽和グリシジルエーテ
ル単位を０．１〜３０重量％含有する共重合体であるこ
とを特徴とする請求項３または４記載の積層フィルム。
【請求項７】液晶ポリエステルと反応性を有する官能基
を有する共重合体（Ｂ）が、エポキシ基を有するゴムで
あることを特徴とする請求項３または４記載の積層フィ
ルム。
【請求項８】液晶ポリエステル（Ａ）が、芳香族ジカル
ボン酸と芳香族ジオールと芳香族ヒドロキシカルボン酸
とを反応させて得られるものであることを特徴とする請
求項３〜７のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項９】液晶ポリエステル（Ａ）が、異種の芳香族
ヒドロキシカルボン酸の組合せを反応させて得られるも
のであることを特徴とする請求項３〜７のいずれかに記
載の積層フィルム。
【請求項１０】溶融時に光学的異方性を示す樹脂よりな
るフィルムの吸水率が、０．０５重量％以下であること
を特徴とする請求項１または２記載の積層フィルム。
【請求項１１】真空下でアルゴンガスを導入し、金属ま
たは金属化合物をターゲットとし、スパッタリング法に
より、溶融時に光学的異方性を示す樹脂よりなるフィル
ム上にスパッタリング膜を形成することを特徴とする積
層フィルムの製造方法。
【請求項１２】請求項１〜１０のいずれかに記載の積層
フィルムからなることを特徴とするＴＡＢテープ。
【請求項１３】請求項１〜１０のいずれかに記載の積層
フィルムからなることを特徴とするプリント回路基板。
【請求項１４】請求項１〜１０のいずれかに記載の積層
フィルムからなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１５】請求項１〜１０のいずれかに記載の積層
フィルムからなることを特徴とする壁紙。
【請求項１６】請求項１〜１０のいずれかに記載の積層
フィルムからなることを特徴とする化粧紙。