JP2000044818A - 高減衰材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高いｔａｎδを発現し、経時変化が少なく、し
かもピーク温度が室温付近にある高減衰材料組成物を提
供すること。 【解決手段】ベースポリマーである塩基性の極性側鎖を
もつアクリルゴムに減衰性付与剤としてヒンダードフェ
ノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エ
ステル系化合物或いは含窒素塩基性化合物を適宜選択し
て配合する。得られる高減衰材料組成物は、ベースポリ
マーの塩基性側鎖と減衰性付与剤の相互作用が均一か
つ、適切であることから、高いｔａｎδを安定して発現
し経時変化も少ないものとなる。また、ピーク温度を室
温付近に示すものが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高減衰材料組成物
に関し、更に詳しくは、音響ルームの遮音壁、建築構造
体の遮音間仕切り、車両の防音壁等に適用される振動や
騒音を吸収する制振材・防音材としての高減衰材料組成
物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の高減衰材料組成物としての高分
子系材料は、典型的な粘弾性挙動を呈するものであり、
その材料微小部が何等かの原因で振動すると、夫々の材
料微小部に、複素正弦歪（ε^＊）が発生し、これにより
複素正弦応力（σ^＊）が発生する。複素弾性係数
（Ｅ^＊）は、次式に示したように、これらの比をとった
ものである。 複素弾性係数（Ｅ^＊）＝複素正弦応力（σ^＊）／複素正
弦歪（ε^＊）

【０００３】この複素弾性係数（Ｅ^＊）の実数部は、材
料の弾性的な性質に係る貯蔵弾性係数（Ｅ’）と定義さ
れ、その虚数部は、材料の粘性的な性質に係る損失弾性
係数（Ｅ”）と定義される。損失正接（ｔａｎδ）は、
次式に示したように、これらの比をとったものである。 損失正接（ｔａｎδ）＝損失弾性係数（Ｅ”）／貯蔵弾
性係数（Ｅ’）

【０００４】この損失正接（以下、単に「ｔａｎδ」と
する。）は、防音・制振特性を決定する因子の一つであ
り、この値が高いほど力学的エネルギーを電気或いは熱
エネルギーとして吸収・放出して、優れた吸音性や制振
性等の機械特性を示すことが知られている。従来、高減
衰材料組成物のｔａｎδとして求められる値は、０．５
以上である。

【０００５】この従来の要求特性を満たした高減衰材料
組成物として、例えば、高分子系複合材料が知られてい
る。この高分子系複合材料はポリマーアロイ或いは高分
子網目構造（ＩＰＮ技術）を有する高分子化合物をベー
スポリマーとしており、これに充填剤（マイカ等）や可
塑剤を添加し、所定の製造工程を経て得られたものであ
る。この場合に、ベースポリマーとしては各種ゴム、高
分子樹脂材料の他に、エラストマー樹脂材料等が用いら
れている。

【０００６】しかし、このような高分子系複合材料のｔ
ａｎδの値は、ベースポリマーとして各種ゴム材料を用
いた場合は、０．３〜１．０程度、ベースポリマーとし
て高分子樹脂材料（ポリスチレン、ポリイソブチレン、
ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、ポリテトラフルオロエチレン等）を用いた場合は、
１．０〜２．０程度である。

【０００７】また、他の高減衰材料としては、本出願人
により特願平９−３６２１２５号に開示されたもので、
極性側鎖を有するベースポリマーに、第２級アミン、第
３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子
中に２個以上含む塩基性物質を配合したものがある。具
体的には、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン
が、減衰性付与剤としては、Ｎ−シクロヘキシルベンゾ
チアジル−２−スルフェンアミド等が用いられ、ｔａｎ
δピークが１．０を超えており、一応の成果が得られて
いる。

【０００８】また、更にｔａｎδを高める手段として、
特願平９−３６２７４７号及び特願平９−３６２７４８
号に、極性側鎖を有するベースポリマーに、第２級アミ
ン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を
１分子中に２個以上含む塩基性物質のみならず、酸性物
質をも配合した材料が開示されている。

【０００９】単に塩基性物質のみを配合した材料は、全
体としては、そのｔａｎδを高める働きをするものの、
配合成分の塩基性度は、その塩基性物質の種類と配合量
とに依存し、その塩基性度が高いｔａｎδを発現できる
好適な範囲にあるとは限らない。つまり、より高いｔａ
ｎδを発現させるためには塩基性度を最適な状態に調節
する必要がある。そこで、上記したような塩基性物質の
みならず、酸性物質をも配合した高減衰材料組成物は、
配合成分と高分子側鎖との相互作用を変化させることに
より、高いｔａｎδを発現することができるようにした
ものである。

【００１０】また、高減衰材料においては経時変化によ
るｔａｎδの低下が問題となっているが、上記した特願
平９−３６２７４７号及び特願平９−３６２７４８号に
開示されているものは、酸性物質をも配合したことから
多成分系になっており、その経時変化の抑制に対して配
慮がなされている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た種々の高減衰材料は、従来の要求特性（ｔａｎδ≧
０．５）に応えているとはいえ、それらが使用される環
境或いは、その用途などの要請から、より優れたｔａｎ
δ（ｔａｎδ≧２．０、更に好ましくはｔａｎδ≧２．
５）を発現できるものが望まれている。

【００１２】従来の減衰材料が、更なる高減衰性を発揮
できないのは、ベースポリマーと減衰性付与剤との相互
作用が不均一であり、またその力が不適切なことから、
従来のベースポリマーと減衰性付与剤との組み合わせで
は、均一かつ適切な相互作用を実現することは困難だか
らである。

【００１３】また、高減衰材料は経時変化によりｔａｎ
δが低下してしまうことが問題になっているが、特に上
述した種々の高減衰材料の多くは、減衰性付与剤が結晶
化したり、或いはブリード現象を起こしてしまうことか
ら、そのｔａｎδの低下速度が速く、２週間から１ヶ月
程度の短期間の経過で、成形直後のｔａｎδを殆ど維持
できず、減衰性を発揮することができなくなっている。
上述した種々の高減衰材料の中には、そのｔａｎδをあ
る程度維持できるものも含まれているが、これらはｔａ
ｎδの低下を抑制しているのではなく、単に低下の速度
が若干遅くなっているに過ぎず、いずれにしても短期間
のうちに低下することは避けられない。つまり、従来の
減衰材料における経時変化の抑制対策は根本的な解決に
はなっていないことから、実用的に用いる程までには至
っていないものとなっている。

【００１４】ちなみに、従来の減衰材料において、減衰
性付与剤が結晶化しやすいのは、配合した塩基性の減衰
性付与剤が剛直性、つまり分子結合の自由度が小さく立
体的な構造の変化が少ないという性質があり、更に、そ
れらは複素環式化合物であるために対称性を有している
ことから、分子同士が規則的な配列を形成しやすい状態
にあることが原因である。更にまた、ベースポリマー
が、ゴム状であった場合には、分子凝集エネルギーが小
さく鎖が動きやすいため、減衰性付与剤がベースポリマ
ー中にうまく分散しないために、結晶化してしまうとい
うものである。

【００１５】また、これらの高減衰材料を使用する際に
は、その使用環境における温度が重要な要素となってく
る。しかし、従来の減衰材料は最も多く使用するであろ
うと思われる室温から著しく離れたところにｔａｎδピ
ークがあるため、使用したい環境において、その高減衰
材料の持つ減衰性能を最大限に発揮した状態で使用する
ことができない。

【００１６】更にまた、上述した種々の高減衰材料に用
いられているベースポリマーの側鎖には、特に塩素を中
心としたハロゲンを有するものが多く使用されており、
これらを用いて合成した材料を使用・廃棄等する際には
環境に与える影響が大きくなることから問題視されてい
る。そこで、従来とは異なった観点から材料設計を行う
必要がある。

【００１７】本発明の解決しようとする課題は、ベース
ポリマーの側鎖と減衰性付与剤との相互作用が均一で、
しかもその大きさが適切である組み合わせを選択するこ
とにより、高いｔａｎδを発現することができ、また経
時変化による損失係数（ｔａｎδ）の低下が小さく、更
にｔａｎδピーク温度が室温付近にある高減衰材料組成
物を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の高減衰材料組成物は、塩基性の極性側鎖を有
する塩基性ポリマーをベースポリマーとし、該塩基性ポ
リマーがヒンダードフェノール系化合物、リン酸エステ
ル系化合物、亜リン酸エステル系化合物及び含窒素塩基
性化合物より選ばれた１種又は２種以上の減衰性付与剤
を含有することを要旨とするものである。

【００１９】この場合に、「塩基性の極性側鎖を有する
塩基性ポリマー」としては、アクリル系（この構造式を
化１に示す。）、メタクリル系（化２）、エチレン・ア
クリル系共重合体（化３）、ポリ酢酸ビニル及びその共
重合体より選ばれた少なくとも１種又は２種以上のもの
が好適なものとして挙げられる。

【００２０】

【化１】

【００２１】

【化２】

【００２２】

【化３】

【００２３】この場合に、「ヒンダードフェノール系化
合物」としては、酸化防止剤であるトリス−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシア
ヌレート、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、４，
４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノール）、ペンタエリスリチル−テトラキス
［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビ
ス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス［１，１
−ジメチル−２−［（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウ
ンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
ス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−ベンゼン、１，６−ヘキサンジオール−ビ
ス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレン
ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート］、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル
−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ｐ−クレゾール
とジシクロペンタジエンのブチル化反応生成物、２，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−
ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノン、紫外線吸収剤である
１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−ブタン、光安定剤である１−［２−｛３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ｝エチル］−４−｛３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
等より選ばれた少なくとも１種又は２種以上のものが好
適なものとして挙げられる。

【００２４】「亜リン酸エステル系化合物」としては、
ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト等より
選ばれた少なくとも１種又は２種以上のものが好適なも
のとして挙げられる。

【００２５】「リン酸エステル系化合物」としては、２
−エチルへキシルジフェニルホスフェート、トリクレジ
ルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジ
ルジフェニルホスフェート、クレジルジ２，６キシレニ
ルホスフェート等より選ばれた少なくとも１種又は２種
以上のものが好適なものとして挙げられる。

【００２６】また、「含窒素塩基性化合物」としては、
グアニジン系加硫促進剤であるＮ，Ｎ’−ジフェニルグ
アニジン、スルフェンアミド系加硫促進剤であるＮ−シ
クロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、
ヒンダードアミン系光安定剤であるテトラキス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，
３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’
−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ［５．５］ウンデカン）ジエタノールとの
縮合物、ベータ−アラニン，Ｎ−（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジニル）−ドデシルエステル及
びテトラデシルエステル混合物、３−ドデシル−１−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）
ピロリジン−２，５−ジオン、Ｎ−アセチル−３−ドデ
シル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジニル）ピロリジン−２，５−ジオン、イソシアヌレ
ート系難燃剤であるトリス（２，３−ジブロモプロピ
ル）イソシアヌレート等、シアノアクリレート系の紫外
線吸収剤であるエチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェ
ニルアクリレート、オクチル−２−シアノ−３，３−ジ
−フェニルアクリレート、８−アセチル−３−ドデシル
−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリア
ザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン等より選ば
れた少なくとも１種又は２種以上のものが好適なものと
して挙げられる。

【００２７】更にまた、ベースポリマーには必要に応じ
て、以下に掲げる種々の材料を添加することができる。
その材料としては、まず、硬度、強度或いは加工性の向
上、若しくは重量化等を図る場合に添加する充填剤が挙
げられる。その充填剤としては、マイカ、タルク、クレ
ー或いは炭酸カルシウム等の無機微粉末、若しくはセル
ロース粉末等の有機微粉末等が好適なものとして挙げら
れる。

【００２８】また、ベースポリマーに添加できる別の材
料としては、ｔａｎδピーク温度の広域化を図る場合に
添加する非結晶性樹脂が挙げられる。その非結晶性樹脂
としてはクマロン樹脂、フェノール樹脂、ケトン樹脂、
ジシクロペンタジエン樹脂、マレイン酸樹脂、エステル
化ロジン、エポキシ樹脂、尿素樹脂或いはメラミン樹脂
等が好適なものとして挙げられる。

【００２９】更に、ベースポリマーに添加できる別の材
料としては、着色剤（顔料、染料）、光沢剤、老化防止
剤、粘着付与剤、難燃剤、発泡剤、発砲助剤、加工助
剤、オゾン劣化防止剤、ブロッキング防止剤、耐候剤、
耐熱剤、架橋剤、架橋助剤、加硫剤、分散剤、相溶化
剤、界面活性剤、帯電防止剤或いは滑剤等が好適なもの
として挙げられる。

【００３０】上記構成を有する高減衰材料組成物とし
て、塩基性の極性側鎖を有する塩基性ポリマーをベース
ポリマーが、減衰性付与剤であるヒンダードフェノール
系化合物、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エステル
系化合物及び含窒素塩基性化合物より選ばれた少なくと
も１種又は２種以上の化合物を含有しているものである
ことから、ベースポリマーの側鎖と減衰性付与剤の相互
作用が均一化し、またその力が適切なものとなる。その
ため、高いｔａｎδが発現され、そのｔａｎδピークが
室温近くにあり、しかも経時変化の少ない高減衰材料が
提供できる。したがって、本発明に係る高減衰材料組成
物によれば、室温付近で長期間にわたり、振動や騒音が
大幅に吸収できるものとなる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を詳細に説
明する。まず、本発明の各実施例は種々の材料組成で作
製したので、これについて説明する。なお、以下の説明
において「ｐｈｒ」とは、「ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｈｕ
ｎｄｒｅｄ ｒｅｓｉｎ」の略で、ベースポリマー１０
０重量部に対する配合成分（減衰性付与剤）の重量部を
意味するものである。

【００３２】初めに表１〜３は、ベースポリマーとして
アクリルゴムを用い、これに減衰性付与剤としてヒンダ
ードフェノール系化合物を配合した本発明品（実施例１
〜１４）及び比較品として用いたアクリルゴム単独品及
び塩素化ポリエチレンの材料組成、ｔａｎδの測定結果
（成形直後のｔａｎδピーク値、１ヶ月後のｔａｎδピ
ーク値及びピーク温度）及び材料の表面状態とを対比し
て示したものである。採用した減衰性付与剤にはいずれ
も、その分子中に少なくとも１個以上のヒンダードフェ
ノール基を有しているものである。

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】

【表３】

【００３６】本発明品（実施例１〜１４）は、ベースポ
リマーとしてアクリルゴム（日本ゼオン（株）製：商品
名「ニポールＡＲ５１」）に、減衰性付与剤としてヒン
ダードフェノール系化合物を配合成分とし、所定の工程
により作製されたものである。

【００３７】本発明品（実施例１〜１４）は減衰性付与
剤としてヒンダードフェノール系化合物を配合成分とし
ている。すなわち、実施例１は、トリス−（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌ
レート（旭電化工業（株）製：商品名「アデカスタブＡ
Ｏ−２０」：この構造式を化４に示す。）を、実施例２
は、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン（旭電化工業
（株）製：商品名「アデカスタブＡＯ−３０」：化５）
を、実施例３は、４，４’−ブチリデンビス（３−メチ
ル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（旭電化工業
（株）製：商品名「アデカスタブＡＯ−４０」：化６）
を、実施例４は、ペンタエリスリチル−テトラキス［３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］（旭電化工業（株）製：商品名
「アデカスタブＡＯ−６０」：化７）を、実施例５は、
トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル
−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］（旭電化工業（株）製：商品名「アデカスタブＡＯ
−７０」：化８）を、実施例６は、３，９−ビス［１，
１−ジメチル−２−［（３−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチ
ル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．
５］ウンデカン（旭電化工業（株）製：商品名「アデカ
スタブＡＯ−８０」：化９）をそれぞれ配合成分として
いる。

【００３８】そして、実施例７は、１，６−ヘキサンジ
オール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］（チバガイギー
（株）製：商品名「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」：化１０）
を、実施例８は、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］（チバガイギー（株）製：商品名「Ｉ
ＲＧＡＮＯＸ１０３５ＦＦ」：化１１）を、実施例９
は、ｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンのブチル化
反応生成物（大内化学工業（株）製：商品名「ノクラッ
クＰＢＫ」：化１２）を、実施例１０は、２，５−ジ−
ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノン（大内化学工業（株）
製：商品名「ノクラックＤＡＨ」：化１３）を、実施例
１１は、１−［２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチ
ル］−４−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン（三共化学（株）製：商品
名「サノールＬＳ−２６２６」：化１４）を、実施例１
２は、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−
テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］
デカン−２，４−ジオン（三共化学（株）製：商品名
「サノールＬＳ−４４０」：化１５）を、実施例１３
は、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内化学工業（株）製：商品
名「ノクラックＮＳ−５」：化１６）を、実施例１４
は、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内化学工業（株）製：商品
名「ノクラックＮＳ−６」：化１７）をそれぞれ配合成
分としている。

【００３９】

【化４】

【００４０】

【化５】

【００４１】

【化６】

【００４２】

【化７】

【００４３】

【化８】

【００４４】

【化９】

【００４５】

【化１０】

【００４６】

【化１１】

【００４７】

【化１２】

【００４８】

【化１３】

【００４９】

【化１４】

【００５０】

【化１５】

【００５１】

【化１６】

【００５２】

【化１７】

【００５３】これら実施例を評価するための比較品の組
成は、比較例１がアクリルゴム単独品（日本ゼオン
（株）製：商品名「ニポールＡＲ５１」）であり、比較
例２が上記従来技術で述べたベースポリマーである塩素
化ポリエチレン単独品（昭和電工（株）製：商品名「エ
ラスレン４０１Ａ」）である。

【００５４】次に、本発明品（実施例１〜１４）及び比
較例１及び２の作製工程について説明する。まず、上述
したベースポリマー（アクリルゴム）１００ｐｈｒに、
各実施例の配合成分である減衰性付与剤を５０ｐｈｒず
つ配合する。これを、室温で約１５〜２０分程度、２本
ロールで混練する。次に、この混練材料を、熱プレス機
により所定の型枠内で、減衰性付与剤の融点より２０℃
以上高い温度で、１０分程度溶融プレス成形する。そし
て更に、０℃の温度条件下、これに１３０ｋｇｆ／ｃｍ
^２の面圧を掛けて冷却プレス成形し、これを２ｍｍシー
トとする。

【００５５】次に、本発明品（実施例１〜１４）及び比
較例１のｔａｎδピーク値及びそのピーク温度を測定し
た。この測定には、株式会社レオロジ社製のスペクトロ
メータを用い、その測定条件を、歪が０．０５％（一
定）、周波数が１００Ｈｚ（一定）とした。

【００５６】以下、実施例１〜６の測定結果について説
明する。表１に示したように、実施例１は比較例１とほ
ぼ同じ値のｔａｎδを発現し、その１ヶ月後のｔａｎδ
保持率が９５％と極めて優秀な値を示した。実施例２〜
１４のｔａｎδピーク値は、比較品のｔａｎδピーク値
より高く、要求特性（ｔａｎδ≧２．５）を遥かに超え
ている。特に、実施例６は、ｔａｎδピーク値が２．５
を超えるだけでなく、そのｔａｎδ保持率が１０４％と
極めて優秀な結果を示した。

【００５７】更にまた、これらは、ピーク温度について
述べると、実施例５、７、８、１２は室温付近（２０℃
前後）にあるため、常温での使用環境に適したものとい
え、極めて優れた値といえる。その他の実施例は室温よ
りやや高いピーク温度を示し、比較的良い値といえる。
材料の表面状態に関しては、全て良好である。

【００５８】以上のことから、それぞれの実施例１〜６
について、極めて良好なものを（◎印）、良好なものを
（○印）、一応の成果を得られたものを（△印）、不良
なものを（×印）の４段階に分けて、比較例１に対して
評価したところ、実施例１は、比較的ｔａｎδが高く、
ｔａｎδ保持率が極めて高いことから、極めて良好（◎
印）と評価された。実施例２、３、５、６は、ｔａｎδ
が非常に高かったことから極めて良好（◎印）と評価さ
れ、実施例４は、ｔａｎδが比較的高かったがｔａｎδ
保持率が若干低い（９０％）ことから、良好（○印）と
評価された。これらの結果は従来品である比較例２に対
しても良好な結果であることはいうまでもなく明らかで
ある。

【００５９】同様に、実施例７〜１４について評価す
る。これらの結果は表２に示した通りであるが、実施例
７〜１４のｔａｎδは全て比較例１のｔａｎδを超える
ばかりでなく、要求特性（ｔａｎδ≧２．５）をも遥か
に超え、極めて優秀な結果を示している。その中でも実
施例７及び８は、そのピーク温度が室温付近にあること
から、常温での使用環境に適したものとなっている。

【００６０】これら、実施例７〜１４についても、実施
例１〜６と同様に４段階で比較例１に対して評価する。
材料の表面状態は全て良好で、そのｔａｎδの高さから
実施例７〜１１は極めて良好（◎印）と評価され、実施
例１２はｔａｎδの値が若干低い（２．６）ので良好
（○印）と評価した。また、実施例１３及び１４は極め
て良好（◎印）と評価された。これらを比較例２に対し
て評価した場合についても良好であることは、いうまで
もなく明らかである。

【００６１】次に表４は、ベースポリマーとしてアクリ
ルゴムを用い、減衰性付与剤として亜リン酸エステル系
化合物を配合した本発明品（実施例１５〜１９）の材料
組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。ベー
スポリマーとしては、アクリルゴム（日本ゼオン（株）
製：商品名「ニポールＡＲ５１」）を用いている。

【００６２】

【表４】

【００６３】そして、亜リン酸エステル系化合物の減衰
性付与剤として、実施例１５が、ジ（ノニルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト（旭電化工業
（株）製：商品名「アデカスタブＰＥＰ−４Ｃ」：化１
８）を、実施例１６が、ビス（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（旭電化
工業（株）製：商品名「アデカスタブＰＥＰ−２４
Ｇ」：化１９）を、実施例１７が、ヘキサ（トリデシ
ル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト
（旭電化工業（株）製：商品名「アデカスタブ５２２
Ａ」：化２０）をそれぞれ配合成分としている。配合量
としては、ベースポリマー１００ｐｈｒに対して減衰性
付与剤を５０ｐｈｒとしている。

【００６４】

【化１８】

【００６５】

【化１９】

【００６６】

【化２０】

【００６７】また実施例１８及び実施例１９は、実施例
１６と同じ減衰性付与剤を配合し、その配合量を変えた
ものである。実施例１８は、ベースポリマー１００ｐｈ
ｒに対して減衰性付与剤を少なめの３０ｐｈｒとし、実
施例１９は多めの７０ｐｈｒとしている。

【００６８】表４に示したように、実施例１５〜１７の
ｔａｎδピーク値は、比較品のｔａｎδピーク値より高
くなっており、要求特性（ｔａｎδ≧２．５）をも上回
っている。更に、ピーク温度に関して、実施例１６がや
や高めになったものの室温付近にあり、大変優れたもの
であることが分かる。これら実施例１５〜１７につい
て、温度変化に伴うｔａｎδの推移を図１に示した。こ
のグラフから、実施例１５〜１７が比較例１よりも高い
ピーク値を示していることが分かる。したがって、表１
に示したサンプルと同様に４段階で比較例１に対して評
価したところ、実施例１５〜１７は極めて良好（◎印）
と評価された。

【００６９】また実施例１８及び１９については、実施
例１６と比較して減衰性付与剤の配合量に伴うｔａｎδ
の温度推移を調べた結果を図２に示した。また、ヤング
率の温度変化についても調べ、その結果を図３に示し
た。

【００７０】図２をみて分かる通り、配合量を増やす
（実施例１９）とｔａｎδの値が高くなるが、ピーク温
度が高温側にシフトする。そして、配合量を少なめ（実
施例１８）にすると、ｔａｎδが極僅か小さくなるが、
ピーク温度が室温に一層近くなることが分かる。ｔａｎ
δは、ｌｏｇＥ’の傾きが急である程、高い値を発現す
るが、図３のグラフから減衰性付与剤の配合量が増える
程、その傾きが急になることが分かる。更に、配合量が
増える程、ピーク温度は高めにシフトすることも分か
る。つまり、配合量を調節することによって、使用環境
に応じたピーク温度を有し、高いｔａｎδを発現する組
成を提供できるようになる。

【００７１】上記実施例１８及び１９についても、実施
例１〜１４と同様に４段階で評価すると、実施例１８は
要求特性（ｔａｎδ≧２．５）を超えるｔａｎδを示
し、そのピーク温度が室温付近にあることから極めて良
好（◎印）と評価され、実施例１９はピーク温度が若干
室温より高めだが、こちらも要求特性（ｔａｎδ≧２．
５）を超えるｔａｎδを示していることから極めて良好
（◎印）と評価された。

【００７２】次に、表５は、ベースポリマーとしてエチ
レン−メチルアクリレート共重合体（デュポン（株）
製：商品名「ＶＡＭＡＣ ＤＬＳ」）を用い、これに減
衰性付与剤の亜リン酸エステル系化合物であるアデカス
タブＰＥＰ−２４Ｇを配合した実施例２０と、ベースポ
リマーとしてポリ酢酸ビニル（電気化学工業（株）製：
商品名「サクノールＳＮ−１０」）を用い、これに減衰
性付与剤の亜リン酸エステル系化合物であるアデカスタ
ブＰＥＰ−２４Ｇを配合した実施例２１を示している。

【００７３】

【表５】

【００７４】そして、これらの比較品として、上記「Ｖ
ＡＭＡＣ ＤＬＳ」単独品である比較例３及び「サクノ
ールＳＮ−１０」単独品である比較例４を作製した。実
施例２０及び２１、並びに比較例３及び４の作製方法、
ｔａｎδ測定方法は、実施例１〜１２と同様である。

【００７５】表５の結果について、実施例２０を比較例
３に対して、実施例２１を比較例４に対して４段階で評
価すると、実施例２０はｔａｎδが要求特性（ｔａｎδ
≧２．５）をほぼ満たし、ピーク温度が室温付近（２０
℃前後）にあることから、極めて良好（◎印）と評価さ
れ、実施例２１は、ピーク温度がやや高めになったもの
の、ｔａｎδが３．３５と非常に高いことから、極めて
良好（◎印）と評価された。

【００７６】次に、表６は、ベースポリマーとしてアク
リルゴム（日本ゼオン（株）製：商品名「ニポールＡＲ
５１」）を用い、これに各種の含窒素塩基性化合物を減
衰性付与剤をして配合した本発明品（実施例２２〜２
６）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したもので
ある。

【００７７】

【表６】

【００７８】減衰性付与剤として、実施例２２は、グア
ニジン系加硫促進剤であるＮ，Ｎ’−ジフェニルグアニ
ジン（三新化学工業（株）製：「サンセラーＤ−Ｇ」：
化２１）を、実施例２３は、グアニジン系加硫促進剤で
あるＮ，Ｎ’−ジ−Ｏ−トリルグアニジン（三新化学工
業（株）製：「サンセラーＤＴ」：化２２）を、実施例
２４は、スルフェンアミド系加硫促進剤であるＮ−シク
ロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三
新化学工業（株）製：「サンセラーＣＭ」：化２３）
を、実施例２５は、ヒンダードアミン系光安定剤である
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレ
ート（旭電化工業（株）製：「アデカスタブＬＡ−５
７」：化２４）を、実施例２６は、イソシアヌレート系
難燃剤であるトリス（２，３−ジブロモプロピル）イソ
シアヌレート（日本化成（株）製：「ＴＡＩＣ−６
Ｂ」：化２５）をそれぞれベースポリマー１００ｐｈｒ
に対して５０ｐｈｒ配合している。

【００７９】

【化２１】

【００８０】

【化２２】

【００８１】

【化２３】

【００８２】

【化２４】

【００８３】

【化２５】

【００８４】その結果を表６に示すが、これら実施例２
２〜２６は、全てピーク温度が室温付近にあり、ｔａｎ
δピーク値も要求特性（ｔａｎδ≧２．５）を超えてお
り、優れた結果を示している。よって、実施例２２〜２
６は、全て極めて良好（◎印）と評価された。

【００８５】また、表７は、ベースポリマーとしてエチ
レン−メチルアクリレート共重合体である「ＶＡＭＡＣ
ＤＬＳ」を用い、これに含窒素塩基性化合物である
「ＴＡＩＣ−６Ｂ」を配合した実施例２７と、ベースポ
リマーとしてポリ酢酸ビニルである「サクノールＳＮ−
１０」を用い、これに含窒素塩基性化合物である「ＴＡ
ＩＣ−６Ｂ」を配合した実施例２８を示している。いず
れもベースポリマー１００ｐｈｒに対して減衰性付与剤
５０ｐｈｒとしている。

【００８６】

【表７】

【００８７】そして、比較品として、「ＶＡＭＡＣ Ｄ
ＬＳ」単独品である比較例３及び「サクノールＳＮ−１
０」単独品である比較例４を示した。実施例２７及び２
８の作製方法、ｔａｎδ測定方法は、実施例１〜１４と
同様である。

【００８８】表７の結果について、実施例２７を比較例
３に対して、実施例２８を比較例４に対して４段階で評
価すると、実施例２７はｔａｎδが要求特性（ｔａｎδ
≧２．５）をほぼ満たし、ピーク温度が室温付近（２０
℃前後）にあることから、極めて良好（◎印）と評価さ
れ、実施例２８は、ピーク温度がやや高めになったもの
の、ｔａｎδが３．３と非常に高いことから、極めて良
好（◎印）と評価された。

【００８９】上述の実施例１〜２８は、１種類の減衰性
付与剤を配合したものであり、それぞれ優れた結果を示
したが、次に、更なる高機能化を図るために２種以上の
減衰性付与剤を配合して作製した実施例２９〜５０につ
いて述べる。

【００９０】表８に示した本発明品（実施例２９〜３
５）は、ベースポリマーであるアクリルゴム（日本ゼオ
ン（株）製：商品名「ニポールＡＲ５１」）に、減衰性
付与剤として２種以上のヒンダードフェノール系化合物
を配合し、所定の工程により作製されたものである。

【００９１】

【表８】

【００９２】実施例２９は、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５Ｆ
Ｆを２０ｐｈｒ及びアデカスタブＡＯ−８０を３０ｐｈ
ｒ、実施例３０は、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５ＦＦを１５
ｐｈｒ及びアデカスタブＡＯ−８０を３５ｐｈｒ、実施
例３１は、アデカスタブＡＯ−４０を２５ｐｈｒ及び
４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノール）（大内化学工業（株）製：商品名「ノク
ラック３００」：化２６）を２５ｐｈｒ、実施例３２
は、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５ＦＦを３５ｐｈｒ及びアデ
カスタブＡＯ−７０を１５ｐｈｒ、実施例３３は、ＩＲ
ＧＡＮＯＸ２５９を２５ｐｈｒ及びＩＲＧＡＮＯＸ１０
３５ＦＦを２５ｐｈｒ、実施例３４は、ＩＲＧＡＮＯＸ
１０３５ＦＦを４０ｐｈｒ及びノクラックＰＢＫを１１
ｐｈｒ、実施例３５は、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９を３５ｐ
ｈｒ及びアデカスタブＡＯ−７０を１５ｐｈｒ、それぞ
れ配合している。

【００９３】

【化２６】

【００９４】次に、表８に示した測定結果について評価
すると、実施例２９〜３５は、全てｔａｎδの要求特性
（ｔａｎδ≧２．５）を超えている。ｔａｎδ保持率に
ついては、実施例２９〜３４は９５％前後より高い値を
示しており、極めて保持率の高いものといえる。特にそ
の中でも、実施例２９の保持率は１１３％となってお
り、成形直後のｔａｎδを遥かに超えた値を示し、良好
な結果であるといえる。また、実施例３５は７８％と若
干低い値となったが、それでも比較的高い値を示した。

【００９５】そして、ピーク温度については、実施例３
１が４２℃と室温よりやや高めとなったものの、その他
のものは室温付近にピーク温度を示し、これらについて
も良好な結果を示しているといえる。また、表面状態に
ついても全て良好となった。以上のことから、実施例２
９〜３４は極めて良好（◎印）と評価され、実施例３５
は良好（○印）と評価された。

【００９６】次に、表９及び１０は、ベースポリマーと
してアクリルゴム（日本ゼオン（株）製：商品名「ニポ
ールＡＲ５１」）を用い、これに減衰性付与剤として、
ヒンダードフェノール系化合物及び含窒素塩基性化合物
をそれぞれ１種類、計２種類を配合成分とし、所定の工
程により作製された本発明品（実施例３６〜４８）の材
料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。

【００９７】

【表９】

【００９８】

【表１０】

【００９９】実施例３６は、ヒンダードフェノール系の
アデカスタブＡＯ−８０を４０ｐｈｒ及び含窒素塩基性
化合物である１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸
と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール
とβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカ
ン）ジエタノールとの縮合物（旭電化工業（株）製：商
品名「アデカスタブＬＡ−６３Ｐ」：化２７）を７ｐｈ
ｒ、実施例３７は、アデカスタブＡＯ−８０を４０ｐｈ
ｒ及び含窒素塩基性化合物である３−ドデシル−１−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）
ピロリジン−２，５−ジオン（クラリアントジャパン
（株）製：商品名「Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５５」：化２
８）を１０ｐｈｒ、実施例３８は、アデカスタブＡＯ−
８０を４０ｐｈｒ及び含窒素塩基性化合物であるベータ
−アラニン，Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジニル）−ドデシルエステル及びテトラデシル
エステル混合物（クラリアントジャパン（株）製：商品
名「Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５２」：化２９）を１０ｐｈ
ｒ、実施例３９は、アデカスタブＡＯ−８０を４０ｐｈ
ｒ及び含窒素塩基性化合物であるＮ−アセチル−３−ド
デシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジニル）ピロリジン−２，５−ジオン（クラリアン
トジャパン（株）製：商品名「Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５
８」：化３０）を１０ｐｈｒ、実施例４０は、アデカス
タブＡＯ−８０を４０ｐｈｒ及び含窒素塩基性化合物で
あるＮ，Ｎ’−ジフェニルグアニジン（ＢＡＳＦ（株）
製：商品名「Ｄ」：化３１）を１０ｐｈｒ、実施例４１
は、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５ＦＦを４０ｐｈｒ及び含窒
素塩基性化合物であるポリエチレンイミン（ＢＡＳＦ
（株）製：商品名「Ｇ３５」：化３２）を１０ｐｈｒ、
それぞれ配合成分としている。

【０１００】

【化２７】

【０１０１】

【化２８】

【０１０２】

【化２９】

【０１０３】

【化３０】

【０１０４】

【化３１】

【０１０５】

【化３２】

【０１０６】また、実施例４２は、ヒンダードフェノー
ル系のアデカスタブＡＯ−８０を４０ｐｈｒ及び含窒素
塩基性化合物であるエチル−２−シアノ−３，３−ジ−
フェニルアクリレート（住友化学（株）製：商品名「Ｖ
ｉｏｓｏｒｂ９１０」：化３３）を１０ｐｈｒ、実施例
４３は、アデカスタブＡＯ−６０を４０ｐｈｒ及び含窒
素塩基性化合物であるオクチル−２−シアノ−３，３−
ジ−フェニルアクリレート（住友化学（株）製：商品名
「Ｖｉｏｓｏｒｂ９３０」：化３４）を１０ｐｈｒ、実
施例４４は、アデカスタブＡＯ−６０を５０ｐｈｒ及び
含窒素塩基性化合物であるＶｉｏｓｏｒｂ９３０を１０
ｐｈｒ、実施例４５は、アデカスタブＡＯ−６０を５０
ｐｈｒ及びＶｉｏｓｏｒｂ９１０を１０ｐｈｒ、実施例
４６は、アデカスタブＡＯ−４０を４０ｐｈｒ及び含窒
素塩基性化合物であるＳａｎｄｕｖｏｒ３０５５を１０
ｐｈｒ、実施例４７は、アデカスタブＡＯ−４０を２５
ｐｈｒ及び含窒素塩基性化合物であるＳａｎｄｕｖｏｒ
３０３９（クラリアントジャパン（株）製：化３５）を
２５ｐｈｒ、実施例４８は、ヒンダードフェノール系の
ＩＲＧＡＮＯＸ２５９を４０ｐｈｒ及び含窒素塩基性化
合物であるＧ３５を１０ｐｈｒ、それぞれ配合成分とし
ている。

【０１０７】

【化３３】

【０１０８】

【化３４】

【０１０９】

【化３５】

【０１１０】表９及び１０に示した実施例３６〜４８の
結果について評価すると、まず、成形直後のｔａｎδに
ついては、実施例３６〜４８の全てがｔａｎδの要求特
性（ｔａｎδ≧２．５）を超え、優れた結果を示してい
る。そのｔａｎδ保持率についてみてみると、実施例３
６、３７、３８、３９、４１、４２、４３及び４４は９
５％を超え、非常に優れた結果を示している。また、実
施例４０、４５、４６、４７及び４８は９０％を下回っ
たとはいえ、アクリルゴムに含窒素塩基性化合物のみを
配合した場合に比べると遥かに高い値を示し、優れた結
果であるといえる。

【０１１１】また、ピーク温度については、実施例４
１、４７、４８が２０℃前後と室温環境での使用に最適
なピーク温度を示し、非常に優れたものであるといえ
る。それ以外のものについては、３０℃前後と室温より
やや高めの値を示したが、室温環境での使用に影響が出
るほどではないので、優れたものであるといえる。ま
た、表面状態については、実施例３６〜４８全て良好と
なった。

【０１１２】以上の結果から、実施例３６〜３９は極め
て良好（◎印）、実施例４０は良好（○印）、実施例４
１〜４４は極めて良好（◎印）、実施例４５〜４８は良
好（○印）と評価された。

【０１１３】次に、表１１はベースポリマーとしてアク
リルゴムを用い、これにヒンダードフェノール系化合物
とリン酸エステル系化合物の２種類の減衰性付与剤を配
合した本発明品（実施例４９及び５０）とリン酸エステ
ル系化合物１種類の減衰性付与剤を配合した本発明品
（実施例５１）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示
したものである。

【０１１４】

【表１１】

【０１１５】実施例４９は、ベースポリマーであるアク
リルゴム（日本ゼオン（株）製：商品名「ニポールＡＲ
５１」）に、減衰性付与剤としてヒンダードフェノール
系化合物であるアデカスタブＡＯ−６０を４０ｐｈｒ、
及びリン酸エステル系化合物であるリン酸トリフェニル
（大八化学工業（株）製：商品名「ＴＰＰ」：化３６）
を１０ｐｈｒ配合し、調整したものである。また、実施
例５０は同じベースポリマーに減衰性付与剤としてヒン
ダードフェノール系化合物であるアデカスタブＡＯ−８
０を４０ｐｈｒ、及びリン酸エステル系化合物であるＴ
ＰＰを１０ｐｈｒ配合し、調整したものである。更に、
実施例５１は、減衰性付与剤としてリン酸エステル系化
合物であるＴＰＰを同じベースポリマーに５０ｐｈｒ配
合し、ヒンダードフェノール系減衰性付与剤を配合する
ことなく調整したものである。

【０１１６】

【化３６】

【０１１７】ここで、表１１に示した実施例４９乃至５
１の結果について、ベースポリマーであるアクリルゴム
単独品である比較例１との比較において評価すると、ヒ
ンダードフェノール系とリン酸エステル系の２種類の減
衰性付与剤を配合した実施例４９及び５０は、ともにｔ
ａｎδの値が要求特性（ｔａｎδ≧２．５）を超えてお
り良好な結果を示している。また、そのｔａｎδ保持率
についても実施例４９は１００％となっており、その値
に全く変動がなく、実施例５０は９６％となっており、
成形直後の値を十分維持できている。ピーク温度につい
て、実施例４９が２８℃、実施例５０が２６℃と、とも
に２０℃台にピーク値を示すことから室温環境の使用に
適したものであるといえる。また、表面状態は全て良好
となった。

【０１１８】また、リン酸エステル系化合物のみ減衰性
付与剤として配合した実施例５１もｔａｎδの値が要求
特性（ｔａｎδ≧２．５）を超えており良好な結果を示
している。そして、そのｔａｎδ保持率については９８
％となっており、成形直後の値を十分維持できている。
また、ピーク温度については０℃となっており、室温よ
り低めの温度環境での使用に適したものとなった。以上
の結果から、実施例４９、５０及び５１は全て極めて良
好（◎印）と評価される。

【０１１９】上述した通り、表８〜１１に示した実施例
２９〜５０は、２種以上の減衰性付与剤を配合した高減
衰材料組成物であるが、これらは高いｔａｎδ示すこと
は勿論のこと、多成分系にすることで減衰性付与剤の結
晶化を抑制できることから、経時変化によるｔａｎδの
減少の抑制に著しい効果が得られる。また、表１１に記
載の実施例４９乃至実施例５１をみて分かる通り、結晶
化の抑制だけでなく、ピーク温度の調整にも効果を発揮
することが分かる。

【０１２０】以上、本発明の各実施例を順に説明した
が、要するに、本発明に係る高減衰材料組成物は、塩基
性の極性側鎖を有する塩基性ポリマーをベースポリマー
とし、該塩基性ポリマーがヒンダードフェノール系化合
物、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エステル系化合
物及び含窒素塩基性化合物より選ばれた１種又は２種以
上の減衰性付与剤を含有するようにしたことにより、ベ
ースポリマーと減衰性付与剤との相互作用が均一で、か
つ適切なものとなり、高いｔａｎδが発現されると同時
に、経時変化が小さく、また室温付近にピーク値を有す
るものが得られる。

【０１２１】本発明は、上記した実施例に何等限定され
るものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々
の改変が可能である。例えば、ベースポリマーとして
は、本発明で用いたアクリルゴム以外に、塩基性の極性
側鎖を有する塩基性ポリマーであれば、その他のアクリ
ル系、メタクリル系、エチレン・アクリル系共重合体、
ポリ酢酸ビニル及びその共重合体のポリマーも適用する
ことができる。

【０１２２】また、減衰性付与剤も、ヒンダードフェノ
ール系化合物、リン酸エステル系化合物、亜リン酸エス
テル系化合物、含窒素塩基性化合物であれば、上記実施
例に示した組成や構造式のもの以外のものも使用できる
ことは、その官能基等の共通性をみれば容易に判断でき
るはずである。

【０１２３】また、ベースポリマーには、上述したよう
な充填剤、着色剤等或いは非結晶性樹脂等を必要に応じ
て添加することができ、これらを添加することによって
様々な機能向上を図ることができる。

【０１２４】

【発明の効果】本発明に係る高減衰材料組成物によれ
ば、塩基性の極性側鎖を有する塩基性ポリマーがヒンダ
ードフェノール系化合物、リン酸エステル系化合物、亜
リン酸エステル系化合物及び含窒素塩基性化合物より選
ばれた減衰性付与剤を含有するようにしたことにより、
ベースポリマーの側鎖と減衰性付与剤との相互作用が、
均一かつ適切なものとすることができ、これにより高い
ｔａｎδが発現され、しかも経時変化によるｔａｎδの
低下を抑制することができる。また、室温での使用環境
に適した高減衰材料組成物も得られることになる。

【０１２５】更に、２種以上の減衰性付与剤を配合した
場合には、配合成分が多成分系となることから、減衰性
付与剤の結晶化を更に抑制することができ、経時変化に
よるｔａｎδの低下の抑制に一層の効果を発揮できるよ
うになる。

【０１２６】また更に、１種類の減衰性付与剤を配合し
たものにおいても、その配合量を増減させることによ
り、ｔａｎδのピーク温度を高温側或いは低温側にシフ
トさせることができるので、目的の使用環境に合わせて
材料設計ができるようになる。

【０１２７】更に、上述した２種以上の減衰性付与剤を
配合させる場合において、高価な化合物を用いるとき
は、安価な化合物をも配合させることによって、高価な
化合物の配合量を減らしても、高いｔａｎδを発現し、
しかも経時変化が少ない材料を作製できるので、優れた
材料を廉価に提供することができるようになる。

【０１２８】したがって、本発明に係る高減衰材料組成
物は、音響ルームの遮音壁、建築構造体の遮音間仕切
り、車両の防音壁等、幅広い分野に適用することができ
るため、産業上極めて有益なものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例であるアクリルゴム系ベース
ポリマーに各種亜リン酸エステル系化合物の減衰性付与
剤を配合した高減衰性組成物のｔａｎδと温度の関係を
示した図である。

【図２】本発明の実施例１６、１８及び１９について減
衰性付与剤の配合量を変えたときの変化を示した図であ
る。

【図３】本発明の実施例１６、１８及び１９について同
じくヤング率の変化を示した図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ１６Ｆ 15/08 Ｆ１６Ｆ 15/08 Ｄ (72)発明者 呉 馳飛 愛知県小牧市大字北外山字哥津3600番地 東海ゴム工業株式会社内 (72)発明者 橋本 和信 愛知県小牧市大字北外山字哥津3600番地 東海ゴム工業株式会社内 Ｆターム(参考） 3J048 AC03 BD01 BD08 EA36 EA38 4J002 BB071 BF021 BG041 BG051 EE036 EE056 EJ036 EJ046 EJ066 EL126 EN116 ER016 ET006 EU076 EU086 EU196 EU206 EV076 EV276 EW046 EW066 FD010

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩基性の極性側鎖を有する塩基性ポリマ
   ーをベースポリマーとし、該塩基性ポリマーがヒンダー
   ドフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、リ
   ン酸エステル系化合物及び含窒素塩基性化合物より選ば
   れた少なくとも１種又は２種以上の減衰性付与剤を含有
   することを特徴とする高減衰材料組成物。
2. 【請求項２】 前記塩基性ベースポリマーは、アクリル
   系、メタクリル系、エチレン・アクリル系共重合体、ポ
   リ酢酸ビニル及びその共重合体より選ばれた少なくとも
   １種又は２種以上のものであることを特徴とする請求項
   １に記載される高減衰材料組成物。
3. 【請求項３】 前記ヒンダードフェノール系化合物は、
   トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
   ンジル）−イソシアヌレート、１，１，３−トリス（５
   −ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
   ニル）ブタン、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル
   −６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリスリ
   チル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
   −ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレ
   ングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチ
   ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，
   ９−ビス［１，１−ジメチル−２−［（３−第三ブチル
   −４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニル
   オキシ］エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサス
   ピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５−トリメチル−
   ２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
   −４−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、１，６−ヘキ
   サンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
   ４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−
   チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
   −４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，
   ２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチ
   ルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル
   −６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ
   ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
   ル）、ｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンのブチル
   化反応生成物、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロ
   キノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノ
   ン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフ
   ェノキシ）−ブタン、１−［２−｛３−（３，５−ジ−
   ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオ
   キシ｝エチル］−４−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
   −４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝−
   ２，２，６，６−テトラメチルピペリジンより選ばれた
   少なくとも１種又は２種以上の材料であることを特徴と
   する請求項１又は２に記載される高減衰材料組成物。
4. 【請求項４】 前記亜リン酸エステル系化合物は、ジ
   （ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
   ト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリ
   スリトールジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−
   １，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
   −第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイトより選
   ばれた少なくとも１種又は２種以上の材料であることを
   特徴とする請求項１又は２に記載の高減衰材料組成物。
5. 【請求項５】 前記リン酸エステル系化合物は、２−エ
   チルへキシルジフェニルホスフェート、トリクレジルホ
   スフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジ
   フェニルホスフェート、クレジルジ２，６キシレニルホ
   スフェートより選ばれた少なくとも１種又は２種以上の
   材料であることを特徴とする請求項１又は２に記載の高
   減衰材料組成物。
6. 【請求項６】 前記含窒素塩基性化合物は、グアニジン
   系のＮ，Ｎ’−ジフェニルグアニジン、スルフェンアミ
   ド系のＮ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフ
   ェンアミド、ヒンダードアミン系のテトラキス（２，
   ２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，
   ２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，
   ３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テ
   トラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’
   −テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラ
   オキサスピロ［５．５］ウンデカン）ジエタノールとの
   縮合物、ベータ−アラニン，Ｎ−（２，２，６，６−テ
   トラメチル−４−ピペリジニル）−ドデシルエステル及
   びテトラデシルエステル混合物、３−ドデシル−１−
   （２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）
   ピロリジン−２，５−ジオン、Ｎ−アセチル−３−ドデ
   シル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
   リジニル）ピロリジン−２，５−ジオン、イソシアヌレ
   ート系のトリス（２，３−ジブロモプロピル）イソシア
   ヌレート、シアノアクリレート系のエチル−２−シアノ
   −３，３−ジ−フェニルアクリレート、オクチル−２−
   シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、ポリエチ
   レンイミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，
   ９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ
   ［４．５］デカン−２，４−ジオンより選ばれた少なく
   とも１種又は２種以上の材料からなることを特徴とする
   請求項１又は２に記載される高減衰材料組成物。