JP2000006181A - 水添α−オレフィン−ジシクロペンタジエン系共重合体の成形方法およびそれから得られる成形物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 着色が少なく凝固物あるいはシルバーストリ
ークがなく、透明性、成形性等に優れた成形物を得るた
めの水添α−オレフィン−ジシクロペンタジエン共重合
体成形方法を提供する。 【解決手段】 分子量が、濃度０．５ｇ／ｄＬのトルエ
ン溶液中、３０℃で測定した還元粘度η_sp／ｃで０．２
５〜３ｄＬ／ｇの範囲にある水添αーオレフィンージシ
クロペンタジエン系共重合体を、（１）溶融温度が２３
０〜３８０℃、及び（２）金型温度が（Ｔｇ−１００）
〜（Ｔｇ−１０）℃、の条件で成形する、水添αーオレ
フィンージシクロペンタジエン系共重合体の成形方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、水添αーオレフィ
ンージシクロペンタジエン系共重合体の成形方法および
それから得られる成形物に関する。より詳しくは、該樹
脂から着色が少なく凝固物あるいはシルバーストリーク
がなく、透明性、成形性等に優れた成形物を得るための
成形方法、および該成形方法により得られる光ディスク
基板や光学レンズ、光学シート等の光学材料に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク基板、光学レンズ等の光学材
料に用いられるプラスチックには、透明性の他に、光学
等方性（低複屈折性）、寸法安定性、耐候性、熱安定性
等の様々な特性が要求される。従来これらの光学用途に
は、ポリカーボネートあるいはポリメタクリル酸メチル
が主として用いられてきたが、ポリカーボネートは固有
複屈折率が大きく成形物に光学異方性が生じやすいこ
と、またポリメタクリル酸メチルは吸水率が極めて高い
ため寸法安定性に乏しいこと、また耐熱性も低いことが
問題点となっていた。現在の光ディスク基板にはポリカ
ーボネートが専ら用いられているが、近年、光磁気記録
ディスク（ＭＯＤ）の大容量化、あるいはデジタルビデ
オディスク（ＤＶＤ）の開発に代表される記録密度の高
密度化の進展に伴い、かかるポリカーボネートの複屈折
の大きさ、吸湿によるディスクの反りの問題が懸念され
るようになってきている。

【０００３】かかる状況を鑑み、ポリカーボネートの代
替材料として環状オレフィン系重合体の開発が盛んに行
われている。これらの環状オレフィン系樹脂は、複屈折
が小さくかつ耐熱性を有する熱可塑性透明樹脂として、
光ディスク基板以外にも光学レンズ、光学用シート等の
光学材料への応用が期待されている。

【０００４】我々は先に新規な環状オレフィン系共重合
体として、αーオレフィンージシクロペンタジエン系共
重合体の水素添加物を提案した（特願平９−１８４９１
号、特願平９−５１６３８号）。この水添αーオレフィ
ンージシクロペンタジエン系共重合体は化学的均質性に
優れ、安価に製造できるという利点を有する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記水添α
ーオレフィンージシクロペンタジエン系共重合体を用い
た成形方法、特に溶融成形方法に関するものである。着
色が少なく、凝固物やシルバーストリークがなく、透明
性や成形性に優れた光ディスク用基板、光学レンズ、光
学用シート等の光学材料を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、先に提案
した水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共重
合体を溶融成形するにあたり、樹脂の特性ならびに成形
条件をいろいろと検討した結果、ある条件下で溶融成形
を行うことにより、光学材料として良好な成形物が得ら
れることを見出し本発明に到達した。

【０００７】すなわち本発明は、下記の共重合体［Ｘ］
または［Ｙ］で表されるαーオレフィンージシクロペン
タジエン系共重合体の水素添加物を溶融成形する方法で
あって、（１）該水添αーオレフィンージシクロペンタ
ジエン系共重合体の分子量が、濃度０．５ｇ／ｄＬのト
ルエン溶液中、３０℃で測定した還元粘度η_sp／ｃで
０．２５〜３ｄＬ／ｇの範囲にあり、（２）溶融温度が
２３０〜３８０℃であり、（３）金型温度が（Ｔｇ−１
００）〜（Ｔｇ−１０）℃である、（ここで、Ｔｇとは
該水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共重合
体のガラス転移温度を示す）ことを特徴とする水添αー
オレフィンージシクロペンタジエン系共重合体の成形方
法である。

【０００８】共重合体［Ｘ］：０〜３９モル％の下記式
（Ａ）及び６１〜１００モル％の下記式（Ｂ）の繰り返
し単位からなる共重合体。

【０００９】

【化７】

【００１０】［式（Ａ）中、Ｒ¹は水素原子または炭素
数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。］

【００１１】

【化８】

【００１２】［式（Ｂ）中、Ｒ²は水素原子または炭素
数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。］ 共重合体［Ｙ］：下記式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および
（Ｄ）の繰り返し単位から表され、

【００１３】

【化９】

【００１４】［式（Ａ）中、Ｒ¹は水素原子または炭素
数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。］

【００１５】

【化１０】

【００１６】［式（Ｂ）中、Ｒ²は水素原子または炭素
数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。］

【００１７】

【化１１】

【００１８】［式（Ｃ）中、ｎは０または１であり、ｍ
は０または正の整数であり、ｐは０または１であり、Ｒ
³〜Ｒ²²は同一または異なり、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基、または炭素数
１〜１２の飽和あるいは不飽和脂肪族炭化水素基であ
り、また、Ｒ¹⁹とＲ²⁰とで、あるいはＲ²¹とＲ²²とでア
ルキリデン基を形成していてもよく、また、Ｒ¹⁹または
Ｒ²⁰と、Ｒ²¹またはＲ²²とが環を形成していてもよく、
かつ該環が二重結合あるいは芳香環を有していてもよ
い。］

【００１９】

【化１２】

【００２０】［式（Ｄ）中、ｑは２〜８の整数であ
る。］ 式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）で表される繰り
返し単位のモル％を、それぞれ［Ａ］、［Ｂ］、
［Ｃ］、［Ｄ］とすると、その組成比が（［Ａ］＋
［Ｂ］）／（［Ｃ］＋［Ｄ］）＝９５〜９９．９／０．
１〜５、 ［Ａ］／［Ｂ］＝０〜３９／６１〜１００か
つ ［Ｄ］／［Ｃ］＝０〜９５／５〜１００の範囲にあ
る共重合体。

【００２１】かかる成形方法の中でも、上記水添αーオ
レフィンージシクロペンタジエン系共重合体に含まれる
ゲル成分の含有量が１重量％以下であることが好まし
い。

【００２２】また上記水添αーオレフィンージシクロペ
ンタジエン系共重合体に含まれる残留触媒金属の含有量
が１０ｐｐｍ以下であることも好ましい。

【００２３】さらに、水添αーオレフィンージシクロペ
ンタジエン系共重合体に含まれる炭化水素系揮発成分の
含有量が０．１重量％以下であることが好ましい。該炭
化水素系揮発成分の代表例としては、テトラヒドロジシ
クロペンタジエンが挙げられる。

【００２４】また本発明は、上記の成形条件に加えさら
に酸化防止剤として、フェノール系化合物またはりん系
化合物を水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系
共重合体に対し０．０１〜３重量％用いることを特徴と
する成形方法である。

【００２５】本発明は上記成形方法により得られた光デ
ィスク基板を提供する。また、本発明は上記成形方法に
より得られた光学レンズを提供する。さらに、本発明は
上記成形方法により得られた光学用シートを提供する。

【００２６】以下、本発明について詳述する。本発明で
用いる水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共
重合体とは、構造式が下記の［Ｘ］または［Ｙ］で表さ
れる共重合体である。即ち共重合体［Ｘ］とは、０〜３
９モル％の下記式（Ａ）及び６１〜１００モル％の下記
式（Ｂ）で表される繰り返し単位からなるものである。

【００２７】

【化１３】

【００２８】ここで、式（Ａ）中のＲ¹は水素原子また
は炭素数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。飽和
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等の炭素数１〜１６のアルキル基が挙
げられる。

【００２９】

【化１４】

【００３０】ここで、式（Ｂ）中のＲ²は水素原子また
は炭素数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。飽和
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等の炭素数１〜１６のアルキル基が挙
げられる。

【００３１】式（Ａ）で表される繰り返し単位は、全繰
り返し単位中０〜３９モル％、好ましくは１〜３８モル
％、さらに好ましくは５〜３５モル％である。式（Ｂ）
で表される繰り返し単位の割合は、６１〜１００モル
％、好ましくは６２〜９９モル％、さらに好ましくは６
５〜９５モル％である。

【００３２】また共重合体［Ｙ］とは、下記式（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）で表される繰り返し単位か
らなる。

【００３３】

【化１５】

【００３４】ここで、式（Ａ）中のＲ¹は水素原子また
は炭素数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。飽和
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等の炭素数１〜１６のアルキル基が挙
げられる。

【００３５】

【化１６】

【００３６】ここで、式（Ｂ）中のＲ²は水素原子また
は炭素数１〜１６の飽和脂肪族炭化水素基である。飽和
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等の炭素数１〜１６のアルキル基が挙
げられる。

【００３７】

【化１７】

【００３８】式（Ｃ）中、ｎは０または１である。ｍは
０または１〜３の正の整数であり、０または１が好まし
い。ｐは０または１である。Ｒ³〜Ｒ²²は同一または異
なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数６〜１０の芳香
族炭化水素基、または炭素数１〜１２の飽和あるいは不
飽和脂肪族炭化水素基である。炭素数６〜１０の芳香族
炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリ
ール基が挙げられ、これらはメチル基等の炭素数１〜３
のアルキル基で置換されていでもよい。炭素数１〜１２
の飽和脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基
等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等のシクロアルキル基が挙げられる。炭素数１〜１２の
不飽和脂肪族炭化水素基としては、ビニル基、プロペニ
ル基等のアルケニル基等が挙げられる。

【００３９】ここで、Ｒ¹⁹とＲ²⁰とで、あるいはＲ²¹と
Ｒ²²とでメチリデン基、エチリデン基等のアルキリデン
基を形成していてもよく、また、Ｒ¹⁹またはＲ²⁰と、Ｒ
²¹またはＲ²²とが環を形成していてもよく、かつ該環が
二重結合あるいは芳香環を有していてもよい。

【００４０】

【化１８】

【００４１】式（Ｄ）中、ｑは２〜８の整数であり、
２、３、４が好ましい。

【００４２】共重合体［Ｙ］において、式（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）で表される繰り返し単位の
モル％を、それぞれ［Ａ］、［Ｂ］、［Ｃ］、［Ｄ］と
すると、その組成比は以下のようになる。

【００４３】すなわち、（［Ａ］＋［Ｂ］）／（［Ｃ］
＋［Ｄ］）は、９５〜９９．９／０．１〜５、好ましく
は９５〜９８／２〜５である。また、［Ａ］／［Ｂ］は
０〜３９／６１〜１００、好ましくは１〜３８／６２〜
９９である。また［Ｄ］／［Ｃ］は０〜９５／５〜１０
０、好ましくは０〜８０／２０〜１００である。

【００４４】これらの共重合体は、ジシクロペンタジエ
ンとα―オレフィンとを、必要に応じ他の共重合モノマ
ーを添加し、メタロセン触媒を用いて共重合し、得られ
るα―オレフィンージシクロペンタジエン系共重合体を
水素添加触媒を用いて水素添加することにより合成する
ことが出来る。これはメタロセン触媒による重合では、
ジシクロペンタジエン成分の連鎖が生成し難いという現
象を上手く利用することにより得られるものであり、環
状オレフィン成分とαーオレフィン成分との交互共重合
性が高い、すなわち化学的な均質性の高い共重合体であ
ることが特徴であり長所である。さらにはジシクロペン
タジエンという最も安価な環状オレフィンを用いるため
に、極めて低い原料コストで合成することが可能であ
る。

【００４５】用いるαーオレフィンとしては、重合活
性、得られる共重合体の分子量、原料コスト等を勘案す
るとエチレン、プロピレンが好ましく、エチレンが特に
好ましい。すなわち本発明において、最も好ましく用い
られるのは水添エチレンージシクロペンタジエン共重合
体である。

【００４６】本発明において用いる水添αーオレフィン
ージシクロペンタジエン系共重合体の分子量は、目的と
する光学材料に要求される機械的特性や力学強度、およ
び成形で必要とされる樹脂の流動性を考慮して決定され
るが、濃度０．５ｇ／ｄＬのトルエン溶液中、３０℃で
測定した還元粘度η_sp／ｃで表示すると、０．２５〜３
ｄＬ／ｇの範囲にあるものであり、好ましくは０．３〜
２ｄＬ／ｇ、より好ましくは０．３２〜１．５ｄＬ／ｇ
である。０．２５ｄＬ／ｇより小さいと樹脂の流動性は
高くなり、溶融温度を下げられるという利点があるもの
の、成形物の力学強度が低く脆い樹脂となり好ましくな
く、３ｄＬ／ｇより大きいと成形物の力学特性は高いも
のの、樹脂の溶融粘度が高くなりすぎ溶融成形が困難と
なるために好ましくない。

【００４７】水添αーオレフィンージシクロペンタジエ
ン系共重合体の分子量は、重合反応系に一定量の水素あ
るいは１−ヘキセン等の分子量調節剤を供給する、メタ
ロセン触媒の濃度を変える、重合反応系へのジシクロペ
ンタジエンとαーオレフィンの供給速度を変える等の方
法により制御することが可能である。

【００４８】本発明に用いる水添αーオレフィンージシ
クロペンタジエン系共重合体のガラス転移温度は１００
〜１８０℃の範囲にある。

【００４９】また、本発明に用いる水添αーオレフィン
ージシクロペンタジエン系共重合体は、該樹脂に含まれ
るゲル成分の含有量が１重量％以下であることが好まし
く、０．１重量％以下であることがより好ましい。ここ
でゲルとは、該樹脂を５重量％濃度のトルエン溶液状態
とした後、その溶液をミクロフィルター（孔径１．０μ
ｍ）で濾過した際にフィルター上に残る残存物のことを
指す。乾燥後この残存物の重量を測れば該樹脂中のゲル
含量を容易に測定することが出来る。

【００５０】かかるゲル成分が１重量％以上あると、溶
融成形において成形条件を工夫しても成形物上にシルバ
ーストリークと呼ばれる線状痕や、フィッシュアイと呼
ばれるまだら状の曇りを生じることが避けられず好まし
くない。光ディスク基板のような精密成形が要求される
分野では、ゲル成分は０．１重量％以下であることが好
ましい。

【００５１】水添αーオレフィンージシクロペンタジエ
ン系共重合体において生じるゲルは、大きく以下の３種
類に分類することが出来る。 （１）重合工程にて生じるもので、αーオレフィン成分
のみが重合したポリエチレンに代表されるポリαーオレ
フィン、あるいはαーオレフィン成分が極めて多い共重
合体に由来するもの。 （２）水素添加前のαーオレフィンージシクロペンタジ
エン系共重合体のジシクロペンタジエン成分に残る二重
結合部分が、水素添加される前に架橋しゲル化したも
の。 （３）溶媒の除去工程あるいはペレット化工程におい
て、加熱溶融によりゲル化したもの。

【００５２】これらのゲルをなるべく少なくするには、
例えば以下のような方法が挙げられる。 （１）のゲルは重合工程において生じるものであるが、
αーオレフィンに対しジシクロペンタジエンの量を相対
的に多く保って重合を行うと、このタイプのゲルは生じ
にくい。しかし重合途中に、重合系内の水、酸素等の不
純物によりメタロセン触媒が失活してしまう場合は、こ
のタイプのゲルが生じることがあるので、溶媒、モノマ
ーの精製、重合系内の不活性ガスによる置換等に留意す
る必要がある。

【００５３】またメタロセン触媒の重合系への添加方法
にも留意する必要がある。メタロセン触媒は、メタロセ
ンと呼ばれる粉末状の金属錯体と、メチルアルミノキサ
ン（ＭＡＯ）やトリイソブチルアルミニウム等のアルミ
ニウム化合物あるいはイオン性ホウ素化合物等の助触媒
から成り、両者が反応して初めて重合活性が現れるもの
であるが、通常これらは溶液状態で配管を通して重合反
応系に供給される。この際、予めメタロセンと助触媒を
反応させた重合活性のある触媒溶液を送ると、配管内壁
に付着した微量の触媒上で、ガス状のαーオレフィン成
分、例えばエチレンガスのみの重合が起こり、それが重
合溶液内に滴下して共重合体と混ざりゲルとして残るこ
とがある。これを防ぐには、触媒溶液を流した後溶媒を
さらに流し配管内を洗浄する、より好ましくは、メタロ
セン溶液と助触媒の溶液を別々の配管を通して重合系内
に供給する等の方法が挙げられる。

【００５４】（２）のタイプのゲルは重合工程、水添工
程どちらでも生じ得るものである。αーオレフィンージ
シクロペンタジエン系共重合体のジシクロペンタジエン
成分に残る二重結合の架橋は、メタロセン触媒によるオ
レフィン重合のような配位重合ではなく、カチオン重合
機構により起こるものと考えられる。従って（１）の場
合と同様に、重合系内の水、酸素等の不純物を出来るだ
け除き、メタロセン触媒の失活を抑えカチオン重合の活
性種を生じさせないようにすることが架橋によるゲル化
を抑えることにもつながる。

【００５５】また、重合後の溶液からαーオレフィンー
ジシクロペンタジエン系共重合体を単離することなく、
重合溶液のまま水素添加反応を行うことが挙げられる。
水添前の共重合体を単離し空気にさらしてしまうとゲル
化が起こりやすい。また重合後の溶液を不活性ガス雰囲
気下から大気下にさらすと、次第にゲル化が起こり始め
る。従って、重合後の溶液を不活性ガス雰囲気下に保持
したまま、すみやかにオートクレーブに送り水添触媒を
加え水添反応を行うのが好ましい。重合終了後から４８
時間以内に水添を行うのが好ましく、２４時間以内がよ
り好ましい。

【００５６】（３）のゲルは、後処理工程において生じ
るものであるが、後述する酸化防止剤の適用、残留触媒
金属成分の除去、および該後処理工程を窒素雰囲気下で
実施することにより抑えることが出来る。

【００５７】上記に挙げた方法をとっても樹脂内に微量
のゲルが残る場合には、濾過により除去することが出来
る。（１）および（２）のゲルでは、溶液濾過により、
また（３）のゲルでは溶融濾過により除去することがで
きる。

【００５８】樹脂内の残留触媒金属成分は、溶融成形に
おいては、着色、焼け、ゲル化等の原因となる。本発明
に用いる水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系
共重合体に含まれる残留触媒金属の含有量は１０ｐｐｍ
以下であることが好ましく、より好ましくは５ｐｐｍ以
下である。なおここで述べた数値は、全ての残留触媒金
属の含有量を合計した値のことを示す。

【００５９】触媒金属の除去には様々な方法が考えられ
るが、重合触媒としてメタロセン触媒、水添触媒とし
て、トリス（アセチルアセトナート）コバルトやビス
（アセチルアセトナート）ニッケルとアルキルアルミニ
ウム化合物との組み合わせに代表されるチーグラー系水
添触媒のように、均一系触媒を用いた場合の効率的な触
媒除去方法について、我々は既に有効な方法を見出し提
案している（特願平９−２８３４８９号、特願平１０−
８１５９０号）。それらによれば、水添後の溶液に、グ
リコール酸や乳酸に代表されるオキシカルボン酸および
水、さらには必要に応じてアルコール類に代表される活
性水素含有化合物の混合物を、用いた触媒量に対して一
定量加えることにより触媒金属成分を析出させ、続けて
濾過することにより分離除去することが可能である。一
般にメタロセン触媒による重合においては、助触媒に用
いるメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、あるいは助触媒
としてイオン性ホウ素化合物を用いる場合にはメタロセ
ンのアルキル化剤としてアルキルアルミニウムをメタロ
センに対して多量に用いる必要があるため、アルミニウ
ムの除去が問題となるが、かかる精製方法によればアル
ミニウム含有量も１０ｐｐｍ以下の極めて低い値に抑え
ることが出来る。

【００６０】また、重合触媒としてメタロセン触媒を用
い、水添触媒としてパラジウム、ロジウム、ニッケル等
の金属をカーボン、アルミナ、シリカ・アルミナ等の担
体に担持した不均一系触媒を用いる場合には以下の精製
方法が挙げられる。重合後の溶液にグリコール酸や乳酸
に代表されるオキシカルボン酸および水、さらには必要
に応じてアルコール類に代表される活性水素含有化合物
の混合物を、用いた触媒量に応じて一定量加え、重合触
媒由来の金属成分を析出させ濾過により分離除去する。
次いで濾液に不均一系水添触媒を加え、水素添加を行
い、その後再び濾過することにより不均一系触媒を取り
除く。

【００６１】本発明に用いる水添αーオレフィンージシ
クロペンタジエン系共重合体に含まれる残留金属成分の
例としては、ジルコニム、ハフニウム、チタニウム、ホ
ウ素、アルミニウムなど重合触媒由来のも、ニッケル、
コバルト、鉄、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、白
金、マンガン、銅、バナジウム、マグネシウム、モリブ
デン、クロム、亜鉛など水添触媒由来のものが挙げられ
る。

【００６２】一般に樹脂内に含まれる低分子量の揮発成
分は、溶融成形の際、シルバーストリーク、ミクロボイ
ド等の成形物表面の荒れの原因となることが多い。本発
明に用いる水添αーオレフィンージシクロペンタジエン
系共重合体の合成は、通常炭化水素系溶媒を使用して行
われるが、該溶媒由来の炭化水素系揮発成分として具体
的には、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂
肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロオクタン等の脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられある。これらの
うち通常使われるのは芳香族炭化水素、なかでもトルエ
ンである。

【００６３】上記の溶媒以外の炭化水素系揮発成分とし
て、テトラヒドロジシクロペンタジエンが挙げられる。
テトラヒドロジシクロペンタジエンとは、モノマーであ
るジシクロペンタジエンが水添されたものである。水添
αーオレフィンージシクロペンタジエン系共重合体の合
成は、重合、水添の２段階の反応が必要であるが、経済
性および得られる共重合体のゲル化を抑制するという観
点から、重合後、溶液からポリマーを単離することな
く、連続して水添することが望ましい。ジシクロペンタ
ジエンとαーオレフィンのモノマー比をある一定値以上
に保つ、という我々の見出した重合方法によれば重合反
応終了時でもまだかなりのジシクロペンタジエンが重合
系内に存在する。従って、重合から連続して水添を行う
と、この残存ジシクロペンタジエンも同時に水添されて
テトラヒドロジシクロペンタジエンとなる。

【００６４】本発明の成形においては、これらの炭化水
素系揮発成分の含有量が０．１重量％以下である樹脂を
用いることが好ましい。０．１重量％以上残留している
と、成形時の表面の荒れを抑えることが難しくなり好ま
しくない。炭化水素系揮発成分を０．１重量％以下に抑
えるには、水添後の溶液から先に述べたような方法で触
媒成分を濾過により取り除き、続いて高温、減圧下で溶
媒およびテトラヒドロジシクロペンタジエンを留去する
方法（フラッシング）が挙げられる。テトラヒドロジシ
クロペンタジエンは沸点が１９４℃と高く、しかも発火
点が２３５℃と低いので注意する必要があるが、最近我
々は溶媒としてテトラヒドロナフタレン、１−メチルナ
フタレン、２−メチルナフタレン等の沸点１９５℃以上
の高沸点溶媒を使用すれば、効率的にテトラヒドロジシ
クロペンタジエンおよび該高沸点溶媒を留去出来ること
を見出し、別途提案した。

【００６５】環状オレフィン系樹脂は構造上３級炭素を
多く持つため、高温で酸素と接触するといわゆる酸化劣
化を起こしてゲルや分解物を生成し、成形物の着色、焼
け、シルバーストリークを起こしやすい。本発明ではフ
ェノール系化合物、あるいはりん系化合物のような酸化
防止剤を樹脂に対して０．０１〜３重量％、より好まし
くは０．０１〜１重量％添加することにより、これらを
効果的に抑えることが出来る。酸化防止剤の量が０．０
１重量％以下であると効果に乏しい場合があり、また逆
に３重量％以上用いると酸化防止剤の揮発や分解によっ
て逆にシルバーストリーク、成形物の曇り、成形物表面
や金型の汚れ等が起きやすくなるので好ましくない。

【００６６】ここで用いられる酸化防止剤としては、イ
ルガノックス１０１０、イルガノックス１０７６（チバ
ガイギー社製商品名）等、一般に知られている汎用的な
ものを適用することが出来る。フェノール系酸化防止剤
の例としては、２，６−ジーｔ−ブチルー４−メチルフ
ェノール、２，６−ジーｔ−ブチルフェノール、４−ｔ
−ブチルフェノール、２，４−ジメチルー６−ｔ−ブチ
ルフェノール、４，４’ービス（２，６−ジーｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２’ーメチレンービス（４−メチ
ルー６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’ーメチレン
ービス（２，６−ジーｔ−ブチルフェノール）、２，
２’−ジオキシー３，３’−ジーｔ−ブチルー５，５’
−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［２−（３，
５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）エチル
プロピオネート］メタン、ペンタエリスリチルーテトラ
キス［３−（３，５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリメチル
ー２，４，６−トリス（３，５−ジーｔ−ブチルー４−
ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジー
ｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、トリス（４−ｔ−ブチルー３−ヒドロキシー２，６
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、オクタデシル
ー（３，５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、２，２’ーチオービスー（４−メ
チルー６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２ーチオージ
エチレンビス［３−（３，５−ジーｔ−ブチルー４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］等が挙げられる。

【００６７】りん系酸化防止剤の例としては、トリス
（２，４−ジーｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビ
スー（２，６−ジーｔ−ブチルー４−メチルフェニル）
ーペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（ノニ
ルフェニル）ホスファイト、３，５ージーｔ−ブチルー
４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル
等が挙げられる。

【００６８】これらは単独で用いてもよいし、２種類以
上組み合わせて用いてもよい。また、フェノール系酸化
防止剤にりん系酸化防止剤を混ぜて使用してもよい。

【００６９】これらの酸化防止剤は、前述した触媒成分
を濾過により取り除き、その後溶媒を留去する精製方法
においては、濾過した後の溶液時点で添加すれば、その
後の高温下での溶媒留去における樹脂のゲル化、劣化を
抑えることが出来る。

【００７０】本発明で用いる水添αーオレフィンージシ
クロペンタジエン系共重合体には、上記酸化防止剤以外
にも必要に応じて各種添加剤を使用してもよい。かかる
添加剤としては、紫外線吸収剤、成形物の黄色度を目立
たなくするためのブルーイング剤、離型剤、帯電防止
剤、ガラス繊維、等が挙げられる。これらの添加剤は、
成形時における揮発、溶出を防ぐためになるべく分子量
の大きいものが好ましく、また透明性の低下を防ぐため
にできるだけ添加量が少ないほうが好ましい。

【００７１】樹脂を溶融成形するには、一般に予め樹脂
を乾燥してから使用する。本発明でも予め樹脂の乾燥を
行うことが好ましい。特に酸化劣化を抑制するには、真
空乾燥、あるいは窒素気流下で乾燥を行い、樹脂内の酸
素を除くことが好ましい。

【００７２】また、本発明の溶融成形は通常の大気雰囲
気下で行うことができるが、酸化劣化による成形物の着
色やゲル化を抑制するために、窒素雰囲気下で行う方法
も好ましい。この場合、成形機への樹脂の供給は窒素ガ
ス雰囲気下で行われることになる。

【００７３】本発明では、水添αーオレフィンージシク
ロペンタジエン系共重合体を用いて射出成形、溶融押し
出し等の溶融成形を、溶融温度が２３０〜３８０℃、金
型温度が（Ｔｇ−１００）〜（Ｔｇ−１０）℃の範囲内
で成形される。ここでＴｇとは水添αーオレフィンージ
シクロペンタジエン共重合体のガラス転移温度を示す。
この範囲外では満足な特性の成形物が得られにくい。

【００７４】溶融温度が２３０℃以下では、樹脂の流動
性が不足し、得られる成形物の歪みが大きくなり好まし
くない。一方溶融温度が３８０℃以上であると、成形物
の着色、分解、焼けを起こしやすくなる。より好ましく
は２５０〜３７０℃の範囲である。また光ディスク基板
の成形では、樹脂の流動性を高くすることが重要であ
り、２８０〜３７０℃の範囲で成形するのが好ましい。

【００７５】金型温度が（Ｔｇ−１００）℃以下の場合
は、成形物の歪みが大きくなり、また光ディスク基板の
ようにピットの転写性が要求される場合には、その転写
性が悪くなる。一方金型温度が（Ｔｇ−１０）℃以上で
は、用いる水添αーオレフィンージシクロペンタジエン
系共重合体のガラス転移温度に近くなるため、金型から
離型するときに成形物の変形、反り等を生じやすくなり
好ましくない。

【００７６】これらの溶融温度、金型温度および前述し
た水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共重合
体の分子量は、得られる成形物の成形性、光学特性、機
械的特性ならびに経済性等の様々な観点を総合して、上
記範囲のなかから最適な条件が選択される。

【００７７】本発明により、水添αーオレフィンージシ
クロペンタジエン系共重合体から、光学特性、成形性、
機械特性等に優れた光ディスク基板、光学レンズ、光学
用シートに代表される光学材料を成形することが出来
る。得られたこれらの光学材料表面上に、さらに目的に
応じて、蒸着やスパッタリングにより各種金属を単層あ
るいは多層に製膜することが可能である。またコーティ
ングにより、保護層、ガスバリヤー層として各種有機層
を設けることも出来る。

【００７８】

【発明の効果】本発明によれば、水添αーオレフィンー
ジシクロペンタジエン系共重合体を用いた溶融成形方法
が提供される。この成形方法により、透明性、光学特
性、機械的強度等に優れた成形物が得られ、かかる成形
物は光ディスク用基板、光学レンズ、光学用シートのよ
うな光学用途に適するものである。

【００７９】

【実施例】以下に実施例により本発明を詳述する。但
し、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではな
い。トルエン（溶媒）、ジシクロペンタジエンは、すべ
て蒸留精製を行い充分に乾燥したものを用いた。メタロ
センは、イソプロピレン（９ーフルオレニル）（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドをBoulder Sc
ientific社より購入し、そのまま用いた。イオン性ホウ
素化合物は、トリチルーテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレートを東ソー・アクゾ（株）より購入し、
そのまま使用した。トリイソブチルアルミニウムは東ソ
ー・アクゾ（株）より濃度２Ｍのトルエン溶液を購入
し、そのまま用いた。トリス（アセチルアセトナート）
コバルトは和光純薬（株）より購入し、そのまま用い
た。

【００８０】実施例で行った測定項目は以下の方法で測
定した。 ガラス転移温度（Ｔｇ）：ＴＡＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ
製 ２９２０型ＤＳＣを使用し、昇温速度は２０℃／分
で測定した。 分子量：濃度０．５ｇ／ｄＬのトルエン溶液の、３０℃
における還元粘度η_sp／ｃを測定した。 水添率： ＪＥＯＬ ＪＮＭ−Ａ−４００型核磁気共鳴
吸収装置を用い、¹Ｈ−ＮＭＲにより定量した。 樹脂中のゲル成分の含有量：樹脂をトルエンに溶解させ
５重量％溶液とし、この溶液を孔径１μｍのメンブラン
フィルターを用いて濾過し、フィルターを乾燥後にフィ
ルター上に残った残存物の重量から算出した。 樹脂中の残存金属量：ＩＣＰ発光分析法により定量し
た。 樹脂中の炭化水素系揮発成分量：樹脂をキシレンに溶解
し、その溶液を島津製作所製ガスクロマトグラフ装置Ｇ
Ｃー９Ａを使用してガスクロマトグラフィー分析により
定量した。 全光線透過率：島津製作所（株）製紫外可視分光器（Ｕ
Ｖー２４０）を使用した。 成形物の着色度：ミノルタ製色彩色差計ＣＲ−２００で
ｂ値を測定し、白色校正板（ｂ＝＋２．６２）との差Δ
ｂで評価した。 成形物（ディスク基板）の表面観察：セイコー電子工業
製原子間力顕微鏡ＳＦＡ−３００型を用いて測定した。 ディスク基板の複屈折：オーク製作所複屈折装置ＡＤＲ
−２００Ｂを用い、波長６３３ｎｍにおけるシングルパ
スで測定した。

【００８１】［参考例１］容量３Ｌのステンレス製の重
合反応容器内を窒素置換し、ジシクロペンタジエン１８
１ｇ、トルエン１１５０ｇおよびトリイソブチルアルミ
ニウム３．４ｇを加えた。容器内を常圧のエチレンで置
換した後、イソプロピレン（９ーフルオレニル）（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド１２２ｍｇ
とトリイソブチルアルミニウム０．２ｇをトルエン８５
ｇに溶解させたメタロセン溶液、およびトリチルーテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート２６７ｍｇ
をトルエン８５ｇに溶解させた助触媒溶液を、それぞれ
１／３ずつ３回に分けて２０分ごとに重合系内に添加
し、３０℃で重合を行った。重合中、常圧のエチレンを
常時供給し、ジシクロペンタジエンの添加速度とエチレ
ンの消費速度の比が４２：５８になるような速度でジシ
クロペンタジエン１５７ｇを添加した。エチレンの消費
量が、総ジシクロペンタジエン添加量３３８ｇに対応す
るモル量の９０％に達した時点（最初の触媒溶液添加か
ら１１０分後）でエチレンの供給を停止し、反応を終了
した。

【００８２】得られた重合反応溶液を、ただちに容量５
Ｌのオートクレーブに窒素雰囲気下で圧送し、該溶液
に、予めトリス（アセチルアセトナート）コバルト３．
０ｇとトリイソブチルアルミニウム４．８ｇをトルエン
２０ｍＬ中、室温、窒素雰囲気下で５分間反応させて調
製しておいた水添触媒溶液を加えた。その後、水素圧３
０気圧、温度１１０℃で１５０分間水添反応を行った。

【００８３】水添反応後の溶液を９５℃まで冷却した
後、乳酸２０．５ｇ、水２．７ｇの乳酸水溶液を窒素雰
囲気下、攪拌しながら１０分間かけて滴下し、さらに９
５℃で２時間反応させた。反応液は、黒褐色から濁った
ピンク色のスラリーへと変化した。該スラリーを引き続
き濾過処理にかけた。直径１１ｃｍの円筒型濾過器に孔
径５μｍのフィルター（Ｎａｓｌｏｎ ＮＦ−０５）を
セットし、その上にセライトを５ｃｍ、さらにその上に
ネルの織物を重ねたもので加圧濾過を行った。濾過は円
滑に進行した。得られた濾液を塩基性アルミナを用いて
吸着処理を施し、無色透明な樹脂溶液を得た。

【００８４】この溶液に、ペンタエリスリチルーテトラ
キス［３−（３，５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート］を水添共重合体に対して
０．２重量％になるように加えてから、溶媒およびテト
ラヒドロジシクロペンタジエンの留去を行った。最初は
常圧でトルエンを留去し、次第に温度を上げ、最後は２
８０℃まで昇温し、減圧下で揮発成分が認められなくな
るまで留去を続けた。次いで溶融した樹脂を窒素雰囲気
下で押し出し機に通し無色透明なペレットを得た。この
ペレットを調べたところ、濃度０．５ｇ／ｄＬのトルエ
ン溶液の３０℃における還元粘度η_sp／ｃは０．４０ｄ
Ｌ／ｇ、ガラス転移温度は１４７℃、水添率が９９．９
％以上（¹Ｈ−ＮＭＲ測定で二重結合のシグナルが観察
されず）であった。また残留金属量をＩＣＰ発光分析法
により定量したところ、Ｚｒ：０．１ｐｐｍ以下、Ｂ：
０．１ｐｐｍ以下、Ｃｏ：０．７ｐｐｍおよびＡｌ：
１．８ｐｐｍと極めて低い値であった。ペレットをトル
エンに再溶解した５重量％のトルエン溶液を、孔径１μ
ｍのミクロフィルターに通しペレット中のゲル成分を調
べたが、ゲル成分は０．０１重量％以下であった。また
ペレット中の炭化水素系揮発成分の含有量をガスクロマ
トグラフィー（ＧＣ）で調べたところ、トルエン、テト
ラヒドロジシクロペンタジエンは観察されず、炭化水素
系揮発成分はほとんど留去されていることが分かった。

【００８５】［参考例２］重合時におけるメタロセン溶
液および助触媒溶液を１／５ずつ、５回に分けて２０分
ごとに重合反応系に添加し、最初の触媒溶液添加から１
８０分後に重合反応を終了させた以外はすべて参考例１
と同様にして、水添エチレンージシクロペンタジエン共
重合体のペレットを得た。参考例１と同様にしてこのペ
レットを調べたところ、還元粘度η_sp／ｃは０．５５ｄ
Ｌ／ｇ（０．５ｇ／ｄＬのトルエン溶液、３０℃）、ガ
ラス転移温度は１４５℃、水添率は９９．９％以上（¹
Ｈ−ＮＭＲ測定で二重結合のシグナルが観察されず）で
あった。また残留金属量は、Ｚｒ：０．１ｐｐｍ以下、
Ｂ：０．１ｐｐｍ以下、Ｃｏ：０．６ｐｐｍおよびＡ
ｌ：１．６ｐｐｍと極めて低い値であった。またペレッ
ト中のゲル成分は０．０１重量％以下であり、ＧＣより
ペレット中にトルエン、テトラヒドロジシクロペンタジ
エンは観察されず、炭化水素系揮発成分はほとんど留去
されていることが分かった。

【００８６】［参考例３］重合時におけるメタロセン溶
液および助触媒溶液を、１回に全量重合反応系に添加
し、最初の触媒溶液添加から６０分後に重合反応を終了
させた以外はすべて参考例１と同様にして、水添エチレ
ンージシクロペンタジエン共重合体のペレットを得た。
参考例１と同様にしてこのペレットを調べたところ、還
元粘度η_sp／ｃは０．２２ｄＬ／ｇ（０．５ｇ／ｄＬの
トルエン溶液、３０℃）、ガラス転移温度は１４９℃、
水添率は９９．９％以上（¹Ｈ−ＮＭＲ測定で二重結合
のシグナルが観察されず）であった。また残留金属量
は、Ｚｒ：０．１ｐｐｍ以下、Ｂ：０．１ｐｐｍ以下、
Ｃｏ：０．５ｐｐｍおよびＡｌ：０．９ｐｐｍと極めて
低い値であった。またペレット中のゲル成分は０．０１
重量％以下であり、ＧＣよりペレット中にトルエン、テ
トラヒドロジシクロペンタジエンは観察されず、炭化水
素系揮発成分はほとんど留去されていることが分かっ
た。

【００８７】［参考例４］参考例１と同様に重合、水添
を行った後、室温まで冷却した水添反応溶液にメタノー
ル２０ｍＬを滴下した。その溶液を大量のアセトン、メ
タノールの混合溶液中に放出して沈殿物を析出させ、濾
別してさらにアセトン、メタノールおよび水で洗浄、乾
燥して白色粉末を得た。この粉末にペンタエリスリチル
ーテトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチルー４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］を０．２重量％加
え、２２０℃でホットプレスを行い、得られた板状物を
クラッシャーにより粉砕して水添エチレンージシクロペ
ンタジエン共重合体の塊状物を得た。該塊状樹脂の還元
粘度η_sp／ｃは０．４０ｄＬ／ｇ（０．５ｇ／ｄＬのト
ルエン溶液、３０℃）、ガラス転移温度は１４７℃、水
添率は９９．９％以上（¹Ｈ−ＮＭＲ測定で二重結合の
シグナルが観察されず）と参考例１と同じであった。。
しかし残留金属量は、Ｚｒ：８ｐｐｍ、Ｂ：７ｐｐｍ、
Ｃｏ：２４ｐｐｍおよびＡｌ：１４２ｐｐｍと極めて高
かった。塊状物中のゲル成分は０．０１重量％以下であ
り、ＧＣより塊状物中にトルエン、テトラヒドロジシク
ロペンタジエンは観察されず、炭化水素系揮発成分はほ
とんど留去されていることが分かった。

【００８８】［参考例５］参考例１と同様に重合を行っ
た後、重合溶液を大気下にさらした状態で１６時間放置
した後水添反応を行い、続けて参考例１と同様の後処理
を試みた。乳酸および水を加えて反応させた後、濾過処
理にかけたが濾過性が極めて悪く、途中フィルター、セ
ライトおよびネルを２回交換して、濾液を得た。その後
は参考例１と同様にしてペレットを得た。このペレット
の還元粘度η_sp／ｃは０．４５ｄＬ／ｇ（０．５ｇ／ｄ
Ｌのトルエン溶液、３０℃）、ガラス転移温度は１４９
℃、水添率は９９．９％以上（¹Ｈ−ＮＭＲ測定で二重
結合のシグナルが観察されず）であった。また残留金属
量は、Ｚｒ：０．１ｐｐｍ以下、Ｂ：０．１ｐｐｍ以
下、Ｃｏ：０．６ｐｐｍおよびＡｌ：１．６ｐｐｍと極
めて低い値であった。しかしペレット中のゲル成分は
１．３重量％と多量に存在した。ＧＣよりペレット中に
トルエン、テトラヒドロジシクロペンタジエンは観察さ
れず、炭化水素系揮発成分はほとんど留去されているこ
とが分かった。

【００８９】［実施例１］参考例１で得られた水添エチ
レンージシクロペンタジエン共重合体のペレットを用
い、射出成形機を用いて射出成形を行った。シリンダー
内の樹脂の溶融温度を２８０℃、金型温度を８０℃にし
て、直径３．５ｃｍ、厚み２ｍｍの円板を成形した。得
られた円板の全光線透過率は９０％、Δｂ値は０．３０
であり、着色は少なく透明性の高いものであった。また
外観上シルバーストリークは観察されず、歪みもなかっ
た。

【００９０】［実施例２］参考例２で得られた樹脂を用
い、実施例１と同じ射出成形機を使用して円板の成形を
行った。溶融温度３２０℃、金型温度８０℃で成形した
ところ、全光線透過率９０％、Δｂ値が０．４０である
着色が少なく透明性の高い円板上の成形物が得られた。
また実施例１と同様に、外観上シルバーストリークは観
察されず、歪みもなかった。

【００９１】［実施例３］参考例１で得られた樹脂を用
い、光ディスク基板用の射出成形機を用いて、直径１２
ｃｍ、厚み１．２ｍｍのＣＤ基板の成形を行った。なお
スタンパーはＣＤ−ＲＯＭ用のものを用いた。樹脂の溶
融温度を３００℃、金型温度を９０℃、サイクルタイム
を７秒にして成形したところ、着色は少なく透明性の良
好なディスク基板が得られた。ディスク基板の全光線透
過率は９０％、Δｂ値は０．５４であった。また外観上
シルバーストリークは観察されなかった。ディスク基板
の円周方向および半径方向の歪みはいづれも小さく、機
械特性は良好であった。ピットの転写性を調べるため
に、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用してスタンパー側
のディスクの表面形状を観察したが、ピットはスタンパ
ーの形状通り良く転写されており、転写性は良好であっ
た。また表面の荒れ、ミクロボイドも少なかった。ディ
スク基板の面内複屈折を半径方向に沿って測定したが、
最大値が３５ｎｍ（測定波長６３３ｎｍ、シングルパ
ス）であった。成形後のディスク基板の還元粘度を調べ
たところ、η_sp／ｃ＝０．４０ｄＬ／ｇと成形前と同じ
であり、成形による分子量の低下は認められなかった。

【００９２】［実施例４］実施例３における射出成形試
験において、樹脂の溶融温度を３４０℃、金型温度を１
００℃に上げてＣＤの成形を行い、実施例３と同様に、
着色が少なく透明性の良好なディスク基板を得た。ディ
スク基板の全光線透過率は８９％、Δｂ値は０．６５で
あった。また外観上シルバーストリークは観察されなか
った。ディスク基板の円周方向および半径方向の歪みは
いづれも小さく、機械特性は良好であった。ＡＦＭの観
察ではピットの転写性は良好であり、表面の荒れ、ミク
ロボイドも少なかった。ディスク基板の面内複屈折を半
径方向に沿って測定したが、最大値が１５ｎｍ（測定波
長６３３ｎｍ、シングルパス）であった。ディスク基板
の還元粘度はη_sp／ｃ＝０．４０ｄＬ／ｇと成形前と同
じであり、実施例３と同じく成形による分子量の低下は
認められなかった。

【００９３】［実施例５］参考例１の樹脂を用い、実施
例３で使用した射出成形機を使用して、金型をデジタル
ビデオディスク用のものに替え、直径１２ｃｍ、厚み
０．６ｍｍのＤＶＤ基板の成形を行った。なおスタンパ
ーはＤＶＤ−ＲＯＭ用のものを用いた。樹脂の溶融温度
を３７０℃、金型温度を１１０℃、サイクルタイムを
９．３秒にして成形したところ、着色は少なく透明性の
良好なディスク基板が得られた。ディスク基板の全光線
透過率は８９％、Δｂ値は０．７０であった。また外観
上シルバーストリークは観察されなかった。ディスク基
板の円周方向および半径方向の歪みはいづれも小さく、
機械特性は良好であった。ＡＦＭを使用してスタンパー
側のディスクの表面形状を観察したが、ピットはスタン
パーの形状通り良く転写されており、転写性は良好であ
った。また表面の荒れ、ミクロボイドも少なかった。ま
た、ディスク基板の面内複屈折を半径方向に沿って測定
したが、最大値が１０ｎｍ（測定波長６３３ｎｍ、シン
グルパス）であった。成形後のディスク基板の還元粘度
はη_sp／ｃ＝０．４０ｄＬ／ｇと成形前と同じであり、
成形による分子量の低下は認められなかった。

【００９４】［比較例１］参考例３で得られた樹脂を用
い、実施例３と同じ条件にてＣＤ基板の成形を試みた。
しかし樹脂を金型内に射出後、金型を開いて取り出す段
階で脆さのため壊れてしまい、ディスク基板を成形する
ことが出来なかった。

【００９５】［比較例２］参考例１で得られた樹脂を用
い、樹脂の溶融温度を４００℃にした以外は実施例３と
同様にしてＣＤ基板の成形を行った。得られたディスク
基板はバリが発生していた。また全光線透過率は８７
％、Δｂ値は１．３６とやや着色していた。また外観上
わずかにシルバーストリークが観察された。ディスク基
板の円周方向および半径方向の歪みはいづれも小さく、
機械特性は良好であった。 ＡＦＭ測定よりピットの転
写性は良好であったが、表面の荒れ、ミクロボイドが実
施例３と比較して多く観察された。成形後のディスク基
板の還元粘度はη_sp／ｃ＝０．３８ｄＬ／ｇとわずかに
成形前より低下しており、成形の際に樹脂の分解が起こ
ったことが分かった。

【００９６】［比較例３］参考例１の樹脂を用い、金型
温度を１４０℃にした以外は実施例４と同様にしてＣＤ
基板の成形を行った。得られた基板の全光線透過率は９
０％、Δｂ値は０．４６と透明性は高く、複屈折も最大
で１０ｎｍと低く、光学特性は良好であった。しかし基
板の円周方向および半径方向のどちらの歪みも外観上極
めて大きく、ディスク基板として使用可能な水準のもの
ではなかった。

【００９７】［比較例４］参考例４で得られた樹脂を用
い、実施例１と同条件で円板の成形を行った。得られた
円板の全光線透過率は７５％、Δｂ値は３．８６であ
り、極めて着色が大きく透明性の悪いものであり、光学
用材料として適用し得るものではなかった。

【００９８】［比較例５］参考例５で得られた樹脂を用
い、実施例１と同条件で円板の成形を行った。得られた
円板の全光線透過率は８２％、Δｂ値は２．０６と、着
色はそれほど大きくはなかったものの、円板上には多数
のシルバーストリークや焼けが認められ、曇りが多く透
明性の悪いものしか得られなかった。

【００９９】［比較例６］比較のため、参考例１の最後
の溶媒留去の工程において、高温、減圧下でまだテトラ
シクロドデセンが留去している途中で、溶媒留去を終了
しテテトラシクロドデセンを１．８重量％含む水添αー
オレフィンージシクロペンタジエン共重合体を得た。か
かる樹脂を用い、実施例１と同様にして円板の成形を行
ったが、全光線透過率は８３％と低く、円板上には多数
のシルバーストリークが観察され、また表面上に多数の
ミクロボイドが観察された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６Ｍ 7/26 ５２１ 7/26 ５２１ //(Ｃ０８Ｆ 232/08 210:00） (72)発明者 橋爪 清成 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 山浦 道雄 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 岩田 薫 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝人 株式会社東京研究センター内 Ｆターム(参考） 4F202 AA12A AA12E AB06 AG01 AG02 AH74 AH79 AR06 AR17 CA11 CB01 CL01 CN01 4F206 AA12A AA12E AB06 AG01 AG02 AH74 AH79 AR06 AR064 AR17 JA07 JE10 JL02 JM01 JN01 JN03 JN11 4J100 AA02P AA03P AR22Q CA04 CA06 DA23 DA62 FA10 GA18 GA19 HA04 JA00 5D029 KA12 5D121 AA02 DD05 DD18

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の共重合体［Ｘ］または［Ｙ］で表
   される水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共
   重合体を溶融成形する方法であって、（１）該水添αー
   オレフィンージシクロペンタジエン系共重合体の分子量
   が、濃度０．５ｇ／ｄＬのトルエン溶液中、３０℃で測
   定した還元粘度η_sp／ｃで０．２５〜３ｄＬ／ｇの範囲
   にあり、（２）溶融温度が２３０〜３８０℃であり、
   （３）金型温度が（Ｔｇ−１００）〜（Ｔｇ−１０）℃
   である、（ここで、Ｔｇとは該水添αーオレフィンージ
   シクロペンタジエン系共重合体のガラス転移温度を示
   す）ことを特徴とする水添αーオレフィンージシクロペ
   ンタジエン系共重合体の成形方法。 共重合体［Ｘ］：０〜３９モル％の下記式（Ａ）及び６
   １〜１００モル％の下記式（Ｂ）の繰り返し単位からな
   る共重合体。 【化１】 ［式（Ａ）中、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜１６の
   飽和脂肪族炭化水素基である。］ 【化２】 ［式（Ｂ）中、Ｒ²は水素原子または炭素数１〜１６の
   飽和脂肪族炭化水素基である。］ 共重合体［Ｙ］：下記式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および
   （Ｄ）の繰り返し単位から表され、 【化３】 ［式（Ａ）中、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜１６の
   飽和脂肪族炭化水素基である。］ 【化４】 ［式（Ｂ）中、Ｒ²は水素原子または炭素数１〜１６の
   飽和脂肪族炭化水素基である。］ 【化５】 ［式（Ｃ）中、ｎは０または１であり、ｍは０または正
   の整数であり、ｐは０または１であり、Ｒ³〜Ｒ²²は同
   一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数６〜
   １０の芳香族炭化水素基、または炭素数１〜１２の飽和
   あるいは不飽和脂肪族炭化水素基であり、また、Ｒ¹⁹と
   Ｒ²⁰とで、あるいはＲ²¹とＲ²²とでアルキリデン基を形
   成していてもよく、また、Ｒ¹⁹またはＲ²⁰と、Ｒ²¹また
   はＲ²²とが環を形成していてもよく、かつ該環が二重結
   合あるいは芳香環を有していてもよい。］ 【化６】 ［式（Ｄ）中、ｑは２〜８の整数である。］ 式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）で表される繰り
   返し単位のモル％を、それぞれ［Ａ］、［Ｂ］、
   ［Ｃ］、［Ｄ］とすると、その組成比が（［Ａ］＋
   ［Ｂ］）／（［Ｃ］＋［Ｄ］）＝９５〜９９．９／０．
   １〜５、 ［Ａ］／［Ｂ］＝０〜３９／６１〜１００か
   つ ［Ｄ］／［Ｃ］＝０〜９５／５〜１００の範囲にあ
   る共重合体。
2. 【請求項２】 上記水添αーオレフィンージシクロペン
   タジエン系共重合体に含まれるゲル成分の含有量が１重
   量％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の水
   添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共重合体の
   成形方法。
3. 【請求項３】 上記水添αーオレフィンージシクロペン
   タジエン系共重合体に含まれる残留触媒金属の含有量が
   １０ｐｐｍ以下であることを特徴とする、請求項１また
   は２に記載の水添αーオレフィンージシクロペンタジエ
   ン系共重合体の成形方法。
4. 【請求項４】 上記水添αーオレフィンージシクロペン
   タジエン系共重合体に含まれる炭化水素系揮発成分の含
   有量が０．１重量％以下であることを特徴とする、請求
   項１〜３に記載のいずれかの水添αーオレフィンージシ
   クロペンタジエン系共重合体の成形方法。
5. 【請求項５】 上記炭化水素系揮発成分がテトラヒドロ
   ジシクロペンタジエンである請求項４に記載の水添αー
   オレフィンージシクロペンタジエン系共重合体の成形方
   法。
6. 【請求項６】 酸化防止剤として、フェノール系化合物
   またはりん系化合物を上記水添αーオレフィンージシク
   ロペンタジエン系共重合体に対し０．０１〜３重量％用
   いることを特徴とする、請求項１〜５に記載のいずれか
   の水添αーオレフィンージシクロペンタジエン系共重合
   体の成形方法。
7. 【請求項７】 請求項１〜６に記載の成形方法により得
   られた光ディスク基板。
8. 【請求項８】 請求項１〜６に記載の成形方法により得
   られた光学レンズ。
9. 【請求項９】 請求項１〜６に記載の成形方法により得
   られた光学用シート。