FI81130B - Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. - Google Patents
Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. Download PDFInfo
- Publication number
- FI81130B FI81130B FI854281A FI854281A FI81130B FI 81130 B FI81130 B FI 81130B FI 854281 A FI854281 A FI 854281A FI 854281 A FI854281 A FI 854281A FI 81130 B FI81130 B FI 81130B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- copper
- zinc
- nickel
- layer
- copper product
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/48—After-treatment of electroplated surfaces
- C25D5/50—After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
- H05K3/384—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/03—Metal processing
- H05K2203/0307—Providing micro- or nanometer scale roughness on a metal surface, e.g. by plating of nodules or dendrites
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0723—Electroplating, e.g. finish plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1105—Heating or thermal processing not related to soldering, firing, curing or laminating, e.g. for shaping the substrate or during finish plating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
- Y10T29/49144—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by metal fusion
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Golf Clubs (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Description
1 81130
Menetelmä kuparituotteen sitomiseksi alusmateriaaliin Tämä keksintö koskee kuparituotteiden, esimerkiksi painettujen piirilevyjen valmistamiseen käytettävien ku-5 parilevyjen ja vastaavien pintakäsitelymenetelmää. Erityisesti se koskee kuparituotteen pintakäsittelymenetelmää, jossa levy päällystetään sinkki-nikkeli-kupari-seoksella, joka estää kuparilevyn ja pohjamateriaalin välisen repäisy-lujuuden vähenemisen, joka johtuu syövytysliuoksen tai suo-10 lahapon vesiliuoksen ym. aiheuttamasta korroosiosta.
Kuparipäällysteisiä laminaatteja on tavallisesti käytetty painettujen piirilevyjen valmistamiseen sitomalla kuparilevy pohjamateriaaliin. Kuparilevyn pinta, joka kiinnittyy pohjamateriaaliin, on käsitelty erilaisilla 15 kemiallisilla ja elektrokemiallisilla menetelmillä. Levyn ja pohjamateriaalin välisen sidoslujuuden lisäämiseksi kuparilevyn pinta on tehty karkeaksi päällystämällä se elektrolyyttisesti rakeisella kuparikerroksella, jonka jälkeen karkea pinta on päällystetty elektrolyyttisesti kupa-20 rilla, joka sisältää sinkkiä, tinaa, nikkeliä tai messinkiä (US-patentit nro 3 585 010, 3 377 259 ja 2 802 897).
Sinkkikerros estää rakeisenkuparin migraation ja tahraantumisen ja likaantumisen syövytyksen jälkeen. Kerros on sen paksuinen, ettei rakeisenkuparikerroksen suuri 25 sidoslujuus pienene.
Laminoinnissa mainittua kuparilevyä tavallisesti kuumapuristetaan. Lämmön ja paineen vaikutuksesta sinkki-kerros muuttuu messingiksi sinkkikerroksen ja kuparialus-tan diffundoituessa molemmin puolin ja kerros muuttuu 30 keltaiseksi. Kuparilevyn ja pohjamateriaalin laminoinnin jälkeen rajakerros on messinkiä.
Mainitusta kuparipäällysteisestä laminaatista valmistetaan painettu piiri seuraavasti: kuparipäällysteinen laminaatti rei'itetään tai lävistetään. Reikien sisäpin-35 nat aktivoidaan ja päällystetään tasaisesti kuparilla ei-elektrolyyttisesti, jonka jälkeen ne päällystetään 2 81Ί 30 elektrolyyttisesti kuparin paksuuden lisäämiseksi. Sitten mainittu kuparilevy päällystetään valoherkällä aineella ja malli syövytetään halutun piirilevyn saamiseksi.
Kun reikien sisäpintoja aktivoidaan ja malli syö-5 vytetään, joutuu rajakerros so. messinkikerros kosketuksiin suolahapon sisältävän liuoksen kanssa. Edelleen, mal-lisyövytyksen jälkeen saatetaan pinta usein käsitellä erilaisilla päällystysmenetelmillä. Näissä tapauksissa messinkikerros joutuu usein kosketuksiin erilaisten päällyste-10 liuosten ja happamien liuosten kanssa. Koska messinkikerros ei juuri kestä suolahapon vaikutusta, se korrodoituu sinkin poistumisen vuoksi ja kuparilevyn ja pohjalevyn välinen repäisylujuus todennäköisesti vähenee.
Tämän keksinnön tavoite on saada aikaan kuparituot-15 teen, esimerkiksi kuparilevy laminaatin valmistamiseen tarvittavan kuparilevyn, pintakäsittelymenetelmä, jossa kupari-levyn ja pohjamateriaalin väliin muodostuu suolahaponkes-tävä rajakerros.
Tällaisen menetelmän kehittämistä on tutkittu paljon 20 ja on todettu, että käytettäessä sinkki-nikkeliseosta kuparin päällystemetallina, se muuttuu kuparilevyn ja pohjamateriaalin laminoinnissa sinkki-nikkeli-kupari-seokseksi, jolloin suolahapon kestävyys kasvaa ja lisäksi sinkki-nikke-li-seokselle on löydetty tietty koostumus, jolla se hyvin 25 helposti muuttuu sinkki-nikkeli-kupari-seokseksi valmistet taessa kuparipäällysteisiä laminaatteja tavalliseen tapaan.
Tämä keksintö koskee kuparituotteen pintakäsittely-menetelmää, jossa kuparituote päällystetään elektrolyyttisesti binäärisellä seoksella, joka sisältää 95-20 paino-% 30 sinkkiä ja 5-80 paino-% nikkeliä ja mainittu kuparituote laminoidaan tai kuumapuristetaan pohjamateriaaliin, jolloin mainittu binäärinen seos muuttuu sinkin, nikkelin ja kuparin ternääriseksi seokseksi.
Kuten edellä on kuvattu, kuparipäällysteisten lami-35 naattien valmistuksessa pohjamateriaaliin sidottavan kuparilevyn pinta päällystetään elektrolyyttisesti rakei- 3 81130 sella kuparilla, jotta pinnasta tulisi karkeampi, jolloin kuparilevyn ja pohjamateriaalin välinen repäisylujuus kasvaa ja tämä elektrolyyttisesti päällystetty karkea pinta päällystetään binäärisellä seoksella. Jotta nuDdostu-5 nut päällystekerros ei heikentäisi mainitun karkeanpin- nan repäisylujuutta, olisi sen oltava niin ohut, että pinnan karkeus säilyisi, toisaalta päällystekerroksen on oltava riittävän paksu estämään rakeisen kuparin migraatio. Tällainen päällystekerros on tavallisesti 0,08^um paksu, mutta 10 tässä keksinnössä 0,002^um paksuinen kerros voi olla tarpeeksi paksu, sillä tämän keksinnön sinkki-nikkeli-kupari-seos estää migraation paremmin ja kestää paremmin suolahapon vaikutusta. Levy kuumapuristetaan pohjamateriaaliin päällystetty puoli pohjamateriaalia vasten. Päällystekerrok-15 sen ja kuparialustan välisessä molemminpuolisessa diffuusiossa muodostuu ternäärinen sinkki-nikkeli-kupari-rajaker-ros, joka on erittäin suolahaponkestävä. Kuparilevy lami-noidaan useimmin 170°C lämpötilassa ja 20 kg/ciri paineessa tunnin ajan. Jos päällystekerroksen nikkelipitoisuus 20 on yli 80 paino-%, muuttuminen ternääriseksi seokseksi ei ole riittävää ja jos päällystekerroksen nikkelipitoisuus on alle 5 paino-%, ternäärisen seoksen suolahapon kestävyys vähenee; siis päällystekerroksen nikkelipitoisuus on edullisesti 5-80 paino-%. Nikkelipitoisuus on edul-25 lisimmin 10-50 paino-%. Muuttuminen ternääriseksi seokseksi laminoitaessa on riittävä, kun päällystekerroksen pinta so. päällystekerroksen ja pohjamateriaalin rajapinta ja rajakerros ovat muuttuneet punakeltaisiksi. Päällyste-kerros on edullisesti 0,001-0,15^,um paksu, edullisemmin 30 0,001-0,01^um paksu. Jos kerros on yli 0,15^um paksu, muuttuminen ternääriseksi seokseksi ei ole riittävää tavanomaisissa laminointimenetelmissä ja jos kerros on ohuempi kuin 0,001^um, ternäärisen seoksen kuparipitoisuus tulee hyvin suureksi laminoinnissa eikä seos voi toi-35 mia täydellisesti ternäärisenä. Kun kerros on 0,001-0 ,Olluin 4 81130 paksu, sidoslujuus ja haponkestävyys ovat erittäin suuret.
Tämän keksinnön pintakäsittelymenetelmässä käytettävän elektrolyytin peruskoostumus on seuraava: kaliumpyrofosfaatti 100 g/1 5 sinkkipyrofosfaatti 20 g/1 nikkelipyrofosfaatti 7,5 g/1 Tämä koostumus vastaa tapausta, jossa binääriseok-sen nikkelipitoisuus on 30 paino-%. Muuttamalla nikkeli-10 pyrofosfaatin nikkelipitoisuutta voidaan elektrolyyttiseen päällystykseen käytettävän binääriseoksen nikkeli-pitoisuutta muuttaa. Esimerkiksi, kun nikkelipyrofosfaa-tin nikkelipitoisuus on 1,2. 2,4 14 tai 19 g/1, on elektrolyyttisesti kiinnitettävän binääriseoksen pitoisuus 5, 10, 15 60 tai 80 paino-%. Elektrolyytin pH:n ollessa esimerkiksi 2 9,5 ja lämpötilan 25°C, tapahtuu kiinnittyminen 0,2 A/dm virrantiheydellä noin 10 sekunnissa.
Keksintöä kuvaillaan tarkemmin esimerkillä.
Tämän keksinnön kuparituotteen pintakäsittelymene-20 telmällä voidaan tehdä haponkestäviksi muitakin kupari- tuotteita kuin kuparipäällysteisten laiänaattojen valmistamiseen tarvittavat kuparilevyt. Näissä tapauksissa kupari-tuotteita ei aina sidota pohjamateriaaleihin.
Esimerkki 25 Elektrolyyttisesti karkearakeisella kuparilla päällystetty kuparilevy päällystettiin 0,005^um paksulla päällystekerroksella, joka koostui sinkin ja nikkelin binäärisestä seoksesta, jonka nikkelipitoisuus vaihteli taulukossa 1 esitetysti. Muodostunut kerros sidottiin lasi- 30 kuituvahvisteiseen epoksilevyyn 160°C lämpötilassa ja 2 20 kg/cm paineessa tunnin ajan,jolloin muodostui kupari-päällysteinen laminaatti. Kun nikkelipitoisuus oli 80 paino-%, muodostunut rajakerros säilyi valkeanharmaana, mutta kun nikkelipitoisuus oli 5-70 paino-%, muuttui ker-35 ros punakeltaiseksi.
5 81130
Vertailun vuoksi valmistettiin elektrolyyttisesti sinkillä sinkkikylvyssä päällystetty kuparilevy ja elektrolyyttisesti sinkki-kupari-seoksella tavanomaisessa syanidi-kylvyssä päällystetty kuparilev ja näistä levyistä val-5 mistettiin kuparipäällysteiset laminaatit samalla tavoin kuin edellisistä levyistä. Sinkkipäällyste- ja sinkki-kupari-päällystekerrokset olivat myös 0,005yUm paksut.
Seuraavaksi vertailtiin tämän keksinnön mukaisista binäärisellä seoksella päällyststyistä kuparilevyistä 10 valmistettujen kuparipäällysteisten laminaattien ja tavanomaisista kuparilevyistä valmistettujen kuparipäällysteisten laminaattien immersiokokeita suolahapon vesiliuoksessa sidoslujuuden prosentuaalisen vähenemisen määrittämiseksi.
15 Testinäytteiden valmistamiseksi kupariläällysteisiin laminaatteihin syövytettiin tavanomaisella menetelmällä suorakulmion nuotoinen mallikuvio, jonka leveys oli 0,8 mm ja pituus 50 mm.
Prosentuaalinen väheneminen laskettiin seuraavasta 20 kaavasta: C=[(A-B)/ä] X100 2 missä A on sidoslujuus (kg/cm ) kuparilevyn laminoinnin jälkeen, B on sidoslujuus (kg/cm ) 30 minuutin pituisen 25 immersion jälkeen 20 % suolahapon vesiliuoksessa lämpötilan ollessa 25°C, kumpikin on mitattu 90° repäisykokee11a ja C on prosentuaalinen väheneminen (%), joka ilmaisee sidoslujuuden vähenemisen A:sta B:hen. Tulokset ovat taulukossa 1. Tulokset osoittavat selvästi, että prosentuaali-30 nen väheneminen on erittäin pientä, kun käytetään tämän keksinnön kuparilevyä. Tämä osoittaa, että kuparilevyn ja pohjamateriaalin välisen rajakerroksen suolahapon kestävyys on erittäin korkea.
6 81130
Taulukko 1
Ni-pitoisuus A Ö C
(¾) (klg/cm) (kg/cm) (%) i 2720 TT^i 3Ö~ 5 5 2,20 1,98 10 tämä 10 2,25 2,19 3 keksintö 3Q 2(25 2>22 l 50 2,25 2,20 2 _ 80__2,05 2,03 1_ 10 Zn-kerros 2,05 1,56 2^
Zn-Cu-kerros__2,05 1,56__Zk
Huom. "Zn-kerros" ja "Zn-Cu-kerros" viittaavat tavanomaisiin tuotteisiin.
15 Edellisestä ilmenee selvästi/ että tämän keksinnön mukaisesti pintakäsittelymenetelmällä käsitellyn kupari-levyn rajakerros on erittäin haponkestävää; siispä painettujen piirilevyjen valmistuksessa ei ole suurtakaan pelkoa syövytys liuoksen, suolahapon vesiliuoksen tms.
20 aiheuttamasta rajakerroksen korroosiosta. Ei myöskään ilmene tahraantumista ja likaantumista. Keksinnön tavoite on mahdollista toteuttaa hyvin ohella pää1lystekerroksella, mikä ei aikaisemmin ole ollut mahdollista.
Claims (7)
1. Menetelmä kuparituotteen sitomiseksi alusmate-riaaliin seostamalla sinkkiä sisältävä kerros kuparituot- 5 teen pinnalle päällystekerroksen muodostamiseksi, minkä jälkeen saatu kuparituote laminoidaan tai kuumapuristetaan alusina teriaalille, tunnettu siitä, että kupari-tuotteen pinnalle seostetaan elektrolyyttisesti binäärinen lejeerinki, joka koostuu 95-20 paino-%:sta sinkkiä ja 5-80 10 paino-%:sta nikkeliä, ja binäärinen lejeerinki muutetaan sinkin, nikkelin ja kuparin ternääriseksi lejeeringiksi laminointi- tai kuumapuristusvaiheen aikana.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuparituotteen pinta on tehty 15 karkeaksi seostamalla elektrolyyttisesti kuparituotteen pinnalle rakeinen kuparikerros.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuparituote on kuparikaivo, jota käytetään kuparipäällysteisessä laminaatissa.
4. Jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukainen menetel mä, tunnettu siitä, että päällystekerroksen paksuus on 0,001-0,15 pm.
5. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että päällystekerroksen paksuus on 25 0,001-0,01 pm.
6. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen menetel mä, tunnettu siitä, että binäärinen lejeerinki koostuu 90-50 paino-%:sta sinkkiä ja 10-50 paino-%:sta nikkeliä.
7. Jonkin patenttivaatimuksen 1-6 mukainen mene telmä, tunnettu siitä, että binäärisen lejeeringin elektrolyyttinen saostus suoritetaan käyttämällä elektrolyyttiä, joka peruskomponentteina sisältää kaliumpyrofos-faattia, sinkkipyrofosfaattia ja nikkelipyrofosfaattia. 35 8 81130
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59233572A JPS61110794A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 銅箔の表面処理方法 |
JP23357284 | 1984-11-06 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI854281A0 FI854281A0 (fi) | 1985-10-31 |
FI854281A FI854281A (fi) | 1986-05-07 |
FI81130B true FI81130B (fi) | 1990-05-31 |
FI81130C FI81130C (fi) | 1990-09-10 |
Family
ID=16957172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI854281A FI81130C (fi) | 1984-11-06 | 1985-10-31 | Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4640747A (fi) |
EP (1) | EP0180981B1 (fi) |
JP (1) | JPS61110794A (fi) |
AT (1) | ATE41682T1 (fi) |
DE (1) | DE3569001D1 (fi) |
ES (1) | ES8701857A1 (fi) |
FI (1) | FI81130C (fi) |
NO (1) | NO166729C (fi) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0660435B2 (ja) * | 1989-03-01 | 1994-08-10 | 古河電気工業株式会社 | 銅製熱交換器用フィン材とその製造方法 |
US5063117A (en) * | 1988-12-27 | 1991-11-05 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Copper fin material for heat-exchanger and method of producing the same |
JPH02228495A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 銅製熱交換器用フィン材とその製造方法 |
JPH0713319B2 (ja) * | 1989-01-30 | 1995-02-15 | 古河電気工業株式会社 | 銅製熱交換器用フィン材とその製造方法 |
US5230932A (en) * | 1989-10-13 | 1993-07-27 | Olin Corporation | Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil |
US5098796A (en) * | 1989-10-13 | 1992-03-24 | Olin Corporation | Chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil |
US5250363A (en) * | 1989-10-13 | 1993-10-05 | Olin Corporation | Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil having a dark color |
US5022968A (en) * | 1990-09-20 | 1991-06-11 | Olin Corporation | Method and composition for depositing a chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil |
JPH0819550B2 (ja) * | 1990-06-05 | 1996-02-28 | 福田金属箔粉工業株式会社 | 印刷回路用銅箔の表面処理方法 |
TW230290B (fi) * | 1991-11-15 | 1994-09-11 | Nikko Guruder Foreer Kk | |
JP3292774B2 (ja) * | 1994-02-15 | 2002-06-17 | 三井金属鉱業株式会社 | プリント配線板用銅箔およびその製造方法 |
US5945010A (en) * | 1997-09-02 | 1999-08-31 | Composite Concepts Company, Inc. | Electrode wire for use in electric discharge machining and process for preparing same |
US6015482A (en) * | 1997-12-18 | 2000-01-18 | Circuit Research Corp. | Printed circuit manufacturing process using tin-nickel plating |
JP3142259B2 (ja) * | 1998-11-30 | 2001-03-07 | 三井金属鉱業株式会社 | 耐薬品性および耐熱性に優れたプリント配線板用銅箔およびその製造方法 |
US6579568B2 (en) | 1999-11-29 | 2003-06-17 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Copper foil for printed wiring board having excellent chemical resistance and heat resistance |
JP3743702B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2006-02-08 | 三井金属鉱業株式会社 | プリント配線板のセミアディティブ製造法 |
JP2003051673A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | プリント配線板用銅箔及びそのプリント配線板用銅箔を用いた銅張積層板 |
WO2004005588A1 (ja) * | 2002-07-04 | 2004-01-15 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | キャリア箔付電解銅箔 |
JP2005344174A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 表面処理銅箔及びその表面処理銅箔を用いて製造したフレキシブル銅張積層板並びにフィルムキャリアテープ |
JP2006024902A (ja) * | 2004-06-07 | 2006-01-26 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 極細線パターンを有する配線基板の製造方法および配線基板 |
EP2005343B1 (en) * | 2005-12-01 | 2020-06-03 | Thermocompact | Edm wire |
WO2010010893A1 (ja) * | 2008-07-22 | 2010-01-28 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔及び銅張積層板 |
KR101426038B1 (ko) * | 2008-11-13 | 2014-08-01 | 주식회사 엠디에스 | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
JP2011162860A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面粗化銅箔とその製造方法及び銅張積層板 |
KR101328235B1 (ko) | 2010-05-07 | 2013-11-14 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 인쇄 회로용 동박 |
KR101593282B1 (ko) * | 2010-11-22 | 2016-02-11 | 미쓰이금속광업주식회사 | 표면 처리 동박 |
JP5654416B2 (ja) * | 2011-06-07 | 2015-01-14 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 液晶ポリマー銅張積層板及び当該積層板に用いる銅箔 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3377259A (en) * | 1965-03-15 | 1968-04-09 | Gen Dynamics Corp | Method for preventing oxidation degradation of copper by interposing barrier betweencopper and polypropylene |
US3585010A (en) * | 1968-10-03 | 1971-06-15 | Clevite Corp | Printed circuit board and method of making same |
US3857681A (en) * | 1971-08-03 | 1974-12-31 | Yates Industries | Copper foil treatment and products produced therefrom |
JPS5856758B2 (ja) * | 1975-12-17 | 1983-12-16 | ミツイアナコンダドウハク カブシキガイシヤ | ドウハクヒヨウメンシヨリホウホウ |
US4104134A (en) * | 1977-08-31 | 1978-08-01 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method for making an aluminum or copper substrate panel for selective absorption of solar energy |
US4189331A (en) * | 1978-06-22 | 1980-02-19 | Canada Wire And Cable Limited | Oxidation resistant barrier coated copper based substrate and method for producing the same |
JPS55145396A (en) * | 1979-04-27 | 1980-11-12 | Furukawa Circuit Foil | Copper foil for printed circuit and method of fabricating same |
US4388160A (en) * | 1980-02-20 | 1983-06-14 | Rynne George B | Zinc-nickel alloy electroplating process |
US4268364A (en) * | 1980-03-18 | 1981-05-19 | Inco Research & Development Center Inc. | Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath |
JPS58500149A (ja) * | 1981-02-26 | 1983-01-20 | エレクトロフオイルス テクノロジ− リミテイド | 銅はくの処理方法 |
JPS6012434B2 (ja) * | 1981-08-21 | 1985-04-01 | 荏原ユ−ジライト株式会社 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
EP0097656A4 (en) * | 1982-01-04 | 1986-05-14 | Gen Electric | CONDUCTORS METALLIZED BY ELECTROLYSIS AND TREATED BY AN INCREASED REPLACEMENT PROCESS, AND THEIR MANUFACTURE. |
EP0100777A1 (en) * | 1982-08-10 | 1984-02-22 | The Dow Chemical Company | Process for electroplating metal parts |
EP0112635B1 (en) * | 1982-12-01 | 1987-04-22 | Electrofoils Technology Limited | Treatment of copper foil |
US4572768A (en) * | 1985-06-28 | 1986-02-25 | Square D Company | Treatment for copper foil |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP59233572A patent/JPS61110794A/ja active Granted
-
1985
- 1985-10-23 US US06/790,389 patent/US4640747A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-31 FI FI854281A patent/FI81130C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-11-05 NO NO854402A patent/NO166729C/no not_active IP Right Cessation
- 1985-11-05 ES ES548541A patent/ES8701857A1/es not_active Expired
- 1985-11-06 EP EP85114142A patent/EP0180981B1/en not_active Expired
- 1985-11-06 DE DE8585114142T patent/DE3569001D1/de not_active Expired
- 1985-11-06 AT AT85114142T patent/ATE41682T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO166729B (no) | 1991-05-21 |
EP0180981B1 (en) | 1989-03-22 |
FI81130C (fi) | 1990-09-10 |
NO854402L (no) | 1986-05-07 |
EP0180981A1 (en) | 1986-05-14 |
NO166729C (no) | 1991-08-28 |
ES8701857A1 (es) | 1986-12-01 |
DE3569001D1 (en) | 1989-04-27 |
FI854281A (fi) | 1986-05-07 |
ES548541A0 (es) | 1986-12-01 |
FI854281A0 (fi) | 1985-10-31 |
US4640747A (en) | 1987-02-03 |
ATE41682T1 (de) | 1989-04-15 |
JPS61110794A (ja) | 1986-05-29 |
JPH0447038B2 (fi) | 1992-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI81130B (fi) | Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. | |
US4568413A (en) | Metallized and plated laminates | |
CA1338186C (en) | Circuit board material and electroplating bath for the production thereof | |
US4088544A (en) | Composite and method for making thin copper foil | |
US3936548A (en) | Method for the production of material for printed circuits and material for printed circuits | |
TW480902B (en) | Improved method for forming conductive traces and printed circuits made thereby | |
KR20000047764A (ko) | 우수한 내약품성 및 내열성을 가지는 인쇄배선기판용 동박및 그 제조방법 | |
EP1439952A1 (en) | Copper foil with low profile bond enhancement | |
CN101014460A (zh) | 具有底漆树脂层的带载体箔的电解铜箔及其制造方法 | |
EP0790332B1 (en) | A non-cyanide brass plating bath and a method of making metallic foil having a brass layer using the non-cyanide brass plating bath | |
US5447619A (en) | Copper foil for the manufacture of printed circuit boards and method of producing the same | |
US5322975A (en) | Universal carrier supported thin copper line | |
WO1995003168A1 (en) | Circuit board material with barrier layer | |
KR100325989B1 (ko) | 구리호일의적어도한면에안정화층을형성하는방법과이로부터형성되는구리호일및적층판 | |
US4323632A (en) | Metal composites and laminates formed therefrom | |
EP0250195A2 (en) | Double matte finish copper foil | |
CN102548202B (zh) | 经粗化处理的铜箔及其制造方法 | |
RU2138932C1 (ru) | Медная фольга для производства печатных плат и способ ее получения | |
JPH02113591A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
US4234395A (en) | Metal composites and laminates formed therefrom | |
EP0700238B1 (en) | Copper foil for use in making printed wiring board | |
JP3370316B2 (ja) | プリント配線板用銅箔及びその表面処理方法 | |
JPH02113589A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
JPS6411118B2 (fi) | ||
JPH08335775A (ja) | 印刷回路用銅箔の処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed |
Owner name: MITSUI MINING AND SMELTING CO., LTD. |