FI81130C - Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. - Google Patents

Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. Download PDF

Info

Publication number
FI81130C
FI81130C FI854281A FI854281A FI81130C FI 81130 C FI81130 C FI 81130C FI 854281 A FI854281 A FI 854281A FI 854281 A FI854281 A FI 854281A FI 81130 C FI81130 C FI 81130C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
copper
zinc
nickel
copper product
layer
Prior art date
Application number
FI854281A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI81130B (fi
FI854281A0 (fi
FI854281A (fi
Inventor
Kuniki Ueno
Naotomi Takahashi
Original Assignee
Mitsui Mining & Smelting Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Mining & Smelting Co filed Critical Mitsui Mining & Smelting Co
Publication of FI854281A0 publication Critical patent/FI854281A0/fi
Publication of FI854281A publication Critical patent/FI854281A/fi
Publication of FI81130B publication Critical patent/FI81130B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI81130C publication Critical patent/FI81130C/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/48After-treatment of electroplated surfaces
    • C25D5/50After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/605Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/627Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • H05K3/384Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/03Metal processing
    • H05K2203/0307Providing micro- or nanometer scale roughness on a metal surface, e.g. by plating of nodules or dendrites
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0703Plating
    • H05K2203/0723Electroplating, e.g. finish plating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/11Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
    • H05K2203/1105Heating or thermal processing not related to soldering, firing, curing or laminating, e.g. for shaping the substrate or during finish plating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
    • Y10T29/49144Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by metal fusion

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Golf Clubs (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Description

1 81130
Menetelmä kuparituotteen sitomiseksi alusmateriaaliin Tämä keksintö koskee kuparituotteiden, esimerkiksi painettujen piirilevyjen valmistamiseen käytettävien ku-5 parilevyjen ja vastaavien pintakäsitelymenetelmää. Erityisesti se koskee kuparituotteen pintakäsittelymenetelmää, jossa levy päällystetään sinkki-nikkeli-kupari-seoksella, joka estää kuparilevyn ja pohjamateriaalin välisen repäisy-lujuuden vähenemisen, joka johtuu syövytysliuoksen tai suo-10 lahapon vesiliuoksen ym. aiheuttamasta korroosiosta.
Kuparipäällysteisiä laminaatteja on tavallisesti käytetty painettujen piirilevyjen valmistamiseen sitomalla kuparilevy pohjamateriaaliin. Kuparilevyn pinta, joka kiinnittyy pohjamateriaaliin, on käsitelty erilaisilla 15 kemiallisilla ja elektrokemiallisilla menetelmillä. Levyn ja pohjamateriaalin välisen sidoslujuuden lisäämiseksi kuparilevyn pinta on tehty karkeaksi päällystämällä se elektrolyyttisesti rakeisella kuparikerroksella, jonka jälkeen karkea pinta on päällystetty elektrolyyttisesti kupa-20 rilla, joka sisältää sinkkiä, tinaa, nikkeliä tai messinkiä (US-patentit nro 3 585 010, 3 377 259 ja 2 802 897).
Sinkkikerros estää rakeisenkuparin migraation ja tahraantumisen ja likaantumisen syövytyksen jälkeen. Kerros on sen paksuinen, ettei rakeisenkuparikerroksen suuri 25 sidoslujuus pienene.
Laminoinnissa mainittua kuparilevyä tavallisesti kuumapuristetaan. Lämmön ja paineen vaikutuksesta sinkki-kerros muuttuu messingiksi sinkkikerroksen ja kuparialus-tan diffundoituessa molemmin puolin ja kerros muuttuu 30 keltaiseksi. Kuparilevyn ja pohjamateriaalin laminoinnin jälkeen rajakerros on messinkiä.
Mainitusta kuparipäällysteisestä laminaatista valmistetaan painettu piiri seuraavasti: kuparipäällysteinen laminaatti rei'itetään tai lävistetään. Reikien sisäpin-35 nat aktivoidaan ja päällystetään tasaisesti kuparilla ei-elektrolyyttisesti, jonka jälkeen ne päällystetään 2 81Ί 30 elektrolyyttisesti kuparin paksuuden lisäämiseksi. Sitten mainittu kuparilevy päällystetään valoherkällä aineella ja malli syövytetään halutun piirilevyn saamiseksi.
Kun reikien sisäpintoja aktivoidaan ja malli syö-5 vytetään, joutuu rajakerros so. messinkikerros kosketuksiin suolahapon sisältävän liuoksen kanssa. Edelleen, mal-lisyövytyksen jälkeen saatetaan pinta usein käsitellä erilaisilla päällystysmenetelmillä. Näissä tapauksissa messinkikerros joutuu usein kosketuksiin erilaisten päällyste-10 liuosten ja happamien liuosten kanssa. Koska messinkikerros ei juuri kestä suolahapon vaikutusta, se korrodoituu sinkin poistumisen vuoksi ja kuparilevyn ja pohjalevyn välinen repäisylujuus todennäköisesti vähenee.
Tämän keksinnön tavoite on saada aikaan kuparituot-15 teen, esimerkiksi kuparilevy laminaatin valmistamiseen tarvittavan kuparilevyn, pintakäsittelymenetelmä, jossa kupari-levyn ja pohjamateriaalin väliin muodostuu suolahaponkes-tävä rajakerros.
Tällaisen menetelmän kehittämistä on tutkittu paljon 20 ja on todettu, että käytettäessä sinkki-nikkeliseosta kuparin päällystemetallina, se muuttuu kuparilevyn ja pohjamateriaalin laminoinnissa sinkki-nikkeli-kupari-seokseksi, jolloin suolahapon kestävyys kasvaa ja lisäksi sinkki-nikke-li-seokselle on löydetty tietty koostumus, jolla se hyvin 25 helposti muuttuu sinkki-nikkeli-kupari-seokseksi valmistet taessa kuparipäällysteisiä laminaatteja tavalliseen tapaan.
Tämä keksintö koskee kuparituotteen pintakäsittely-menetelmää, jossa kuparituote päällystetään elektrolyyttisesti binäärisellä seoksella, joka sisältää 95-20 paino-% 30 sinkkiä ja 5-80 paino-% nikkeliä ja mainittu kuparituote laminoidaan tai kuumapuristetaan pohjamateriaaliin, jolloin mainittu binäärinen seos muuttuu sinkin, nikkelin ja kuparin ternääriseksi seokseksi.
Kuten edellä on kuvattu, kuparipäällysteisten lami-35 naattien valmistuksessa pohjamateriaaliin sidottavan kuparilevyn pinta päällystetään elektrolyyttisesti rakei- i 3 81130 sella kuparilla, jotta pinnasta tulisi karkeampi, jolloin kuparilevyn ja pohjamateriaalin välinen repäisylujuus kasvaa ja tämä elektrolyyttisesti päällystetty karkea pinta päällystetään binäärisellä seoksella. Jotta nuDdostu-5 nut päällystekerros ei heikentäisi mainitun karkeanpin- nan repäisylujuutta, olisi sen oltava niin ohut, että pinnan karkeus säilyisi, toisaalta päällystekerroksen on oltava riittävän paksu estämään rakeisen kuparin migraatio. Tällainen päällystekerros on tavallisesti 0,08^um paksu, mutta 10 tässä keksinnössä 0,002^um paksuinen kerros voi olla tarpeeksi paksu, sillä tämän keksinnön sinkki-nikkeli-kupari-seos estää migraation paremmin ja kestää paremmin suolahapon vaikutusta. Levy kuumapuristetaan pohjamateriaaliin päällystetty puoli pohjamateriaalia vasten. Päällystekerrok-15 sen ja kuparialustan välisessä molemminpuolisessa diffuusiossa muodostuu ternäärinen sinkki-nikkeli-kupari-rajaker-ros, joka on erittäin suolahaponkestävä. Kuparilevy lami-noidaan useimmin 170°C lämpötilassa ja 20 kg/ciri paineessa tunnin ajan. Jos päällystekerroksen nikkelipitoisuus 20 on yli 80 paino-%, muuttuminen ternääriseksi seokseksi ei ole riittävää ja jos päällystekerroksen nikkelipitoisuus on alle 5 paino-%, ternäärisen seoksen suolahapon kestävyys vähenee; siis päällystekerroksen nikkelipitoisuus on edullisesti 5-80 paino-%. Nikkelipitoisuus on edul-25 lisimmin 10-50 paino-%. Muuttuminen ternääriseksi seokseksi laminoitaessa on riittävä, kun päällystekerroksen pinta so. päällystekerroksen ja pohjamateriaalin rajapinta ja rajakerros ovat muuttuneet punakeltaisiksi. Päällyste-kerros on edullisesti 0,001-0,15^,um paksu, edullisemmin 30 0,001-0,01^um paksu. Jos kerros on yli 0,15^um paksu, muuttuminen ternääriseksi seokseksi ei ole riittävää tavanomaisissa laminointimenetelmissä ja jos kerros on ohuempi kuin 0,001^um, ternäärisen seoksen kuparipitoisuus tulee hyvin suureksi laminoinnissa eikä seos voi toi-35 mia täydellisesti ternäärisenä. Kun kerros on 0,001-0 ,Olluin 4 81130 paksu, sidoslujuus ja haponkestävyys ovat erittäin suuret.
Tämän keksinnön pintakäsittelymenetelmässä käytettävän elektrolyytin peruskoostumus on seuraava: kaliumpyrofosfaatti 100 g/1 5 sinkkipyrofosfaatti 20 g/1 nikkelipyrofosfaatti 7,5 g/1 Tämä koostumus vastaa tapausta, jossa binääriseok-sen nikkelipitoisuus on 30 paino-%. Muuttamalla nikkeli-10 pyrofosfaatin nikkelipitoisuutta voidaan elektrolyyttiseen päällystykseen käytettävän binääriseoksen nikkeli-pitoisuutta muuttaa. Esimerkiksi, kun nikkelipyrofosfaa-tin nikkelipitoisuus on 1,2. 2,4 14 tai 19 g/1, on elektrolyyttisesti kiinnitettävän binääriseoksen pitoisuus 5, 10, 15 60 tai 80 paino-%. Elektrolyytin pH:n ollessa esimerkiksi 2 9,5 ja lämpötilan 25°C, tapahtuu kiinnittyminen 0,2 A/dm virrantiheydellä noin 10 sekunnissa.
Keksintöä kuvaillaan tarkemmin esimerkillä.
Tämän keksinnön kuparituotteen pintakäsittelymene-20 telmällä voidaan tehdä haponkestäviksi muitakin kupari- tuotteita kuin kuparipäällysteisten laiänaattojen valmistamiseen tarvittavat kuparilevyt. Näissä tapauksissa kupari-tuotteita ei aina sidota pohjamateriaaleihin.
Esimerkki 25 Elektrolyyttisesti karkearakeisella kuparilla päällystetty kuparilevy päällystettiin 0,005^um paksulla päällystekerroksella, joka koostui sinkin ja nikkelin binäärisestä seoksesta, jonka nikkelipitoisuus vaihteli taulukossa 1 esitetysti. Muodostunut kerros sidottiin lasi- 30 kuituvahvisteiseen epoksilevyyn 160°C lämpötilassa ja 2 20 kg/cm paineessa tunnin ajan,jolloin muodostui kupari-päällysteinen laminaatti. Kun nikkelipitoisuus oli 80 paino-%, muodostunut rajakerros säilyi valkeanharmaana, mutta kun nikkelipitoisuus oli 5-70 paino-%, muuttui ker-35 ros punakeltaiseksi.
5 81130
Vertailun vuoksi valmistettiin elektrolyyttisesti sinkillä sinkkikylvyssä päällystetty kuparilevy ja elektrolyyttisesti sinkki-kupari-seoksella tavanomaisessa syanidi-kylvyssä päällystetty kuparilev ja näistä levyistä val-5 mistettiin kuparipäällysteiset laminaatit samalla tavoin kuin edellisistä levyistä. Sinkkipäällyste- ja sinkki-kupari-päällystekerrokset olivat myös 0,005yUm paksut.
Seuraavaksi vertailtiin tämän keksinnön mukaisista binäärisellä seoksella päällyststyistä kuparilevyistä 10 valmistettujen kuparipäällysteisten laminaattien ja tavanomaisista kuparilevyistä valmistettujen kuparipäällysteisten laminaattien immersiokokeita suolahapon vesiliuoksessa sidoslujuuden prosentuaalisen vähenemisen määrittämiseksi.
15 Testinäytteiden valmistamiseksi kupariläällysteisiin laminaatteihin syövytettiin tavanomaisella menetelmällä suorakulmion nuotoinen mallikuvio, jonka leveys oli 0,8 mm ja pituus 50 mm.
Prosentuaalinen väheneminen laskettiin seuraavasta 20 kaavasta: C=[(A-B)/ä] X100 2 missä A on sidoslujuus (kg/cm ) kuparilevyn laminoinnin jälkeen, B on sidoslujuus (kg/cm ) 30 minuutin pituisen 25 immersion jälkeen 20 % suolahapon vesiliuoksessa lämpötilan ollessa 25°C, kumpikin on mitattu 90° repäisykokee11a ja C on prosentuaalinen väheneminen (%), joka ilmaisee sidoslujuuden vähenemisen A:sta B:hen. Tulokset ovat taulukossa 1. Tulokset osoittavat selvästi, että prosentuaali-30 nen väheneminen on erittäin pientä, kun käytetään tämän keksinnön kuparilevyä. Tämä osoittaa, että kuparilevyn ja pohjamateriaalin välisen rajakerroksen suolahapon kestävyys on erittäin korkea.
6 81130
Taulukko 1
Ni-pitoisuus A Ö C
(¾) (klg/cm) (kg/cm) (%) i 2720 TT^i 3Ö~ 5 5 2,20 1,98 10 tämä 10 2,25 2,19 3 keksintö 3Q 2(25 2>22 l 50 2,25 2,20 2 _ 80__2,05 2,03 1_ 10 Zn-kerros 2,05 1,56 2^
Zn-Cu-kerros__2,05 1,56__Zk
Huom. "Zn-kerros" ja "Zn-Cu-kerros" viittaavat tavanomaisiin tuotteisiin.
15 Edellisestä ilmenee selvästi/ että tämän keksinnön mukaisesti pintakäsittelymenetelmällä käsitellyn kupari-levyn rajakerros on erittäin haponkestävää; siispä painettujen piirilevyjen valmistuksessa ei ole suurtakaan pelkoa syövytys liuoksen, suolahapon vesiliuoksen tms.
20 aiheuttamasta rajakerroksen korroosiosta. Ei myöskään ilmene tahraantumista ja likaantumista. Keksinnön tavoite on mahdollista toteuttaa hyvin ohella pää1lystekerroksella, mikä ei aikaisemmin ole ollut mahdollista.
i

Claims (7)

7 81130
1. Menetelmä kuparituotteen sitomiseksi alusmate-riaaliin seostamalla sinkkiä sisältävä kerros kuparituot- 5 teen pinnalle päällystekerroksen muodostamiseksi, minkä jälkeen saatu kuparituote laminoidaan tai kuumapuristetaan alusina teriaalille, tunnettu siitä, että kupari-tuotteen pinnalle seostetaan elektrolyyttisesti binäärinen lejeerinki, joka koostuu 95-20 paino-%:sta sinkkiä ja 5-80 10 paino-%:sta nikkeliä, ja binäärinen lejeerinki muutetaan sinkin, nikkelin ja kuparin ternääriseksi lejeeringiksi laminointi- tai kuumapuristusvaiheen aikana.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuparituotteen pinta on tehty 15 karkeaksi seostamalla elektrolyyttisesti kuparituotteen pinnalle rakeinen kuparikerros.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuparituote on kuparikaivo, jota käytetään kuparipäällysteisessä laminaatissa.
4. Jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukainen menetel mä, tunnettu siitä, että päällystekerroksen paksuus on 0,001-0,15 pm.
5. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että päällystekerroksen paksuus on 25 0,001-0,01 pm.
6. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen menetel mä, tunnettu siitä, että binäärinen lejeerinki koostuu 90-50 paino-%:sta sinkkiä ja 10-50 paino-%:sta nikkeliä.
7. Jonkin patenttivaatimuksen 1-6 mukainen mene telmä, tunnettu siitä, että binäärisen lejeeringin elektrolyyttinen saostus suoritetaan käyttämällä elektrolyyttiä, joka peruskomponentteina sisältää kaliumpyrofos-faattia, sinkkipyrofosfaattia ja nikkelipyrofosfaattia. 35 8 81130
FI854281A 1984-11-06 1985-10-31 Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial. FI81130C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59233572A JPS61110794A (ja) 1984-11-06 1984-11-06 銅箔の表面処理方法
JP23357284 1984-11-06

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI854281A0 FI854281A0 (fi) 1985-10-31
FI854281A FI854281A (fi) 1986-05-07
FI81130B FI81130B (fi) 1990-05-31
FI81130C true FI81130C (fi) 1990-09-10

Family

ID=16957172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI854281A FI81130C (fi) 1984-11-06 1985-10-31 Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4640747A (fi)
EP (1) EP0180981B1 (fi)
JP (1) JPS61110794A (fi)
AT (1) ATE41682T1 (fi)
DE (1) DE3569001D1 (fi)
ES (1) ES8701857A1 (fi)
FI (1) FI81130C (fi)
NO (1) NO166729C (fi)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0660435B2 (ja) * 1989-03-01 1994-08-10 古河電気工業株式会社 銅製熱交換器用フィン材とその製造方法
JPH0713319B2 (ja) * 1989-01-30 1995-02-15 古河電気工業株式会社 銅製熱交換器用フィン材とその製造方法
JPH02228495A (ja) * 1989-03-01 1990-09-11 Furukawa Electric Co Ltd:The 銅製熱交換器用フィン材とその製造方法
US5063117A (en) * 1988-12-27 1991-11-05 The Furukawa Electric Co., Ltd. Copper fin material for heat-exchanger and method of producing the same
US5098796A (en) * 1989-10-13 1992-03-24 Olin Corporation Chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil
US5250363A (en) * 1989-10-13 1993-10-05 Olin Corporation Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil having a dark color
US5230932A (en) * 1989-10-13 1993-07-27 Olin Corporation Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil
US5022968A (en) * 1990-09-20 1991-06-11 Olin Corporation Method and composition for depositing a chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil
JPH0819550B2 (ja) * 1990-06-05 1996-02-28 福田金属箔粉工業株式会社 印刷回路用銅箔の表面処理方法
TW230290B (fi) * 1991-11-15 1994-09-11 Nikko Guruder Foreer Kk
JP3292774B2 (ja) * 1994-02-15 2002-06-17 三井金属鉱業株式会社 プリント配線板用銅箔およびその製造方法
US5945010A (en) * 1997-09-02 1999-08-31 Composite Concepts Company, Inc. Electrode wire for use in electric discharge machining and process for preparing same
US6015482A (en) * 1997-12-18 2000-01-18 Circuit Research Corp. Printed circuit manufacturing process using tin-nickel plating
JP3142259B2 (ja) * 1998-11-30 2001-03-07 三井金属鉱業株式会社 耐薬品性および耐熱性に優れたプリント配線板用銅箔およびその製造方法
US6579568B2 (en) 1999-11-29 2003-06-17 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Copper foil for printed wiring board having excellent chemical resistance and heat resistance
JP3743702B2 (ja) * 2000-04-28 2006-02-08 三井金属鉱業株式会社 プリント配線板のセミアディティブ製造法
JP2003051673A (ja) * 2001-08-06 2003-02-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd プリント配線板用銅箔及びそのプリント配線板用銅箔を用いた銅張積層板
WO2004005588A1 (ja) * 2002-07-04 2004-01-15 Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. キャリア箔付電解銅箔
JP2005344174A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 表面処理銅箔及びその表面処理銅箔を用いて製造したフレキシブル銅張積層板並びにフィルムキャリアテープ
JP2006024902A (ja) * 2004-06-07 2006-01-26 Shinko Electric Ind Co Ltd 極細線パターンを有する配線基板の製造方法および配線基板
PL2005343T3 (pl) * 2005-12-01 2020-11-16 Thermocompact Drut EDM
WO2010010893A1 (ja) * 2008-07-22 2010-01-28 古河電気工業株式会社 表面処理銅箔及び銅張積層板
KR101426038B1 (ko) * 2008-11-13 2014-08-01 주식회사 엠디에스 인쇄회로기판 및 그 제조방법
JP2011162860A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Furukawa Electric Co Ltd:The 表面粗化銅箔とその製造方法及び銅張積層板
WO2011138876A1 (ja) 2010-05-07 2011-11-10 Jx日鉱日石金属株式会社 印刷回路用銅箔
WO2012070589A1 (ja) * 2010-11-22 2012-05-31 三井金属鉱業株式会社 表面処理銅箔
JP5654416B2 (ja) * 2011-06-07 2015-01-14 Jx日鉱日石金属株式会社 液晶ポリマー銅張積層板及び当該積層板に用いる銅箔

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3377259A (en) * 1965-03-15 1968-04-09 Gen Dynamics Corp Method for preventing oxidation degradation of copper by interposing barrier betweencopper and polypropylene
US3585010A (en) * 1968-10-03 1971-06-15 Clevite Corp Printed circuit board and method of making same
US3857681A (en) * 1971-08-03 1974-12-31 Yates Industries Copper foil treatment and products produced therefrom
JPS5856758B2 (ja) * 1975-12-17 1983-12-16 ミツイアナコンダドウハク カブシキガイシヤ ドウハクヒヨウメンシヨリホウホウ
US4104134A (en) * 1977-08-31 1978-08-01 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method for making an aluminum or copper substrate panel for selective absorption of solar energy
US4189331A (en) * 1978-06-22 1980-02-19 Canada Wire And Cable Limited Oxidation resistant barrier coated copper based substrate and method for producing the same
JPS55145396A (en) * 1979-04-27 1980-11-12 Furukawa Circuit Foil Copper foil for printed circuit and method of fabricating same
US4388160A (en) * 1980-02-20 1983-06-14 Rynne George B Zinc-nickel alloy electroplating process
US4268364A (en) * 1980-03-18 1981-05-19 Inco Research & Development Center Inc. Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath
EP0072830B2 (en) * 1981-02-26 1989-04-19 Electrofoils Technology Limited Treatment of copper foil
JPS6012434B2 (ja) * 1981-08-21 1985-04-01 荏原ユ−ジライト株式会社 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液
JPS59500034A (ja) * 1982-01-04 1984-01-05 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 電気めっきされた増量置換処理導体およびその形成方法
EP0100777A1 (en) * 1982-08-10 1984-02-22 The Dow Chemical Company Process for electroplating metal parts
EP0112635B1 (en) * 1982-12-01 1987-04-22 Electrofoils Technology Limited Treatment of copper foil
US4572768A (en) * 1985-06-28 1986-02-25 Square D Company Treatment for copper foil

Also Published As

Publication number Publication date
FI81130B (fi) 1990-05-31
ATE41682T1 (de) 1989-04-15
ES8701857A1 (es) 1986-12-01
JPH0447038B2 (fi) 1992-07-31
FI854281A0 (fi) 1985-10-31
US4640747A (en) 1987-02-03
JPS61110794A (ja) 1986-05-29
EP0180981B1 (en) 1989-03-22
EP0180981A1 (en) 1986-05-14
DE3569001D1 (en) 1989-04-27
ES548541A0 (es) 1986-12-01
NO166729B (no) 1991-05-21
NO854402L (no) 1986-05-07
NO166729C (no) 1991-08-28
FI854281A (fi) 1986-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI81130C (fi) Foerfarande foer bindande av en kopparprodukt till ett underlagsmaterial.
US4568413A (en) Metallized and plated laminates
CA1338186C (en) Circuit board material and electroplating bath for the production thereof
US4088544A (en) Composite and method for making thin copper foil
US3936548A (en) Method for the production of material for printed circuits and material for printed circuits
US4357395A (en) Transfer lamination of vapor deposited foils, method and product
TW480902B (en) Improved method for forming conductive traces and printed circuits made thereby
CN101014460B (zh) 具有底漆树脂层的带载体箔的电解铜箔及其制造方法
KR20000047764A (ko) 우수한 내약품성 및 내열성을 가지는 인쇄배선기판용 동박및 그 제조방법
WO2003022569A1 (en) Copper foil with low profile bond enhancement
US5447619A (en) Copper foil for the manufacture of printed circuit boards and method of producing the same
EP0790332B1 (en) A non-cyanide brass plating bath and a method of making metallic foil having a brass layer using the non-cyanide brass plating bath
US5322975A (en) Universal carrier supported thin copper line
EP0710177A1 (en) Circuit board material with barrier layer
KR100325989B1 (ko) 구리호일의적어도한면에안정화층을형성하는방법과이로부터형성되는구리호일및적층판
CN1831203A (zh) 电沉积铜箔
US4323632A (en) Metal composites and laminates formed therefrom
EP0250195A2 (en) Double matte finish copper foil
CN102548202B (zh) 经粗化处理的铜箔及其制造方法
EP0839440B1 (en) Copper foil for the manufacture of printed circuits and method of producing same
JPH02113591A (ja) 印刷配線板の製造方法
US4234395A (en) Metal composites and laminates formed therefrom
JPH02113589A (ja) 印刷配線板の製造方法
JPS6411118B2 (fi)
KR840001643B1 (ko) 인쇄 회로용 동박(銅箔)

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: MITSUI MINING AND SMELTING CO., LTD.