FI120832B - Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi - Google Patents
Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi Download PDFInfo
- Publication number
- FI120832B FI120832B FI20070932A FI20070932A FI120832B FI 120832 B FI120832 B FI 120832B FI 20070932 A FI20070932 A FI 20070932A FI 20070932 A FI20070932 A FI 20070932A FI 120832 B FI120832 B FI 120832B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- glass
- strength
- coating film
- thin
- coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
- B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/225—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/214—Al2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/28—Other inorganic materials
- C03C2217/281—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24471—Crackled, crazed or slit
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi Keksinnön ala 5 Keksinnön kohteena on patenttivaatimuksen 1 johdannon mukainen menetelmä ohuen, ainakin joltain kohtaa paksuudeltaan alle 3 millimetriä paksun lasituotteen lujuuden parantamiseksi pinnoitteen avulla, joka pinnoite koostuu ainakin yhdestä alle 5 nanometriä paksusta kerroksesta.
10 Tekniikan tason kuvaus
Lasituotteen lasin paksuus on merkittävä tuotteen ominaisuuksiin vaikuttava tekijä. Lasipakkauksen taloudellisuuden kannalta on oleellista, että lasipakkaus on mahdollisimman kevyt, eli tuotteen seinämäpaksuuden 15 tulee olla mahdollisimman pieni. Ohuita tasolaseja tarvitaan enenevästi esimerkiksi näyttöjen, aurinkokennojen ja vastaavien tuotteiden valmistuksessa.
Tuotettaessa laseja, joiden lujuuden tulee olla erittäin suuri, alkavat 20 lasituotteen pinnalla olevat pienet naarmut olla merkityksellisiä lujuuden kannalta. Naarmut heikentävät lasituotteen lujuutta, koska naarmujen kärjessä oleva jännitys voi ylittää tason, jonka jälkeen särö etenee naarmun kärjestä 'räjähdysmäisesi' läpi lasituotteen. Jännitys naarmun eli särön kärjessä on sitä suurempi, mitä terävämpi naarmun kärki on, eli mitä 25 pienempi on naarmun kärjen säde, ja mitä suurempi on särön pituus (lasin sisäänpäin).
Ohut lasituote särkyy helposti, joten ohuen lasituotteen lujuuden kasvattaminen on merkittävä tekninen ja taloudellinen haaste. Tasolasin 30 lujuutta on perinteisesti kasvattamalla karkaisemalla lasi termisesti, eli lämmittämällä lasi noin 650°C lämpötilaan ja jäähdyttämällä lasi nopeasti niin 2 että lasin pinta jää puristusjännitykseen. Tämä menetelmä ei kuitenkaan ole käyttökelpoinen ohuelle (tyypillisesti alle 2-3 mm paksulle) lasille.
Ohuen lasin lujuutta on parannettu esimerkiksi patenttijulkaisussa GB 5 1223775, julk. 3.3. 1971, Nippon Sheet Glass Co., Ltd., esitetyssä menetelmässä, jossa lasi upotetaan ainakin 15 minuutin ajaksi sulaan kaliumnitraattikylpyyn, jolloin natriumia sisältävän lasin ja kylvyssä olevan kaliumin kesken tapahtuu natrium/ioninvaihto, jonka ansiosta lasin pintakerros asettuu puristusjännitykseen. Menetelmä pienentää lasin 10 pinnassa olevaan naarmuun kohdistuvaa jännitystä, mutta ei pienennä naarmun kärjen sädettä eikä särön pituutta. Menetelmä ei ole käyttökelpoinen natriumia sisältämättömän lasin, kuten kvartsilasin lujuuden parantamiseen.
15 Patenttihakemusjulkaisussa PCT/EP88/00519, julk. 15.12.1988,
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V., on esitetty menetelmä lasituotteen lujittamiseksi, jossa menetelmässä lasin pinnalle tuotetaan sooli-geelimenetelmällä pinnoite, joka sisältää ainakin yhtä alkuaineista Si, AI, Ti ja Zr. Tällainen sooligeelipinnoite asettaa lasin pinnan 20 puristusjännitykseen, mutta nestemäiset lähtöaineet eivät kykene tunkeutumaan lasin pinnassa olevien pieniin naarmuihin, jolloin pinnoitteen alle jää pienisäteinen ja mahdollisesti syvä jännityskohta.
Patenttihakemusjulkaisussa US 2006/0093833 AI, julk. 4.5.2006, Dirk 25 Meyer et ai., on esitetty parannetun lujuuden omaava kvartsilasista valmistettu komponentti, joka perustuu siihen, että kvartsilasin pinnalle kasvatetaan kiteinen alumiinisilikaattipinnoite, joka muodostaa lasin kanssa osittain yhteensulautuneen kerroksen, jossa on joko konsentraatio- tai struktuurigradientti. Tuotteen valmistus vaatii lämpökäsittelyn, jotta 30 kyseinen yhteensulautunut kerros saadaan aikaiseksi. Lämpökäsittelyn yhteydessä lasissa olevien naarmujen kärkien säde ja särön pituus saattaa muuttua, vaikka sitä ei kyseisessä julkaisussa mainitakaan. Lämpökäsittely ei 3 kuitenkaan ole suotavaa, sillä lämpökäsittely aiheuttaa helposti ohueen lasituotteeseen optisia virheitä. Kyseisessä patenttijulkaisussa esitetty lasituotteen lujuuden parantuminen perustuu pääosin kiteisen pinnoitteen lasia alempaan lämpölaajenemiskertoimeen.
5
Alan ammattimiehelle on tunnettua, että lasituotteen lujuutta voidaan parantaa tekemällä lasille liekkikiillotus (engl. fire polish), jossa lasituotetta lämmitetään kaasupolttimen avulla ja kaasupolttimen liekistä lasin pintaan siirtyvä lämpö saa aikaan lasin pinnan pehmenemisen, jolloin lasituotteessa 10 olevat naarmut pienentyvät ja/tai sulkeutuvat. Liekkikiillotus saa kuitenkin helposti aikaan lasin optisen laadun huonontumisen, erityisesti kun kyseessä on ohut lasituote, kuten ohut näyttölasi.
Tunnetussa tekniikassa ei ole esitetty menetelmää, jossa lasituotteen 15 lujuuden parantaminen perustuu lasissa olevien naarmujen kärjen säteen kasvattamiseen tai särön pituuden pienentämiseen lasin jäähdytyslämpötilaa alemmassa lämpötilassa. Lasin jäähdytyslämpötila on lämpötila, jossa lasin dynaamisen viskositeetin (Poiseina) 10-kantainen logaritmi on noin 13,4. Lasi jäähdytyslämpötila on esimerkiksi soodalasille 480 - 550 °C, 20 borosilikaattilasille 530 - 600 °C, alumiinisilikaattilasille 700 - 800 °C ja kvartsilasille 1100 - 1200 °C (N.P.Bansal ja R.H.Doremus, Handbook of Glass Properties, (1986) Academic Press, Inc. Orlando, s.14-15 ja 223-226). Jäähdytyslämpötilassa ja sen alapuolella lasiin on lukkiutunut sen rakenne eikä se enää muutu, kuten jäähdytyslämpötilaa ylemmissä lämpötiloissa.
25 Esimerkiksi lasissa olevien naarmujen korjaaminen vaatii huomattavasti lasin jäähdytyslämpötilaa ylemmän lasin lämpötilan.
Tunnetun tekniikan ongelma on siis, ettei ohuen lasituotteen lujuutta voida parantaa lasin pinnassa olevien naarmujen kärjen sädettä 30 kasvattamalla ja/tai särön pituutta pienentämällä huonontamatta lasin optisia ominaisuuksia. Edelleen on tarve ohuelle lasituotteelle, jonka lujuus on tunnetun tekniikan mukaista ohutta lasia parempi.
4
Keksinnön yhteenveto
Esillä olevan keksinnön tarkoituksena on aikaansaada menetelmä, jolla 5 edellä mainittu ongelma saadaan ratkaistua. Edelleen esillä olevan keksinnön tarkoituksena on aikaansaada ohut ja luja lasituote.
Esillä olevan keksinnön mukaisen menetelmän tavoitteet saavutetaan patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosan mukaisella menetelmällä, jolle on 10 tunnusomaista, että lasi pinnoitetaan ohuilla pinnoitekerroksilla, jolloin pinnoitteen kasvattamiseen käytetty materiaali kykenee tunkeutumaan lasissa olevien naarmujen kärkiin saakka. Sen lisäksi, että pinnoitekalvo pienentää lasissa olevia naarmuja, parantaa se lasin lujuutta todennäköisesti myös kemiallisesti, sillä atomikerroskasvatusmenetelmällä kasvatettu 15 pinnoitekalvo muodostaa substraatin, eli tässä tapauksessa lasin, kanssa kemiallisen sidoksen, eli on kemisorptiolla kiinni lasin pinnassa.
Esimerkki: Alumiinioksidipinnoitettu ohut tasolasi 20 Lasituote valmistettiin asettamalla Beneq TFS500 atomikerroskasvatus(ALD)reaktoriin 50 kpl mikroskooppilaseja, joiden ulkomitat olivat 25,4 x 76,2 mm, ja joiden paksuus oli 1,2 mm. Reaktorikammion lämpötila oli 200°C. Lähtöaineina käytettiin trimetyylialumiinia (TMA) ja vettä. Pulssiajat TMA:lle ja vedelle olivat 1,2 s ja 25 0,8 s, vastaavasti. Pulssiajat olivat riittävän pitkiä, jotta prosessissa tapahtui tasainen itserajoittuva pinnoitekalvon kasvu. Kasvatussyklien määrä oli 180. Kasvatettujen kalvojen paksuus oli 20 nm ja paksuusvaihtelu alle 3 %.
Pinnoitettujen lasien taivutusmurtolujuus mitattiin 30 nelipistetaivutuksella. Vastaavasti pinnoittamattomien referenssilasien taivutusmurtolujuus mitattiin nelipistetaivutuksella.
5
Referenssilasien mittaus antoi seuraavat tulokset:
Taivutusmurtolujuuden keskiarvo (N/mm2): 167.40
Taivutusmurtolujuuden mediaani (N/mm2): 162.24
Taivutusmurtolujuuden keskihajonta (N/mm2): 46.77
Weibull kerroin (Suurin uskottavuus): 4.24
Weibull kerroin (korjattu): I 3.63
Suurin uskottavuus o0 (murtumiskerroin) (N/mm2): 184.50
Ominaislujuus (lcm3:lle) (N/mm2): 81.06 o0 on (90%) tod. näk. välillä (N/mm2): 158.61 215.71
Weibull kerroin on (90%) tod. näk. välillä: 2.35 5.73
Pinnoitettujen lasien mittaus antoi seuraavat tulokset: 5
Taivutusmurtolujuuden keskiarvo (N/mm2): 180.89
Taivutusmurtolujuuden mediaani (N/mm2): 170.21
Taivutusmurtolujuuden keskihajonta (N/mm2): 31.26
Weibull kerroin (Suurin uskottavuus): 6.18
Weibull kerroin (korjattu): 5.30
Suurin uskottavuus o0 (murtumiskerroin) (N/mm2): 193.91
Ominaislujuus (lcm3:lle) (N/mm2): 103.16 o0 on (90%) tod. näk. välillä (N/mm2): 174.81 215.85
Weibull kerroin on (90%) tod. näk. välillä: 3.42 8.36
Pinnoitettujen lasien lujuus oli siis suurempi kuin referenssilasien.
Kuvatun kaltainen lujuuden parantuminen voidaan aikaansaada myös 10 muilla metallioksidikalvoilla kuin esimerkissä mainitulla alumiinioksidikalvolla. Niinpä kalvo voi olla esimerkiksi zirkoniumoksidia, piidioksidia, sinkkioksidia tai titaanioksidia. Kalvo voi olla myös muuta kuin oksidia, kuten nitridiä, esimerkiksi boorin, piin tai alumiinin nitridiä.
15 6
Esimerkki on tarkoitettu vain havainnollistamaan keksinnön ajatusta. Yksityiskohdiltaan keksintö voi vaihdella patenttivaatimusten puitteissa.
Claims (8)
1. Menetelmä ohuen lasin, jonka paksuus on ainakin osassa lasia 5 korkeintaan 3 mm, lujuuden kasvattamiseksi pinnoitteen avulla, tunnettu siitä, että lasin pinnalle kasvatetaan itserajoittuvalla kasvatusmenetelmällä, edullisesti atomikerroskasvatusmenetelmällä, ainakin yhdestä kerroksesta muodostuva ainakin yhden alkuaineen yhdistettä sisältävä pinnoitekalvo, jossa yhden kasvatussyklin aikana 10 kasvatetun yksittäisen kerroksen paksuus on alle 5 nanometriä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kasvatettujen kerrosten kokonaispaksuus, eli pinnoitekalvon paksuus on alle 1000 nanometriä.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että 15 kasvatettujen kerrosten kokonaispaksuus, eli pinnoitekalvon paksuus on alle 100 nanometriä.
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä että pinnoitekalvo sisältää ainakin yhden alkuaineen oksidia.
5. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että 20 pinnoitekalvo sisältää ainakin alumiinin, zirkoniumin, sinkin, piin tai titaanin oksidia.
6. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että pinnoitekalvo sisältää ainakin yhden alkuaineen nitridiä.
7. Patenttivaatimuksen 6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että 25 pinnoitekalvo sisältää ainakin boorin, piin tai alumiinin nitridiä.
8. Jonkin patenttivaatimuksista 1-7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että pinnoitekalvon kasvatuslämpötila on pienempi kuin lasin jäähdytyslämpötila.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20070932A FI120832B (fi) | 2007-12-03 | 2007-12-03 | Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi |
EP08856476.0A EP2231537A4 (en) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | PROCESS FOR INCREASING THE DURABILITY OF GLASS AND GLASS PRODUCT |
JP2010535421A JP2011505316A (ja) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | ガラス及びガラス製品の耐久性を高める方法 |
PCT/FI2008/050701 WO2009071741A1 (en) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | Method for increasing the durability of glass and a glass product |
US12/746,107 US8758851B2 (en) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | Method for increasing the durability of glass |
KR1020107014763A KR20100097199A (ko) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | 유리 제품 및 유리의 내구성을 증가시키는 방법 |
EA201000927A EA020440B1 (ru) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | Способ повышения прочности на изгиб стекла с помощью покрытия и содержащее покрытие стекло |
CN200880125632.3A CN101925550B (zh) | 2007-12-03 | 2008-12-01 | 增加玻璃耐久性的方法和玻璃制品 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20070932 | 2007-12-03 | ||
FI20070932A FI120832B (fi) | 2007-12-03 | 2007-12-03 | Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI20070932A0 FI20070932A0 (fi) | 2007-12-03 |
FI20070932A FI20070932A (fi) | 2009-06-04 |
FI120832B true FI120832B (fi) | 2010-03-31 |
Family
ID=38951470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI20070932A FI120832B (fi) | 2007-12-03 | 2007-12-03 | Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8758851B2 (fi) |
EP (1) | EP2231537A4 (fi) |
JP (1) | JP2011505316A (fi) |
KR (1) | KR20100097199A (fi) |
CN (1) | CN101925550B (fi) |
EA (1) | EA020440B1 (fi) |
FI (1) | FI120832B (fi) |
WO (1) | WO2009071741A1 (fi) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI122616B (fi) | 2010-02-02 | 2012-04-30 | Beneq Oy | Vahvistettu rakennemoduuli ja sen valmistusmenetelmä |
CN102468307A (zh) * | 2010-11-15 | 2012-05-23 | 联建(中国)科技有限公司 | 基板模组、显示面板以及触控面板 |
CN104081456B (zh) | 2011-11-23 | 2018-07-03 | 康宁股份有限公司 | 用于保护玻璃板的气相沉积方法 |
JP5940465B2 (ja) * | 2013-01-21 | 2016-06-29 | 太陽誘電株式会社 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JP6245008B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-12-13 | 旭硝子株式会社 | 光学素子及び光学素子の製造方法 |
DE102014010241A1 (de) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Schott Ag | Körper, bevorzugt mit einer Oberfläche umfassend bevorzugt einen Glaskörper mit einer Glasoberfläche und Verfahren zur Herstellung desselben |
CN106116172A (zh) * | 2016-06-27 | 2016-11-16 | 中山大学 | 一种钢化玻璃耐磨氧化铝镀膜层及其制备方法 |
US20200156991A1 (en) * | 2018-11-20 | 2020-05-21 | Corning Incorporated | Glass articles having damage-resistant coatings and methods for coating glass articles |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1223775A (en) | 1968-03-16 | 1971-03-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of strengthening glass of thin dimension |
JPS59207856A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-26 | Asahi Glass Co Ltd | 熱線反射ガラス |
JPH0819518B2 (ja) * | 1986-06-02 | 1996-02-28 | 株式会社シンクロン | 薄膜形成方法および装置 |
DE3719339A1 (de) | 1987-06-10 | 1988-12-22 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur herstellung von glaesern mit erhoehter bruchfestigkeit |
JP2663471B2 (ja) * | 1988-01-08 | 1997-10-15 | 日本電気株式会社 | 絶縁薄膜の製造方法 |
US5162136A (en) * | 1988-08-01 | 1992-11-10 | Blum Yigal D | Process for increasing strength of glass by forming ceramic coating on glass surface |
KR900007740A (ko) | 1988-11-04 | 1990-06-01 | 후루모또 지로 | 유리보강법과 그에 사용되는 필름 형성 합성물 및 그 강화 유리제품 |
US6461731B1 (en) * | 1999-05-03 | 2002-10-08 | Guardian Industries Corp. | Solar management coating system including protective DLC |
JP2000344544A (ja) | 1999-06-02 | 2000-12-12 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス物品 |
DE10019355A1 (de) * | 2000-04-18 | 2001-10-31 | Schott Glas | Glaskörper mit erhöhter Festigkeit |
US6819650B2 (en) * | 2001-01-12 | 2004-11-16 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical disc having land pre-pits and variable groove depths |
US6783719B2 (en) * | 2001-01-19 | 2004-08-31 | Korry Electronics, Co. | Mold with metal oxide surface compatible with ionic release agents |
US20030020210A1 (en) * | 2001-01-19 | 2003-01-30 | Korry Electronics Co.. | Mold with metal oxide surface compatible with ionic release agents |
JP2002286872A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Citizen Watch Co Ltd | 時計用風防ガラスおよび時計 |
US6824816B2 (en) * | 2002-01-29 | 2004-11-30 | Asm International N.V. | Process for producing metal thin films by ALD |
DE10219812A1 (de) * | 2002-05-02 | 2003-11-13 | Univ Dresden Tech | Bauteile mit kristallinen Beschichtungen des Systems Aluminiumoxid/Siliziumoxid und Verfahren zu deren Herstellung |
US7553686B2 (en) * | 2002-12-17 | 2009-06-30 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Al2O3 atomic layer deposition to enhance the deposition of hydrophobic or hydrophilic coatings on micro-electromechanical devices |
US7198820B2 (en) * | 2003-02-06 | 2007-04-03 | Planar Systems, Inc. | Deposition of carbon- and transition metal-containing thin films |
JP2007516347A (ja) * | 2003-05-16 | 2007-06-21 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 原子層蒸着によって製造されたプラスチック基板用のバリアフィルム |
US6974779B2 (en) * | 2003-09-16 | 2005-12-13 | Tokyo Electron Limited | Interfacial oxidation process for high-k gate dielectric process integration |
JP2006083043A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Hitachi Ltd | ガラス材とその製造方法 |
JP4375617B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2009-12-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用潤滑剤の製造方法、磁気ディスク用潤滑剤、磁気ディスクおよび磁気ディスクの製造方法 |
FI117728B (fi) * | 2004-12-21 | 2007-01-31 | Planar Systems Oy | Monikerrosmateriaali ja menetelmä sen valmistamiseksi |
JP2007073879A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
US7582161B2 (en) * | 2006-04-07 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Atomic layer deposited titanium-doped indium oxide films |
US20080044722A1 (en) * | 2006-08-21 | 2008-02-21 | Brother International Corporation | Fuel cell with carbon nanotube diffusion element and methods of manufacture and use |
TWI307558B (en) * | 2006-09-27 | 2009-03-11 | Sino American Silicon Prod Inc | Method of facbricating buffer layer on substrate |
DE102007025577B4 (de) * | 2007-06-01 | 2011-08-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 | Verfahren zur Herstellung von Titanoxidschichten mit hoher photokatalytischer Aktivität |
-
2007
- 2007-12-03 FI FI20070932A patent/FI120832B/fi active IP Right Grant
-
2008
- 2008-12-01 JP JP2010535421A patent/JP2011505316A/ja active Pending
- 2008-12-01 WO PCT/FI2008/050701 patent/WO2009071741A1/en active Application Filing
- 2008-12-01 KR KR1020107014763A patent/KR20100097199A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-12-01 CN CN200880125632.3A patent/CN101925550B/zh active Active
- 2008-12-01 EP EP08856476.0A patent/EP2231537A4/en not_active Withdrawn
- 2008-12-01 EA EA201000927A patent/EA020440B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2008-12-01 US US12/746,107 patent/US8758851B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011505316A (ja) | 2011-02-24 |
EP2231537A1 (en) | 2010-09-29 |
KR20100097199A (ko) | 2010-09-02 |
US8758851B2 (en) | 2014-06-24 |
WO2009071741A1 (en) | 2009-06-11 |
EA020440B1 (ru) | 2014-11-28 |
FI20070932A (fi) | 2009-06-04 |
CN101925550B (zh) | 2014-02-19 |
EP2231537A4 (en) | 2016-03-30 |
FI20070932A0 (fi) | 2007-12-03 |
US20110111175A1 (en) | 2011-05-12 |
CN101925550A (zh) | 2010-12-22 |
EA201000927A1 (ru) | 2010-12-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI120832B (fi) | Menetelmä ohuen lasin lujuuden kasvattamiseksi | |
US11531141B2 (en) | Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility | |
TWI828959B (zh) | 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷 | |
KR101633245B1 (ko) | 잔류 광학 성질을 갖는 내-스크래치 제품 | |
US4363647A (en) | Method of making fused silica-containing material | |
JP2015507588A5 (fi) | ||
JP7127058B2 (ja) | 応力プロファイルが操作された被覆ガラス系物品およびその製造方法 | |
JP7129997B2 (ja) | 応力プロファイルが操作されたガラス系物品およびその製造方法 | |
JP2017537051A (ja) | 化学強化可能なガラス板 | |
TW201927717A (zh) | 具高硬度和模數之可離子交換透明鋅尖晶石-尖晶石玻璃陶瓷 | |
Plichta et al. | Flexible glass substrates | |
US20060093833A1 (en) | Components having crystalline coatings of the aluminum oxide/silicon oxide system and method for the production thereof | |
CN113302523A (zh) | 由溅射的氮化硅或氮氧化硅制造的硬质高折射率光学膜 | |
JP2016522775A (ja) | 機能性被覆を有するセラミック | |
KR20240019853A (ko) | 확장된 적외선 투과를 갖는 얇고 내구성 있는 반사-방지 코팅을 갖는 물품 | |
TW200406363A (en) | Direct bonding methods using lithium | |
Saggioro et al. | Changes of physical properties of glass surfaces exposed to KNO3 vapors | |
JP2022513091A (ja) | 低反り強化物品および同低反り強化物品を製造するための非対称イオン交換法 | |
TW202033470A (zh) | 低翹曲強化製品及製作該等製品的化學表面處理方法 | |
TW202130595A (zh) | 具有表面特徵的玻璃製品及製作該等玻璃製品的方法 | |
GB2622256A (en) | Glass-ceramic articles and methods of making them | |
TW202328020A (zh) | 藉由非脆性塗層以改善玻璃強度及斷裂韌性 | |
Mattox | SVC Topics | |
WO2020028237A1 (en) | Curved glass-based articles | |
SUGARMAN | STRENGTHENED GLASS |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG | Patent granted |
Ref document number: 120832 Country of ref document: FI |