ES2848716T3 - Panel compuesto con capa de barrera y procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica - Google Patents

Panel compuesto con capa de barrera y procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica Download PDF

Info

Publication number
ES2848716T3
ES2848716T3 ES17787363T ES17787363T ES2848716T3 ES 2848716 T3 ES2848716 T3 ES 2848716T3 ES 17787363 T ES17787363 T ES 17787363T ES 17787363 T ES17787363 T ES 17787363T ES 2848716 T3 ES2848716 T3 ES 2848716T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
layer
mask material
barrier layer
photosensitive layer
composite panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES17787363T
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Kesper
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AKK GmbH
Original Assignee
AKK GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AKK GmbH filed Critical AKK GmbH
Application granted granted Critical
Publication of ES2848716T3 publication Critical patent/ES2848716T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/003—Forme preparation the relief or intaglio pattern being obtained by imagewise deposition of a liquid, e.g. by an ink jet
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/02—Letterpress printing, e.g. book printing
    • B41M1/04—Flexographic printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41P—INDEXING SCHEME RELATING TO PRINTING, LINING MACHINES, TYPEWRITERS, AND TO STAMPS
    • B41P2200/00—Printing processes
    • B41P2200/10—Relief printing
    • B41P2200/12—Flexographic printing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

Panel compuesto para el uso en la fabricación de una plancha de impresión tipográfica, - con una capa de soporte (4), - con al menos una capa fotosensible (6), que puede estructurarse a través de radiación electromagnética (12) en un dominio de longitud de onda, - en donde la capa fotosensible (6) está dispuesta sobre la capa de soporte (4), - en donde está prevista una capa de barrera (8), estando la capa de barrera (8) dispuesta en el lado de la capa fotosensible (6) apartado de la capa de soporte (4), - en donde la capa de barrera (8) es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda en el que puede estructurarse la capa fotosensible (6), - en donde sobre la capa de barrera (8) está dispuesto al menos un material de máscara (10) y - en donde el material de máscara (10) está aplicado mediante laminado, caracterizado por que - el material de máscara (10) comprende compuestos diazo, en donde puede influirse en la solubilidad del material de máscara (10) mediante exposición selectiva en el dominio visible.

Description

DESCRIPCIÓN
Panel compuesto con capa de barrera y procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica La invención se refiere a un panel compuesto para el uso en la fabricación de una plancha de impresión tipográfica, en particular una plancha de impresión flexográfica, con una capa de soporte, con al menos una capa fotosensible, que puede estructurarse a través de radiación electromagnética en un dominio de longitud de onda, en donde la capa fotosensible está dispuesta sobre la capa de soporte. Adicionalmente, la invención se refiere a un procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica empleando al menos un panel compuesto, así como un procedimiento para la fabricación de un panel compuesto de acuerdo con la invención. Finalmente, la invención se refiere al uso de un material compuesto en un panel compuesto para una plancha de impresión tipográfica.
Las planchas de impresión tipografía, por ejemplo planchas de impresión flexográfica, son planchas en relieve, en las que las secciones con imágenes están diseñadas elevadas con respecto a una superficie base. Para la fabricación de planchas de tipografía se emplean en particular paneles compuestos, por ejemplo paneles compuestos por capas, que se estructuran para la tipografía.
Tales paneles compuestos presentan en particular una capa de soporte y al menos una capa fotosensible. La capa de soporte sirve en este sentido por ejemplo para la estabilización mecánica del panel compuesto. La capa fotosensible presenta un material que modifica sus propiedades bajo la acción de radiación electromagnética. Si la capa fotosensible se expone selectivamente, se modifican por ejemplo la solubilidad, el comportamiento de curado y/o las propiedades de adherencia de las secciones de la capa fotosensible afectadas por la exposición selectiva. Por ejemplo, mediante un tratamiento químico pueden eliminarse entonces selectivamente las secciones de solubilidad más alta, de dureza más baja y/o de adherencia más baja para obtener una estructura de relieve. La exposición selectiva se consigue habitualmente empleando un material de máscara, en donde el material de máscara cubre las secciones de la capa fotosensible, que no deben exponerse, frente a la radiación entrante.
De la práctica se conoce la aplicación como material de máscara de una película fotográfica sobre la capa fotosensible. La película fotográfica puede exponerse selectivamente con métodos conocidos para ello y revelarse, de modo que una capa de máscara parcialmente transparente, parcialmente opaca sobre la capa fotosensible. Los procedimientos correspondientes de denominan a este respecto, por ejemplo, procedimientos análogos. Sin embargo, la calidad de la estructura superficial que resulta de esto y la resolución de la plancha de impresión tipográfica son mejorables. La disponibilidad de películas fotográficas ha disminuido además en los últimos años, de modo que la utilización de películas fotográficas para la fabricación de planchas de tipografía ya no está extendida. Una alternativa para el uso de películas fotográficas como material de máscara es la aplicación de una capa de máscara opaca (black mask), que en particular se elimina selectivamente mediante procedimientos ópticos como la ablación láser. Habitualmente, la ablación láser se efectúa a través de procedimientos asistidos por ordenador, se denomina por ejemplo, procedimiento digital o procedimiento directo a plancha (direct-to-plate). Con la eliminación selectiva del material de máscara queda una máscara estructurada, que recubre la capa fotosensible solo parcialmente. Sin embargo, los procedimientos que se basan en la ablación de un material de máscara son complejos en cuanto a los aparatos y no permiten normalmente altas velocidades de proceso.
Además es habitual que los paneles compuestos para el uso en la fabricación de planchas de tipografía se equipen con una capa protectora. Como capa protectora sirven en este sentido, por ejemplo, láminas de plástico, que cubren la capa fotosensible, para proteger la capa fotosensible de efectos mecánicos como rasguños y de impurezas como polvo. Sin embargo, las capas protectoras no permiten en este sentido ninguna exposición selectiva de proceso seguro y de alta calidad y están previstas para eliminarse antes de una exposición selectiva y en particular antes de una aplicación del material de máscara.
El estado de la técnica de los documentos US 2004/081908 A1, EP 08 48 296 A1 y JP 2009 063873 A desvela precursores de planchas de impresión flexográfica, que presentan una capa de soporte, capa fotosensible, capa de barrera y capa de máscara. Estos representan el estado de la técnica más cercano.
La presente invención se basa en el objetivo de proponer un panel compuesto para el uso en la fabricación de una plancha de impresión tipográfica y un procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica, que reduzcan las desventajas anteriormente mencionadas del estado de la técnica, y permitan en particular una fabricación efectiva de la plancha de impresión tipográfica con buena resolución. Adicionalmente se mencionan un procedimiento para la fabricación de un panel compuesto de acuerdo con la invención, así como un uso de un material compuesto en un panel compuesto para una plancha de impresión tipográfica para lograr este objetivo. De acuerdo con la primera enseñanza de la invención, el objetivo mencionado por lo que respecta a un panel compuesto se consigue porque está prevista una capa de barrera, en donde la capa de barrera está dispuesta en el lado de la capa fotosensible apartado de la capa de soporte, la capa de barrera es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible puede estructurarse y sobre la capa de barrera está dispuesto al menos un material de máscara, en donde el material de máscara comprende compuestos diazo y el material de máscara se aplica mediante laminado.
El panel compuesto es en este sentido en particular un panel compuesto por capas que comprende un número de capas, que están unidas entre sí a través de sus superficies de extensión. Las capas individuales, en particular la capa de soporte, la capa fotosensible y la capa de barrera son en este sentido en particular capas penetrables, es decir, las capas están configuradas de manera plana y no presentan en particular ninguna entalladura. En particular las capas individuales o todas las capas están unidas fijamente entre sí, por ejemplo mediante adhesión y/o mediante una unión de material.
La capa de soporte sirve en particular para una estabilización mecánica del panel compuesto y de la plancha de impresión tipográfica fabricada a partir de este. La capa de soporte puede estar orientada para una protección ante esfuerzos mecánicos y el panel compuesto para el procedimiento de impresión previsto y el dispositivo de impresión previsto puede facilitar propiedades mecánicas correspondientes. La capa de soporte comprende por ejemplo al menos uno de los siguientes materiales o se compone de uno de estos: materiales que contienen celulosa, papel, cartón, plásticos y/o metal. En particular están previstos materiales a base de polímeros, por ejemplo a base de poliéster, poliestireno, poliolefina y/o poliamida. En particular la capa de soporte se basa o se compone de tereftalato de polietileno. La capa de soporte puede también estar basada en polivinilo o componerse de esta, en particular al menos un polivinilo acuoso.
La al menos una capa fotosensible puede estructurarse a través de radiación electromagnética en un dominio de longitud de onda, por ejemplo, según el principio de un fotorresistor. Por ejemplo, la solubilidad, dureza, propiedad de adhesión y/o la capacidad de curado del material de la capa fotosensible se ven influidos por la radiación en un dominio de longitud de onda así, de modo que tras una exposición, y en particular un curado o revelado posterior se hace posible una eliminación selectiva de la capa fotosensible. Por ejemplo, la solubilidad debido a una exposición en este dominio de longitud de onda disminuye, por lo que las secciones no expuestas de la capa fotosensible pueden disolverse o eliminarse. Asimismo, la solubilidad debido a una exposición en este dominio de longitud de onda puede aumentar, de modo que con una solución pueden eliminarse principalmente las zonas expuestas. La capa fotosensible puede presentar, por consiguiente, propiedades de exposición positivas o negativas.
El dominio de longitud de onda de la radiación electromagnética para la estructuración de la capa fotosensible puede extenderse, por ejemplo, dentro del dominio visible y/o fuera del dominio visible. En particular el dominio de longitud de onda se sitúa en el ultravioleta, es decir, por ejemplo dentro de un dominio de 100 nm a 380 nm, y/o en el dominio violeta visible, es decir, por ejemplo dentro de un dominio de 380 nm a 425 nm.
La capa fotosensible puede basarse en este sentido en particular en fotopolímeros y/o en particular presentarse en forma sólida. El experto en la materia por sus conocimientos técnicos está familiarizado con los fotopolímeros y métodos para la estructuración selectiva de capas fotosensibles y se describen, por ejemplo en la enciclopedia Ullmanns Encyklopadie der technischen Chemie, 4a edición, Verlag Chemie (1981).
La capa fotosensible está dispuesta sobre la capa de soporte. La capa fotosensible puede estar dispuesta en este sentido directamente sobre la capa de soporte, es decir, en contacto con la capa de soporte. Como alternativa pueden estar dispuestas una o varias capas intermedias entre capa de soporte y capa fotosensible, en particular al menos una capa de promotor de la adhesión, que está orientada para facilitar la unión entre capa de soporte y capa fotosensible.
Una capa de barrera está prevista, en donde la capa de barrera está dispuesta en el lado de la capa fotosensible apartado de la capa de soporte. En particular, la capa de barrera está dispuesta directamente sobre la capa fotosensible, es decir, la capa de barrera está en contacto con la capa fotosensible. En este sentido la capa de barrera es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible puede estructurarse.
Con esencialmente transparente quiere decirse que una gran parte de la intensidad de radiación en el dominio de longitud de onda en cuestión puede penetrar a través de la capa de barrera, en particular al menos 50 %, preferentemente al menos 75 %, de manera más preferente al menos 95 % de la intensidad incidente puede atravesar la capa de barrera. Por grosor de capa el grosor medio de la capa se entiende perpendicular a la superficie mayor de la capa.
La capa de barrera sirve en este sentido en particular como capa de barrera de difusión, en donde la capa de barrera debe impedir un contacto de la capa fotosensible con la atmósfera de alrededor. La capa de barrera por lo tanto está prevista preferentemente continua o de manera plana sobre la capa fotosensible y cubre la capa fotosensible por zonas o por completo en una superficie.
Se ha comprobado que la calidad y resolución de la plancha impresora fabricada a partir del panel compuesto puede mejorarse a través de la capa de barrera. La capa de barrera permanece en caso de una exposición de la capa fotosensible, y dado el caso, una exposición de un material de máscara sobre la capa fotosensible. Mientras que habitualmente deben eliminarse capas protectoras sobre la capa fotosensible del estado de la técnica antes de la exposición, se hace posible una permanencia de la capa de barrera de la presente invención en particular debido al grosor de capa preferentemente reducido inferior a 20 |jm, en donde mediante la refracción de la radiación introducida para la exposición de la capa fotosensible en la capa de barrera pueden provocarse pérdidas de calidad solo reducidas. En la reacción fotoquímica de la capa fotosensible desencadenada mediante la exposición la influencia de la atmósfera circundante se reduce significativamente mediante la capa de barrera, lo que lleva a un aumento claro de la calidad de la superficie estructurada de la capa fotosensible. Sin estar vinculado a una teoría determinada se supone que en el estado de la técnica prioritariamente una reacción de la capa fotosensible con oxigeno es responsable para una pérdida de calidad de la superficie estructurada de la capa fotosensible, lo que puede reducirse mediante la capa de barrera de acuerdo con la invención. Simultáneamente se ha comprobado que mediante el grosor de capa reducido de la capa de barrera en particular los efectos de difracción de la capa de barrera, que influyen negativamente en la resolución, se reducen en tanto que, como resultado, la calidad de las planchas de tipografía fabricadas se mejora. En particular la capa de barrera presenta materiales a base de polímeros o se compone de estos. Tales polímeros comprenden, por ejemplo, poliéster, poliestireno, poliolefina y/o poliamida. En particular la capa de barrera se basa o se compone de tereftalato de polietileno. La capa de barrera puede también estar basada en polivinilo o componerse de este, en particular al menos un polivinilo acuoso. Otros materiales, que proporcionan un efecto de barrera de difusión suficiente de la capa de barrera y son esencialmente transparentes en el dominio de longitud de onda correspondiente, son asimismo concebibles. En particular, el material de la capa de barrera es distinto del material de la capa fotosensible y/o de la capa de soporte.
El grosor total del panel compuesto asciende por ejemplo de 0,5 mm a 3,0 mm, en particular de 1,0 mm a 2,8 mm. La capa de soporte puede presentar, por ejemplo, un grosor de capa de 0,05 mm a 0,2 mm, en particular de 0,1 mm a 0,15 mm. En una configuración el panel compuesto adicionalmente a la capa de soporte, a la capa fotosensible y capa de barrera presenta al menos una capa intermedia, por ejemplo al menos una capa de promotor de la adhesión, que está dispuesta entre capa de soporte y capa fotosensible. Opcionalmente puede estar prevista una capa protectora sobre el material de máscara, en donde la capa protectora está orientada en particular para eliminarse antes de una exposición y/o una estructuración del material de máscara.
En una configuración del panel compuesto la capa de barrera presenta un grosor de capa de como máximo 100 jm, preferentemente como máximo 20 jm y de manera más preferente como máximo 10 jm. Los grosores de capa elevados también por encima de 100 jm son ventajosos en particular para la estabilidad mecánica de la capa de barrera. Básicamente la selección del grosor de capa es posible en un dominio amplio. Los efectos esenciales que van a observarse son la influencia del grosor en la estabilidad mecánica y las propiedades ópticas. Con grosores de capa reducidos de preferentemente como máximo 10 jm un efecto de refracción de la radiación entrante, que se emplea para la iluminación de la capa fotosensible, puede reducirse adicionalmente. Con ello la calidad y resolución de la estructura superficial resultante de la capa fotosensible aumenta adicionalmente.
La calidad y resolución puede aumentarse adicionalmente en una configuración adicional, cuando la capa de barrera presenta un grosor de capa de como máximo 5 jm.
Sobre la capa de barrera está dispuesto al menos un material de máscara. Un material de máscara se emplea en particular para una exposición selectiva de la capa fotosensible. El material de máscara es en este sentido en particular opaca en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible puede estructurarse. Por consiguiente, en una exposición se exponen las secciones de la capa fotosensible, que no se cubren por un material de máscara, mientras que las secciones cubiertas por el material de máscara no experimentan esencialmente ninguna exposición. El material de máscara está dispuesto en particular directamente sobre la capa de barrera, es decir, el material de máscara está en contacto con la capa de barrera.
El material de máscara puede estar configurado como capa, en particular como capa penetrable, plana, que recubre por completo en particular la capa fotosensible y/o capa de barrera. El material de máscara está previsto entonces por ejemplo para una estructuración posterior. El material de máscara comprende un material que puede estructurarse mediante radiación electromagnética en el dominio visible o se compone de este, por ejemplo según el principio de un fotorresistor.
El material de máscara puede presentar asimismo una estructura para la exposición selectiva de la capa fotosensible. La estructura del material de máscara se estructura mediante una exposición selectiva o revelado y eliminación selectiva. En la estructuración del material de máscara, que se consigue a través de una solución, es ventajosa además la disposición de la capa de barrera de acuerdo con la invención, dado que se impide una actuación de la solución sobre la capa fotosensible. No pertenece a la invención el hecho de que el material de máscara pueda haberse aplicado de manera estructurada, por ejemplo mediante un procedimiento de impresión.
El material de máscara comprende compuestos diazo o se compone de estos. Los compuestos diazo, en este sentido, bajo la actuación de radiación electromagnética en el dominio visible modifican las propiedades del material de máscara, de modo que el material de máscara puede estructurarse a través de una exposición y desprenderse selectivamente. Los compuestos diazo correspondientes, en particular con componentes de acoplamiento adicionales, son conocidos por el experto por el estado de la técnica y por ejemplo se describen en el diccionario de química Rompp, Chemie Lexikon, 7a edición, Franckh'sche Verlagshandlung (1973) en particular en heliografías y compuestos diazo. En particular se emplea un material de máscara que presenta compuestos diazo, que después de una exposición selectiva puede desprenderse selectivamente con amoniaco y/o agua. El material de máscara se expone en el dominio visible, por ejemplo una longitud de onda de aproximadamente 405 nm selectivamente, para influir en la solubilidad del material de máscara. Un ejemplo especial de un compuesto diazo es diazonaftoquinona (DNQ).
En una configuración que no pertenece a la invención el material de máscara comprende tinta y/o cera. No pertenece a la invención el hecho de que el material de máscara se estampe, en donde pueden utilizarse cera y/o tinta con una especial seguridad en los procesos. La tinta en particular puede ser una tinta de curado UV y/o pastosa. Especialmente una combinación de cera y tinta de curado UV es ventajosa como material de máscara en la realización de un estampado.
En una configuración adicional del panel compuesto el panel compuesto está configurado para el uso en la fabricación de una plancha de impresión flexográfica. Las planchas de impresión flexográfica se utilizan, por ejemplo, para la impresión de cartón, papel, películas, laminas y/o laminados y son adecuadas, en particular, para la producción a gran escala y la impresión de piezas de trabajo de gran superficie. Las propiedades flexibles de las planchas de impresión flexográfica pueden ajustarse, por ejemplo, a través de una configuración correspondiente de la capa de soporte y de la capa fotosensible, por ejemplo a través de la selección de material y/o el grosor de capa. De acuerdo con una segunda enseñanza de la presente invención, el objetivo anteriormente mencionado se consigue mediante un procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica empleando al menos un panel compuesto, con una capa de soporte, con al menos una capa fotosensible, que puede estructurarse a través de radiación electromagnética en un dominio de longitud de onda, en donde la capa fotosensible está dispuesta sobre la capa de soporte, con una capa de barrera, en donde la capa de barrera está dispuesta en el lado de la capa fotosensible apartado de la capa de soporte, en donde la capa de barrera es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible puede estructurarse, en el que al menos un material de máscara se aplica sobre la placa de compuesto mediante laminado y el material de máscara se estructura selectivamente, en donde se usa al menos un material de máscara que comprende compuestos diazo, en el que la capa fotosensible al menos en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible puede estructurarse, se expone selectivamente y en el que la capa fotosensible expuesta selectivamente se elimina selectivamente.
Tal como ya se ha expuesto en relación con el panel compuesto anteriormente descrito, la capa de barrera permite una mejora de la calidad y resolución de la plancha de impresión tipográfica fabricada a partir del panel compuesto. La capa de barrera durante la exposición de la capa fotosensible permanece sobre la capa fotosensible, en donde se hace posible la exposición en particular debido al grosor de capa reducido de como máximo 20 pm, en particular como máximo 10 pm, dado que los efectos de difracción en la capa de barrera, ocasionan, dado el caso solo pérdidas de calidad reducidas. En la reacción fotoquímica de la capa fotosensible desencadenada por la exposición se reduce al mismo tiempo significativamente la influencia de la atmósfera circundante mediante la capa de barrera. La aplicación de material de máscara puede llevarse a cabo mediante distintos métodos o combinaciones de métodos. Por ejemplo, el material de máscara se lamina, se somete a calandrado, se rocía, se estampa, se coloca y/o se dispone manualmente sobre el panel compuesto. Al menos un material de máscara se lamina. En particular se aplica al menos un material de máscara mediante al menos una lámina de soporte o lámina antiadhesiva, en donde la lámina de soporte se elimina en particular de nuevo tras la aplicación. Pueden aplicarse también varios materiales de máscara distintos en una o varias, etapas de procedimiento consecutivas y/o al que se realizan al mismo tiempo. El material de máscara puede estructurarse con la aplicación, por ejemplo mediante una aplicación selectiva y/o a continuación de la aplicación con métodos adicionales.
La estructuración selectiva de la capa fotosensible se lleva a cabo en particular mediante métodos conocidos por el conocimiento técnico, por ejemplo un revelado y eliminación selectiva mediante métodos químicos y/o mecánicos según una exposición selectiva. Por ejemplo la capa fotosensible reacciona positivamente a una exposición, de modo que las secciones expuestas pueden desprenderse selectivamente. Por ejemplo la capa fotosensible reacciona negativamente a una exposición, de modo que las secciones no expuestas pueden desprenderse selectivamente.
En una configuración del procedimiento se aplica al menos un material de máscara como capa. En particular en este sentido se trata de una capa penetrable, plana, que a continuación puede estructurarse, para permitir una exposición selectiva de la capa fotosensible.
El material de máscara está orientado para modificar sus propiedades a través de la acción de radiación electromagnética en el dominio visible. Una estructuración del material de máscara puede provocarse en una configuración del procedimiento porque el material de máscara se expone selectivamente y se elimina selectivamente a continuación. Una eliminación del material de máscara puede llevarse a cabo por ejemplo a través de un tratamiento químico y/o un tratamiento mecánico. El material de máscara, cuya solubilidad se ajustó selectivamente a través de la exposición, se eliminó selectivamente con un disolvente, en particular bajo la acción de medios mecánicos.
Al menos se emplea un material de máscara que comprende compuestos diazo. Tal como ya se ha expuesto en relación con el panel compuesto anteriormente descrito, los materiales de máscara basándose en compuestos diazo producen una posibilidad de proceso seguro de facilitar una máscara para la exposición de la capa fotosensible. En particular se emplea un material de máscara que presenta compuestos diazo, que después de una exposición selectiva se desprende con amoniaco y/o agua. El material de máscara puede exponerse selectivamente en el dominio visible, por ejemplo en una longitud de onda de 405 nm, para influir en la solubilidad del material de máscara.
En una configuración del procedimiento que no pertenece a la invención se imprime al menos un material de máscara. Un estampado del material de máscara permite una aplicación sencilla en cuanto a los aparatos y de alta calidad del material de máscara. Asimismo, el al menos un material de máscara ya puede estructurarse a través del estampado, de modo que pueden omitirse etapas adicionales para la estructuración del material de máscara al menos parcialmente o totalmente.
En una configuración del procedimiento el material de máscara comprende tinta y/o cera o se compone de estas. Como ya se ha expuesto con relación a la plancha impresora descrita que no pertenece a la invención, la tinta y/o cera es ventajosa como material de máscara, en particular, para un estampado del material de máscara.
En una configuración siguiente del procedimiento al menos una plancha del material compuesto descrito anteriormente se sujeta por secciones sobre un soporte tipográfico. En particular, en planchas de tipografía grandes, por ejemplo planchas flexográficas, tal como se utilizan en la impresión de cartón ondulado, en donde grandes zonas permanecen sin imprimir, las planchas de tipografía que cubren toda la superficie son demasiado costosas. Mediante esta configuración del procedimiento se garantiza una orientación que puede reproducirse y extremadamente precisa de la plancha de impresión tipográfica con respecto a un soporte tipográfico, de modo que por ejemplo objetos de gran superficie pueden imprimirse con alta exactitud.
Esto se consigue por un lado porque la exposición de la plancha de impresión tipográfica no se realiza hasta que la plancha de impresión tipográfica no esté sujeta sobre el soporte tipográfico, en donde el material de máscara para la exposición puede orientarse con medios sencillos de manera muy precisa con respecto al soporte tipográfico. Por ejemplo se emplea un registro para la orientación. Una aplicación del material de máscara puede realizarse, por ejemplo, a través de un estampado.
En una configuración adicional del procedimiento las secciones que quedan libres en la sujeción del al menos un panel compuesto sobre el soporte tipográfico antes de la aplicación del material de máscara se cubren con al menos una capa de compensación. Con ello, mediante la capa de compensación se garantiza que el material de máscara, por ejemplo como capa y/o lámina, pueda colocarse completamente plano por toda la superficie del soporte tipográfico y de este modo no se formen distorsiones o desplazamientos debidos a combadura o flexión. Las planchas de tipografía enmascaradas de este modo se exponen, se revelan y la capa fotosensible se selecciona selectivamente.
De acuerdo con una tercera enseñanza de la presente invención, el objetivo anteriormente mencionado se consigue mediante un procedimiento para la fabricación de un panel compuesto de acuerdo con la invención, en el que una capa de soporte, al menos una capa fotosensible, una capa de barrera y al menos un material de máscara se coloquen unas sobre otras, en donde la capa fotosensible se dispone sobre la capa de soporte, en donde la capa fotosensible a través de radiación electromagnética puede estructurarse en un dominio de longitud de onda, en donde la capa de barrera se dispone en el lado de la capa fotosensible apartado de la capa de soporte, en donde la capa de barrera es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible puede estructurarse, en donde el material de máscara comprende compuestos diazo, en donde puede influirse en la solubilidad del material de máscara mediante exposición selectiva en el dominio visible y en el que la aplicación comprende un laminado.
Para la fabricación del panel compuesto de acuerdo con la invención para planchas de tipografía, una combinación de al menos un material de máscara que comprende compuestos diazo en combinación con un laminado para la aplicación ha resultado ser especialmente segura en cuanto a los procesos y rentable.
La capa de soporte, capa fotosensible, capa de barrera y el material de máscara pueden llevarse unas sobre otras en este sentido en una etapa de procedimiento común. Asimismo pueden aplicarse inicialmente capas individuales unas sobre otras, por ejemplo en forma de un material compuesto, y a continuación se combinan para formar el panel compuesto. En este sentido, etapas individuales o todas las etapas de la aplicación pueden comprender un laminado. Otros métodos posibles para la aplicación de las capas son, por ejemplo, un calandrado, rociado, estampado, colocación y/o disposición manual, que en particular pueden combinarse con el laminado. Es posible también facilitar y aplicar capas adicionales, por ejemplo al menos una capa de promotor de la adhesión y/o al menos una capa protectora.
En una configuración del procedimiento, de acuerdo con la tercera enseñanza, la capa de barrera junto con el material de máscara se aplica en el lado de la capa fotosensible apartado de la capa de soporte. Por ello el procedimiento se mejora adicionalmente, dado que la aplicación del material de máscara se facilita. En particular, se omite la necesidad de una lámina de soporte o lámina antiadhesiva adicional, que debe hacer posible la aplicación del material de máscara y a continuación debería eliminarse. Más bien, la capa de barrera puede servir tanto para facilitar como lámina de soporte una aplicación del material de máscara, como - tal como se ha descrito arriba con respecto al panel compuesto - para facilitar en particular una capa de barrera de difusión en la estructuración del panel compuesto para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica. De manera correspondiente, en la fabricación del panel compuesto se omiten etapas de procedimiento adicionales, dado que no se facilita ninguna capa de soporte adicional y tras la aplicación debe eliminarse de nuevo. Por ello el procedimiento en consecuencia se vuelve también más rentable.
En una configuración adicional, el material de máscara con la capa de barrera se facilita antes de la aplicación como material compuesto. Por un material compuesto se entiende en particular que material de máscara y capa de barrera se unen fijamente entre sí, por ejemplo mediante adhesión y/o mediante una unión de material. Por ejemplo el material de máscara se aplica mediante laminado sobre la capa de barrera. En particular el material compuesto se aplica mediante laminado.
De acuerdo con una cuarta enseñanza de la presente invención, el objetivo anteriormente mencionado se consigue mediante un uso de un material de compuesto, presentando el material compuesto: una capa de barrera con un grosor de capa de preferentemente como máximo 20 pm, siendo la capa de barrera esencialmente transparente en un dominio de longitud de onda, que es adecuado para la estructuración de una capa fotosensible y un material de máscara que comprende compuestos diazo; en donde el material compuesto se emplea en un panel compuesto para una plancha de impresión tipográfica.
Como ya se ha descrito con relación al procedimiento de acuerdo con la tercera enseñanza, mediante el material compuesto puede facilitarse la aplicación del material de máscara, en donde la capa de barrera al mismo tiempo cumple la función de una lámina de soporte para el material de máscara en la fabricación del panel compuesto y la función de una barrera de difusión para la fabricación de la plancha de impresión tipográfica.
En una configuración del uso, el material compuesto se emplea en un panel compuesto para una plancha de impresión flexográfica o el material compuesto se emplea en la fabricación de una plancha de impresión flexográfica. En particular mediante la descripción de etapas de procedimiento anterior y la siguiente de acuerdo con formas de realización preferidas de los procedimientos también van a divulgarse configuraciones correspondientes de un panel compuesto. Asimismo mediante la divulgación de configuraciones del panel compuesto va a divulgarse su uso o creación en etapas de procedimiento de los procedimientos. Adicionalmente, con la descripción del panel compuesto y los procedimientos también van a divulgarse configuraciones posibles del uso.
Con respecto a configuraciones adicionales del panel compuesto, de los procedimientos y del uso se remite además a la descripción siguiente de ejemplos de realización mediante el dibujo. En el dibujo muestran:
figura 1 un panel compuesto,
figura 2 un ejemplo de realización de un panel compuesto,
figura 3 un ejemplo de realización adicional de un panel compuesto,
figura 4 el ejemplo de realización de la figura 3 en una exposición selectiva de la capa fotosensible, figura 5a, b dos configuraciones de una plancha de impresión tipográfica fabricada a partir del panel compuesto y
figura 6 un ejemplo de realización adicional de un panel compuesto sobre un soporte tipográfico.
La figura 1 (no pertenece a la invención) muestra un panel compuesto 2. El panel compuesto 2 presenta una capa de soporte 4 y al menos una capa fotosensible 6, en donde la capa fotosensible 6 está dispuesta sobre la capa de soporte 4. La capa fotosensible 6 puede estar dispuesta directamente sobre la capa de soporte 4 o está prevista opcionalmente al menos una capa intermedia, por ejemplo una capa de promotor de la adhesión (no se muestra). La capa fotosensible 6 puede estructurarse a través de radiación electromagnética en un dominio de longitud de onda. Por ejemplo, la capa fotosensible 6 se basa en fotopolímeros, en donde la capa fotosensible está configurada para modificar en el dominio de longitud de onda ultravioleta y/o violeta, es decir, por ejemplo, dentro de un dominio de 100 nm a 380 nm o dentro de un dominio de 380 nm a 425 nm, determinadas propiedades de la capa fotosensible, en particular la solubilidad y/o las propiedades de curado.
En particular, a través de la configuración de la capa de soporte 4 pueden ajustarse las propiedades mecánicas del panel compuesto 2. Por ejemplo, la capa de soporte 4 se basa en tereftalato de polietileno y/o presenta un grosor de 0,05 mm a 0,2 mm, en particular de 0,1 mm a 0,15 mm. El grosor total del panel compuesto 2 asciende por ejemplo de 0,5 mm a 3,0 mm. En particular, el panel compuesto 2 está orientado para la fabricación de una plancha de impresión flexográfica.
En el lado de la capa fotosensible 6 apartado de la capa de soporte 4 está prevista una capa de barrera 8, en donde la capa de barrera 8 presenta un grosor de capa d de como máximo 100 |jm, preferentemente como máximo 20 |jm, en particular de como máximo 10 jm o de como máximo 5 jim, y en donde la capa de barrera 8 es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible 4 puede estructurarse. Por ejemplo la capa de barrera 8 en el dominio de longitud de onda ultravioleta y/o violeta, es decir, por ejemplo dentro de un dominio de 100 nm a 380 nm o dentro de un dominio de 380 nm a 425 nm, es esencialmente transparente, es decir, deja pasar en este dominio de longitud de onda una gran parte de la intensidad de radiación. En particular, al menos 50 %, preferentemente al menos 75 %, de manera más preferente al menos 95 % de la intensidad incidente pueden penetrar la capa de barrera 8.
La capa de barrera 8 está dispuesta en este sentido directamente sobre la capa fotosensible 6 y está en contacto por consiguiente con la capa fotosensible 6. La capa de barrera 8 facilita una barrera de difusión para la capa fotosensible 6 contra la atmósfera circundante, en donde al mismo tiempo se hace posible una exposición de la capa fotosensible 6 a través de la capa de barrera 8 debido al grosor de capa d reducido y de las propiedades transparentes de la capa de barrera 8. La capa de barrera 8 se basa por ejemplo en al menos un polímero. La capa de barrera 8 comprende o se compone por ejemplo de tereftalato de polietileno.
Se ha comprobado que la calidad y resolución de la plancha de impresión tipográfica fabricada a partir del panel compuesto 2 puede mejorarse a través de la capa de barrera 8. La capa de barrera 8 durante una exposición de la capa fotosensible 6 permanece sobre la capa fotosensible 6, como también se explica en relación con las siguientes figuras. En particular, mediante el grosor de capa reducido de menos de 20 mm, en particular menos de 10 jim o 5 jm se atenúan efectos de refracción en la capa de barrera 8, de modo que mediante la capa de barrera 8 no se ocasiona ninguna pérdida de calidad o solo reducidas. Al mismo tiempo se reduce significativamente la influencia de la atmósfera circundante mediante la capa de barrera 8, lo que lleva a un aumento claro de la calidad de la superficie estructurada de la capa fotosensible 6.
A continuación se explican ejemplos de realización del panel compuesto 2 mediante las figuras 2 y 3, en donde al mismo tiempo se describe un ejemplo de realización del procedimiento de acuerdo con la invención. En las siguientes figuras, para elementos correspondientes, para una mayor claridad, se emplean los mismos números de referencia, tal como se emplean en la figura 1.
La figura 2 muestra un ejemplo de realización de un panel compuesto 2, en donde sobre la capa de barrera 8 está dispuesto al menos un material de máscara 10. El material de máscara 10 está configurado en este sentido como capa y recubre la capa fotosensible de manera plana. El material de máscara se lamina. El material de máscara 10 puede estructurarse, por ejemplo al retirarse el material de máscara 10 por secciones y/o modificarse por secciones en las propiedades.
El material de máscara 10 está orientado para modificar sus propiedades bajo el efecto de radiación electromagnética en el dominio visible. En el panel compuesto 2 es ventajoso en este sentido que la capa fotosensible 6 se pantalla mediante la capa de barrera 8 en la exposición de la atmósfera circundante. Por consiguiente, la exposición del material de máscara 10 deteriora la capa fotosensible solo de manera irrelevante. El material de máscara comprende compuestos diazo, que como se conoce por el estado de la técnica pueden exponerse y desprenderse selectivamente. Por ejemplo pueden exponerse compuestos correspondientes con una longitud de onda de 405 nm y/o desprenderse con una solución que contiene amoniaco y/o agua. En el uso de una solución para la estructuración del material de máscara 10, la capa de barrera 8 consigue ventajosamente una limitación del efecto de la solución, por ejemplo de una solución que comprende amoniaco, en la capa fotosensible 6. La figura 3 muestra un ejemplo de realización adicional de un panel compuesto 2, presentando el material de máscara 10 una estructura para la exposición selectiva de la capa fotosensible 6. La estructura está representada en este sentido en forma de entalladuras entre secciones individuales del material de máscara 10.
La estructura del material de máscara 10 puede conseguirse, por ejemplo, tal como se ha descrito arriba con respecto a la figura 2 mediante una eliminación selectiva del material de máscara 10. El material de máscara 10 se basa en compuestos diazo y mediante una exposición se estructura en el dominio visible.
No pertenece a la invención el hecho de que el material de máscara 10 pueda estructurarse también ya a través de una aplicación selectiva del material de máscara 10. No pertenece a la invención el hecho de que el material de máscara 10 se estampe selectivamente y se base en particular en tinta y/o cera, preferentemente en una combinación de una tinta de curado UV y cera.
La figura 4 muestra ahora el ejemplo de realización del panel compuesto 2 de la figura 3 en una exposición selectiva de la capa fotosensible 6, en donde la radiación electromagnética 12 al menos en el dominio de longitud de onda, en el que la capa fotosensible 6 puede estructurarse, actúa sobre el panel compuesto 2. La capa de barrera 8 en este sentido es esencialmente transparentes para la radiación 12, de modo que la radiación 12, debido al enmascaramiento mediante el material de máscara 10 actúa selectivamente sobre secciones 6' de la capa fotosensible 6. En el panel compuesto 2 es ventajoso en este sentido que la capa fotosensible 6 se apantalle mediante la capa de barrera 8 respecto a la atmósfera circundante y al mismo tiempo aparezcan efectos de refracción solo reducidos en la capa de barrera 8. La exposición de la capa fotosensible 6 puede realizarse por consiguiente con alta resolución y alta calidad.
La capa fotosensible 6 expuesta selectivamente puede eliminarse selectivamente. En el caso de fotopolímeros pueden realizarse, por ejemplo, etapas de procedimiento habituales para el revelado y desprendimiento selectivo de la capa fotosensible 6. En particular el material de máscara 10 y/o la capa de barrera 8 se retiran antes o después. figura 5a, b muestra para ello dos configuraciones de una plancha de impresión tipográfica fabricada a partir del panel compuesto 2, que están realizadas como planchas flexográficas 14. La plancha flexográfica 14 representada en la figura 5a se desprende por ejemplo del panel compuesto 2 expuesto selectivamente mostrada en la figura 4, en donde la capa fotosensible 6 reacciona en particular positivamente en una exposición. Por ejemplo se aumenta la solubilidad de las secciones 6' expuestas, por lo que en un desprendimiento en las zonas correspondientes se forman entalladuras.
La figura 5b muestra análogamente para ello una plancha flexográfica 14 con una reacción negativa de la capa fotosensible 6. Por ejemplo, la solubilidad de las secciones expuestas 6' se reduce, por lo que en un desprendimiento en las secciones no expuestas se forman entalladuras.
En la figura 6 se muestra un ejemplo de realización adicional de paneles compuestos 2 sobre un soporte tipográfico. Por encima de una base 16 está prevista una unidad de exposición 18, que en el ejemplo de realización representada está esbozada como fuente de luz lineal, que puede desplazarse para la exposición completa con respecto a la base 16.
Sobre el soporte flexográfico 20 están sujetos paneles compuestos 2. Una aplicación del material de máscara 10 puede suceder, por ejemplo, mediante un estampado. Sin embargo, en la figura 6 una capa de compensación 22 en las secciones que quedan está prevista sobre el soporte flexográfico 20, de modo que puede colocarse material de máscara 10 sobre los paneles compuestos 2 y la capa de compensación 22. Mediante la disposición de la capa de compensación 22 queda garantizado que el material de máscara 10 no se combe o lance ondas en las zonas cubiertas por la capa de compensación 22. Una configuración especialmente exacta de los paneles compuestos 2 puede garantizarse, en particular, mediante el uso de un registro 24 de una manera especialmente sencilla.
Como se conoce por el estado de la técnica, los paneles compuestos 2 no expuestos al menos parcialmente se cortan con ayuda de un plóter de corte. Convenientemente también el recorte de la capa de compensación 22 se realiza con ayuda de un plóter de corte conocido per se. Como capa de compensación 22 pueden emplearse distintos materiales asequibles. Preferentemente estos tienen un grosor que coincide esencialmente con los paneles compuestos 2. Se consideran, por ejemplo, materiales como cartón o materiales elásticos, como por ejemplo planchas de goma o de polímero.
En un ejemplo de realización del procedimiento para la fabricación de un panel compuesto se aplican una capa de soporte, al menos una capa fotosensible, una capa de barrera y al menos un material de máscara unas sobre otras. La capa de barrera junto con el material de máscara se aplica en el lado de la capa fotosensible apartado de la capa de soporte. Para ello se facilita inicialmente un material compuesto de material de máscara y capa de barrera, estando unidos el material de máscara y la capa de barrera entre sí mediante adhesión y/o mediante una unión de material. Por ejemplo el material de máscara se aplica mediante laminado sobre la capa de barrera.
El material compuesto que presenta material de máscara y capa de barrera se emplea para facilitar un panel compuesto para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica. El material compuesto se aplica para ello sobre una capa de soporte y una capa fotosensible. La aplicación del material compuesto comprende en este sentido un laminado. En particular se facilita un material compuesto adicional que presenta capa de soporte y capa fotosensible, sobre la que se aplica el material compuesto que presenta material de máscara y capa de barrera, en particular mediante laminado.
Mediante el uso del material compuesto que presenta material de máscara y capa de barrera puede llevarse a cabo un procedimiento especialmente rentable para la fabricación del panel compuesto. La necesidad de una lámina de soporte o de una lámina antiadhesiva adicional para la aplicación del material de máscara se omite con la capa de barrera, en donde la capa de barrera facilita al mismo tiempo una capa de barrera de difusión para la estructuración siguiente del panel compuesto para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica.

Claims (13)

REIVINDICACIONES
1. Panel compuesto para el uso en la fabricación de una plancha de impresión tipográfica,
- con una capa de soporte (4),
- con al menos una capa fotosensible (6), que puede estructurarse a través de radiación electromagnética (12) en un dominio de longitud de onda,
- en donde la capa fotosensible (6) está dispuesta sobre la capa de soporte (4),
- en donde está prevista una capa de barrera (8), estando la capa de barrera (8) dispuesta en el lado de la capa fotosensible (6) apartado de la capa de soporte (4),
- en donde la capa de barrera (8) es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda en el que puede estructurarse la capa fotosensible (6),
- en donde sobre la capa de barrera (8) está dispuesto al menos un material de máscara (10) y
- en donde el material de máscara (10) está aplicado mediante laminado,
caracterizado por que
- el material de máscara (10) comprende compuestos diazo, en donde puede influirse en la solubilidad del material de máscara (10) mediante exposición selectiva en el dominio visible.
2. Panel compuesto según la reivindicación 1,
caracterizado por que
la capa de barrera (8) presenta un grosor de capa (d) de como máximo 100 pm, preferentemente de como máximo 20 pm y de manera más preferente de como máximo 10 pm.
3. Panel compuesto según las reivindicaciones 1 o 2,
caracterizado por que
el material de máscara (10) está configurado como capa.
4. Panel compuesto según una de las reivindicaciones 1 a 3,
caracterizado por que
el panel compuesto (2) está orientado para el uso en la fabricación de una plancha de impresión flexográfica (14).
5. Procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica empleando al menos un panel compuesto (2)
- con una capa de soporte (4),
- con al menos una capa fotosensible (6), que puede estructurarse a través de radiación electromagnética (12) en un dominio de longitud de onda, estando la capa fotosensible (6) dispuesta sobre la capa de soporte (4), - con una capa de barrera (8), en donde la capa de barrera (8) está dispuesta en el lado de la capa fotosensible (6) apartado de la capa de soporte (4),
- en donde la capa de barrera (8) presenta un grosor de capa (d) de preferentemente como máximo 20 pm, - en donde la capa de barrera (8) es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que puede estructurarse la capa fotosensible (6),
- en el que se aplica al menos un material de máscara (10) sobre el panel compuesto (2) mediante laminado y el material de máscara (10) se estructura selectivamente,
- en donde se usa al menos un material de máscara (10) que comprende compuestos diazo,
- en donde el material de máscara (10) es expuesto selectivamente y es eliminado selectivamente,
- en donde puede influirse en la solubilidad del material de máscara (10) mediante exposición selectiva en el dominio visible y
- en donde el material de máscara (10) se estructura a través de una solución,
- en el que se expone selectivamente la capa fotosensible (6), al menos en el dominio de longitud de onda en el que la capa fotosensible (6) puede estructurarse, y
- en el que la capa fotosensible (6) expuesta selectivamente es eliminada selectivamente.
6. Procedimiento según la reivindicación 5,
caracterizado por que
se aplica al menos un material de máscara (10) como capa.
7. Procedimiento según las reivindicaciones 5 o 6,
caracterizado por que
el al menos un panel compuesto (2) se sujeta por secciones sobre un soporte tipográfico (20).
8. Procedimiento según la reivindicación 7,
caracterizado por que
las secciones que quedan libres en la sujeción del al menos un panel compuesto (2) sobre el soporte tipográfico (20) se cubren con al menos una capa de compensación (22) antes de la aplicación del material de máscara (10).
9. Procedimiento para la fabricación de un panel compuesto (2) según una de las reivindicaciones 1 a 4,
- en el que se aplican unos sobre otros una capa de soporte (4), al menos una capa fotosensible (6), una capa de barrera (8) y al menos un material de máscara (10),
- en donde la capa fotosensible (6) se dispone sobre la capa de soporte (4),
- en donde la capa fotosensible (6) puede estructurarse a través de radiación electromagnética (12) en un dominio de longitud de onda,
- en donde la capa de barrera (8) se dispone en el lado de la capa fotosensible (6) apartado de la capa de soporte (4) y la capa de barrera (8) es esencialmente transparente en el dominio de longitud de onda, en el que puede estructurarse la capa fotosensible (6),
- en donde el material de máscara (10) comprende compuestos diazo, en donde puede influirse en la solubilidad del material de máscara (10) mediante exposición selectiva en el dominio visible y
- en el que la aplicación comprende un laminado.
10. Procedimiento según la reivindicación 9,
caracterizado por que
la capa de barrera (8) junto con el material de máscara (10) se aplican en el lado de la capa fotosensible (6) apartado de la capa de soporte (4).
11. Procedimiento según las reivindicaciones 9 o 10,
caracterizado por que
el material de máscara (10) con la capa de barrera (8) se facilita como material compuesto y el material compuesto se aplica en particular mediante laminado.
12. Uso de un material compuesto que presenta:
- una capa de barrera (8) con un grosor de capa (d) de preferentemente como máximo 20 pm, en donde la capa de barrera (8) es esencialmente transparente en un dominio de longitud de onda, que es adecuado para la estructuración de una capa fotosensible (6) y
- un material de máscara (10) que comprende compuestos diazo, en donde puede influirse en la solubilidad del material de máscara (10) mediante exposición selectiva en el dominio visible;
- en donde el material compuesto se emplea en un panel compuesto (2) para una plancha de impresión tipográfica.
13. Uso según la reivindicación 12,
en donde el material compuesto se emplea en un panel compuesto (2) para una plancha de impresión tipográfica.
ES17787363T 2016-10-10 2017-10-09 Panel compuesto con capa de barrera y procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica Active ES2848716T3 (es)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP16193101 2016-10-10
EP17189967 2017-09-07
PCT/EP2017/075663 WO2018069242A1 (de) 2016-10-10 2017-10-09 Verbundplatte mit sperrschicht und verfahren zur herstellung einer hochdruckplatte

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2848716T3 true ES2848716T3 (es) 2021-08-11

Family

ID=60153280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES17787363T Active ES2848716T3 (es) 2016-10-10 2017-10-09 Panel compuesto con capa de barrera y procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10843453B2 (es)
EP (1) EP3523696B1 (es)
ES (1) ES2848716T3 (es)
WO (1) WO2018069242A1 (es)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018214343A1 (de) * 2018-08-24 2020-02-27 Heidelberg Schweiz AG Verfahren zum Herstellen von Flexodruckplatten

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4164422A (en) * 1977-09-19 1979-08-14 Napp Systems (Usa), Inc. Water developable, photopolymer printing plates having ink-repulsive non-image areas
JPS6043660B2 (ja) 1978-01-31 1985-09-30 日本電気株式会社 半導体装置
DE2923980A1 (de) * 1978-06-14 1980-01-03 Polychrome Corp Mehrschichtfolie zur herstellung eines positivs und eines negativs von einem transparentbild
JPS6043660A (ja) * 1983-08-19 1985-03-08 Kimoto & Co Ltd フオトマスキングフイルム
DE19536808A1 (de) 1995-10-02 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Hochdruckplatten
NL1004757C2 (nl) * 1996-12-12 1998-06-15 Av Flexologic Bv Systeem en werkwijze voor het verschaffen van fotodrukplaten en dergelijke.
EP1072953A1 (en) 1999-07-13 2001-01-31 Agfa-Gevaert N.V. Flexographic printing plate precursor comprising an ink-jet receiving layer
US6794107B2 (en) * 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
JP4342373B2 (ja) 2004-04-30 2009-10-14 東京応化工業株式会社 凸版印刷用感光性印刷原版、凸版印刷版の製造方法、および該製造方法用遮光インク
JP2009063873A (ja) * 2007-09-07 2009-03-26 Toray Ind Inc 感光性印刷版原版
JP4332865B1 (ja) 2008-05-23 2009-09-16 東洋紡績株式会社 フレキソ印刷原版
CA2923703C (en) 2013-09-18 2021-10-05 Flint Group Germany Gmbh Digitally exposable flexographic printing element and method for producing flexographic printing plates
EP2950146A1 (de) * 2014-05-28 2015-12-02 AKK GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Flexodruckform
CN107969149B (zh) 2015-05-28 2021-12-17 富林特集团德国有限公司 具有集成阻挡层的可数字成像柔版印版

Also Published As

Publication number Publication date
US10843453B2 (en) 2020-11-24
EP3523696B1 (de) 2021-01-13
WO2018069242A1 (de) 2018-04-19
EP3523696A1 (de) 2019-08-14
US20190224957A1 (en) 2019-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7069245B2 (ja) 偏光板および画像表示装置
JP6401377B2 (ja) 偏光板の製造方法及び脱色溶液
ES2926822T3 (es) Mejorar el rendimiento de impresión en planchas de impresión flexográfica
ES2578680T3 (es) Sistema y método para exponer un placa de polímero digital
CN101689029B (zh) 用于印刷胶版生产的层压装置和方法
BR112018011594B1 (pt) Processo para a produção de um elemento de segurança e película de transferência
PL169784B1 (pl) Material na odblaskowe znaki drogowe i sposób wytwarzania materialu na odblaskowe znaki drogowe PL PL PL PL PL
ES2781325T3 (es) Placa de impresión flexográfica capaz de ser ilustrada digitalmente con capa de barrera integral
ATE259969T1 (de) Flachdruckplatten für die digitale bilderzeugung mittels laser
JP2009034913A (ja) フレキソ印刷版およびその製造方法、薄膜および液晶表示素子の製造方法
US9726971B2 (en) Printable laminates for flexo plates, methods of making, and methods of using
CN108351604A (zh) 膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案
JP2014069575A5 (es)
KR20150131950A (ko) 플렉소 인쇄판과 그 제조 방법, 및 액정 표시 소자의 제조 방법
ES2848716T3 (es) Panel compuesto con capa de barrera y procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión tipográfica
WO2006082777A1 (ja) 弾性樹脂版
CN106605173B (zh) 干净的柔性印刷版及其制造方法
ES2314730T3 (es) Cinta transparente para placas fotopolimeras.
JP2009092720A (ja) レーザマーキング用ラベル
KR20160085204A (ko) 인쇄용 수지 원판의 제조 방법 및 플렉소 인쇄판
JP5040642B2 (ja) 回折構造形成体の製造方法
WO2007031842B1 (es) Procedimiento para la fabricacion de rodillos para la impresion de materiales laminares, maquina para la realizacion del procedimiento y soporte de impresion para los rodillos de impresion
JP2015049797A (ja) 透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法
BRPI0412490A (pt) processos de corte de uma pelìcula funcional de material plástico e de proteção de pelo menos uma face de um substrato de tipo placa durante seu transporte, substrato tal como uma placa de vidro e aparelhagem para a execucação do processo de corte
JP4509876B2 (ja) 光学フィルター