JP6401377B2 - 偏光板の製造方法及び脱色溶液 - Google Patents

Description

本出願は２０１４年１０月６日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１４−０１３４１０１号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。

本明細書は偏光板の製造方法及びこれを用いて製造された偏光板に関する。

液晶表示装置は液晶のスイッチング効果による偏光を可視化するディスプレイであり、腕時計、電子計算機、携帯電話等の中小型ディスプレイだけでなく、大型ＴＶに至るまで様々な範囲にかけて用いられている。

最近では、携帯性や移動性が強調される中小型ディスプレイ機器やノートパソコン等にカメラ、画像通話等の様々な機能が搭載されるのが普遍化しており、前記の機能を行うために最近発売される液晶表示装置は外部にカメラレンズが露出される構造を有している。

しかし、液晶表示装置は液晶セルの外部面に偏光子または偏光板を必ず付着しなければならず、その過程で偏光子または偏光板が外部に露出されたカメラレンズを覆ってしまい、５０％未満の偏光板固有の透過率によってレンズの視認性が低下するという問題点が発生する。

このような問題点を解決するために、偏光板の付着時、カメラレンズを覆う部位の偏光板をパンチング及び切削等の方法によって孔を開けて除去する物理的な除去方法及び／又はレンズを覆う偏光板部分にヨウ素イオンの化学物質を用いて脱離させるか漂白させる化学的な除去方法が利用されているが、レンズの損傷、レンズの汚染、除去領域の正確な制御の難しさ等の短所がある。

そこで、外部にカメラレンズが露出される構造を有するディスプレイ機器等に適用するための偏光板の製造方法に対する研究が必要な現状である。

本明細書は、偏光板の製造方法及びこれを用いて製造された偏光板を提供する。

本明細書の一実施態様は、
ヨウ素及び二色性染料のうち少なくとも一つ以上が染着されたポリビニルアルコール系偏光子を提供するステップ、
前記偏光子の一面に保護フィルムを備えるステップ、
前記偏光子の他面に少なくとも一つ以上の穿孔部を含むマスク層を備えるステップ、及び
前記マスク層が備えられた偏光子の他面に脱色剤を１重量％〜３０重量％で含む脱色溶液を局地的に接触させ、４００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯域における単体透過率が８０％以上の偏光解消領域を形成するステップを含み、
前記脱色溶液の表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である偏光板の製造方法を提供する。

また、本明細書の一実施態様は前述した製造方法により製造された偏光板を提供する。

なお、本明細書の一実施態様は、
表示パネル、及び
前記表示パネルの一面または両面に付着された前記偏光板を含む画像表示装置を提供する。

さらに、本明細書の一実施態様は表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下の脱色溶液を提供する。

本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法は、パンチングや切削工程を行わず、化学的脱色方式によって所望の位置に脱色領域を形成するため、偏光板が損傷するのを最小化することができる。また、本明細書の一実施態様による製造方法は、連続工程からなるため、工程効率に優れており、製造費用が安価である。

また、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法は、脱色過程でマイクロバブル（ｍｉｃｒｏ ｂｕｂｂｌｅ）が形成される現象を抑制して、連続工程の実行時に不良発生率を減らすことができる。その結果、連続工程実行の安定化をもたらすという長所がある。

なお、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法により製造された偏光板は、部品が取り付けられる部分や発色しようとする領域に透明に近い偏光解消領域を有するため、取り付けられる部品の性能低下を防止することができ、様々な色及び／又はデザインを実現できるという長所がある。

本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法を説明するためのフローチャートである。 偏光解消領域過程で未脱色部位が発生する原因であるマイクロバブル（ｍｉｃｒｏ ｂｕｂｂｌｅ）が生じる理由を説明するための図である。 マイクロバブルによる未脱色部位を示す図である。 実施例１〜３において未脱色部位が発生しない理由を説明するための図である。

以下、本明細書をより詳細に説明する。

従来の偏光板の場合、偏光板の全領域にヨウ素及び／又は二色性染料で染着されて偏光板が濃い黒色を示し、その結果、ディスプレイ装置に様々なカラーを付与し難く、特に、カメラのような部品上に偏光板が位置する場合、偏光板において光量の５０％以上を吸収してカメラレンズの視認性が低下する等の問題点が発生した。

このような問題点を解決するために、パンチング及び切削等の方法により偏光板の一部に孔（穿孔）を開けてカメラレンズを覆う部位の偏光板を物理的に除去する方法が汎用化されてきた。

しかし、前記のような物理的方法は、画像表示装置の外観を低下させ、孔を開ける工程の特性上偏光板を損傷させる。一方、偏光板の裂けのような損傷を防ぐためには、偏光板の穿孔部位が角から十分に離れた領域に形成されなければならず、その結果、このような偏光板を適用する場合、画像表示装置のベゼル部が相対的に広くなって最近の画像表示装置の大画面を実現するための狭いベゼル（ＮＡＲＲＯＷ ＢＥＺＥＬ）デザインの傾向からも外れるという問題点を有している。また、上記のように偏光板の穿孔部位にカメラモジュールを取り付ける場合、カメラレンズが外部に露出されるため、長時間の使用時にカメラレンズの汚染及び損傷が発生し易いという問題点もある。

そこで、本明細書では、物理的に孔を開けず、外観を害せず、単純な工程だけで偏光除去を可能にする化学的方法を提供しようとする。具体的には、連続工程実行の容易性及び連続工程安定性に優れた化学的方法を提供しようとする。

本明細書の一実施態様は、ヨウ素及び二色性染料のうち少なくとも一つ以上が染着されたポリビニルアルコール系偏光子を提供するステップ、前記偏光子の一面に保護フィルムを備えるステップ、前記偏光子の他面に少なくとも一つ以上の穿孔部を含むマスク層を備えるステップ、及び前記マスク層が備えられた偏光子の他面に脱色剤を１重量％〜３０重量％で含む脱色溶液を局地的に接触させ、４００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯域における単体透過率が８０％以上の偏光解消領域を形成するステップを含み、前記脱色溶液の表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である偏光板の製造方法を提供する。

この時、前記偏光子の他面とは、保護フィルムが備えられていない反対面をいう。

図１には、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法の概略的なフローチャートが示されている。

図１に示すように、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法は、ヨウ素及び二色性染料のうち少なくとも一つ以上が染着されたポリビニルアルコール系偏光子を提供するステップ、前記偏光子の一面に保護フィルムを備えるステップ、前記偏光子の他面に少なくとも一つ以上の穿孔部を含むマスク層を備えるステップ、及び前記マスク層が備えられた偏光子の他面に脱色溶液を接触させて偏光解消領域を形成するステップを含む。

一方、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法は、必要により、離型フィルムを備えるステップ、マスク層を除去するステップ、離型フィルムを除去するステップ、及び／又は洗浄ステップをさらに含むことができる。

本明細書において、「備え（具備）」は「積層」を意味することもできる。

本発明者らは、ヨウ素及び／又は二色性染料が染着されたポリビニルアルコール系偏光子の一部領域に脱色溶液を選択的に接触させて局地的に偏光解消領域を形成する場合、パンチング及び切削等の物理的な除去方法とは異なり、穿孔が生じず、偏光子の一面に保護フィルムを先に積層した後に脱色工程を行うことで、偏光子の膨潤現象が抑制されることによって、偏光解消領域の微細シワを最小化できることを知った。

一般に、保護フィルムが積層されていないポリビニルアルコール系偏光子に直接脱色溶液を接触させる場合、水分によって偏光子の膨潤（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）現象が発生し、そのために偏光解消領域及びその周辺領域にシワが発生する。この場合、偏光解消領域の表面粗さが上昇してヘイズが増加し、その結果、偏光板の外観及び偏光解消領域に位置するカメラの視認性を十分に確保し難くなる。そこで、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法のように脱色溶液を接触させる前に偏光子の一面に保護フィルムを積層させる場合、保護フィルムと偏光子が互いに接着されているので膨潤現象及びシワの発生を抑制することができる。

また、本発明者らは、表面張力の低い脱色溶液、具体的には表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下の脱色溶液を用い、偏光子を脱色溶液に接触させる前に一つ以上の穿孔部を含むマスク層を備えた後、偏光解消領域形成ステップを行うことによって、連続工程容易性及び不良発生の抑制効果を効率的に向上できることを知った。

以下、本明細書の一実施態様による製造方法の各ステップをより具体的に説明する。

前記ポリビニルアルコール系偏光子は、当技術分野で周知のＰＶＡ偏光子の製造方法により製造するか、または市販のポリビニルアルコール系偏光子を購入して用いることができる。

前記ポリビニルアルコール系偏光子を提供するステップは、例えば、これに限定されるものではないが、例えば、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）系ポリマーフィルムをヨウ素及び／又は二色性染料で染着する染着ステップ、前記ポリビニルアルコール系フィルムと染料を架橋させる架橋ステップ、及び前記ポリビニルアルコール系フィルムを延伸する延伸ステップにより行われることができる。

先ず、前記染着ステップは、ヨウ素分子及び／又は二色性染料をポリビニルアルコール系フィルムに染着させるためのものであり、ヨウ素分子及び／又は二色性染料分子は、偏光子の延伸方向に振動する光は吸収し、垂直方向に振動する光は通過させることによって、特定の振動方向を有する偏光を得ることができるようにする。この時、前記染着は、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液及び／又は二色性染料を含有する溶液が入れられた処理浴に含浸させることにより行われることができる。

この時、前記染着ステップの溶液に用いられる溶媒は水が一般的に用いられるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適当量添加されていてもよい。一方、ヨウ素及び／又は二色性染料は、溶媒１００重量部に対し、０．０６重量部〜０．２５重量部で用いられることができる。前記ヨウ素等の二色性物質が前記範囲内である場合、延伸後に製造された偏光子の透過率が４０．０％〜４７．０％の範囲を満たすことができる。

一方、二色性物質としてヨウ素を用いる場合には、染着効率を改善するためにヨウ化化合物等の補助剤をさらに含有することが好ましく、前記補助剤は、溶媒１００重量部に対し、０．３重量部〜２．５重量部の割合で用いられることができる。この時、前記ヨウ化化合物等の補助剤を添加する理由は、ヨウ素の場合、水に対する溶解度が低いため、水に対するヨウ素の溶解度を高めるためである。一方、前記ヨウ素とヨウ化化合物の配合割合は重量基準に１：５〜１：１０であることが好ましい。

前記追加できるヨウ化化合物の具体的な例としてはヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化スズ、ヨウ化チタンまたはこれらの混合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

一方、処理浴の温度は２５℃〜４０℃程度に維持されることが好ましい。処理浴の温度が２５℃未満の場合には染着効率が落ち、４０℃超過の場合にはヨウ素の昇華が多く起こってヨウ素の使用量が増える。

この時、ポリビニルアルコール系フィルムを処理浴に浸漬する時間は３０秒〜１２０秒程度であることが好ましい。浸漬時間が３０秒未満の場合にはポリビニルアルコール系フィルムに染着が均一になされず、１２０秒超過の場合には染着が飽和（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ）してこれ以上浸漬する必要がないためである。

一方、架橋ステップは、ヨウ素及び／又は二色性染料がポリビニルアルコール高分子マトリックスに吸着されるようにするためのものであり、ポリビニルアルコール系フィルムをホウ酸水溶液等が入れられた架橋浴に沈積させて行う沈積法が一般的に用いられるが、これに限定されず、ポリビニルアルコール系フィルムに架橋剤を含む溶液を塗布したり噴射したりする塗布法または噴霧法により行われることもできる。

この時、前記架橋浴の溶液に用いられる溶媒は水が一般的に用いられるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適当量添加されていてもよく、前記架橋剤は溶媒１００重量部に対して０．５重量部〜５．０重量部で添加されることができる。この時、前記架橋剤が０．５重量部未満で含まれる場合には、ポリビニルアルコール系フィルム内で架橋が足らず、水中でポリビニルアルコール系フィルムの強度が落ち、５．０重量部を超過する場合には、過度な架橋が形成されてポリビニルアルコール系フィルムの延伸性を低下させる。前記架橋剤の具体的な例としてはホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキサル、グルタルアルデヒド等が挙げられ、これらを単独でまたは組み合わせて用いることができる。但し、これらに限定されるものではない。

一方、前記架橋浴の温度は架橋剤の量と延伸比に応じて異なり、これに限定されるものではないが、一般に４５℃〜６０℃であることが好ましい。一般に架橋剤の量が増えれば、ポリビニルアルコール系フィルム鎖の流動性（ｍｏｂｉｌｉｔｙ）を向上させるために高い温度条件に架橋浴の温度を調節し、架橋剤の量が少なければ、相対的に低い温度条件に架橋浴の温度を調節する。しかし、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法は、５倍以上の延伸がなされる過程であるため、ポリビニルアルコール系フィルムの延伸性を向上させるために架橋浴の温度を４５℃以上に維持しなければならない。一方、架橋浴にポリビニルアルコール系フィルムを浸漬させる時間は、３０秒〜１２０秒程度であることが好ましい。浸漬時間が３０秒未満の場合にはポリビニルアルコール系フィルムに架橋が均一になされず、１２０秒超過の場合には架橋が飽和（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ）してこれ以上浸漬する必要がないためである。

一方、延伸ステップにおける延伸とはポリビニルアルコール系フィルムの高分子鎖を一定方向に配向させるためのものであり、延伸方法は湿式延伸法と乾式延伸法に区分することができ、乾式延伸法は再びロール間（ｉｎｔｅｒ−ｒｏｌｌ）延伸方法、加熱ロール（ｈｅａｔｉｎｇ ｒｏｌｌ）延伸方法、圧縮延伸方法、テンター（ｔｅｎｔｅｒ）延伸方法等に、湿式延伸方法はテンター延伸方法、ロール間延伸方法等に区分される。

この時、延伸ステップは、前記ポリビニルアルコール系フィルムを４倍〜１０倍の延伸比で延伸することが好ましい。これは、ポリビニルアルコール系フィルムに偏光性能を付与するためにはポリビニルアルコール系フィルムの高分子鎖を配向させなければならないが、４倍未満の延伸比では鎖の配向が十分になされず、１０倍超過の延伸比ではポリビニルアルコール系フィルム鎖が切断されるためである。

この時、前記延伸は４５℃〜６０℃の延伸温度で延伸することが好ましい。前記延伸温度は架橋剤の含量に応じて異なり、４５℃未満の温度ではポリビニルアルコール系フィルム鎖の流動性が低下して延伸効率が減少し、６０℃超過の温度ではポリビニルアルコール系フィルムが軟化して強度が弱くなるためである。一方、前記延伸ステップは、前記染着ステップまたは架橋ステップと同時にまたは別途に行われてもよい。

一方、前記延伸は、ポリビニルアルコール系フィルム単独で行われてもよく、ポリビニルアルコール系フィルムに基材フィルムを積層した後、ポリビニルアルコール系フィルムと基材フィルムを共に延伸する方法により行われてもよい。前記基材は、厚さの薄いポリビニルアルコール系フィルム（例えば、６０μｍ以下のＰＶＡフィルム）を延伸する場合、延伸過程でポリビニルアルコール系フィルムが破断するのを防止するために用いられるものであり、１０μｍ以下の薄型ＰＶＡ偏光子を製造するために用いられることができる。

この時、前記基材フィルムとしては、２０℃〜８５℃の温度条件下で最大延伸倍率が５倍以上の高分子フィルムが用いられることができ、例えば、高密度ポリエチレンフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリオレフィンフィルム、エステル系フィルム、低密度ポリエチレンフィルム、高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレン共押出フィルム、高密度ポリエチレンにエチレンビニルアセテートが含まれた共重合体樹脂フィルム、アクリルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、セルロース系フィルム等が用いられることができる。一方、前記最大延伸倍率は破断が発生する直前の延伸倍率を意味する。

また、前記基材フィルムとポリビニルアルコール系フィルムの積層方法は特に限定されない。例えば、基材フィルムとポリビニルアルコール系フィルムを接着剤または粘着剤を介して積層してもよく、別途の媒介物を用いることなく基材フィルム上にポリビニルアルコール系フィルムを載せておく方式によって積層してもよい。また、基材フィルムを形成する樹脂とポリビニルアルコール系フィルムを形成する樹脂を共押出する方法により行われるか、または基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂をコーティングする方法により行われることもできる。

一方、前記基材フィルムは、延伸が完了した後に偏光子から離脱させて除去してもよいが、除去せずに次のステップに進んでもよい。この場合、前記基材フィルムは後述する偏光子保護フィルム等として用いられることができる。

次に、前記方法によってポリビニルアルコール系偏光子が準備されれば、前記ポリビニルアルコール系偏光子の一面に保護フィルムを備えるステップを行う。

この時、前記保護フィルムは、厚さの非常に薄い偏光子を保護するためのフィルムであって、偏光子の一面に付着する透明フィルムを言い、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性等に優れたフィルムを用いることができる。例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のようなアセテート系、ポリエステル系、ポリエーテルスルホン系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリオレフィン系、シクロオレフィン系、ポリウレタン系及びアクリル系樹脂フィルムなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。

また、前記保護フィルムは、等方性フィルムであってもよく、位相差のような補償機能が与えられた異方性フィルムであってもよく、１枚で構成されてもよく、または２枚以上が接合して構成されてもよい。また、前記保護フィルムは未延伸、１軸または２軸延伸されたフィルムであってもよく、保護フィルムの厚さは一般に１μｍ〜５００μｍ、好ましくは１μｍ〜３００μｍであってもよい。

この時、前記保護フィルムはポリビニルアルコール系偏光子に対する接着力が１Ｎ／２ｃｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２Ｎ／２ｃｍ以上であってもよい。具体的には、前記接着力は、保護フィルムをヨウ素及び二色性染料のうち少なくとも一つ以上が染着されたポリビニルアルコール系偏光子に付着した後、Ｔｅｘｔｕｒｅ ａｎａｌｙｓｅｒを利用して９０度の剥離力で測定した接着力を意味する。接着力が前記範囲を満たす場合、保護フィルムとポリビニルアルコール系偏光子との膨潤が抑制され、製造過程中のカールの発生及び欠点（ｄｅｆｅｃｔ）の発生を最小化することができる。

一方、前記ポリビニルアルコール系偏光子の一面に保護フィルムを積層するステップは、偏光子に保護フィルムを接合するものであり、接着剤を用いて接合することができる。この時、当技術分野で周知のフィルムの貼り合わせ方法により行われることができ、例えば、ポリビニルアルコール系接着剤のような水系接着剤、ウレタン系接着剤等のような熱硬化性接着剤、エポキシ系接着剤等のような光カチオン硬化型接着剤、アクリル系接着剤等のような光ラジカル硬化型接着剤のように当技術分野で周知の接着剤を用いて行われることができる。

次に、上記のように保護フィルムが備えられた偏光子の他面に少なくとも一つ以上の穿孔部を含むマスク層を備えるステップを行うことができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域を形成するステップ前に、前記偏光子の他面に少なくとも一つ以上の穿孔部を含むマスク層を形成するステップをさらに含むことができる。この時、前記マスク層はマスクフィルムまたはコーティング層からなることができる。

偏光解消領域を形成するステップ前にマスク層を形成するステップを行う場合、偏光解消を望まない部分、すなわち、脱色を望まない部位がマスク層で覆われているため、ロールツーロール工程（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ ｐｒｏｃｅｓｓ）時に不良発生率を減らすことができ、ポリビニルアルコール系偏光子とマスク層が積層されているため、工程速度の制限を受けないという長所がある。

本明細書の一実施態様によれば、前記マスク層を形成するステップは、前記保護フィルムを備えるステップ前に行われることもできる。

穿孔部を含むマスク層が形成された偏光子を脱色溶液に浸漬させれば、穿孔部を介してポリビニルアルコール系偏光子に脱色溶液が接触するようになり、その結果、穿孔部領域に対応する部分にのみ部分的に脱色が発生する。

また一つの実施態様によれば、前記マスク層としてマスクフィルムを用いる場合、前記マスク層を形成するステップは、マスクフィルムに穿孔部を形成するステップ、及び前記マスクフィルムを前記偏光子の他面に付着するステップを含むことができる。

この時、前記マスクフィルムとしてはポリエチレン（ＰｏｌｙＥｔｈｙｌｅｎｅ、ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰｏｌｙＰｒｏｐｙｌｅｎｅ、ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙＥｔｈｙｌｅｎｅＴｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ、ＰＥＴ）等のようなオレフィン系フィルム；またはエチレンビニルアセテート（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌ Ａｃｅｔａｔｅ、ＥＶＡ）、ポリビニルアセテート（ＰｏｌｙＶｉｎｙｌ Ａｃｅｔａｔｅ）等のようなビニルアセテート系フィルムが用いられるが、これらに限定されるものではない。また、前記マスクフィルムの厚さは、これに限定されるものではないが、１０μｍ〜１００μｍ程度、好ましくは１０μｍ〜７０μｍ程度であってもよい。

前記マスクフィルムに穿孔部を形成するステップは、特に制限されず、当技術分野で周知のフィルム穿孔方法、例えば、金型加工、ナイフ加工またはレーザ加工等によって行われることができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記穿孔部を形成するステップはレーザ加工によって行われることができる。前記レーザ加工は、当技術分野で一般的に知られているレーザ加工装置を利用して行われることができ、特に制限されない。レーザ装置の種類、出力、レーザパルス繰り返し率等のようなレーザ加工条件はフィルムの材質や厚さ、穿孔部の形状等に応じて異なり、当技術分野の当業者であれば、前記のような点を考慮してレーザ加工条件を適切に選択することができる。例えば、マスクフィルムとして厚さが３０μｍ〜１００μｍのポリオレフィンフィルムを用いる場合には、中心波長が９μｍ〜１１μｍ程度の二酸化炭素（ＣＯ_２）レーザ装置または中心波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍ程度の紫外線（ＵＶ）装置等を使って穿孔部を形成することができ、この時、前記レーザ装置の最大平均出力は０．１Ｗ〜３０Ｗ程度であってもよく、パルス繰り返し率は０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚ程度であってもよいが、これに限定されるものではない。

前記穿孔部を形成するステップは、前記偏光子の他面に付着するステップ以前または以後に行われることができる。換言すれば、マスクフィルムに穿孔部を予め形成した後、穿孔部が形成されたマスクフィルムを偏光子に付着してもよく、マスクフィルムを偏光子に付着した後に穿孔部を形成してもよい。

前記偏光子の他面にマスクフィルムを付着するステップは、当技術分野で周知のフィルムの貼り合わせ方法、例えば、マスクフィルムと偏光部材を粘着層を介して付着する方法により行われることができ、この時、前記粘着層は、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ゴム系粘着剤等のような粘着剤をマスクフィルムまたは偏光部材上に塗布して形成されることができるが、これに限定されるものではない。例えば、マスクフィルムとして自己粘着力のあるフィルム（例えば、ＥＶＡフィルム、ＰＶＡＣフィルム、ＰＰフィルム等）を用いる場合には、粘着層を形成することなくマスクフィルムを偏光子の他面に直ちに付着することもできる。

本明細書の一実施態様によれば、前記マスク層がコーティング層で形成される場合、前記マスク層を形成するステップは、前記偏光子の他面にコーティング層を形成するステップ、及び前記コーティング層の一部領域を選択的に除去して穿孔部を形成するステップを含む。

前記コーティング層を形成するステップは、偏光子の他面にコーティング層形成用組成物を塗布した後に乾燥させるか、熱または紫外線、電子線等のような活性エネルギー線を照射してコーティング層を硬化させる方法により行われることができる。

前記コーティング層形成用組成物としては、レーザによってエッチングすることができ、アルカリ溶液に溶解されないものであれば、その種類は特に限定されない。例えば、前記コーティング層形成用組成物としては、水分酸性ポリウレタン、水分酸性ポリエステル、水分酸性アクリル共重合体等のような水分酸性高分子樹脂を含む組成物または感光性樹脂組成物が用いられることができる。一方、前記感光性樹脂組成物としては市販の感光性樹脂組成物、例えば、ポジティブタイプのフォトレジストまたはネガティブタイプのフォトレジスト等が用いられることができ、特に制限されない。

本明細書の一実施態様によれば、前記コーティング層は、高分子樹脂組成物または感光性樹脂組成物を用いて形成されることができる。

前記コーティング層形成用組成物の塗布方法は特に限定されず、当技術分野で一般的に用いられる塗布方法、例えば、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、ナイフコーティング、スプレーコーティング等により行われることができ、前記硬化は塗布された樹脂組成物に熱を加えるか、紫外線、電子線等のような活性エネルギー線を照射する方法により行われることができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記コーティング層の厚さは１００ｎｍ〜５００ｎｍであってもよい。コーティング層の厚さが前記数値範囲を満たす場合、穿孔部の加工時にポリビニルアルコール系偏光子が損傷するのを防止することができ、脱色工程後にコーティング層を除去する工程をさらに行わなくてもよいという長所がある。

前記コーティング層の一部領域を選択的に除去して穿孔部を形成するステップは、コーティング層の一部領域にエネルギー線を照射して蒸発させる方法またはフォトリソグラフィ法等により行われることができる。

前記コーティング層の一部を蒸発させる方法は、当技術分野に一般的に知られている装置、例えば、中心波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍ程度の紫外線レーザ装置、中心波長が１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍ程度の赤外線レーザ装置、または中心波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍ程度のグリーンレーザ装置等を利用して行われることができる。一方、用いられるレーザ装置の種類、レーザ出力及びパルス繰り返し率等のようなレーザ加工条件はコーティング層の種類、厚さ、形成しようとする穿孔部の形成等に応じて異なり、当技術分野の当業者であれば、前記のような点を考慮してレーザ加工条件を適切に選択することができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記コーティング層の一部領域を選択的に除去して穿孔部を形成するステップはレーザ加工により行われることができる。

一方、前記コーティング層が感光性樹脂組成物からなる場合には、フォトリソグラフィ工程によって穿孔部を形成することができ、例えば、偏光板の他面に感光性樹脂組成物を塗布した後、穿孔部に該当する領域のエネルギー線を選択的に露光した後、現像液を用いて現像する方法によって穿孔部を形成することができる。

この時、前記露光は、紫外線等のような光源を用いて行われてもよく、レーザ等のようなエネルギー線を用いて行われてもよい。レーザを用いて露光を実施する場合、露光のために別途のマスクを用いなくてもよく、穿孔部の形状を比較的に自由に形成できるという長所がある。

より具体的には、本明細書の一実施態様において、感光性樹脂組成物を用いて２００ｎｍ厚さでコーティング層を形成した場合、最大平均出力０．１Ｗ〜１０Ｗ程度の中心と３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線レーザを用いて露光を行うことができ、この時、レーザの動作パルス繰り返し率は３０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚ程度であってもよい。

一方、前記現像は用いられた感光性樹脂の種類に応じて適切な現像液を選択して用いることができ、場合により、前述した脱色溶液を現像液として用いることができる。この場合、別途の現像ステップは行われなくてもよい。

一方、前記穿孔部は、脱色しようとする領域の形状に対応するように形成されればよく、その形態や形成位置等は特に限定されない。例えば、前記穿孔部は、カメラのような部品が取り付けられる位置に前記部品の形状に対応するように形成されてもよく、製品ロゴが印刷される領域に製品ロゴの形状で形成されてもよく、偏光子の縁部にカラーを付与しようとする場合には偏光子の縁部に額縁の形態で形成されてもよい。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域を形成するステップ前に、保護フィルムの偏光子に対向する反対面に離型フィルムを備えるステップをさらに含むことができる。

離型フィルムをさらに備えた後、脱色工程を行えば、偏光子の膨潤により発生するＭＤ収縮に応じたサッギング（ｓａｇｇｉｎｇ）現象を最小化できるという長所がある。

本明細書の一実施態様によれば、前記離型フィルムは６，０００Ｎ以上の力（ｆｏｒｃｅ）を有することができる。前記力（ｆｏｒｃｅ）は下記の式１によって求めた値を意味する。

本明細書において、前記モジュラス（Ｙｏｕｎｇ'ｓ Ｍｏｄｕｌｕｓ）は、ＪＩＳ−Ｋ６２５１−１規格に従って準備したサンプルの両末端を固定させた後、フィルムの厚さ方向に垂直した方向に力を加えて引張率（Ｓｔｒａｉｎ）に応じた単位面積当たりの応力（Ｓｔｒｅｓｓ）を測定して得られた値をいい、この時、測定機器としては、例えば、引張強度計（Ｚｗｉｃｋ／Ｒｏｅｌｌ Ｚ０１０ ＵＴＭ）等を利用することができる。

前記離型フィルムの力（ｆｏｒｃｅ）は離型フィルムの厚さに変化を与えて調節することができる。離型フィルムの厚さに応じた力（ｆｏｒｃｅ）の変化の程度は離型フィルムの材料に応じて異なる。但し、離型フィルムの力の調節方法がこれに限定されるものではない。

次に、上記のように保護フィルムが備えられた偏光子の他面に脱色剤を１重量％〜３０重量％で含む脱色溶液を局地的に接触させ、４００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯域における単体透過率が８０％以上の偏光解消領域を形成するステップを行う。この時、前記脱色溶液の表面張力は５０ｍＮ／ｍ以下である。

脱色溶液の表面張力を下げるために、より具体的には５０ｍＮ／ｍ以下に下げるために、前記脱色溶液の全体重量に対し、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール系溶媒を１重量％〜５０重量％添加する方法及び／又は界面活性剤を少量添加する方法を利用することができる。

前記界面活性剤の種類は特に限定されない。すなわち、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤または非イオン性界面活性剤であってもよい。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液は界面活性剤をさらに含むことができる。具体的には、前記界面活性剤は、前記脱色溶液の全体重量に対して０．０１重量％〜０．５重量％添加されることができる。

この時、前記偏光子の他面とは、前述したように、保護フィルム及び／又は離型フィルムが備えられていない反対面をいう。すなわち、脱色溶液は、保護フィルム及び／又は離型フィルムでない、ポリビニルアルコール系偏光子に直接接触させなければならず、前記偏光子の他面に本ステップを実行しなければならない。

マスク層を備えた後、脱色工程（偏光解消領域形成工程）を行う方法は、連続実行工程の容易性が高いという長所はあるが、マスク層の段によって脱色溶液が穿孔された部位の全体に入らず、境界部位にマイクロバブル（ｍｉｃｒｏ ｂｕｂｂｌｅ）が生じて未脱色部位が発生するという問題点がある。未脱色部位の発生は、結局、所望しない形態の脱色部位の形成を意味する。

前記マスク層の段とはマスク層の厚さだけの高さを意味する。

図２を参照して説明すれば、未脱色部位の発生の原因であるマイクロバブルが形成される原因はマスク層の境界部位の段による空気の浸透であり、これは、脱色溶液の表面張力（ｓｕｒｆａｃｅ ｔｅｎｓｉｏｎ）が高いのでマスク層と脱色溶液の接触角が大きいためである。

そこで、本明細書の一実施態様による偏光板の製造方法は、表面張力の低い脱色溶液を用いて未脱色部位の発生を抑制する。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液の表面張力は３０ｍＮ／ｍ以下であってもよい。この場合、前述した未脱色部位の発生の抑制効果が極大化される。すなわち、不良発生率が最小化されるという長所がある。

図３は、マイクロバブルによる未脱色部位を示す図である。完全な脱色がなされず、小滴形態の未脱色部位が発生することが分かる。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液と前記偏光子の接触角が３０度以下であってもよい。接触角が３０度以下である場合、空気の浸透現象が最小化され、その結果、マイクロバブルによる未脱色部位が発生する現象が抑制されるという長所がある。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液と前記偏光子の接触角が２０度以下、より好ましくは１０度以下であってもよい。この場合、空気の浸透現象が最小化され、未脱色部位の発生が抑制されるという前記の効果が極大化される。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域は、全体偏光板に対して０．００５％〜４０％の割合で形成されることができる。

一方、前記脱色溶液は、必須にヨウ素及び／又は二色性染料を脱色させる脱色剤及び溶媒を含む。前記脱色剤は、偏光子に染着されたヨウ素及び／又は二色性染料を脱色させるものであれば特に制限されない。本明細書の一実施態様によれば、前記脱色剤は、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、硫化水素ナトリウム（ＮａＳＨ）、アジ化ナトリウム（ＮａＮ_３）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、硫化水素カリウム（ＫＳＨ）及びチオ硫酸カリウム（Ｋ_２Ｓ_２Ｏ_３）からなる群より選択された１種以上を含むことができる。

前記溶媒としては蒸留水等のような水を用いることが好ましい。また、前記溶媒はアルコール類溶媒をさらに混合して用いることができる。これらに限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロピルアルコール等を混合して用いることができ、前述したように、アルコール系溶媒を脱色溶液の全体重量に対して１重量％〜５０重量％添加して脱色溶液の表面張力を下げることができる。より具体的には、脱色溶液の表面張力を５０ｍＮ／ｍ以下に下げることができる。前記範囲内で、アルコール系溶媒の含量が高いほど脱色溶液の表面張力は低くなる。

一方、前記脱色溶液内の脱色剤の含量は脱色過程における接触時間に応じて異なるが、好ましくは全体脱色溶液の重量に対して１重量％〜３０重量％程度、より好ましくは５重量％〜１５重量％程度で含むことが好ましい。脱色剤の含量が１重量％未満の場合には、脱色が行われないか、数十分以上の時間がかかって脱色が行われるので実質的に適用し難く、３０重量％超過の場合には、脱色溶液が偏光子への拡散が容易でなく脱色効率の増加量が微小であるので経済性が落ちる。

また、本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液のｐＨは１１〜１４であってもよい。好ましくは１３〜１４であってもよい。前記脱色剤は強塩基化合物であって、ポリビニルアルコールの間に架橋結合を形成しているホウ酸を破壊する程度の強塩基性を帯びなければならず、ｐＨが前記範囲を満たす場合に脱色がよく行われる。例えば、ヨウ素を分解（脱色）して透明にする（ｉｏｄｉｎｇ ｃｌｏｃｋ ｒｅａｃｔｉｏｎ）溶液としてチオ硫酸ナトリウム（ｐＨ７）は、一般的なヨウ素化合物水溶液では脱色を引き起こすが、実際の偏光子（ＰＶＡ）では長時間接触しても（１０時間）脱色が引き起こされない。すなわち、これはヨウ素を分解する前に強塩基でホウ酸の架橋結合を破壊しなければならないということを示す。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液の粘度は常温で１ｃＰ〜２，０００ｃＰであってもよい。より具体的には、本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液の粘度は５ｃＰ〜２，０００ｃＰであってもよい。脱色溶液の粘度が前記数値範囲を満たす場合、印刷工程が円滑に行われ、連続工程ラインにおいて偏光部材の移動に応じて印刷された脱色溶液に拡散されるか流れるのを防止することができ、それにより、所望の領域に所望の模様で脱色領域を形成することができるためである。一方、前記脱色溶液の粘度は、用いられる印刷装置、偏光子の表面特性等に応じて適切に変更されることができる。例えば、グラビア印刷法を利用する場合、脱色溶液の粘度は１ｃＰ〜２，０００ｃＰ程度、好ましくは５ｃＰ〜２００ｃＰ程度であってもよく、インクジェット印刷法を利用する場合、脱色溶液の粘度は１ｃＰ〜５５ｃＰ程度、好ましくは５ｃＰ〜２０ｃＰ程度であってもよい。

一方、前記偏光解消領域を形成するステップは１０℃〜７０℃の脱色溶液内で１秒〜６０秒間行われることが好ましい。脱色溶液の温度と浸漬時間が前記数値範囲を外れる場合、脱色溶液によって偏光子の膨潤及び離漿が発生して偏光子に屈曲が発生したり、所望しない領域にまで脱色が発生したりする等の問題点が発生する。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液は増粘剤をさらに含むことができる。前記脱色溶液の粘度が前記範囲を満たすために、増粘剤をさらに添加する方法を利用することが好ましい。よって、前記増粘剤は、脱色溶液の粘度を向上させ、溶液の拡散を抑制し、所望の大きさ及び位置に偏光解消領域を形成できるようにする。速く移動する偏光子に粘度の高い溶液を塗布すれば、塗布時に生じる液体と偏光子の相対速度差が減って所望しない部位に溶液が広がるのを防止し、塗布後洗浄前まで脱色が行われる時間の間塗布された溶液の流動が減り、所望の位置または大きさの偏光解消領域を形成することができる。

前記増粘剤は、反応性が低く、溶液の粘度を高めるものであれば、特に制限されない。本明細書の一実施態様によれば、前記増粘剤は、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセトアセテート系樹脂、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂、ブテンジオールビニルアルコール系樹脂、ポリエチレングリコール系樹脂及びポリアクリルアミド系樹脂からなる群より選択された１種以上を含む。

また一つの実施態様によれば、前記増粘剤は、前記脱色溶液の全体重量に対して０．５重量％〜３０重量％で含まれることができる。具体的には、本明細書の一実施態様によれば、前記増粘剤は、前記脱色溶液の全体重量に対して２．５重量％〜１５重量％で含まれることもできる。増粘剤の含量が前記範囲を超過する場合には、粘度が高すぎて洗浄が効果的に行われず、増粘剤の含量が低すぎる場合には、粘度が低くて液体の拡散及び流動によって所望の模様、大きさの脱色領域を実現し難い。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液は、全体重量に対し、脱色剤１重量％〜３０重量％、増粘剤０．５重量％〜３０重量％、及び水４０重量％〜７０重量％を含むことができる。

また、前記偏光解消領域は様々な形状を有してもよく、これに限定されるものではなく、それのみならず、偏光解消領域は全体偏光板上のいかなる位置に形成されてもよい。但し、例えば、前記偏光解消領域がカメラモジュール上に形成される場合、面積が０．０１ｃｍ^２〜５ｃｍ^２程度であることが好ましい。

一方、本明細書の前記偏光解消ステップによって偏光が解消されるメカニズムを具体的に説明すれば下記の通りである。ヨウ素及び／又は二色性染料が染着されたポリビニルアルコールの複合体は、波長帯が４００ｎｍ〜８００ｎｍのような可視光線範囲の光を吸収できるものとして知られている。この時、脱色溶液を前記偏光子に接触させれば、前記偏光子に存在する可視光線波長帯の光を吸収するヨウ素及び／又は二色性染料が分解され、偏光子を脱色させて透過率を高め、偏光度を下げる。例えば、前記偏光解消領域は、４００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯域における単体透過率は８０％以上であってもよく、偏光度は２０％以下であってもよい。

本明細書の「単体透過率」は偏光板の吸収軸の透過率と透過軸の透過率の平均値で示される。また、本明細書の「単体透過率」及び「偏光度」はＪＡＳＣＯ社製のＶ−７１００モデルを利用して測定された値である。

例えば、ヨウ素が染着されたポリビニルアルコール系偏光子の一部領域に脱色剤として水酸化カリウム（ＫＯＨ）を含む水溶液を接触させる場合、下記化学式１及び化学式２のように一連の過程でヨウ素が分解される。一方、ヨウ素が染着されたポリビニルアルコール系偏光子の製造時にホウ酸の架橋過程を経た場合、下記化学式３に表されたように水酸化カリウムはホウ酸を直接分解して、ポリビニルアルコールとホウ酸の水素結合を通じた架橋効果を除去する。

すなわち、可視光線領域の光を吸収してＩ_５ ⁻（６２０ｎｍ）、Ｉ_３ ⁻（３４０ｎｍ）、Ｉ_２（４６０ｎｍ）のようなヨウ素及び／又はヨウ素イオン複合体を分解して、Ｉ⁻（３００ｎｍ以下）または塩を生成し、可視光線領域の光を大部分透過する。それによって偏光子の可視光線領域である４００ｎｍ〜８００ｎｍ程度の領域で偏光機能が解消されることによって、全般的に透過率が高くなり、偏光子は透明となる。言い換えれば、偏光子において偏光を作るために、可視光線を吸収する配列されたヨウ素複合体を可視光線を吸収しない単分子形態に分解して偏光機能を解消することができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域を形成するステップ後に、必要により、マスク層を除去するステップをさらに含むことができる。前記マスク層の除去ステップは偏光子からマスク層を剥離させる方法により行われることができる。マスク層としてマスクフィルムを用いた場合に本ステップを実施することが好ましいが、マスク層としてコーティング層を用いた場合には本ステップを実施しなくてもよい。より具体的には、前記マスク層の除去ステップは、剥離ロール等を用いて偏光子からマスク層を剥離させる方法により行われることができる。

本明細書の一実施態様によれば、必要により、前記偏光解消領域を形成するステップ後に、偏光子を架橋処理するステップ（図示せず）をさらに含むことができる。脱色溶液と接触させる偏光解消領域形成ステップにおいて、脱色溶液によって脱色部分に膨潤が発生して偏光子の形態が変形されるという問題点がある。そこで、前記架橋処理ステップは、上記のように変形された偏光子の形態を回復させるためのものであり、偏光子を架橋溶液に浸漬させる方法により行われることができる。

この時、前記架橋溶液は、ホウ酸、ホウ砂等のようなホウ素化合物；及びコハク酸、グルタル酸、クエン酸等のような酸からなる群より選択される１種以上の架橋剤を含むことができる。

前記架橋剤の含量は、架橋剤の種類に応じて異なるが、例えば、０．００１重量％〜２０重量％程度、好ましくは０．００３重量％〜１５重量％程度、より好ましくは０．００５重量％〜１０重量％程度であってもよい。架橋剤としてホウ素化合物を用いる場合には、架橋剤の含量が０．００１重量％〜５重量％程度であってもよく、架橋剤として酸を用いる場合には、架橋剤の含量が０．００１重量％〜１重量％程度であってもよい。架橋剤の含量が前記数値範囲を満たす場合に、工程収率、偏光板の外観品質、光学特性及び／又は耐久性等に優れる。一方、前記架橋溶液の溶媒としては水（純水）が用いられることができる。

本明細書の一実施態様によれば、偏光板の物性及び色相等を調節するために、前記架橋溶液にヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化スズ、ヨウ化チタンまたはこれらの混合物のようなヨウ化化合物がさらに含まれることができる。この時、前記ヨウ化化合物の含量は３重量％〜５重量％程度であることが好ましい。ヨウ化化合物の含量が前記数値範囲を外れる場合には、偏光子の耐熱性や色特性に悪影響を及ぼす。

一方、前記架橋処理時の架橋溶液の温度は、これに限定されるものではないが、例えば、１０℃〜７０℃程度、好ましくは１５℃〜６５℃程度、より好ましくは２０℃〜６０℃程度であってもよい。前記架橋溶液の温度が前記数値範囲を満たす場合には、脱色処理による偏光部材の変形を効果的に較正することができ、前記数値範囲を外れる場合には、偏光部材の光学物性や外観品質等が低下し、激しい場合は偏光部材の変形をより悪化させる。

また、前記架橋処理時間は、これに限定されるものではないが、例えば、１秒〜１２０秒、好ましくは１秒〜９０秒、より好ましくは１秒〜６０秒程度であってもよい。架橋処理時間が前記数値範囲を満たす場合には、脱色による偏光部材の変形を効果的に較正することができ、前記数値範囲を外れる場合には、偏光部材の光学特性や品質が低下する等の問題が発生し、激しい場合は偏光部材の形態の変形をより悪化させる。

上記のように、架橋剤が含まれた架橋溶液に偏光部材を浸漬させる場合、架橋溶液内に含まれたホウ素化合物または酸によってＰＶＡフィルムのポリビニルアルコール鎖が互いに結合して偏光部材の変形が較正される効果を得ることができる。本発明者らの研究によれば、偏光解消領域解消ステップ後に前記のような架橋処理を行う場合、架橋処理をしない場合に比べて、脱色部分の寸法変形率が１０％〜７０％、一般的には２０％〜６０％程度にまで減ることが明らかになった。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域を形成するステップ後に、前記偏光子を洗浄及び乾燥するステップをさらに含むことができる。より好ましくは、前記架橋処理ステップを含む場合、架橋処理ステップ後に洗浄及び乾燥するステップをさらに実施することができる。

前記洗浄及び乾燥するステップは、偏光子に残留する架橋溶液を洗浄し、脱色溶液による偏光部材の外観変形をさらに較正するためのものであり、当技術分野で周知の偏光子の洗浄及び乾燥方法により行われることができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記洗浄及び乾燥するステップは偏光子を洗浄ロール及び加熱ロールを通過するようにする方法により行われることができ、この時、前記加熱ロールの直径は１００Φ〜５００Φ、好ましくは１５０Φ〜３００Φ程度であってもよい。前記加熱ロールの温度は３０℃〜１５０℃程度、好ましくは６０℃〜１５０℃程度であってもよい。本発明者らの研究によれば、前記洗浄及び乾燥ステップにおける加熱ロールの直径と温度に応じて偏光部材の外観変形の較正効果が異なることが明らかになり、加熱ロールの直径及び温度が前記数値範囲を満たす場合に、偏光部材の外観変形が最も効果的に較正されることが明らかになった。

本明細書の一実施態様によれば、偏光子の表面平滑度をさらに向上させるために、前記架橋処理ステップ後に、偏光子の一面に平坦化層を形成するステップをさらに含むことができる。前記平坦化層は、脱色溶液が接触した面（すなわち、マスク層が形成された面）に形成されることが好ましく、その厚さは１μｍ〜１０μｍ程度、より好ましくは２μｍ〜５μｍ程度であってもよい。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域を形成するステップ後に、前記偏光子の少なくとも一面に光学層を形成するステップをさらに含むことができる。この時、前記光学層は、保護フィルムまたは位相差フィルムのような高分子フィルム層であってもよく、輝度向上フィルムのような機能性フィルム層であってもよく、ハードコーティング層、反射防止層、粘着層のような機能性層であってもよい。

より具体的には、本明細書の一実施態様によれば、前記光学層は前記偏光子の他面に形成される。換言すれば、前記光学層は、前記偏光子の保護フィルム及び／又は離型フィルムが備えられていない面に形成される。

前記光学層を形成するステップは、前記架橋処理ステップを含む場合、架橋処理ステップ後に行われることが好ましい。

一方、前記光学層は、ポリビニルアルコール系偏光子面に直接付着または形成されてもよく、ポリビニルアルコール系偏光子の一面に付着された保護フィルムやその他のコーティング層上に付着されてもよい。

前記光学層の形成方法は、形成しようとする光学層の種類に応じてそれぞれ異なる方法によって形成されることができ、例えば、当技術分野で周知の光学層形成方法を利用して形成されることができ、その方法が特に制限されるのではない。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光解消領域を形成するステップ後に、離型フィルムを除去するステップをさらに含むことができる。前記離型フィルムの除去ステップは、保護フィルムから離型フィルムを剥離させる方法により行われることができる。より具体的には、前記離型フィルムの除去ステップは、剥離ロール等を用いて保護フィルムから離型フィルムを剥離させる方法により行われることができる。

離型フィルムは、偏光解消領域形成ステップでサッギングが発生する（保護フィルム方向に伸びる）のを抑制する役割をするものであるため、偏光解消領域を形成した後には除去されることが好ましい。

本明細書のまた一つの実施態様は、前述した実施態様による偏光板の製造方法により製造された偏光板を提供する。

前記偏光板は、前記偏光解消領域の算術平均粗さ（Ｒａ）が２００ｎｍ以下であってもよい。

前記偏光板は、前記偏光解消領域の二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）が２００ｎｍ以下であってもよい。

前記算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に規定された値であって、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけ抜粋し、該抜粋部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計して平均した値を示すものであり、前記二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に規定される。前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び前記二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）はＯｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ（Ｎａｎｏｖｉｅｗ Ｅ１０００、ナノシステム社製）によって測定される。

一般に、偏光子表面の粗さが増加すれば光の屈折及び反射によってヘイズが増加する。偏光解消領域の粗さが前記の範囲を満たす場合に、ヘイズが十分に低く、鮮明な視認性を有することができる。

また、前記偏光板の偏光度は１０％以下であってもよい。

前記偏光板の前記偏光解消領域のヘイズは３％以下であってもよい。

前記偏光板のサッギング（ｓａｇｇｉｎｇ）の深さは１０μｍ以下の偏光板であってもよい。本明細書において、前記サッギング（ｓａｇｇｉｎｇ）とは、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系偏光子が脱色溶液と接触時に発生する保護フィルム方向への垂れ現象を意味する。サッギングの深さが浅いほど、垂れ現象の程度が小さいことを意味し、偏光板の外観の歪み（ｄｉｓｔｏｒｔｉｏｎ）を最小化することができるため、他の一面に保護フィルム等を積層する時に接着剤が均一に塗布されるという長所がある。その結果、偏光子の両面に保護フィルムがある構造の偏光板の製造時に不良の発生を減らすことができる。

また、サッギングの深さが浅いほど外観が改善された偏光板を提供できるという長所がある。

前記サッギングの深さは、白色光三次元測定機（ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ）またはレーザ顕微鏡（ＣＬＳＭ、ｃｏｎｆｏｃａｌ ｌａｓｅｒ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を利用して測定することができる。

前記偏光解消領域は、可視光線領域の４００ｎｍ〜８００ｎｍ、より好ましくは４５０ｎｍから７５０ｎｍの波長帯域における単体透過率が８０％以上であり、９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。また、前記偏光解消領域は、偏光度が１０％以下であり、５％以下であることがより好ましい。前記偏光解消領域の単体透過率が高く偏光度が低いほど視認性が向上して、前記領域に位置するカメラレンズの性能及び画質をより向上させることができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記偏光板の偏光解消領域を除いた領域は、単体透過率が４０％〜４７％であることが好ましく、４２％〜４７％であることがより好ましい。さらに、前記偏光板の偏光解消領域を除いた領域は、偏光度が９９％以上であることが好ましい。これは、偏光解消領域を除いた残りの領域は、本来の偏光板の機能をすることによって、前記範囲のような優れた光学物性を示さなければならないためである。

本明細書の一実施態様による偏光板において、前記偏光解消領域と前記偏光領域の境界の幅は５μｍ以上２００μｍ以下、または５μｍ以上１００μｍ以下、または５μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。

前記偏光解消領域と前記偏光領域の境界は、前記偏光解消領域と前記偏光領域との間に位置する偏光子の領域を意味することができる。前記偏光解消領域と前記偏光領域の境界は、前記偏光解消領域と前記偏光領域に各々接する領域を意味することができる。また、前記偏光解消領域と前記偏光領域の境界は、前記偏光解消領域の単体透過率と前記偏光領域の単体透過率との間の値を有する領域であってもよい。

前記偏光解消領域と前記偏光領域の境界の幅は前記偏光解消領域の単体透過率値を持つ一領域から前記偏光領域の単体透過率値を持つ一領域までの最短距離を意味することができ、前記偏光解消領域と前記偏光領域の境界の幅が狭いほど、所望の局地的な部位に効率的に偏光解消領域を形成したことを意味することができる。

本明細書の偏光領域は、前記偏光子において、前記偏光解消領域を除いた領域であってもよい。

また、本明細書の一実施態様は、表示パネル、及び前記表示パネルの一面または両面に付着された前述した実施態様による偏光板を含む画像表示装置を提供する。

前記表示パネルは液晶パネル、プラズマパネル及び有機発光パネルであってもよく、それにより、前記画像表示装置は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）及び有機電界発光表示装置（ＯＬＥＤ）であってもよい。

より具体的には、前記画像表示装置は液晶パネル及び該液晶パネルの両面に各々備えられた偏光板を含む液晶表示装置であってもよく、この時、前記偏光板のうち少なくとも一つが前述した本明細書の一実施態様による偏光子を含む偏光板であってもよい。

この時、前記液晶表示装置に含まれる液晶パネルの種類は特に限定されない。例えば、その種類に制限されず、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、Ｆ（ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｉｃ）型またはＰＤ（ｐｏｌｙｍｅｒ ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ）型のようなパッシブマトリックス方式のパネル、二端子型（ｔｗｏ ｔｅｒｍｉｎａｌ）または三端子型（ｔｈｒｅｅ ｔｅｒｍｉｎａｌ）のようなアクティブマトリックス方式のパネル、横電界型（ＩＰＳ；Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）パネル及び垂直配向型（ＶＡ；Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）パネル等の公知のパネルが全て適用されることができる。また、液晶表示装置を構成するその他の構成、例えば、上部及び下部基板（例えば、カラーフィルタ基板またはアレイ基板）等の種類も特に制限されず、本分野で公知の構成が特に制限されずに採用されることができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記画像表示装置は、前記偏光板の偏光解消領域に備えられたカメラモジュールをさらに含むことを特徴とする画像表示装置であってもよい。可視光線領域の透過率が向上し、偏光度が解消された偏光解消領域にカメラモジュールを位置させることによって、カメラレンズ部の視認性を増大させる効果をもたらし、離型フィルムを備えた後、偏光解消領域を形成するステップを実行して製造した場合、偏光解消領域のサッギング現象を抑制させた偏光板を含ませることによって、外観改善の効果ももたらすことができる。

また、本明細書の一実施態様は、表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下の脱色溶液を提供する。具体的には、前記脱色溶液は、偏光板製造ステップにおいて、偏光子の偏光解消領域を形成するステップに用いられることができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液は、前記脱色溶液の全体重量に対して１重量％〜５０重量％のアルコール系溶媒を含むことができる。

本明細書の一実施態様によれば、前記脱色溶液は、前記脱色溶液の全体重量に対して０．０１重量％〜０．５重量％の界面活性剤を含むことができる。

アルコール系溶媒及び／又は界面活性剤の含量範囲が前記範囲内である場合に、表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下の脱色溶液を得ることができるという長所がある。

前記アルコール系溶媒及び前記界面活性剤に関する説明は前述したものと同様である。

以下、実施例を通じて本明細書をより詳細に説明する。但し、以下の実施例は本明細書を例示するためのものであって、これによって本明細書の範囲が限定されるものではない。

＜製造例＞
ポリビニルアルコール系フィルム（日本合成社製のＭ３０００ ｇｒａｄｅ ３０μｍ）を２５℃の純水溶液で膨潤工程を１５秒間経た後、０．２ｗｔ％濃度及び２５℃のヨウ素溶液で６０秒間染着工程を行った。その後、ホウ酸１ｗｔ％、４５℃の溶液で３０秒間洗浄工程を経た後、ホウ酸２．５ｗｔ％、５２℃の溶液で６倍延伸工程を行った。延伸後、５ｗｔ％のヨウ化カリウム（ＫＩ）溶液で補色工程を経た後、６０℃のオーブンで５秒間乾燥させて１２μｍの偏光子を製造した。その後、アクリル系保護フィルムを前記ポリビニルアルコール系偏光子の一面に積層し、偏光子の他の一面に直径約４ｍｍの孔（ｈｏｌｅ）が加工されたマスキングフィルムを積層した後、アクリル系保護フィルムの他の一面（保護フィルムの偏光子に対向する面の反対面）に粘着剤を用いてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を積層した。

＜実施例１＞
前記一面には穿孔されたマスキングフィルムが積層され、他の一面には保護フィルム及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が積層された偏光子を、界面活性剤（ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ）が０．２ｗｔ％添加された６０ ＫＯＨ １０ｗｔ％水溶液に３秒間浸漬して脱色した後、ホウ酸４ｗｔ％水溶液に５秒間浸漬して中和した後、６０℃のオーブンで３０秒間乾燥した後、マスキングフィルムを除去した後、アクリル系保護フィルムを積層した。その後、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを除去してアクリル系保護フィルム／ポリビニルアルコール系偏光子／アクリル系保護フィルム構造の偏光板を製造した。

＜実施例２＞
界面活性剤（ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ）が０．１ｗｔ％添加された脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

＜実施例３＞
イソプロピルアルコール２０ｗｔ％添加された脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

＜実施例４＞
イソプロピルアルコール１０ｗｔ％添加された脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

＜実施例５＞
イソプロピルアルコール５ｗｔ％添加された脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

＜比較例１＞
イソプロピルアルコール２ｗｔ％添加された脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

＜比較例２＞
イソプロピルアルコール１ｗｔ％添加された脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

＜比較例３＞
添加剤が入っていない脱色溶液を用いたことを除いては、実施例１と同様の条件で偏光板を製造した。

前記実施例１〜５、及び比較例１〜３により製造された偏光板における未脱色部位発生率、すなわち不良発生率を比較して下記の表１に示す。

前記表１に示すように、本明細書の一実施態様による製造方法により製造された偏光板、すなわち、表面張力の低い脱色溶液及び／又は偏光子との接触角の低い脱色溶液を用いて偏光解消領域を形成した偏光板は、表面張力の高い脱色溶液を用いて偏光解消領域を形成した偏光板に比べて、未脱色部位の発生率（不良発生率）が顕著に減ったことが分かる。

より具体的には、図４を参照して説明すれば、脱色溶液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下である場合、脱色溶液と偏光子との接触角が小さくなり、それにより、マイクロバブル（ｍｉｃｒｏ ｂｕｂｂｌｅ）の発生確率が減少する。その結果、前記実施例１〜５のように未脱色部位の発生率（不良発生率）が減るようになる。

Claims (27)

1. ヨウ素及び二色性染料のうち少なくとも一つ以上が染着されたポリビニルアルコール系偏光子を提供するステップ、
   前記偏光子の一面に保護フィルムを備えるステップ、
   前記偏光子の他面に少なくとも一つ以上の穿孔部を含むマスク層を備えるステップ、及び
   前記マスク層が備えられた偏光子の他面に脱色剤を１重量％〜３０重量％で含む脱色溶液を局地的に接触させ、４００ｎｍ〜８００ｎｍ波長帯域における単体透過率が８０％以上の偏光解消領域を形成するステップを含み、
   前記脱色溶液の表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である偏光板の製造方法。
2. 前記脱色溶液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
3. 前記脱色溶液と前記偏光子の接触角が３０度以下である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
4. 前記脱色溶液と前記偏光子の接触角が１０度以下である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
5. 前記脱色溶液は、前記脱色溶液の全体重量に対して１重量％〜５０重量％のアルコール系溶媒をさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
6. 前記脱色溶液は、前記脱色溶液の全体重量に対して０．０１重量％〜０．５重量％の界面活性剤をさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
7. 前記偏光解消領域を形成するステップ前に、保護フィルムの偏光子に対向する反対面に離型フィルムを備えるステップをさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
8. 前記偏光解消領域を形成するステップ後に、前記離型フィルムを除去するステップをさらに含む、請求項７に記載の偏光板の製造方法。
9. 前記マスク層を備えるステップが、
   マスクフィルムに穿孔部を形成するステップ、及び
   前記マスクフィルムを前記偏光子の他面に付着するステップを含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
10. 前記マスクフィルムは、ポリエチレン（ＰｏｌｙＥｔｈｙｌｅｎｅ、ＰＥ）フィルム、ポリプロピレン（ＰｏｌｙＰｒｏｐｙｌｅｎｅ、ＰＰ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙＥｔｈｙｌｅｎｅＴｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ、ＰＥＴ）フィルム、エチレンビニルアセテート（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌ Ａｃｅｔａｔｅ、ＥＶＡ）フィルムまたはポリビニルアセテート（ＰｏｌｙＶｉｎｙｌ Ａｃｅｔａｔｅ）フィルムである、請求項９に記載の偏光板の製造方法。
11. 前記穿孔部を形成するステップはレーザ加工によって行われる、請求項９に記載の偏光板の製造方法。
12. 前記マスク層を備えるステップが、
    前記偏光子の他面にコーティング層を形成するステップ、及び
    前記コーティング層の一部領域を選択的に除去して穿孔部を形成するステップを含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
13. 前記コーティング層は、高分子樹脂組成物または感光性樹脂組成物を用いて形成される、請求項１２に記載の偏光板の製造方法。
14. 前記穿孔部を形成するステップはレーザ加工によって行われる、請求項１２に記載の偏光板の製造方法。
15. 前記脱色剤は、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、硫化水素ナトリウム（ＮａＳＨ）、アジ化ナトリウム（ＮａＮ_３）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、硫化水素カリウム（ＫＳＨ）及びチオ硫酸カリウム（Ｋ_２Ｓ_２Ｏ_３）からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
16. 前記脱色溶液のｐＨが１１〜１４である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
17. 前記脱色溶液の粘度が１ｃＰ〜２，０００ｃＰである、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
18. 前記脱色溶液が増粘剤をさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
19. 前記増粘剤は、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセトアセテート系樹脂、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系樹脂、ブテンジオールビニルアルコール系樹脂、ポリエチレングリコール系樹脂及びポリアクリルアミド系樹脂からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１８に記載の偏光板の製造方法。
20. 前記偏光解消領域を形成するステップ後に、マスク層を除去するステップをさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
21. 前記偏光解消領域を形成するステップ後に、偏光子を架橋処理するステップをさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
22. 前記偏光解消領域を形成するステップ後に、偏光子を洗浄及び乾燥するステップをさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
23. 前記洗浄及び乾燥するステップにおいて、前記乾燥は直径が１００Φ〜５００Φの加熱ロール（ｈｅａｔｉｎｇ ｒｏｌｌ）を用いて行われる、請求項２２に記載の偏光板の製造方法。
24. 前記加熱ロールの温度は３０℃〜１５０℃である、請求項２３に記載の偏光板の製造方法。
25. 前記偏光解消領域を形成するステップ後に、前記偏光子の少なくとも一面に光学層を形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
26. 前記光学層は、保護フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、ハードコーティング層、反射防止層、粘着層またはこれらの組み合わせである、請求項２５に記載の偏光板の製造方法。
27. 脱色剤と水と界面活性剤とからなる脱色溶液であって、
    前記脱色剤は、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、硫化水素ナトリウム（ＮａＳＨ）、アジ化ナトリウム（ＮａＮ _３ ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、硫化水素カリウム（ＫＳＨ）及びチオ硫酸カリウム（Ｋ _２ Ｓ _２ Ｏ _３ ）からなる群より選択された１種以上を含み、
    前記脱色剤の含量は、前記脱色溶液の全体重量に対して１重量％〜３０重量％であり、
    前記界面活性剤の含量は、前記脱色溶液の全体重量に対して０．０１重量％〜０．５重量％であり、
    前記脱色溶液は、５０ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有し、
    前記脱色溶液は、ヨウ素及び二色性染料のうち少なくとも一つ以上が染着されたポリビニルアルコール系偏光子用である、脱色溶液。