ES2578680T3 - Sistema y método para exponer un placa de polímero digital - Google Patents

Sistema y método para exponer un placa de polímero digital Download PDF

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ES2578680T3 ES08799282.2T ES08799282T ES2578680T3 ES 2578680 T3 ES2578680 T3 ES 2578680T3 ES 08799282 T ES08799282 T ES 08799282T ES 2578680 T3 ES2578680 T3 ES 2578680T3
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Abstract

Un método para transferir una imagen digital sobre una placa de impresión de fotopolímero mediante la creación de una forma de impresión a relieve, dicho método comprende las etapas de: proporcionar una pieza bruta de la placa de impresión fotocurable que incluye una capa fotocurable no curada (10) y una capa de máscara separable por ablación; separar por ablación láser la capa de máscara para formar aberturas en la misma y crear una capa de máscara separada por ablación (12) correspondiente a la imagen; colocar la pieza bruta de la placa de impresión fotocurable en una cámara (69) definida por las paredes laterales (64, 65) y una tapa removible (60) que se hace de un material transparente UV; someter las porciones expuestas de la capa fotocurable no curada a un ambiente de oxígeno reducido mediante la introducción desde un tanque (68) de un gas inerte más pesado que el oxígeno en el aire que rodea la pieza bruta de la placa de impresión dentro de la cámara con la tapa retirada para permitir que el oxígeno desplazado escape; colocar la tapa sobre las paredes para sellar la cámara; exponer la pieza bruta de la placa de impresión fotocurable que incluye la capa de máscara separada por ablación y las porciones expuestas de la capa fotocurable a un torrente de radiación actínica, la radiación actínica que pasa a través de las aberturas (14) en la capa de máscara separada por ablación para curar las porciones expuestas de la capa fotocurable; y eliminar la capa de máscara separada por ablación y las porciones no curadas de la capa fotocurable para crear una imagen en relieve formada por una serie de pedestales (28) que reproducen la imagen.

Description

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DESCRIPCION
Sistema y metodo para exponer un placa de pollmero digital Datos de la solicitud relacionada
Esta solicitud reivindica el beneficio de la solicitud provisional de los Estados Unidos num. 60/970,682 presentada el 7 de septiembre, 2007.
Campo tecnico
La presente invencion se relaciona generalmente con la produccion de placas de impresion flexograficas de acuerdo con un flujo de trabajo digital. Mas particularmente, pero no de forma exclusiva, se relaciona con sistemas y tecnicas para exponer una placa de pollmero digital en un ambiente de oxlgeno reducido para aumentar la nitidez y la claridad de la imagen impresa. En una forma preferida, la invencion proporciona tecnicas para producir digitalmente placas de impresion flexografica que son de una nitidez y claridad adecuada que pueden usarse comercialmente para imprimir directamente en materiales corrugados.
Descripcion
La flexografla es un metodo de impresion que comunmente se usa para tiradas de gran volumen. La flexografla convencional (es decir, no digital) se emplea para imprimir en una variedad de sustratos tales como papel, archivo de carton, carton corrugado, pellculas, laminas y laminados. Los periodicos y bolsas de supermercado son ejemplos prominentes. Las superficies asperas y las pellculas estiradas pueden imprimirse de forma economica solamente por medio de la flexografla.
Las placas de impresion flexografica son placas en relieve con elementos de imagen levantados sobre las areas abiertas. Generalmente, la placa es un poco suave, y lo suficientemente flexible para envolverse alrededor de un cilindro de impresion, y lo suficientemente duradera para imprimir mas de un millon de copias. Tales placas ofrecen una serie de ventajas a la impresora, basado principalmente en su durabilidad y la facilidad con la que se pueden hacer.
Flexografla convencional (no digital)
Una placa de impresion flexografica convencional (no digital) como se entrega por su fabricante es generalmente un artlculo de varias capas que se hace de, en orden, una capa de soporte o respaldo; una o mas capas fotocurables no expuestas; una capa protectora o superficie de deslizamiento; y una lamina de recubrimiento.
La capa de respaldo presta soporte a la placa, y es tlpicamente una pellcula o lamina plastica, que puede ser transparente u opaca.
La(s) capa(s) fotocurable(s) puede(n) incluir cualquiera de los fotopollmeros, monomeros, iniciadores, diluyentes reactivos o no reactivos, rellenos y tintes conocidos. El termino "fotocurable" se refiere a una composicion solida que se somete a la polimerizacion, reticulacion, o cualquier otra reaccion de curado o endurecimiento en respuesta a la radiacion actlnica con el resultado de que las porciones no expuestas del material pueden separarse y retirarse selectivamente de las porciones expuestas (curadas) para formar un patron tridimensional o en relieve del material curado. Los materiales fotocurables preferidos incluyen un compuesto elastomerico, un compuesto etilenicamente insaturado que tiene al menos un grupo de etileno terminal, y un fotoiniciador. Los materiales fotocurables ejemplares se describen en las solicitudes de patente Europeas num. 0 456 336 A2 y 0 640 878 A1 de Goss, y otros, la patente Britanica num. 1.366.769, la patente de los Estados Unidos num. 5.223.375 de Berrier, y otros, la patente de los Estados Unidos num. 3.867.153 de Macl.ahan, la patente de los Estados Unidos num. 4.264.705 de Allen, las patentes de los Estados Unidos nums. 4.323.636, 4.323.637, 4.369.246, y 4.423.135 todas de Chen, y otros, la patente de los Estados Unidos num. 3.265.765 de Holden, y otros, la patente de los Estados Unidos num. 4.320.188 de Heinz, y otros, la patente de los Estados Unidos num. 4.427.759 de Gruetzmacher, y otros, la patente de los Estados Unidos num. 4.622.088 de Min, y la patente de los Estados Unidos num. 5.135.827 de Bohm, y otros. Si se usa una segunda capa fotocurable, es decir, una capa de recubrimiento, esta tlpicamente se dispone sobre la primera capa y es similar en composicion.
Los materiales fotocurables generalmente se reticulan (curan) y endurecen en al menos alguna region de longitud de onda actlnica. Como se usa en la presente descripcion, la radiacion actlnica es la radiacion capaz de efectuar un cambio qulmico en una mitad expuesta. La radiacion actlnica incluye, por ejemplo, luz amplificada (por ejemplo, laser) y no amplificada, particularmente en las regiones de longitud de onda infrarroja y UV. Las regiones de longitud de onda actlnica preferidas son de aproximadamente 250 nm a aproximadamente 450 nm, con mayor preferencia de aproximadamente 300 nm a aproximadamente 400 nm, aun con mayor preferencia de aproximadamente 320 nm a aproximadamente 380 nm. Una fuente de radiacion actlnica adecuada es una lampara UV, aunque otras fuentes se conocen generalmente por los expertos en la tecnica.
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La superficie de deslizamiento usada durante la flexografla convencional es una lamina delgada que protege al fotopollmero del polvo y aumenta su facilidad de manejo. En lugar de una superficie de deslizamiento, una capa mate se ha usado para mejorar la facilidad de manipulacion de las placas. La capa mate tlpicamente comprende partlculas finas (sllice o similar) en suspension en una solucion acuosa aglutinante. La capa mate se reviste sobre la capa de fotopollmero y luego se deja secar al aire.
En un proceso de fabricacion de placa basada en pellcula convencional, (es decir, no digital), la imagen que se va a imprimir se almacena en un negativo de pellcula. La superficie de deslizamiento (o capa mate), que cubre la capa de pollmero no expuesta es transparente a la luz UV. La impresora pela la lamina de recubrimiento de la pieza bruta de la placa de impresion y coloca el negativo de la pellcula en la parte superior de la superficie de deslizamiento. La placa se somete a continuacion a la exposicion torrencial de luz UV a traves del negativo de la pellcula. Esto resulta en la exposicion a modo de imagen de la capa de fotopollmero de acuerdo con la imagen contenida en el negativo de la pellcula. Las areas de la pieza bruta de la placa de impresion que se exponen a la luz UV se curan o endurecen. Las areas no expuestas se eliminan a continuacion (revelan) para crear la imagen en relieve del negativo en la placa de impresion.
Flexografla digital
Un proceso de fabricacion de placa "digital" o "directo a la placa" elimina la necesidad de proporcionar la imagen que se va a imprimir en la forma de un negativo de pellcula. En su lugar, la imagen se almacena como un archivo de datos electronico (por ejemplo en una computadora) que puede almacenarse y/o alterarse facilmente para diferentes propositos.
Con referencia a la Fig. 1, se representa esquematicamente un proceso tlpico para producir una placa flexografica digital. Se proporciona una pieza bruta de la placa de impresion l0 con una capa de enmascaramiento "digital" 12 (es decir, foto separable). Esta capa de enmascaramiento es generalmente una superficie de deslizamiento modificada, por ejemplo, una capa de superficie de deslizamiento que se ha dopado con un material de absorcion UV^, tal como carbono negro, y se disena tlpicamente para someterse a la ablacion por los equipos laser comercialmente disponibles. La capa de enmascaramiento separable con laser (LAMS) se proporciona tlpicamente por el fabricante de la pieza bruta de impresion y puede ser cualquier capa de enmascaramiento fotoseparable conocida en la tecnica. Los ejemplos de capas separables con laser adecuadas para usar en placas de pollmeros digitales se describen por ejemplo, en la patente de los Estados Unidos num. 5.925.500 de Yang, y otros, y las patentes de los Estados Unidos nums. 5.262.275 y 6.238.837 de Fan. La capa separable con laser generalmente comprende un compuesto que absorbe la radiacion y un aglutinante polimerico. El compuesto que absorbe la radiacion se elige para que sea sensible a la longitud de onda del laser y se selecciona generalmente de pigmentos inorganicos oscuros, carbono negro y grafito.
El aglutinante polimerico se selecciona generalmente de poliacetales, poliacrllicos, poliamidas, poliimidas, polibutilenos, policarbonatos, poliesteres, polietilenos, pollmeros celulosicos, eteres de polifenileno, oxidos de polietileno, y combinaciones de los anteriores, aunque otros aglutinantes adecuados serlan conocidos ademas por los expertos en la tecnica. El aglutinante se selecciona para que sea compatible con el fotopollmero subyacente y facil de retirar durante la etapa de revelado (lavado). Los aglutinantes preferidos incluyen poliamidas, y aglutinantes celulosicos, tal como celulosa de hidroxipropilo.
Durante el proceso de las imagenes digitales, indicado como la etapa uno en la Fig. 1, un laser 30 se gula mediante la imagen almacenada en el archivo de datos electronico en la computadora 22 para la ablacion de las porciones seleccionadas de la capa de enmascaramiento 12. La capa de enmascaramiento que permanece en su lugar (es decir, las porciones no separadas de la mascara) se convierte en un negativo de la imagen que se crea in situ sobre la pieza bruta de la placa digital. Este negativo creado in situ se llama frecuentemente una "pellcula digital".
El lado posterior de la pieza bruta 10 luego se somete tlpicamente a la exposicion a rayos UV para producir una capa de respaldo endurecida 11. La capa de respaldo endurecida 11 facilita el manejo posterior de la placa durante el procesamiento y/o la impresion. Alternativamente, o ademas, la placa 10 se monta en una placa o platina soporte, o esta etapa se omite.
Despues de la ablacion, o "imagen digital", de la capa enmascaramiento, el elemento de impresion fotosensible se somete a la exposicion torrencial de luz UV 16 a traves de la pellcula digital 12, como se indica en la etapa 3. La exposicion a rayos UV cura las porciones expuestas 14 de la capa de fotopollmero subyacente. La pieza bruta curada se revelo entonces para eliminar la capa de enmascaramiento y las porciones no polimerizadas del material fotocurable para crear una imagen en relieve sobre la superficie del elemento de impresion fotosensible como se ilustra en la etapa 4. Los metodos tlpicos de revelado incluyen el lavado con diversos disolventes o agua, frecuentemente con un cepillo. Otras posibilidades para el revelado incluyen el uso de una cuchilla de aire o calor mas un papel secante, tal como se emplea con el sistema comercialmente disponible Fast Dupont Cyrel.
La superficie resultante tiene una serie de pedestales 18 que reproducen la imagen que va a imprimirse. El elemento de impresion puede montarse entonces sobre una prensa y la impresion comienza. Durante la impresion, la tinta se transfiere a la superficie superior (por ejemplo en 14) de los pedestales 18 y luego sobre la superficie impresa.
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Las placas de impresion flexografica producidas por las tecnicas digitales o directo a la placa actuales funcionan bien en la impresion sobre superficies suaves y duras, tal como el revestimiento de preimpresion. Sin embargo, la utilidad de las tecnicas de procesamiento digital actuales se ha limitado en aplicaciones donde la superficie de impresion es mas suave y/o irregular, tal como en la impresion directamente sobre materiales corrugados (por ejemplo, cajas de carton) en lo que se conoce como "impresion posterior." Un problema comun frecuentemente encontrado con la impresion en sustratos de carton corrugados es la aparicion de un efecto de impresion que se conoce tlpicamente como estriacion o bandas.
La nitidez y claridad de una placa de impresion pueden influenciarse por la forma y las caracterlsticas de los pedestales o "puntos". Con referencia a la Fig. 2, un pedestal 28 tiene una superficie superior receptiva de tinta 40 y una superficie lateral inclinada hacia abajo 46 que rodean el pedestal y proporcionan una configuration conica generalmente truncada para el pedestal. La superficie lateral 46 comienza en el borde superior 42 y termina en un canal 48 que se extiende entre los pedestales adyacente. La altura del pedestal H es la distancia vertical entre la superficie superior 40 y la parte inferior del canal 48. El angulo del pedestal 50 es un reflejo de la pendiente de la portion superior de la superficie lateral 46. Si hay cualquier curvatura de la superficie lateral 46, el angulo del pedestal 50 puede tomarse basado en la llnea 52 que conecta el borde 42 y un punto a mitad de camino hacia abajo de la superficie lateral 46.
La nitidez y claridad se aumentan tlpicamente cuando los bordes 42 se afilan y el angulo del pedestal 50 es pequeno (es decir, la llnea 51 esta relativamente mas proxima a la vertical). La razon de esto es que el pedestal 28 puede comprimirse cuando entra en contacto con un rodillo de tinta. Cuando los bordes 42 no son afilados (es decir, se vuelven apoyos redondos) y/o el angulo 50 es grande, la tinta puede transferirse sobre la superficie lateral 46. Cuando la placa de fotopollmero se usa para transferir la imagen sobre una superficie exterior, los pedestales pueden comprimirse de nuevo para de esta manera, transferir la tinta no solamente desde la superficie 40, sino tambien desde la superficie lateral 46 sobre la superficie exterior. Cuando esto ocurre, puede provocar un anillo alrededor de la imagen formada en la copia final. En consecuencia, es conveniente producir pedestales con bordes afilados 42 y un angulo relativamente pronunciado 50.
La principal exposition a rayos UV en el procesamiento digital convencional (etapa 3 en la Fig. 1) tlpicamente ocurre en el aire. En consecuencia, las porciones expuestas 14 del fotopollmero 10 no solo estan expuestas a la luz, sino tambien a los constituyentes del aire. Los solicitantes han encontrado que mediante la conduction de la exposicion principal de rayos UV en un ambiente reducido en oxlgeno, puede lograrse significativamente mayor nitidez y claridad. Sin pretender estar ligado por ninguna teorla de operation, se cree que la presencia de oxlgeno atmosferico durante la fotopolimerizacion afecta negativamente la union de las moleculas de pollmero. Al reducir la exposicion al oxlgeno atmosferico, los solicitantes han demostrado que pueden producirse un angulo mas agudo y bordes mas nltidos.
La solution de la presente invention se define en las reivindicaciones independientes 1 y 2. Esta description incluye varias modalidades algunas de las cuales son modalidades de la invencion.
Con referencia ahora a la Fig. 3, se representa esquematicamente una estacion de exposicion a rayos UV 100 de acuerdo con un aspecto de la presente invencion. Como se describio anteriormente, despues de la imagen digital, el fotopollmero 10 incluye una capa de enmascaramiento separada por ablation 12 con las regiones expuestas 14. El fotopollmero se soporta por su capa de respaldo 11 (y/o se monta sobre una platina) y se coloca dentro de la camara 69. La camara 69 se construye para contener una atmosfera con contenido de oxlgeno reducido. En la modalidad de la invencion ilustrada, la camara 69 se define por las paredes laterales 64 y 65 y tiene una parte superior removible 60 que se hace de un material transparente UV, tal como vidrio. Con la tapa 60 retirada, el dioxido de carbono se suministra desde el tanque 68 hacia la camara a traves de la llnea de suministro 66. Debido a que el dioxido de carbono es mas pesado que el oxlgeno, este desplaza el oxlgeno que rodea al fotopollmero 10, que se deja escapar desde la parte superior de la camara 69. Una vez que la camara 69 se ha llenado adecuadamente con dioxido de carbono, la tapa 60 se coloca sobre las paredes 64, 65 para sellar la camara 69. Las luces UV 16 se encienden entonces para activar la fotopolimerizacion y curar las regiones expuestas 14 del fotopollmero 10. Una vez que la fotopolimerizacion se ha completado, la placa de fotopollmero se retira de la camara 69 y se somete a cualquier etapa de revelado convencional para eliminar el fotopollmero sin curar.
Como se ilustra, la estacion 100 incluye ademas un filtro UV opcional 62, que puede colocarse sobre la tapa de cristal 60. El filtro UV 62 puede ser un polarizador lineal o un filtro de colimacion que, como se describe mas completamente en la patente de los Estados Unidos num. 6.766.740, puede usarse para limitar la cantidad de luz UV de los bulbos 16 que es incidente sobre el fotopollmero 10 en otro angulo aparte del angulo recto. El filtro 62 puede localizarse alternativamente debajo de la tapa de cristal 60 o el filtro 62 puede omitirse.
Debe apreciarse que la estacion 100 se adapta para someter las regiones expuestas 14 del fotopollmero 10 a una atmosfera relativamente inerte durante la exposicion a rayos UV.
Esta atmosfera relativamente inerte puede estar compuesta de una variedad de gases que no interfieren con el proceso de fotopolimerizacion, tales como el argon y el dioxido de carbono. Otros gases inertes y mezclas de gases inertes conocidos pueden emplearse como se les ocurrirla a los expertos en la tecnica. Se espera que una atmosfera adecuada tendra una concentration de oxlgeno que es sustancialmente menor que la concentration de oxlgeno en el aire
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circundante (es decir, menos de 21 % de oxlgeno). Preferiblemente, la camara 69 se configura para tener una concentracion de oxlgeno que es 50 % menor que la concentracion de oxlgeno en el aire circundante (es decir, menos de aproximadamente 10,5 % de oxlgeno), con mayor preferencia 75 % menos (es decir, menos de aproximadamente 5,3 % de oxlgeno), y con la maxima preferencia 90 % menos (es decir, menos de aproximadamente 2,1 % de oxlgeno).
La atmosfera inerte puede insertarse en la camara 69 mediante una variedad de mecanismos. De acuerdo con una modalidad de la invencion, la camara 69 puede configurarse con valvulas de retencion para liberar oxlgeno cuando esta se desplaza con la localizacion de las valvulas de retencion en dependencia del peso relativo del gas de desplazamiento. Alternativamente, o ademas, puede aplicarse un vaclo a la camara 69 antes de o durante la introduccion del gas desde el tanque 68.
Con referencia ahora a la Fig. 4, se representa un mecanismo alternativo para reducir la exposicion de las areas abiertas 14 al oxlgeno atmosferico durante la exposicion a rayos UV. Mientras que la estacion 100 se configura para proporcionar un gas relativamente inerte, la estacion 110 se configura para proporcionar un llquido 70 alrededor de la placa 10 durante la exposicion a rayos UV. De lo contrario, la funcion de la estacion 110 es identica a la estacion 100, que incluye la provision de un filtro de rayos UV opcional (no mostrado).
El llquido 70 se selecciona de manera que transmite la luz UV y tiene una baja concentracion de oxlgeno disuelto. En una forma, el llquido 70 incluye al menos un captador de oxlgeno que se une con el oxlgeno para reducir la concentracion de oxlgeno en el llquido 70. En una forma, el llquido 70 es una solucion de agua y un captador de oxlgeno.
Una solucion conveniente que se ha encontrado adecuada es una solucion Post-X, que es un material tlpicamente usado para limpiar la placa despues del grabado. Por ejemplo, se ha encontrado que 0,5 lbs de solucion de acabado X3000 (MacDermid Inc., Waterbury CT) pueden anadirse a 5 galones de agua para crear un llquido util 70 para usar en la estacion 110. X3000 es un polvo solido que tiene un pH de 9,0 en una solucion al 1 %.
Las tecnicas de exposicion a rayos UV descritas en la presente descripcion pueden usarse para producir pedestales con caracterlsticas significativamente mejoradas. Por ejemplo, las Figs. 5 y 6 son imagenes laterales ampliadas que comparan pedestales realizados con la exposicion a rayos UV que ocurre en el aire (Fig. 5) frente a un ambiente rico en CO2 (Fig. 6). El ambiente rico en CO2 se creo mediante llenar una camara abierta con CO2 y luego cubrir la camara con una tapa de cristal. Bajo condiciones de procesamiento identicas, el pedestal que se hace con la exposicion a rayos UV en un ambiente rico en CO2 tenia un angulo del pedestal mas pronunciado (aproximadamente 29° en comparacion con aproximadamente 39°). El ambiente rico en CO2 produjo ademas una altura del pedestal aproximadamente 60 % mayor (.058/.036). Se observaron resultados similares para pedestales creados en una solucion post X aproximadamente al 1 %. Mas generalmente, se espera que la presente invencion pueda usarse para producir puntos que tienen un angulo del pedestal menor de 35° con respecto a la vertical, por ejemplo menor de 34, 33, 32, 31 o 30° con respecto a la vertical.
Otro beneficio que puede realizarse con el ambiente rico en CO2 es la correspondencia mas estrecha con la imagen digital. En otras palabras, el tamano de la superficie superior plana 40 del pedestal corresponde mas estrechamente con el tamano de la abertura correspondiente en la mascara, cuya abertura se crea por la ablacion con laser. Por ejemplo, las Figs. 7 y 8 muestran tomas frontales ampliadas al 25 % de los puntos creados a partir de la exposicion a rayos UV en el aire (Fig. 7) y el ambiente rico en CO2 (Fig. 8) como se describio anteriormente. Las Figs. 9 y 10 proporcionan una comparacion similar para los puntos ampliados al 50 %. Aunque la mascara digital fue la misma para cada tamano de punto, las superficies superiores 40 de los pedestales formados con la atmosfera rica en CO2 (Figs. 8 y 10) son mucho mas grandes en diametro que la superficie superior plana 40 de los puntos formados por la exposicion a rayos UV en el aire (Figs. 7 y 9). Este diametro mas grande (0,215 frente a 0,179 para puntos al 25 %, 0,295 frente a 0,273 para puntos al 50 %) indica una correspondencia mucho mas cercana de la abertura correspondiente de la mascara digital. Se observaron resultados similares para pedestales creados en una solucion Post X aproximadamente al 1 %.
La reduccion en diametro de la superficie superior plana 40 durante el procesamiento digital convencional se relaciona con el redondeo del borde superior 42. Este redondeo es evidente por la comparacion de los perfiles del punto digital al 25 % producido convencionalmente (Fig. 5) con el punto digital al 25 % formado por la exposicion a rayos UV en un ambiente de CO2 (Fig. 6). Los bordes redondeados son evidentes ademas por la comparacion de las tomas frontales de los puntos al 25 % y al 50 % producidos convencionalmente (Figs. 7 y 9) con los puntos al 25 % y al 50 % formados por la exposicion a rayos UV en un ambiente de CO2 (Figs. 8 y 10). Por ejemplo, los puntos formados por la exposicion a rayos UV en un ambiente de CO2 (Figs. 8 y 10) retienen el detalle del borde irregular de la capa de enmascaramiento (cuyo detalle es atribuible al proceso de ablacion por laser) mientras que no hay tal detalle del borde evidente en los puntos producidos de forma convencional (Figs. 7 y 9).
En las implementaciones preferidas, los procesos de la presente invencion pueden usarse para producir placas adecuadas para imprimir directamente en papel corrugado. En estas u otras implementaciones, los procesos pueden usarse para crear pedestales que tienen un angulo del pedestal de menos de 35°, por ejemplo menos de 30°. En estas u otras implementaciones, los procesos pueden usarse para crear puntos al 25 % que tienen un diametro dentro de aproximadamente el 90 % del diametro de la abertura correspondiente en la mascara digital, con mayor preferencia dentro del 95 %, con mayor preferencia dentro del 97 %. En estas u otras implementaciones, los procesos pueden
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usarse para producir puntos al 50 % que tienen un diametro dentro de aproximadamente el 95 % del diametro de la abertura correspondiente en la mascara digital, con mayor preferencia dentro del 97 % o el 99 %.
Debe apreciarse que lo que se ha descrito es un metodo para transferir una imagen digital sobre una placa de impresion que comprende: proporcionar una placa de impresion de fotopollmero que tiene una capa de fotopollmero y una capa de mascara separable por ablacion; separar por ablacion la capa de mascara para crear una capa de mascara separada por ablacion correspondiente a la imagen; someter las porciones expuestas de la capa de fotopollmero a un ambiente de fluido de oxlgeno reducido; y durante el sometimiento, la luz brillante en la capa de mascara separada por ablacion para polimerizar las porciones expuestas de la capa de fotopollmero. El ambiente de fluido de oxlgeno reducido puede ser un ambiente llquido, tal como una solucion basica que comprende un captador de oxlgeno. El ambiente de fluido de oxlgeno reducido puede ser un ambiente gaseoso, tal como uno que es rico en CO2. El fotopollmero puede revelarse en cualquier forma convencional y luego usarse para imprimir la imagen, por ejemplo, directamente en el material corrugado.
Lo que se ha descrito ademas es una mejora en el proceso de producir una placa de impresion flexografica en donde un archivo de datos digitales se adapta en una capa de mascara in-situ adyacente a una capa fotopolimerizable y la capa fotopolimerizable se expone a radiacion actlnica a traves de la capa de mascara y subsecuentemente se revela para formar una forma de impresion a relieve que tiene un patron de areas de impresion, la mejora que comprende someter la capa de mascara a un ambiente de gas inerte que tiene una concentracion de oxlgeno inferior a aproximadamente 10 %, mientras se realiza la exposicion a la radiacion actlnica a traves de la capa de mascara. El ambiente de gas inerte puede ser rico en CO2 y/o comprender una mezcla de mezcla de otros gases inertes. Un polarizador puede posicionarse entre la fuente de radiacion actlnica y la capa de mascara durante la exposicion. La forma de impresion a relieve que se produce puede usarse para imprimir en material corrugado. El patron de las areas de impresion que resulta puede estar compuesto por una serie de puntos de cimas planas, por ejemplo en donde un punto al 25 % tiene un area superior plana con un diametro que esta dentro del 95 % del diametro correspondiente en la mascara in-situ.
Lo que se ha descrito ademas es una mejora en el proceso de producir una placa de impresion flexografica en donde un archivo de datos digitales se adapta en una capa de mascara in-situ adyacente a una capa fotopolimerizable y la capa fotopolimerizable se expone a radiacion actlnica a traves de la capa de mascara y subsecuentemente se revela para formar una forma de impresion a relieve que tiene un patron de areas de impresion que comprende una serie de puntos, la mejora que comprende: durante la exposicion a la radiacion actlnica a traves de la capa de mascara, someter la capa de mascara a un ambiente de oxlgeno reducido de manera que los puntos resultantes tienen superficies superiores planas que corresponden en tamano al tamano de las aberturas correspondientes en la mascara in situ, en donde un punto al 25 % tiene una superficie superior plana con un diametro que esta dentro del 95 % del diametro correspondiente en la mascara in-situ. El proceso puede implementarse de manera que un punto al 50 % tiene una superficie superior plana con un diametro que esta dentro del 97 % del diametro correspondiente en la mascara in-situ.
Lo que se ha descrito ademas es un metodo para producir una placa de impresion flexografica que comprende puntos de cimas planas que tienen bordes nltidos y angulos de inclinacion agudos que es adecuado para imprimir directamente sobre materiales corrugados, que comprende proporcionar una placa de impresion de fotopollmero que tiene una capa de fotopollmero y una capa de mascara separable por ablacion; separar por ablacion la capa de mascara para crear una capa de mascara separada por ablacion correspondiente a un archivo de imagen digital; someter las porciones expuestas de la capa de fotopollmero a una atmosfera inerte que tiene una concentracion de oxlgeno de menos del 10 %; y durante el sometimiento, la luz brillante en la capa de mascara separada por ablacion para polimerizar las porciones expuestas de la capa de fotopollmero. El proceso puede implementarse para producir un punto al 25 % que tiene una superficie superior plana con un diametro que esta dentro del 95 % del diametro correspondiente en la mascara. El proceso puede implementarse ademas de manera que un punto al 25 % tiene una superficie superior plana con un diametro que esta dentro del 97 % del diametro correspondiente en la mascara.

Claims (9)

  1. 5
    10
    15
    20
    25
    30
    35
    40
    45
    50
    55
    60
    REIVINDICACIONES
    1. Un metodo para transferir una imagen digital sobre una placa de impresion de fotopollmero mediante la creacion de una forma de impresion a relieve, dicho metodo comprende las etapas de:
    proporcionar una pieza bruta de la placa de impresion fotocurable que incluye una capa fotocurable no curada (10) y una capa de mascara separable por ablacion;
    separar por ablacion laser la capa de mascara para formar aberturas en la misma y crear una capa de mascara separada por ablacion (12) correspondiente a la imagen;
    colocar la pieza bruta de la placa de impresion fotocurable en una camara (69) definida por las paredes laterales (64, 65) y una tapa removible (60) que se hace de un material transparente UV;
    someter las porciones expuestas de la capa fotocurable no curada a un ambiente de oxlgeno reducido mediante la introduccion desde un tanque (68) de un gas inerte mas pesado que el oxlgeno en el aire que rodea la pieza bruta de la placa de impresion dentro de la camara con la tapa retirada para permitir que el oxlgeno desplazado escape;
    colocar la tapa sobre las paredes para sellar la camara;
    exponer la pieza bruta de la placa de impresion fotocurable que incluye la capa de mascara separada por ablacion y las porciones expuestas de la capa fotocurable a un torrente de radiacion actlnica, la radiacion actlnica que pasa a traves de las aberturas (14) en la capa de mascara separada por ablacion para curar las porciones expuestas de la capa fotocurable; y
    eliminar la capa de mascara separada por ablacion y las porciones no curadas de la capa fotocurable para crear una imagen en relieve formada por una serie de pedestales (28) que reproducen la imagen.
  2. 2. Un metodo para transferir una imagen digital sobre una placa de impresion de fotopollmero mediante la creacion de una forma de impresion a relieve, dicho metodo que comprende las etapas de:
    proporcionar una pieza bruta de la placa de impresion fotocurable que incluye una capa fotocurable no curada (10) y una capa de mascara separable por ablacion;
    separar por ablacion laser la capa de mascara para formar aberturas en la misma y crear una capa de mascara separada por ablacion (12) correspondiente a la imagen;
    colocar la pieza bruta de la placa de impresion fotocurable en una camara (69) definida por las paredes laterales (64, 65) y una tapa removible (60) que se hace de un material transparente UV;
    someter las porciones expuestas de la capa fotocurable no curada a un ambiente de oxlgeno reducido mediante la introduccion de un gas inerte desde un tanque (68) para desplazar el oxlgeno en la camara; dicha camara configurada con valvulas de retencion con la localizacion de dichas valvulas de retencion en dependencia del peso relativo del gas inerte desplazando;
    exponer la pieza bruta de la placa de impresion fotocurable que incluye la capa de mascara separada por ablacion y las porciones expuestas de la capa fotocurable a un torrente de radiacion actlnica, la radiacion actlnica que pasa a traves de las aberturas (14) en la capa de mascara separada por ablacion para curar las porciones expuestas de la capa fotocurable; y
    eliminar la capa de mascara separada por ablacion y las porciones no curadas de la capa fotocurable para crear una imagen en relieve formada por una serie de pedestales (28) que reproducen la imagen.
  3. 3. Un metodo de acuerdo con la reivindicacion 2 en donde se aplica un vaclo a la camara antes o durante la introduccion del gas inerte desde el tanque (68).
  4. 4. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 1 o 2 en donde el ambiente de oxlgeno reducido contiene oxlgeno en una cantidad de menos de 10,5 % en volumen.
  5. 5. El metodo de acuerdo con la reivindicacion 1 o 2 en donde dicho ambiente incluye suministrar gas inerte dioxido de carbono y/o argon.
  6. 6. El metodo de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores en donde la radiacion actlnica incluye luz que brilla a traves de un polarizador.
  7. 7. Un metodo de impresion en un material corrugado mediante el uso de una forma de impresion a relieve formada de acuerdo con el metodo de las reivindicaciones 1-6.
  8. 8. El metodo de acuerdo con las reivindicaciones 1-6 en el cual el ambiente contiene oxlgeno en una cantidad de menos de 5,3 % en volumen.
  9. 9. El metodo de acuerdo con las reivindicaciones 1-6 en el cual el ambiente contiene oxlgeno en una cantidad de menos de 2,1 % en volumen.
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