TWI470340B - 整合式薄膜積層ｕｖ曝光系統及其使用方法 - Google Patents

整合式薄膜積層ｕｖ曝光系統及其使用方法 Download PDF

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Description

整合式薄膜積層UV曝光系統及其使用方法
本發明係通常關於一種使用於製造浮凸圖像印刷元件(relief image printing element)之組合積層和曝光系統。
膠版印刷(flexography)係一種普遍使用於大量生產之印刷方法膠版印刷係印刷在諸如紙張、造紙原料、瓦楞紙板、膜(film)、箔紙(foil)及薄板之不同種類之基板上。報紙和雜物袋是最主要的例子。粗糙表面和拉伸膜僅僅使用膠版印刷即可經濟地被印刷。膠版印板係具有凸起於開放區域之圖像元件之浮凸板。一般而言，浮凸板有點軟且有足夠的彈性可捲在一印刷滾輪上且足以耐久印刷超過百萬次。此類浮凸板基於其耐久性和製造簡易性而提供印刷業者許多的優點。
典型由其製造者所提供的膠版印刷板係由一背板或支撐層、一或多層之未曝光光固化層、可選擇性地一保護層或防滑膜及通當地一層保護遮片所依序製成。
支撐層(或背板)係提供支撐給該浮凸板。支 撐層可由透明或者諸如紙張、纖維素膜(cellulose film)、塑膠或金屬之不透光材料所製成。較佳的材料包括由合成聚合材料諸如聚酯纖維(polyester)、聚苯乙烯(polystyrene)、聚烯烴(polyolefin)、聚酰胺(polyamide)及類似物所製成之薄片。一廣泛使用之支撐層係一聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate)之彈性膜。
光固化層可包括已知之光聚合物 (photopolymers)、單體(monomer)、引發劑(initiator)、作用性或非作用性之稀釋劑、填充劑和染料之任一者。”光固化(photocurable)”一詞係表示一種回應光化輻射(actinic radiation)而進行聚合(polymerization)、交聯(cross-linking)及任何其他固化或硬化反應之成份而產生該材料未曝光部分能選擇性地從已曝光(已固化)部分被分離或移除以形成已固化材料之3D或浮凸圖案(relief pattern)之結果。範例性之光固化材料係揭示於Goss等人之歐洲專利申請案No.0 456 336 A2和No.0 640 878 A1、Berrier等人之英國專利案No.1,366,769、美國專利案No.5,223,375、MacLahan之美國專利案No.3,867,153、Allen之美國專利案No.4,264,705、Chen等人之美國專利案No.4,323,636、No.4,323,637、No.4,369,246及No.4,423,135、Holden等人之美國專利案No.3,265,765、Heinz等人之美國專利案No.4,320,188、Gruetzmacher等人之美國專利案 No.4,427,759、Min之美國專利案No.4,622,088、Bohm等人之美國專利案No.5,135,827，上述各專利之標的物係以全文引用之方式併入本文。也可使用一個以上之光固化層。
光固化材料通常係透過於一至少某光化波長 區域而交聯(固化)並硬化。使用於本文，”光固化材料”一詞係表示一種回應光化輻射而進行聚合(polymerization)、交聯(cross-linking)及任何其他固化或硬化反應之固態成份而產生該材料未曝光部分能選擇性地從已曝光(已固化)部分被分離或移除以形成已固化材料之3D或浮凸圖案之結果。使用於本文，”光化輻射”係表示能夠將光固化層進行聚合、交聯或固化之輻射。 光化輻射包括，例如，放大光(例如雷射)和非放大光，特別是位於UV和紫光波段區域。
防滑膜係一薄層，其係保護光聚合物不受灰 塵破壞且增加其處理之容易性。於傳統(“類比”)板製造過程中，防滑膜係可透過UV光，且印刷機將遮片(cover sheet)自印刷空白板(printing plate blank)剝除且將一負片放置在該防滑膜層上方。接著該板和負片被經由該負片之UV光而進行浸潤曝光(flood-exposure)。曝光區域係固化或硬化，且未曝光區域被移除(被顯影)以在印刷板上產生一浮凸圖像。
於一”數位”或”直接至板(direct to plate)”板 製造過程中，雷射由一儲存在一電子資料檔中之圖像所引導，且被用於在一數位(意即，雷射燒蝕)遮罩層中產 生一原位負片(in situ negative)，其通常為一已被修飾成包括一不透輻射材料之防滑膜。部分雷射燒蝕層接著藉由將該遮罩層曝露於一選定波長和雷射功率之雷射輻射而燒蝕。雷射燒蝕層之範例係揭示於，例如，Yang等人之美國專利案No.5,925,500及Fan之美國專利案No.5,262,275及No.6,238,837，上述各專利之標的係以引用之方式全文併入本文。
形成浮凸圖像元件之處理步驟通常包含以下各步驟：1)產生圖像，其可以是針對數位”電腦至板(computer to plate)”之遮罩燒蝕或者是針對傳統類比板之負片製造(negative production)；2)背面曝光，在光固化層中產生一底板層及建立浮凸深度；3)透過遮罩(或負片)正面曝光，以選擇性地交聯和固化光固化層中沒有被遮罩覆蓋的部分，藉此產生浮凸圖像；4)以溶劑(包含水)或熱顯影(thermal development)將未曝光之光聚合物加以顯影及移除；及5)若有需要，則進行後曝光(post exposure)和脫黏(detackifiation)。
可移除遮片通常係提供以保護光固化印刷元件在傳送和處理過程中避免受到損壞。對該印刷元件進行處理之前，該(該等)遮片係被移除且光敏表面整體圖像曝露於光化輻射中。當整體圖像曝露在光化輻射時， 光可聚合層(photopolymerizable layer)之聚合及不溶於是發生在曝光區域。適當顯影劑(或熱顯影)之處理將移除該光可聚合層中之未曝光區域，留下可被使用於膠版印刷之印刷浮凸。
使用於本文之”背面曝光”係指將該光可聚合 層之一側進行光化輻射之全面曝光(blanket exposure)，在該側之相反側係，或最後將，支撐該浮凸。此步驟通常係透過一透明支撐層而完成且被用來產生一光固化材料之一淺層(shallow layer)，意即在光固化層的支撐側上之”底板(floor)”。底板之目的係通常用來激活(sensitize)光固化層及用來建立浮凸之深度。
在此簡短背面曝光步驟之後(意即，簡短係指 與後續之整體圖像曝光步驟相比較)，利用一數位圖像遮罩或一照相負片遮罩(photographic negative mask)執行一整體圖像曝光，該數位圖像遮罩或該照相負片遮罩係接觸光固化層且光化輻射係透過該數位圖像遮罩或該照相負片遮罩而被引導。
使用之輻射型式係與光可聚合層中之光引發 劑(photoinitiator)有關。該數位圖像遮罩或該照相負片遮罩係防止底下材料被曝露在光化輻射中，因此被該遮罩覆蓋之區域沒有聚合。任何傳統的光化輻射來源可使用於此步驟。適合的可見光及UV光源之範例包含碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單位及照相泛光燈。
成像之後，該光敏印刷元件被顯影以移除光 固化材料層中未聚合之部分且在已固化光敏印刷元件中顯現已交聯之浮凸圖像。典型的顯影方法包括以不同的溶劑或水加以清洗，通常使用刷子。其他可能的顯影方式包括使用風刀(air knife)或加熱及吸墨紙。所產生的表面具有複製將被印刷之圖像之浮凸圖案。浮凸圖案通常包含複數個點且點之形狀和浮凸之深度在其他因素之中係影響印刷圖像之品質。在浮凸圖像被顯影完後，浮凸圖像元件可被安置在印刷機上並開始印刷。
該等點的形狀和浮凸之深度在其他因素之中 係影響印刷圖像的品質。印刷諸如細點、細線和甚至是文字之小圖形元素係非常困難的，即使係使用膠版印刷板且保持開放的反向文字和陰影。在圖像中最亮之區域(一般稱為亮部(highlights))，圖像之密度係由一連續色調圖像之半調篩選圖畫(halftone screen representation)之總點面積所表示。對於調輻篩選(Amplitude Modulated screening)，其涉及將位於固定週期格上之複數個半調點縮小至非常小的尺寸，該亮部之密度係由該等點之面積來表示。對於調頻篩選(Frequency Modulated screening)，該等半調點之尺寸通常保持在某一固定值，且隨機或虛隨機(randomly or pseudo-randomly)放置之點的數目係表示該圖像之密度。在此兩種情況中，必需要印刷非常小的點尺寸才足以表示該亮部區域。
由於板製造過程之性質，在膠版上維持小點 係非常因難的。在使用不透UV光遮罩之數位板製造過程中，遮罩和UV曝光之結合產生了具有大致上為圓椎 形狀點之浮凸點。該等點之最小者在處理過程中很容易被移除，此意謂著在印刷中沒有墨水被轉移至這些區域(該點在板上和/或印刷時沒有被”保持住”)。或者，如果該等點在處理後留下來也很容易在印刷時被損壞。例如，小的點通常在印刷時會重疊和/或破壞，導致過多的墨水或沒有墨水被轉移。
此外，光固化樹脂成份通常係經由曝露於光 化輻射之自由基聚合(radical polymerization)而固化。然而，該固化反應可被氧分子所抑制，該氧分子通常係溶解於樹脂成份中，因為氧官能基係一自由基清除劑(radical scavenger)。因此在進行整體圖像曝光前，溶解氧係被高度期待自樹脂成份中被移除，使得光固化樹脂成份能更快且均勻地被固化。
如敍述於Recchia提出之相關專利申請案 No.12/571,523及Recchia等人提出之12/660,451(以上各專利之標的物係以全文引用之方式併入本文)，其已發現一定義可產生絕佳印刷效能之柔印點(flexo dot)形狀之幾何特性特別集合，其係包含，但不限於：(1)點表面之平整度；(2)點之肩斜角；(3)該等點間之浮凸深度；及(4)點頂過渡至點肩之邊緣之清晰度。一有益地改變和/或定製形成在一印刷元件上之印刷點形狀之重要方法係藉由限制空氣擴散進入光固化層來達成。如敍述於Gotsick等人之相關專利申請案No.13/205,107，其標的物係以全文引用之方式併入本文。於該申請案中，在成像及曝光步驟中使用諸如氧阻障薄膜之阻障層可產生具有該幾 何特性特別集合中之至少一項特性，該特性係關於沒有使用該氧阻障層所形成之印刷點之有益地改變。
本發明之發明人已決定想望將該曝光處理加 以自動化以減少板製造過程之時間需求且產生具有期望之幾何特性和其他特徵之印刷點。
此外，本發明之發明人也已決定想望將一積 層步驟與該自動化曝光處理相結合以進一步地使板製造過程更有效率且產生具有期望之幾何特性和其他特徵之浮凸圖像印刷元件。
本發明之一目的係藉由一同時正面和背面曝光步驟將數位浮凸圖像印刷元件之生產加以自動化。
本發明之另一目的係允許在一氧阻障層積層至一浮凸圖像印刷元件之後，同時進行數位浮凸圖像印刷元件之正面和背面曝光。
本發明之另一目的係提供一組合積層和曝光系統，其包含一積層站和一能夠同時執行一浮凸圖像印刷元件之正面和背面曝光之曝光站。
本發明之再另一目的係產生具有期望幾何特性之印刷點。
本發明之再另一目的係在背面曝光步驟中提供衰減光化輻射之設施，以減少光化輻射之強度。
為此，於一實施例中，本發明係通常關於一種在一印刷板製程中將一光敏印刷空白板曝露於光化輻射之方法，其中該光敏印刷空白板包含一背板層、至少 一設置在該背板層上之光固化層及一設置在該至少一光固化層上之雷射燒蝕遮罩層，其中該雷射燒蝕遮罩層係以雷射燒蝕以在該雷射燒蝕遮罩層上產生一原位負片，該方法包含步驟：a)利用熱壓將一氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之一頂端；b)輸送該光敏印刷空白板進入一曝光單元，其中該曝光單元能夠將該至少一光固化層沒有被該雷射燒蝕遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化，並在該至少一光固化層中產生一交聯底板層；及c)至少實質上同時地(i)將該至少一光固化層曝露於來自光化輻射之一第一來源且透過該雷射燒蝕遮罩層和該氧阻障層之光化輻射，以選擇性地將該至少一光固化層沒有被該遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化，及(ii)將該至少一光固化層曝露於來自光化輻射之一第二來源且透過該背板層之光化輻射，以在該光固化層中產生一交聯底板層。
於另一實施例中，本發明係通常關於一種用於在一印刷板製造系統中將一光敏印刷擋板曝露於光化輻射之曝光設備，其中該光敏印刷空白板包含一背板層、至少一設置在該背板層上之光固化層及一設置在該至少一光固化層上之雷射燒蝕遮罩層，其中該雷射燒蝕遮罩層係以雷射燒蝕以在該雷射燒蝕遮罩層上產生一原 位負片，該曝光設備包含：a)一積層設備，係用於將一氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之一頂端；b)一輸送機，係用於輸送該光敏印刷空白板通過該曝光設備；c)一第一曝光裝置，係用於將該至少一光固化層曝露於來自該第一曝光裝置且通過該雷射燒蝕遮罩層和該氧阻障層之光化輻射，以選擇性地將該至少一光固化層沒有被該遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化；及d)一第二曝光裝置，係用於將該至少一光固化層曝露於來自該第二曝光裝置且通過該背板層之光化輻射，以在該光固化層中產生一交聯底板層，其中該第一曝光裝置和該第二曝光裝置係實質上同時運作。
10‧‧‧曝光設備
12‧‧‧輸送機
14‧‧‧光敏印刷空白板
16‧‧‧第一曝光裝置
18‧‧‧第二曝光裝置
20‧‧‧光固化層
22‧‧‧雷射燒蝕遮罩層
24‧‧‧氧阻障層
28‧‧‧背板層
30‧‧‧積層設備
32‧‧‧加熱積層滾輪
34‧‧‧第二滾輪
36‧‧‧夾鉗部
38‧‧‧供應滾輪
當連同所附圖式閱讀時，以上所陳述和本發明之其他特徵將在以下較佳實施例之詳細敍述中顯得更加地明顯，其中：第1圖係描繪根據本發明之具有一同時背面和正面曝光步驟之曝光步驟；第2圖係描繪根據本發明之一整合式積層和曝光系統；第3圖係描繪一可經過本發明之積層和曝光系統而處理之光敏印刷素材；及 第4圖係描繪一可經過本發明之曝光系統而處理之光敏印刷素材，一氧阻障層係積層於該光敏印刷素材上。
圖式中相同的參考數字係意圖指示類似的零件，雖然並非每圖式中之每個特點均可稱呼一個參考數字。
本發明敍述一種具有輸送機之曝光系統及一種使用該系統之方法，該系統係能夠在一膠版印刷板製造過程中至少實質上同時執行一光敏印刷素材之背面曝光和正面曝光。此外，本發明也敍述一種組合積層和曝光系統及一種使用該系統之方法，以進一步地使板製造過程更有效率且產生具有期望之幾何特性之印刷點。
於一較佳實施例中，本發明係通常關於一種在一印刷板製程中將一光敏印刷空白板曝露於光化輻射之方法，以交聯和固化部分之該至少一光固化層，藉此當同時將該至少一光固化層曝露於透過背板層之光化輻射中以產生一底板層且設定浮凸深度時，產生浮凸層。
光敏印刷空白板包含一背板層、至少一設置在該背板層上之光固化層及一設置在該至少一光固化層上之雷射燒蝕遮罩層，且該雷射燒蝕遮罩層係以雷射燒蝕以在該雷射燒蝕遮罩層上產生一原位負片。
雷射燒蝕遮罩層可以是任何習知之光燒蝕遮罩層(photoablative mask layer)。此類遮罩層包括那些可被任何已知於本領域技術人員之雷射所燒蝕者，諸如例如通常操作在大約300nm和400nm波長間之UV型式之 準分子雷射；諸如例如通常操作在大約10,640nm波長之CO2 雷射；通常操作在大約1064nm波長之Nd-YAG雷射；及通常操作在大約830nm波長之二極體陣列雷射(diode array laser)。
該方法通常包含步驟：a)利用熱壓將一氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之一頂端；b)輸送該光敏印刷空白板進入一曝光單元，其中該曝光單元能夠將該至少一光固化層沒有被該雷射燒蝕遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化，並在該至少一光固化層中產生一交聯底板層；及c)至少實質上同時地：i)將該至少一光固化層曝露於來自光化輻射之一第一來源且透過該雷射燒蝕遮罩層和該氧阻障層之光化輻射，以選擇性地將該至少一光固化層沒有被該遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化，且ii)將該至少一光固化層曝露於來自光化輻射之一第二來源且透過該背板層之光化輻射，以在該光固化層中產生一交聯底板層。
如敍於本文，氧阻障層係在將該至少一光固化層曝露於光化輻射之步驟前，使用熱壓積層於該雷射燒蝕遮罩層之頂端。光敏印刷空白板因此被曝露於來自光化輻射之第一來源且透過該雷射燒蝕遮罩層和該氧阻障層之光化輻射。
積層步驟通常包含以下步驟：a)供應該光敏印刷空白板至一形成於一加熱積層滾輪和一第二滾輪間之夾鉗部；b)自一氧阻障層供應滾輪越過該加熱積層滾輪之一外表面供應該氧阻障層進入形成於該加熱積層滾輪和該第二滾輪間之該夾鉗部，其中該氧阻障層係接觸該光敏印刷空白板之一頂表面之一點，該光敏印刷空白板係於該點通過該夾鉗部而前進；及c)在一第一方向轉動該加熱積層滾輪且在一相反方向轉動該第二滾輪，以推進該光敏印刷空白板和其上之該氧阻障層通過該夾鉗部，藉此將該氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之該頂端。
在氧阻障層積層於雷射燒蝕遮罩層之頂端且光敏印刷空白板已曝露於光化輻射之後，氧阻障層係被移除。通常較佳地是氧阻障層係在顯影步驟之前被移除。
該光敏印刷空白板通過該形成積層之步驟和該曝光單元之輸送速度係通常介於每分鐘0.5呎至5.0呎之間。
接著，已成像和曝光之光敏印刷空白板被顯影以顯現位在其中且包含複數個浮凸點之浮凸圖像。顯影可藉由不同方法來完成，包括水顯影、溶劑顯影和熱顯影，以範例而非限制之方式。最後，浮凸圖像印刷元件被安置在一印刷機之印刷滾輪上且開始印刷。
如敍述於Recchia提出之相關專利申請案 No.12/571,523及Recchia等人提出之12/660,451，氧阻障層之存在係產生具有至少一種選自下列群組之幾何特性之印刷點：該等印刷點之一頂表面之平整度、該等印刷點之肩斜角及該等印刷點之邊緣清晰度，其係關於沒有使用氧阻障層所形成之印刷點之有益地改變。
本發明之光固化材料應該交聯(固化)且因此在某一光化波長區域被硬化。如使用於本文，光化輻射係一能夠在已曝光基團(exposed moiety)中引起化學反應之輻射。
於一實施例中，光化輻射之第一來源係選自於包含碳弧(carbon arcs)、汞蒸氣弧(mercury-vapor arcs)、螢光燈(fluorescent lamps)、電子閃光單元(electron flash units)、電子束單位(electron beam units)及照相泛光燈(photographic flood lamps)之可見光及UV光源，雖然其他發射出想望範圍波長之光化輻射之類似來源也可使用於本發明之實施。較佳之光化波長區域係從大約250nm至大約450nm，更佳地係從大約300nm至大約400nm，再更佳地係從大約320nm至大約380nm。此外，使用於膠版印刷板固化之照相泛光燈之強度通常係大約在5-25 millwatts/cm2 之範圍，但強度可以高至50 millwatts/cm2 。
光化輻射之第二來源也係較佳地選自於包含碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單位及照相泛光燈之可見光及UV光源。如同光化輻射之第一來源，其他發射出想望範圍波長之光化輻射之類似來 源也可使用於本發明之實施。光化輻射之第二來源也係較佳地發射介於大約250nm至大約450nm間範圍之波長。
如敍於本文，光敏印刷空白板係曝露於來自 光化輻射之第一來源且經過該原位負片之光化輻射。於一較佳實施例中，光敏印刷空白板曝露於光化輻射之時間係介於大約1分鐘至大約20分鐘之間，較佳地係介於大約4分鐘至大約10分鐘之間。此外，光敏印刷空白板係曝露於來自光化輻射之第二來源且經過該背板層之光化輻射且曝露時間係介於大約0.5分鐘至大約5分鐘之間，較佳地係介於大約1分鐘至大約3分鐘之間。
為要使正面曝光步驟和背面曝光步驟至少實 質上同時執行且足以交聯和固化底板層和浮凸層，光化輻射之第二來源係較佳地被衰減。於此例中係期望該至少一光固化層吸收80%至99%之由光化輻射之第二來源所發射之光化輻射。
光化輻射之第二來源可以任一不同種類之方 法加以衰減。例如，光化輻射之該第二來源係由一種選自下列群組之方法所衰減：在光化輻射之第二來源與背板層間放置一擋板(shutter)、在光化輻射之第二來源與背板層間放置一過濾板(filter)、使用發射一較低效率UV波長之光化輻射之一第二來源、使用一吸收由光化輻射之第二來源所發射之該光化輻射之一部分之背板層以及上述一項或多項之組合。
於一實施例中，光化輻射之第二來源可藉由 在光化輻射之第二來源與背板層間放置一擋板來加以衰減。例如，該擋板可以是任何不通透光化輻射之材料，該材料係具有必須用於重復曝露於光化輻射之物理特性且具有必須被定位在光化輻射來源與光聚合板之間的機械特性。一般適合之擋板設計範例可以是當不使用時可以如手風琴般捲起之伸縮盾(retractable shield)，或者是可保持在位置上之百葉窗型之擋板，但可以機械式地操控使得當擋板”開啟”時可阻擋非常少量的光化輻射。一種適合用於本發明實施之擋板可以是從North Coast Tool公司(Erie,PA)取得之輕型商用百葉窗。
於另一實施例中，光化輻射之第二來源可藉 由在光化輻射之第二來源與背板層間放置一過濾板而加以衰減。特別地，可以使用一種光衰減過濾板(light attenuating filter)，其可以調整照射在背板層的光線量(強度)。該光衰減過濾板被選擇為要具有一特定的透光率(transmittance)。例如，該光衰減過濾板可具有80%的透光率使得通過該過濾板之光線被衰減20%。一種適合用於本發明實施之光衰減過濾板可以是從DuPont Teijin Films公司取得之抗紫外線PET膜(UV-blocking PET film)，商標Melinex 626。
於再另一實施例中，光化輻射之第二來源係 一不同、較低效率之UV波長，允許使用非抗UV聚酯纖維(non-UV-blocking polyester)作為板上的背板層，因為不再需要衰減。散佈在該至少一光固化層之光引發劑通常係具有一可發生效力的波長(或波長範圍)。對於光化 輻射之第二來源較低效率之波長選擇係允許使用額外的將被使用之非抗紫外線背板層。
於再另一實施例中，光化輻射之第二來源係 藉由使用一吸收由光化輻射之第二來源所發射之該光化輻射之一部分之背板層或支撐板而加以衰減。如敍於Kanga之美國專利案No.RE39,835，其標的物係以全文引用之方式併入本文，其中可對支撐板進行修飾以允許印刷機在數位板製造過程中對底板的形成有較佳的控制。
如上所述，光固化元件之支撐板係較佳地由 不同種類之彈性透光材料所形成。該支撐板可以製成係吸收紫外線，可藉由自一本質上吸收紫外線(意即，衰減光化輻射本身)之材料而形成該支撐板，或者藉由添加一摻質(dopant)到形成該支撐板之材料中。
本質上吸收紫外線之支撐板包括聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate,PEN)(例如可自市場上取自DuPont PET之Kaladex 1030和Kaladex 2000)。當使用一本質吸收紫外線之支撐板時，光化輻射之吸收百分比係支撐板厚度的函數。例如，一具有大約5 mils厚度之PEN支撐板通常可吸收97%的光化輻射；一具有大約3 mils厚度之PEN支撐板通常可吸收95%的光化輻射。
含有紫外線吸收材料之支撐板通常具有在製造時所添加的紫外線吸收摻質。使用於許多應用中之照相泛光燈光譜係有約300-400 nm。據此，紫外線吸收摻 質通常應該在此範圍內係活化的(active)。較佳地，紫外線吸收劑的存在將一正常透紫外線之支撐板改變成為一種吸收通過支撐板之部分紫外線輻射之衰減工具。較佳地，支撐板吸收大約80%至99%的光化輻射，更佳地係吸收大約85%至95%的光化輻射，最佳地係吸收大約88%的光化輻射。
取決於選擇用來衰減光化輻射之第二來源之 方法，光化輻射之第一來源和光化輻射之第二來源可以發射出實質上相同或不同之波長。
一廣泛範圍之材料可作為氧阻障層，包括不 同種類的氧阻障膜和薄膜。在生產有效的氧阻障層中，三種已被確認之品質特性包含光學透明度(optical transparency)、低厚度(low thickness)及輸氧抑制(oxygen transport inhibition)。輸氧抑制係以一低氧擴散係數為度量。如前所述，氧阻障層之氧擴散係數應該小於6.9×10-9 m2 /sec，較佳地係小於6.9×10-10 m2 /sec，最佳地係小於6.9×10-11 m2 /sec。
適合作為氧阻障層之材料範例包括傳統使用 於膠版印刷元件中之釋放層(release layer)材料，例如聚酰胺(polyamides)、聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)、羥烷基纖維素(hydroxyalkyl cellulose)、乙烯和醋酸乙烯酯的共聚物(copolymers of ethylene and vinyl acetate)、兩性互聚物(amphoteric interpolymers)、醋酸丁酸纖維素(cellulose acetate butyrate)、烷基纖維素(alkyl cellulose)、丁醛(butyral)、環橡膠(cyclic rubbers)和以 上一項或各項之組合。此外，諸如聚丙烯(polypropylene)、聚乙烯(polyethylene)、聚氯乙烯(polyvinyl chloride)、聚酯纖維(polyester)之膜和類似透明膜也可作為不錯的阻障層。於一較佳實施例中，氧阻障層包含一聚丙烯膜或一聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。
氧阻障層厚度應該與用於處理膜和膜/光聚 合物板組合之結構需求一致。厚度介於大約5μm至300μm之間的阻障厚度係較佳的，更佳地係介於大約10μm至大約200μm之間，最佳地係介於大約1μm至20μm之間。
氧阻障層也需要具有足夠的光學透明度，使 得氧阻障薄膜不會有害地吸收或偏折使用於將光敏印刷空白板曝光之光化輻射。故此氧阻障層係較佳地具有一至少50%之光學透明度，最佳地係具有至少75%之光學透明度。
氧阻障層也需要對氧擴散具有足夠的不可滲 透性，使得其在曝光於光化輻射時可以有效地限制氧擴散進入光固化層。
如上文所討論，相關之專利申請案如Recchia 提出的No.12/571,523、Recchia等人提出之12/660,451及Gotsick等人提出之No.13/205,107，以上各申請案之標的物係以引用之方式全文併入本文，該等申請案係敍述一定義可產生絕佳印刷效能之柔印點形狀之幾何特性特別集合，其係包含，但不限於：(1)點表面之平整度；(2)點之肩斜角；(3)該等點間之浮凸深度；及(4)點頂過 渡至點肩之邊緣之清晰度。
於另一較佳實施例中，本發明也通常係關於一種用於在一印刷板製造系統中將一光敏印刷空白板曝露於光化輻射之組合積層和曝光設備。如上文所述，該光敏印刷空白板包含一背板層、至少一設置在該背板層上之光固化層及一設置在該至少一光固化層上之雷射燒蝕遮罩層，且該雷射燒蝕遮罩層係以雷射燒蝕以在該雷射燒蝕遮罩層中產生一原位負片。
如第1圖和第2圖所示，曝光設備10較佳地係包含：a)一積層設備30，係用於將一氧阻障層24積層於該雷射燒蝕遮罩層22之一頂端；b)一輸送機12，係用於輸送該光敏印刷空白板14通過該曝光設備；c)一第一曝光裝置16，係用於將該至少一光固化層20(顯示於第3圖)曝露於來自該第一曝光裝置16且通過該雷射燒蝕遮罩層22和該氧阻障層24之光化輻射，以選擇性地將該至少一光固化層20沒有被該遮罩層22所覆蓋之部分加以交聯和固化；及d)一第二曝光裝置18，係用於將該至少一光固化層20曝露於來自該第二曝光裝置18且通過該背板層28之光化輻射，以在該光固化層20中產生一交聯底板層，其中該第一曝光裝置16和該第二曝光裝置18係實 質上同時運作。
如已述於本文，第二曝光裝置18可包含一用於該第二曝光裝置之衰減機構，藉此來自第二曝光裝置之光化輻射強度係被降低。
於一實施例中，衰減機構包含一擋板。一種適合的擋板可以是從North Coast Tool公司(Erie,PA)取得之輕型商用百葉窗。其他適合能夠衰減來自第二曝光裝置之光化輻射強度的擋板，包含例如任何不通透光化輻射之材料，該材料係具有必須用於重復曝露於光化輻射之物理特性且具有必須被定位在光化輻射來源與光聚合板之間的機械特性，也可使用於本發明之實施中。一般適合之擋板設計範例可以是當不使用時可以如手風琴般捲起之伸縮盾，或者是可保持在位置上之百葉窗型之擋板，但可以機械式地操控使得當擋板”開啟”時可阻擋非常少量的光化輻射。
於另一實施例中，衰減機構包含一過濾板。一種適合的過濾板可以是從DuPont Teijin Films公司取得商標為Melinex 628之產品。其他適合能夠衰減來自第二曝光裝置之光化輻射強度之過濾板，包含例如磨砂(matte)或半透明膜，也可使用於本發明之實施中。
如第4圖所示，光敏印刷空白板14與設置在其上方之氧阻障層24因此包含一背板層28、至少一設置在該背板層28上之光固化層20及一設置在該至少一光固化層20上之雷射燒蝕遮罩層22。
如第2圖所示，積層設備30通常包含： a.一加熱積層滾輪32和一第二滾輪34，其中該加熱積層滾輪32和該第二滾輪34係相對安置且在該二者之間形成一夾鉗部36用於接收將被積層之該光敏印刷空白板14；b.一用於轉動該加熱積層滾輪32和該第二滾輪34之驅動機構，其中該加熱積層滾輪32係於一第一方向被轉動且該第二滾輪34係於一相反方向被轉動，以推進該光敏印刷空白板14通過形成於該加熱積層滾輪32和該第二滾輪34間之該夾鉗部36；及c.一供應滾輪38，係適於支撐氧阻障層24捲且供應該氧阻障層24越過該加熱積層滾輪32之一外表面進入形成於該加熱積層滾輪32和該第二滾輪34間之該夾鉗部36，其中該氧阻障層24係可接觸於該光敏印刷空白板14之一頂表面之一點，該光敏印刷空白板14係於該點通過該夾鉗部36而前進。
本發明允許同時曝光和平坦頂端點之生產完全地自動化。本發明也可使用於藉由一同時正面和背面曝光將標準數位浮凸圖像印刷元件之生產加以自動化。
10‧‧‧曝光設備
12‧‧‧輸送機
14‧‧‧光敏印刷空白板
16‧‧‧第一曝光裝置
18‧‧‧第二曝光裝置

Claims (33)

  1. 一種在一印刷板製程中將一光敏印刷空白板曝露於光化輻射之方法，其中該光敏印刷空白板包含一背板層、至少一設置在該背板層上之光固化層及一設置在該至少一光固化層上之雷射燒蝕遮罩層，其中該雷射燒蝕遮罩層係以雷射燒蝕以在該雷射燒蝕遮罩層上產生一原位負片，該方法包含步驟：a)利用熱壓將一氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之一頂端；b)輸送該光敏印刷空白板進入一曝光單元，其中該曝光單元能夠將該至少一光固化層沒有被該雷射燒蝕遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化，並在該至少一光固化層中產生一交聯底板層；及c)至少實質上同時地(i)將該至少一光固化層曝露於來自光化輻射之一第一來源且透過該雷射燒蝕遮罩層和該氧阻障層之光化輻射，以選擇性地將該至少一光固化層沒有被該遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化，及(ii)將該至少一光固化層曝露於來自光化輻射之一第二來源且透過該背板層之光化輻射，以在該光固化層中產生一交聯底板層。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中將該氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之該頂端之步驟包含步驟：a.供應該光敏印刷空白板至一形成於一加熱積層滾輪和一第二滾輪間之夾鉗部； b 自一供應滾輪越過該加熱積層滾輪之一外表面供應該氧阻障層進入形成於該加熱積層滾輪和該第二滾輪間之該夾鉗部，其中該氧阻障層係接觸該光敏印刷空白板之一頂表面之一點，該光敏印刷空白板係於該點通過該夾鉗部而前進；c 在一第一方向轉動該加熱積層滾輪且在一相反方向轉動該第二滾輪，以推進該光敏印刷空白板和其上之該氧阻障層通過該夾鉗部，藉此將該氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之該頂端。
  3. 如申請專利範圍第1項之方法，其中將氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之該頂端及該光敏印刷空白板已被曝露於光化輻射之後，該方法進一步包含移除該氧阻障層之步驟。
  4. 如申請專利範圍第3項之方法，進一步包含將該成像和曝光之光敏印刷空白板顯影之步驟，以顯現一在其中之浮凸圖像，該浮凸圖像包含複數個浮凸點；其中該氧阻障層之存在係產生具有至少一種選自於由下列所構成之群組之幾何特性之印刷點：該等印刷點之一頂表面之平整度、該等印刷點之肩斜角及該等印刷點之邊緣清晰度，其係關於沒有使用該氧阻障層所形成之印刷點之有益地改變。
  5. 如申請專利範圍第1項之方法，其中光化輻射之該第一來源係選自於包含碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單位及照相泛光燈之可見光及UV光源。
  6. 如申請專利範圍第1項之方法，其中光化輻射之該第一來源係發射一介於大約250nm至大約450nm範圍之波長。
  7. 如申請專利範圍第5項之方法，其中光化輻射之該第一來源係發射一介於大約300nm至大約400nm範圍之波長。
  8. 如申請專利範圍第7項之方法，其中光化輻射之該第一來源係發射一介於大約320nm至大約380nm範圍之波長。
  9. 如申請專利範圍第1項之方法，其中光化輻射之該第二來源係選自於包含碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單位及照相泛光燈之可見光及UV光源。
  10. 如申請專利範圍第1項之方法，其中光化輻射之該第二來源係發射一介於大約250nm至大約450nm範圍之波長。
  11. 如申請專利範圍第8項之方法，其中光化輻射之該第二來源係被衰減，其中該至少一光固化層係吸收80%至99%之由光化輻射之該第二來源所發射之光化輻射。
  12. 如申請專利範圍第11項之方法，其中光化輻射之該第二來源係由一種選自於由下列所構成之群組之方法所衰減：在光化輻射之該第二來源與該背板層間放置一擋板、在光化輻射之該第二來源與該背板層間放置一過濾板、使用發射一較低效率UV波長之光化輻 射之一第二來源、使用一吸收由光化輻射之該第二來源所發射之該光化輻射之一部分之背板層以及上述一項或多項之組合。
  13. 如申請專利範圍第12項之方法，其中光化輻射之該第二來源係藉由在光化輻射之該第二來源與該背板層間放置一擋板而衰減。
  14. 如申請專利範圍第12項之方法，其中光化輻射之該第二來源係藉由在光化輻射之該第二來源與該背板層間放置一過濾板而衰減。
  15. 如申請專利範圍第12項之方法，其中光化輻射之該第二來源係一較低效率之UV波長。
  16. 如申請專利範圍第12項之方法，其中光化輻射之該第二來源係藉由使用一吸收由光化輻射之該第二來源所發射之該光化輻射之一部分之背板層而衰減。
  17. 如申請專利範圍第16項之方法，其中該背板層包含聚萘二甲酸乙二醇酯或摻雜聚萘二甲酸乙二醇酯。
  18. 如申請專利範圍第1項之方法，其中光化輻射之該第一來源和光化輻射之該第二來源係發射出實質上相同之波長。
  19. 如申請專利範圍第1項之方法，其中光化輻射之該第一來源和光化輻射之該第二來源係發射出不同之波長。
  20. 如申請專利範圍第2項之方法，其中該氧阻障層包含一種選自於由下列所構成之群組之材料：聚酰胺、聚乙烯醇、羥烷基纖維素、乙烯和醋酸乙烯酯的共聚 物、兩性互聚物、醋酸丁酸纖維素、烷基纖維素、丁醛、環橡膠、聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚酯纖維和以上一項或各項之組合。
  21. 如申請專利範圍第20項之方法，其中該氧阻障層具有一小於6.9×10-9 m2 /sec之氧擴散係數。
  22. 如申請專利範圍第20項之方法，其中該氧阻障層具有一介於大約5μm至大約300μm範圍之厚度。
  23. 如申請專利範圍第20項之方法，其中該氧阻障層具有一至少約50%之光學透明度。
  24. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該光敏印刷空白板通過該形成積層之步驟和該曝光單元之輸送速度係介於每分鐘0.5呎至5.0呎之間。
  25. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該光敏印刷空白板係曝露於來自光化輻射之該第一來源且經過該原位負片和該氧阻障層之光化輻射且曝露時間係介於大約1分鐘至20分鐘之間。
  26. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該光敏印刷空白板係曝露於來自光化輻射之該第二來源且經過該背板層之光化輻射且曝露時間係介於大約1分鐘至5分鐘之間。
  27. 一種用於在一印刷板製造系統中將一光敏印刷空白板曝露於光化輻射之曝光設備，其中該光敏印刷空白板包含一背板層、至少一設置在該背板層上之光固化層及一設置在該至少一光固化層上之雷射燒蝕遮罩 層，其中該雷射燒蝕遮罩層係以雷射燒蝕以在該雷射燒蝕遮罩層中產生一原位負片，該曝光設備包含：a)一積層設備，係用於將一氧阻障層積層於該雷射燒蝕遮罩層之一頂端；b)一輸送機，係用於輸送該光敏印刷空白板通過該曝光設備；c)一第一曝光裝置，係用於將該至少一光固化層曝露於來自該第一曝光裝置且通過該雷射燒蝕遮罩層和該氧阻障層之光化輻射，以選擇性地將該至少一光固化層沒有被該遮罩層所覆蓋之部分加以交聯和固化；及d)一第二曝光裝置，係用於將該至少一光固化層曝露於來自該第二曝光裝置且通過該背板層之光化輻射，以在該光固化層中產生一交聯底板層，其中該第一曝光裝置和該第二曝光裝置係實質上同時運作。
  28. 如申請專利範圍第27項之曝光設備，其中該第一曝光裝置係選自於包含碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單位及照相泛光燈之可見光及UV光源。
  29. 如申請專利範圍第27項之曝光設備，其中該第二曝光裝置係選自於包含碳弧、汞蒸氣弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單位及照相泛光燈之可見光及UV光源。
  30. 如申請專利範圍第27項之曝光設備，進一步包含一用於該第二曝光裝置之衰減機構，藉此來自該第二曝光裝置之該光化輻射之一強度係被降低。
  31. 如申請專利範圍第30項之曝光設備，其中該衰減機構包含一擋板。
  32. 如申請專利範圍第30項之曝光設備，其中該衰減機構包含一過濾板。
  33. 如申請專利範圍第27項之曝光設備，其中該積層設備包含：a.一加熱積層滾輪和一第二滾輪，其中該加熱積層滾輪和該第二滾輪係相對安置且在該二者之間形成一夾鉗部用於接收將被積層之該光敏印刷空白板；b.一用於轉動該加熱積層滾輪和該第二滾輪之驅動機構，其中該加熱積層滾輪係於一第一方向被轉動且該第二滾輪係於一相反方向被轉動，以推進該光敏印刷空白板通過形成於該加熱積層滾輪和該第二滾輪間之該夾鉗部；及c.一供應滾輪，係適於支撐一捲氧阻障層且供應該氧阻障層越過該加熱積層滾輪之一外表面進入形成於該加熱積層滾輪和該第二滾輪間之該夾鉗部，其中該氧阻障層係可接觸於該光敏印刷空白板之一頂表面之一點，該光敏印刷空白板係於該點通過該夾鉗部而前進。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8871431B2 (en) * 2011-08-08 2014-10-28 Timothy Gotsick Laminated flexographic printing sleeves and methods of making the same
US9266318B2 (en) * 2013-05-01 2016-02-23 Nike, Inc. Printing system with retractable screen assembly
DK3052988T3 (en) * 2013-09-30 2017-10-30 Flint Group Germany Gmbh Device and method for in-line production of flexo printing plates
CN103676500B (zh) * 2013-12-31 2016-08-17 四川聚能核技术工程有限公司 全自动曝光机
US9256129B2 (en) * 2014-02-19 2016-02-09 Macdermid Printing Solutions, Llc Method for creating surface texture on flexographic printing elements
US10691021B2 (en) 2014-08-28 2020-06-23 Flint Group Germany Gmbh Apparatus and method for producing flexographic printing plates
US10173412B2 (en) * 2015-05-20 2019-01-08 Sasu Vianord Engineering Apparatus and method for the photo-polymerization of flexographic printing sheets
CN107430346B (zh) * 2015-10-26 2021-11-09 埃斯科绘图成像有限责任公司 用于弹性印刷板的受控曝光的系统和方法
US10732507B2 (en) 2015-10-26 2020-08-04 Esko-Graphics Imaging Gmbh Process and apparatus for controlled exposure of flexographic printing plates and adjusting the floor thereof
US20170176856A1 (en) * 2015-12-21 2017-06-22 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Negative-working photoresist compositions for laser ablation and use thereof
US9925757B2 (en) * 2016-02-10 2018-03-27 Macdermid Graphics Solutions, Llc Customizable printing plates and method of making the same
US10429736B2 (en) * 2017-04-27 2019-10-01 Macdermid Graphics Solutions Llc Method of making a flexographic printing plate
US10457082B2 (en) * 2017-05-09 2019-10-29 Macdermid Graphics Solutions, Llc Flexographic printing plate with improved storage stability
US11203224B2 (en) * 2018-08-30 2021-12-21 Interface, Inc. Digital printing for flooring and decorative structures
WO2020245393A1 (en) * 2019-06-05 2020-12-10 Eski-Graphics Imaging Gmbh Systems and methods for combined radiation and functional layer application
CN112415861A (zh) * 2020-11-03 2021-02-26 江苏迪盛智能科技有限公司 一种曝光方法及系统

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200704515A (en) * 2005-03-09 2007-02-01 Konica Minolta Opto Inc Anti-glare film, manufacturing method of anti-glare film, anti-glaring anti-reflection film, polarizing plate, and display
JP2007534012A (ja) * 2004-04-10 2007-11-22 イーストマン コダック カンパニー レリーフ画像の製造方法
US20090000735A1 (en) * 2007-06-28 2009-01-01 Zwadlo Gregory L Lamination device method for flexographic plate manufacturing

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE627652A (zh) 1962-01-29
CA1099435A (en) 1971-04-01 1981-04-14 Gwendyline Y. Y. T. Chen Photosensitive block copolymer composition and elements
US4323636A (en) 1971-04-01 1982-04-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive block copolymer composition and elements
US3867153A (en) 1972-09-11 1975-02-18 Du Pont Photohardenable element
DE2942183A1 (de) 1979-10-18 1981-05-07 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
US4264705A (en) 1979-12-26 1981-04-28 Uniroyal, Inc. Multilayered elastomeric printing plate
US4423135A (en) 1981-01-28 1983-12-27 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Preparation of photosensitive block copolymer elements
US4522497A (en) 1981-06-17 1985-06-11 Ciba Geigy Ag Web scanning apparatus
US4427759A (en) 1982-01-21 1984-01-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate
US4622088A (en) 1984-12-18 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer
DE4004512A1 (de) 1990-02-14 1991-08-22 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von photopolymerplatten
NZ237919A (en) * 1990-04-26 1994-09-27 Grace W R & Co Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates
US5215859A (en) 1990-07-26 1993-06-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Backside ionizing irradiation in a flexographic printing plate process
US5223375A (en) 1991-07-15 1993-06-29 W. R. Grace & Co.-Conn. Flexographic printing plate comprising photosensitive elastomer polymer composition
US5262275A (en) 1992-08-07 1993-11-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate
US5719009A (en) 1992-08-07 1998-02-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser ablatable photosensitive elements utilized to make flexographic printing plates
DE4339010C2 (de) 1993-06-25 2000-05-18 Pt Sub Inc Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten
JP3423077B2 (ja) 1993-08-25 2003-07-07 ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット 版面の製造方法
US5669048A (en) 1994-12-12 1997-09-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device having a movable light-attenuating filter for controlling an amount of exposure light and exposure method thereof
EP0720058B1 (en) * 1994-12-27 2000-07-05 Agfa-Gevaert N.V. Method for the formation of an improved photomode image
US6238837B1 (en) 1995-05-01 2001-05-29 E.I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic element having an infrared ablatable layer
JP3950241B2 (ja) 1997-10-17 2007-07-25 三菱重工業株式会社 樹脂組成物、樹脂硬化物、及び構造物の補修方法、補強方法、補修用材料、補強用材料
US6106139A (en) 1997-10-30 2000-08-22 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and semiconductor device manufacturing method
US6262825B1 (en) 1999-08-24 2001-07-17 Napp Systems, Inc. Apparatus and method for the enhanced imagewise exposure of a photosensitive material
US6413699B1 (en) * 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
JP3769171B2 (ja) 2000-05-17 2006-04-19 東京応化工業株式会社 フレキソ印刷版製造用多層感光材料
US6893796B2 (en) 2002-08-20 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Flexographic element having an integral thermally bleachable mask layer
JP2005280123A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法及び画像形成装置
US20090191482A1 (en) * 2008-01-30 2009-07-30 E.I. Du Pont De Nemours And Company Device and method for preparing relief printing form
US8153347B2 (en) * 2008-12-04 2012-04-10 Eastman Kodak Company Flexographic element and method of imaging
JP5623018B2 (ja) * 2009-01-30 2014-11-12 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーＥ．Ｉ．Ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ Ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ 凸版印刷フォームを作製するための装置および方法
US9720326B2 (en) 2009-10-01 2017-08-01 David A. Recchia Method of improving print performance in flexographic printing plates
US8158331B2 (en) 2009-10-01 2012-04-17 Recchia David A Method of improving print performance in flexographic printing plates
JP2011107654A (ja) * 2009-11-20 2011-06-02 Nippon Denshi Seiki Kk 高解像度フレキソ印刷版の製造方法及びこの方法で得られたフレキソ印刷版
US8492074B2 (en) 2011-01-05 2013-07-23 Laurie A. Bryant Method of improving print performance in flexographic printing plates
US8652761B2 (en) 2011-02-18 2014-02-18 David A. Recchia Photosensitive resin laminate and thermal processing of the same
US8697337B2 (en) 2012-01-23 2014-04-15 Albert G. Roshelli, JR. Laminating apparatus and method of using the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007534012A (ja) * 2004-04-10 2007-11-22 イーストマン コダック カンパニー レリーフ画像の製造方法
TW200704515A (en) * 2005-03-09 2007-02-01 Konica Minolta Opto Inc Anti-glare film, manufacturing method of anti-glare film, anti-glaring anti-reflection film, polarizing plate, and display
US20090000735A1 (en) * 2007-06-28 2009-01-01 Zwadlo Gregory L Lamination device method for flexographic plate manufacturing

Also Published As

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