ES2339165T3 - Monomeros y polimeros de carboxilatos poliorganosililados y proceso para la preparacion de los mismos. - Google Patents
Monomeros y polimeros de carboxilatos poliorganosililados y proceso para la preparacion de los mismos. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2339165T3 ES2339165T3 ES07004596T ES07004596T ES2339165T3 ES 2339165 T3 ES2339165 T3 ES 2339165T3 ES 07004596 T ES07004596 T ES 07004596T ES 07004596 T ES07004596 T ES 07004596T ES 2339165 T3 ES2339165 T3 ES 2339165T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- polyorganosilylated
- polymers
- alkyl
- cyclotetrasiloxane
- monomers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 61
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 title claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 41
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 18
- -1 aquinyl Chemical group 0.000 claims description 57
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052736 halogen Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 9
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octakis-phenyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FOHNTMRACRPKES-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8-heptamethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentaoxapentasilecane Chemical class C[SiH]1O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 FOHNTMRACRPKES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KMPBCFZCRNKXSA-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound CC[Si]1(CC)O[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)O1 KMPBCFZCRNKXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VGWXDPBVNZWQKG-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentaoxapentasilecane Chemical class C[Si]1(C)O[SiH2]O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 VGWXDPBVNZWQKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SKYKARIMXZGKOD-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6-pentamethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical class C[SiH]1O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 SKYKARIMXZGKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FXIGKFDLDUQCFQ-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6-pentamethyl-1,3,5,7,9,11-hexaoxa-2,4,6,8,10,12-hexasilacyclododecane Chemical class C[SiH]1O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 FXIGKFDLDUQCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VFHGXMGRSHULBH-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4-tetramethyl-1,3,5,7,9,11-hexaoxa-2,4,6,8,10,12-hexasilacyclododecane Chemical class C[Si]1(C)O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[Si](C)(C)O1 VFHGXMGRSHULBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WMLKWSDCQRRCAA-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4-tetramethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentaoxapentasilecane Chemical class C[Si]1(C)O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[Si](C)(C)O1 WMLKWSDCQRRCAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGLJYEKNUTVPAE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triethyl-2,4,6-trimethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound CC[Si]1(C)O[Si](C)(CC)O[Si](C)(CC)O1 DGLJYEKNUTVPAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QRHXSUHCDGHLPU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethyl-2,4,6-tripropyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound CCC[Si]1(C)O[Si](C)(CCC)O[Si](C)(CCC)O1 QRHXSUHCDGHLPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BVTLTBONLZSBJC-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(ethenyl)-2,4,6-trimethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 BVTLTBONLZSBJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HAURRGANAANPSQ-UHFFFAOYSA-N cis-2,4,6-Trimethyl-2,4,6-triphenylcyclotrisiloxane Chemical compound O1[Si](C)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C)C1=CC=CC=C1 HAURRGANAANPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 3
- ANZPUCVQARFCDW-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical class C[Si]1(C)O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 ANZPUCVQARFCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZAKUVHZFBNPFNP-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6-pentamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical class C[SiH]1O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 ZAKUVHZFBNPFNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- SVFSMZHXBVWOJV-UHFFFAOYSA-N silyloxysilyloxysilyloxysilyl prop-2-enoate Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]OC(=O)C=C SVFSMZHXBVWOJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- MYEXCHICORPLLN-UHFFFAOYSA-N silyloxysilyloxysilyloxysilyloxysilyl prop-2-enoate Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]OC(=O)C=C MYEXCHICORPLLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- AVFGQUFKRNPQHS-UHFFFAOYSA-N silyloxysilyloxysilyloxysilyloxysilyloxysilyl prop-2-enoate Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]OC(=O)C=C AVFGQUFKRNPQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 7
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- PGQNYIRJCLTTOJ-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)O[Si](C)(C)C PGQNYIRJCLTTOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 6
- UUEVFMOUBSLVJW-UHFFFAOYSA-N oxo-[[1-[2-[2-[2-[4-(oxoazaniumylmethylidene)pyridin-1-yl]ethoxy]ethoxy]ethyl]pyridin-4-ylidene]methyl]azanium;dibromide Chemical compound [Br-].[Br-].C1=CC(=C[NH+]=O)C=CN1CCOCCOCCN1C=CC(=C[NH+]=O)C=C1 UUEVFMOUBSLVJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000002306 tributylsilyl group Chemical group C(CCC)[Si](CCCC)(CCCC)* 0.000 description 3
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- UHZZMRAGKVHANO-UHFFFAOYSA-M chlormequat chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCCl UHZZMRAGKVHANO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004419 dimethyl fumarate Drugs 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- WIJVUKXVPNVPAQ-UHFFFAOYSA-N silyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CC(=C)C(=O)O[SiH3] WIJVUKXVPNVPAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- HVMNIRCQQXUXRP-UHFFFAOYSA-N triphenylsilyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OC(=O)C=C)C1=CC=CC=C1 HVMNIRCQQXUXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- GUPKOHXYGFDRTA-UHFFFAOYSA-N (19-methyl-18-propan-2-ylicosyl)silyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)O[SiH2]CCCCCCCCCCCCCCCCCC(C(C)C)C(C)C GUPKOHXYGFDRTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOFGUJVLYGISIU-AATRIKPKSA-N (e)-4-oxo-4-pentoxybut-2-enoic acid Chemical compound CCCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O BOFGUJVLYGISIU-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVHZEKKZMFRULH-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=NC(C(C)(C)C)=C1 HVHZEKKZMFRULH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTRQFVAKGZFBRT-UHFFFAOYSA-N 2-(3,3,3-trifluoropropyl)-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound FC(F)(F)CC[SiH]1O[SiH2]O[SiH2]O1 QTRQFVAKGZFBRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006029 2-methyl-2-butenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- GDSFIRXLDDSTRV-UHFFFAOYSA-N 2-octyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C(CCCCCCC)[SiH]1O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O1 GDSFIRXLDDSTRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical group NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- RGUKYNXWOWSRET-UHFFFAOYSA-N 4-pyrrolidin-1-ylpyridine Chemical compound C1CCCN1C1=CC=NC=C1 RGUKYNXWOWSRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000923234 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) L-asparaginase 1 Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- IAPNEIWYIUTSEY-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(octyl)silyl] prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(C)OC(=O)C=C IAPNEIWYIUTSEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBQOMQSTGSTBSO-UHFFFAOYSA-N [ethyl(dimethyl)silyl] prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](C)(C)OC(=O)C=C XBQOMQSTGSTBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- IYEWOPPVIQNFQO-UHFFFAOYSA-N bis(trimethylsilyl) 2-methylidenebutanedioate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=O)CC(=C)C(=O)O[Si](C)(C)C IYEWOPPVIQNFQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002451 electron ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000004030 farnesyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011953 free-radical catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 125000002350 geranyl group Chemical group [H]C([*])([H])/C([H])=C(C([H])([H])[H])/C([H])([H])C([H])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002686 geranylgeranyl group Chemical group [H]C([*])([H])/C([H])=C(C([H])([H])[H])/C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C(C([H])([H])[H])/C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C(C([H])([H])[H])/C([H])([H])C([H])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000010915 one-step procedure Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006294 polydialkylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N silyl prop-2-enoate Chemical compound [SiH3]OC(=O)C=C GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000003797 telogen phase Effects 0.000 description 1
- 210000003411 telomere Anatomy 0.000 description 1
- 102000055501 telomere Human genes 0.000 description 1
- 108091035539 telomere Proteins 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N tributyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)CCCC PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWVJTRQTFFVDEU-UHFFFAOYSA-N triethylsilyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC(=O)C(C)=C PWVJTRQTFFVDEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OTYBJBJYBGWBHB-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=O)C=C OTYBJBJYBGWBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0874—Reactions involving a bond of the Si-O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F30/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F30/04—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
- C08F30/08—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
Monómeros de carboxilatos poliorganosililados de fórmula (I): **(Ver fórmula)** o sus polímeros, en la que: R1, R2, R3, R4 y R5 representan cada uno independientemente hidrógeno, un radical alquilo, alquenilo, aquinilo, alquiloxi, arilo, aralquilo o halógeno opcionalmente sustituido con uno o más sustituyentes independientemente seleccionados entre el grupo que comprende radicales alquilo, aralquilo, arilo, hidroxi, halógeno, amino o amino-alquilo, R6 representa hidrógeno, un radical alquilo o -CH2-CO2-SiR1R2R3, R7 representa hidrógeno, un radical alquilo o -COOR9, en donde R9 representa un grupo alquilo, R8 representa hidrógeno, un radical alquilo o -CH2-CO2-(SiR4R5O)n-SiR1R2R3, y n representa un número de unidades dihidrocarbilsiloxano de 3 a 20.
Description
Monómeros y polímeros de carboxilatos
poliorganosililados y proceso para la preparación de los mismos.
La invención se refiere a un método mejorado
para la preparación de monómeros o polímeros de carboxilatos
poliorganosililados. La invención se refiere adicionalmente a dichos
monómeros o polímeros de carboxilatos poliorganosililados y, en
otro aspecto, la invención se refiere a su uso para la síntesis de
polímeros hidrolizables, como aglutinantes para revestimientos
anti-suciedad modernos.
Las pinturas anti-suciedad son
usadas en general para evitar y retrasar la suciedad de estructuras
sumergidas (por ejemplo, carenas de barcos, muelles, redes para
pescar y boyas) provocada por diversos organismos marinos como
conchas, algas y bacterias acuáticas. Cuando estos organismos
acuáticos se adhieren y propagan en una estructura sumergida como
carena de un barco, la rugosidad superficial de todo el barco puede
ser aumentada hasta inducir una disminución de la velocidad del
barco y, posteriormente, un aumento del consumo de combustible. La
supresión de estos organismos acuáticos de la carena del barco
requiere mucha mano de obra y un largo período de tiempo de
trabajo. Además, si estos organismos acuáticos se adhieren y
propagan en una estructura sumergida como una estructura de acero,
deterioran sus películas de revestimientos anticorrosivos,
conduciendo a una reducción del tiempo de vida de la estructura
sumergida.
Por lo tanto, las estructuras sumergidas están
revestidas preferentemente con una pintura
anti-suciedad que emplea polímeros que contienen
diversos grupos hidrolizables y, más específicamente, grupos
organosililo. Son conocidas diversas pinturas
anti-suciedad.
El documento EP 0297505, por ejemplo, se refiere
a una pintura anti-suciedad que contiene un polímero
que tiene grupos organosililo y/o grupos
organo-polisiloxano en cadenas laterales. Como el
grupo organo-polisiloxano deriva de la
deshidratación, condensación o medios similares de aceite de silicio
con ácido metacrílico, este documento se refiere a una mezcla de
oligómeros que tiene números diferentes de la aparición del grupo
organosiloxano.
Los documentos WO 84/02915 y JP 63215780
describen una pintura anti-suciedad del tipo
auto-pulido hidrolizable que emplea un polímero de
éster metacrílico que tiene un grupo triorganosililo en cadenas
laterales o un polímero similar. Otros ejemplos relacionados con el
uso de polímeros de acrilato de organosililo en composiciones
anti-suciedad son los documentos EP 1127902, EP
1127925, JP 63118381, WO 96/38508, EP 0802243, EP 0714957, JP
07018216, JP 01132668, JP 01146969 y patente US 4.957.989,
incorporados como referencia a la presente memoria descriptiva.
Los polímeros usados en las pinturas
anti-suciedad anteriormente descritos están basados
en monómeros de carboxilatos sililados.
Son conocidos diversos procesos como técnicas
convencionales para la síntesis de dichos monómeros de carboxilatos
sililados.
El documento JP 5306290, por ejemplo, describe
un proceso para obtener un compuesto de organosilicio que contiene
un grupo funcional metacrílico. El proceso comprende hacer
reaccionar ácido metacrílico con un halogenoalquilsilano, por
ejemplo, cloruro de trialquilsililo en presencia de un compuesto de
amina terciaria que tiene una estructura cíclica. Este proceso
tiene desventajas como la disponibilidad reducida y la estabilidad
en almacenamiento del cloruro de sililo. Además de ello, la
reacción produce como subproducto un haluro de hidrógeno, que
provoca la corrosión de la instalación de producción, o una sal de
haluro, que tiene que se separada por filtración
La síntesis de metacrilato de trimetilsililo a
partir de ácido metacrílico y cloruro de trimetilsililo es expuesta
por Fedotov y otros, Zh. Prikl. Khim. (1971), 44(3), 695. La
síntesis de metacrilato de trimetilsililo a partir de ácido
metacrílico y hexametildisilazano es descrita por A. Chapman y A.D.
Jenkins, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Edn., vol. 15, pág. 3075
(1977). Este método tiene la desventaja de producir amoníaco.
El documento JP 10195084 describe la reacción de
un ácido carboxílico insaturado como ácido acrílico o ácido
metacrílico con un compuesto de hidruro de trialquilsililo en
presencia de un catalizador de cobre. Una de las desventajas de
este método es el riesgo de hidrogenación del ácido carboxílico
insaturado debido a la reacción secundaria del H_{2} producido en
el enlace doble carbono-carbono.
La patente de EE.UU. nº 6.063.887 describe
1-aciloxo-organotetrasiloxano
obtenido mediante la reacción de hexametilciclotrisiloxano con
aciloxisilano.
Un objeto de la presente invención es
proporcionar un nuevo proceso capaz de preparar fácilmente monómeros
de carboxilatos poliorganosililados o sus polímeros con un
rendimiento elevado a partir de materiales de partida fácilmente
disponibles.
Otro objeto de la presente invención es
proporcionar un método más directo para la síntesis de estos
monómeros de carboxilatos poliorganosililados o sus polímeros, con
procedimientos de tratamiento sencillos.
Un objeto adicional de la presente invención es
proporcionar un nuevo proceso que ofrezca una mejora respecto a las
desventajas anteriormente expuestas.
\vskip1.000000\baselineskip
La presente invención se refiere a un proceso
para la preparación de monómeros de carboxilatos poliorganosililados
de fórmula general (I) o sus polímeros, que comprende las etapas de
hacer reaccionar un ciclosiloxano de fórmula
(R^{4}R^{5}SiO)_{n} con un carboxilato organosililado
insaturado de fórmula (II) o un copolímero o polímero del mismo
bajo la presencia de un catalizador adecuado, en la que R^{1},
R^{2}, R^{3}, R^{4} y R^{5} representan cada uno
independientemente hidrógeno, un radical alquilo, alquenilo,
aquinilo, alquiloxi, arilo, aralquilo o halógeno opcionalmente
sustituido con uno o más sustituyentes independientemente
seleccionados entre el grupo que comprende radicales alquilo,
aralquilo, arilo, hidroxi, halógeno, amino o
amino-alquilo, R^{6} representa hidrógeno, un
radical alquilo o
-CH_{2}-CO_{2}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
R^{7} representa hidrógeno, un radical alquilo o -COOR^{9}, en
donde R^{9} representa un grupo alquilo, R^{8} representa
hidrógeno, un radical alquilo o
-CH_{2}-CO_{2}-(SiR^{4}R^{5}O)_{n}-SiR^{1}R^{2}R^{3}
y n representa un número de unidades dihidrocarbilsiloxano de 3 a
20.
\vskip1.000000\baselineskip
Según una realización de la presente invención,
R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4}, R^{5}, R^{6} y R^{9} se
seleccionan cada uno independientemente entre el grupo que comprende
metilo, etilo, propilo, isopropilo, isobutilo,
n-butilo, sec-butilo o
t-butilo. Preferentemente, R^{1}, R^{2},
R^{3}, R^{4}, R^{5}, R^{6} y R^{9} son metilo.
Según otra realización de la presente invención,
n representa un número de unidades dihodrocarbilsiloxano de 3 a 12,
preferentemente de 3 a 8, más preferentemente de 3 a 6. En una
realización preferida, n es 3.
Se encontró sorprendentemente que haciendo
reaccionar ciclosiloxano con monómeros de carboxilatos
organosililados insaturados, polímeros o copolímeros de los mismos,
se podían sintetizar carboxilatos poliorganosililados, cuando es
conocido que los carboxilatos organosililados insaturados no son
compuestos muy reactivos y que se polimerizan fácilmente.
\vskip1.000000\baselineskip
La presente invención se refiere a un nuevo
proceso para la síntesis de monómeros de carboxilatos
poliorganosililados de fórmula general (I) o sus polímeros, en el
que un ciclosiloxano de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} se
hace reaccionar con un carboxilato organosililado insaturado de
fórmula (II) o sus copolímeros o polímeros bajo la presencia de un
catalizador adecuado, en la que R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4},
R^{5}, R^{6}, R^{7}, R^{8} y R^{9} tienen el mismo
significado que se definió anteriormente.
\vskip1.000000\baselineskip
El proceso de la invención tiene la ventaja de
producir monómeros o polímeros de carboxilatos poliorganosililados
exactamente con el número deseado de unidades de
dihidrocarbilsiloxano.
El proceso según la invención se caracteriza por
una telomerización específica. Se encontró sorprendentemente que la
telomerización de ciclosiloxano se podría realizar con un
carboxilato organosililado insaturado, que son compuestos no muy
reactivos y se conoce que se polimerizan fácilmente.
El término "telomerización", como se usa en
la presente memoria descriptiva, se refiere a un proceso que produce
monómeros de bajo peso molecular que consisten en una cadena con un
número limitado de unidades, terminadas en cada extremo con un
radical de un compuesto diferente (el telogen). Véase el Oxford
English Dictionary, 2ª ed., Clarendon, Oxford, 1989. La reacción de
telomerización tiene lugar como una reacción de polimerización
entre dos sustancias que proporcionan, respectivamente, los grupos
terminales y enlaces internos de la molécula telómera
resultante.
Como se usa en la presente memoria descriptiva,
el término "polímero" se refiere al producto de una reacción
de polimerización, e incluye homopolímeros, copolímeros,
terpolímeros, etc.
Como se usa en la presente memoria descriptiva,
el término "copolímero" se refiere a polímeros formados
mediante la reacción de polimerización de al menos dos monómeros
diferentes.
Como se usa en la presente memoria descriptiva,
la expresión "se selecciona independientemente" indica que
cada radical R así descrito puede ser igual o diferente. Por
ejemplo, cada R^{4} en un compuesto de fórmula (I) puede ser
diferente para cada valor de n.
El término "alquilo", como se usa en la
presente memoria descriptiva, se refiere a radicales de
hidrocarburos saturados que tienen restos lineales, ramificados o
cíclicos o sus combinaciones y contiene 1 a 20 átomos de carbono,
preferentemente 1 a 10 átomos de carbono, más preferentemente 1 a 8
átomos de carbono, todavía más preferentemente 1 a 6 átomos de
carbono, todavía más preferentemente 1 a 4 átomos de carbono.
Ejemplos de estos radicales incluyen metilo, etilo,
n-propilo, isopropilo, n-butilo,
isobutilo, sec-butilo, terc-butilo,
2-metilbutilo, pentilo, iso-amilo,
hexilo, ciclohexilo, 3-metilpentilo, octilo y
similares.
El término "alquenilo", como se usa en la
presente memoria descriptiva, se refiere a radicales hidrocarbonados
que tienen uno o varios enlaces dobles, que tienen restos lineales,
ramificados o cíclicos o sus combinaciones y que contienen de 2 a
18 átomos de carbono, preferentemente 2 a 10 átomos de carbono, más
preferentemente de 2 a 8 átomos de carbono, todavía más
preferentemente 2 a 6 átomos de carbono, todavía más preferentemente
2 a 4 átomos de carbono. Ejemplos de grupos alquenilo incluyen
vinilo, alilo, isopropenilo, pentenilo, hexenilo, heptenilo,
ciclopropentilo, ciclobutenilo, ciclopentenilo, ciclohexenilo,
1-propenilo, 2-butenilo,
2-metil-2-butenilo,
isoprenilo, farnesilo, geranilo, geranilgeranilo y similares.
El término "alquinilo", como se usa en la
presente memoria descriptiva, se refiere a radicales hidrocarbonados
que tienen uno o varios enlaces triples, que tienen restos
lineales, ramificados o cíclicos o sus combinaciones y que tienen
de 2 a 18 átomos de carbono, preferentemente 2 a 10 átomos de
carbono, más preferentemente de 2 a 6 átomos de carbono, todavía
más preferentemente 2 a 4 átomos de carbono. Ejemplos de radicales
alquinilo incluyen etinilo, (propinilo), propargilo, butinilo,
pentenilo, hexinilo y similares.
El término "arilo", como se usa en la
presente memoria descriptiva, se refiere a un radical orgánico
derivado de un hidrocarburo aromático mediante la separación de un
átomo de hidrógeno e incluye cualquier anillo carbonado monocíclico
o bicícilo de hasta 7 miembros en cada anillo, en el que al menos un
anillo es aromático. Dicho radical puede estar opcionalmente
sustituido con uno o más sustituyentes independientemente
seleccionados entre radicales alquilo, alcoxi, halógeno, hidroxi o
amino. Ejemplos de arilo incluyen fenilo, p-tolilo,
4-metoxifenilo,
4-(terc-butoxi)fenilo,
3-metil-4-metoxifenilo,
4-fluorofenilo, 4-clorofenilo,
3-nitrofenilo, 3-aminofenilo,
3-acetamidofenilo,
4-acetamidofenilo,
2-metil-3-acetamidofenilo,
2-metil-3-acetamidofenilo,
2-metil-3-aminofenilo,
3-metil-4-aminofenilo,
2-amino-3-metilfenilo,
2,4-dimetil-3-aminofenilo,
4-hidroxifenilo,
3-metil-4-hidroxifenilo,
1-naftilo, 2-naftilo,
3-amino-1-nafitlo,
2-metil-3-amino-1-naftilo,
6-amino-2-naftilo,
4,6-dimetoxi-2,naftilo,
tetrahidronaftilo, indanilo, bifenilo, fenantrilo, antrilo o
acenaftilo y similares.
El término "aralquilo", como se usa en la
presente memoria descriptiva, se refiere a un grupo de fórmula
alquil-arilo, en el que alquilo y arilo tienen el
mismo significado anteriormente definido. Ejemplos de radicales
aralquilo incluyen bencilo, fenetilo, dibencilmetilo,
metilfenilmetilo,
3-(2-naftil)-butilo y similares.
El proceso según la invención consiste en
someter un ciclosiloxano de fórmula (R_{4}R_{5}SiO)_{n}
a una reacción abertura del anillo con un carboxilato
organosililado insaturado de fórmula (II) o un copolímero o un
polímero del mismo, en presencia de un catalizador adecuado y con o
sin disolvente. La reacción se ajusta preferentemente de forma que
cada mol de ciclosiloxano es tratado con al menos un mol de
carboxilato organosililado insaturado de fórmula (II) o con un
copolímero o un polímero de dicho carboxilato.
La reacción puede ser realizada con o sin
disolventes. Los disolventes adecuados que pueden ser usados en el
proceso según la invención son disolventes inertes no polares como,
por ejemplo, benceno, tolueno, xileno, mesitileno o etilbenceno,
hidrocarburos alifáticos, normalmente pentano, hexano, ciclohexano,
heptano, octano, decano o decahidronaftaleno, éteres no cíclicos,
normalmente dietil-éter, diisopropil-éter, diisopropil-éter o
diisobutil-éter, o sus mezclas. En una realización preferida, dicho
disolvente es tolueno.
Ejemplos de los ciclosiloxanos que pueden ser
empleados en el presente proceso se describen en la "Encyclopedia
of Polymer Science and Engineering", Mark y otros, eds., 2ª ed.,
John Wiley & Sons (1989), vol. 15, pág. 207 y siguientes, cuyo
contenido se incorpora como referencia a la presente memoria
descriptiva.
Ejemplos de ciclosiloxanos adecuados de fórmula
(R_{4}R_{5}SiO)_{n} para ser usados en el proceso según
la invención incluyen, pero sin limitación,
1,1,3,3,5,5-hexametil-ciclotrisiloxano
(D3),
1,1,3,3,5,5-hexaetil-ciclotrisiloxano,
1,1,3,3,5,5-hexafenil-ciclotrisiloxano,
1,1,3,3,5,5-hexavinil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-trivinil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-trifenil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-tripropil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trietil-1,3,5-trimetil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-trifenetil-ciclosiloxano,
1,3,5-triviniltrihidro-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetiltrihidro-ciclotrisiloxano,
pentametil-ciclotrisiloxanos,
1,3,5-trimetil-1,3,5-tris(3',3',3'-trifluoropropil)-ciclotrisiloxano
(F3), 1,1,3,3,5,5,7,7-octametil-ciclotetrasiloxano (D4), 1,1,3,3,5,5,7,7-octafenil-ciclotetrasiloxano, 1,1,3,3,5,5,7,7-octavinil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetra(1-octil)-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetrametil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetraetil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetrafenil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetra(1-hexadecil)-1,3,5,7-tetrametil-ci-
clotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraoctiltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraviniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraetiltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrapropeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrapenteniltetrapentil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrafeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, pentametil-ciclotetrasiloxanos, hexametil-ciclotetrasiloxanos, 1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetrakis(3',3',3'-trifluoropropil)-ciclotetrasiloxano (F4) 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decametil-ciclopentasiloxano (D5), 1,3,5,7,9-pentavinil-1,3,5,7,9-pentametil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentadecenil-1,3,5,7,9-pentapropil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentametilpentahidro-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentavinilpentahidro-ciclopentasiloxano, tetrametil-ciclopentasiloxanos, hexametil-ciclopentasiloxanos, heptametil-ciclopentasiloxanos, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecametil-ciclohexasiloxano (D6), 1,3,5,7,9,11-hexavinilhexametil-ciclohexasiloxano, 1,3,5,7,9,11-hexametilhexahidro-ciclohexasiloxano, tetrametil-ciclohexasiloxanos, pentametil-ciclohexasiloxanos, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19-decavinildecahidro-ciclodecasiloxano, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23,25,27,29-
pentadecavinilpentadecahidro-ciclopentadecasiloxano y similares.
(F3), 1,1,3,3,5,5,7,7-octametil-ciclotetrasiloxano (D4), 1,1,3,3,5,5,7,7-octafenil-ciclotetrasiloxano, 1,1,3,3,5,5,7,7-octavinil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetra(1-octil)-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetrametil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetraetil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetrafenil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetra(1-hexadecil)-1,3,5,7-tetrametil-ci-
clotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraoctiltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraviniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraetiltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrapropeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrapenteniltetrapentil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrafeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, pentametil-ciclotetrasiloxanos, hexametil-ciclotetrasiloxanos, 1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetrakis(3',3',3'-trifluoropropil)-ciclotetrasiloxano (F4) 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decametil-ciclopentasiloxano (D5), 1,3,5,7,9-pentavinil-1,3,5,7,9-pentametil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentadecenil-1,3,5,7,9-pentapropil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentametilpentahidro-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentavinilpentahidro-ciclopentasiloxano, tetrametil-ciclopentasiloxanos, hexametil-ciclopentasiloxanos, heptametil-ciclopentasiloxanos, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecametil-ciclohexasiloxano (D6), 1,3,5,7,9,11-hexavinilhexametil-ciclohexasiloxano, 1,3,5,7,9,11-hexametilhexahidro-ciclohexasiloxano, tetrametil-ciclohexasiloxanos, pentametil-ciclohexasiloxanos, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19-decavinildecahidro-ciclodecasiloxano, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23,25,27,29-
pentadecavinilpentadecahidro-ciclopentadecasiloxano y similares.
En una realización preferida, dicho
ciclosiloxano de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} se
selecciona entre el grupo que comprende
1,1,3,3,5,5-hexametil-ciclotrisiloxano
(D3),
1,1,3,3,5,5,7,7-octametil-ciclotetrasiloxano
(D4),
1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decametil-ciclopentasiloxano
(D5),
1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecametil-ciclohexasiloxano
(D6). Más preferente-
mente, dicho ciclosiloxano de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} es 1,1,3,3,5,5-hexametil-ciclotrisiloxano (D3).
mente, dicho ciclosiloxano de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} es 1,1,3,3,5,5-hexametil-ciclotrisiloxano (D3).
Ejemplos del carboxilato organosililado
insaturado de fórmula (II) que puede ser usado en el proceso según
la invención incluyen, pero sin limitación, (met)acrilato de
trimetilsililo, (met)acrilato de
tri-t-butilsililo,
(met)acrilato de tribencilsililo, (met)acrilato de
trietilsililo, (met)acrilato de
tri-isopropilsililo, (met)acrilato de
triisobutilsililo, (met)acrilato de
tri-n-amilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-butilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-dodecilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-hexilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-octilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-propilsililo,
(met)acrilato de trifenilsililo, (met)acrilato de
tri-p-metilfenilsililo,
(met)acrilato de dibutilciclohexilsililo,
(met)acrilato de dibutilfenilsililo, (met)acrilato de
diciclohexilfenilsililo, (met)acrilato de
diisopropil-n-butilsililo,
(met)acrilato de diisopropilstearilsililo,
(met)acrilato de dimetilbutilsililo, (met)acrilato de
dimetilciclohexilsililo, (met)acrilato de dimetilhexilsililo,
(met)acrilato de dimetiloctilsililo, (met)acrilato de
dimetilfenilsililo, (met)acrilato de etildibutilsililo,
(met)acrilato de etildimetilsililo, (met)acrilato de
laurildifenilsililo, (met)acrilato de metildibutilsililo,
(met)acrilato de
n-octildi-n-butilsililo,
(met)acrilato de
t-butil-dimetilsililo,
(met)acrilato de t-butildifenilsililo,
itaconato de bis(trimetilsililo),
metil-fumarato de
t-butildifenilsililo, metil-maleato
de t-butildifenilsililo,
n-butil-fumarato de
t-butildifenilsililo,
n-butil-maleato de
t-butildifenilsililo, amil-fumarato
de triisopropilsililo, amil-maleato de
triisopropilsililo, metil-fumarato de
triisopropilsililo, metil-maleato de
triisopropilsililo, n-butil-fumarato
de tri-n-butilsililo,
n-butil-maleato de
tri-n-butilsililo y similares y sus
polímeros o copolímeros, en los que metacrilato o acrilato es
colectivamente referido en la presente memoria descriptiva como
"met(acrilato)".
En una realización preferida, dicho carboxilato
organosililado de fórmula (II) se selecciona entre el grupo que
comprende (met)acrilato trimetilsililo, (met)acrilato
de tri-t-butilsililo,
(met)acrilato de tribencilsililo, (met)acrilato de
trietilsililo, (met)acrilato de
tri-isopropilsililo, (met)acrilato de
triisobutilsililo, (met)acrilato de
tri-n-amilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-butilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-dodecilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-hexilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-octilsililo,
(met)acrilato de
tri-n-propilsililo y
(met)acrilato de trifenilsililo y sus copolímeros o
polímeros. Más preferentemente, cicho carboxilato organosililado de
fórmula (II) es metacrilato de trimetilsililo o un copolímero o
polímero del mismo.
Este proceso puede ser adecuadamente aplicado a
copolímeros o polímeros de carboxilatos organosililados insaturados.
La reacción se realiza de forma que las funciones de carboxilato de
trialquilsililo presentes en el copolímero o polímero sean
selectivamente convertidas en una función poliorganosililo.
Los copolímeros o polímeros de carboxilatos
organosililados insaturados adecuados pueden ser obtenidos usando
procesos conocidos en la técnica mediante polimerización de
monómeros de carboxilatos organosililados insaturados de fórmula
(II) y/o mediante polimerización con otros diversos monómeros como
monómeros vinílicos que incluyen ésteres acrílicos, ésteres
metacrílicos, estireno, ésteres vinílicos (por ejemplo, acetato de
vinilo, propionato de vinilo, butirato de vinilo, benzoato de
vinilo), viniltolueno, alfa-metilestireno, ésteres
crotónicos y ésteres itacónicos. Los polímeros o copolímeros del
carboxilato organosililado insaturado de fórmula (II) pueden ser
preparados mediante la polimerización por adición de los monómeros
apropiados en las proporciones apropiadas en condiciones de
polimerización usando un catalizador de radicales libres como, por
ejemplo, peróxido de benzoilo,
peroxi-2-etil-hexanoato
de terc-butilo (TBPEH), peroxibenzoato de
t-butilo (TBP) o azobisisobutironitrilo. La
reacción se lleva a cabo en un disolvente orgánico como, por
ejemplo, xileno, tolueno, amidas como
N-metilpirrolidona y
N,N-dimetilformamida, éteres como dioxano, THF y
dietil-éter, acetato de butilo, n-butanol,
2-etoxietanol, ciclohexanona,
metil-isoamil-cetona,
2-metoxietanol, 2-butoxietanol,
acetato de 2-etoxietilo y sus mezclas. La
polimerización se lleva a cabo preferentemente a una temperatura en
el intervalo de 70-140ºC, aunque pueden ser usadas
temperaturas superiores con la condición de que el disolvente y el
catalizador estén adaptados para ello. Dentro de este intervalo, el
uso de temperaturas superiores produce polímeros de peso molecular
inferior.
La polimerización se puede llevar a cabo
calentando todos los ingredientes polímeros en el disolvente o,
preferentemente, añadiendo gradualmente los monómeros y catalizador
al disolvente calentado. Este último procedimiento produce
polímeros de peso molecular inferior.
Ejemplos de catalizadores adecuados para la
reacción incluyen, pero sin limitación, catalizadores ácidos.
Ejemplos de catalizadores ácidos incluyen catalizadores ácidos
protónicos y catalizadores de ácidos de Lewis. En una realización
preferida, los catalizadores ácidos protónicos adecuados para ser
usados en el presente proceso incluyen, pero sin limitación, ácido
clorhídrico, ácido nítrico o ácido trifluoroacético. En una
realización preferida, se usa ácido trifluorometanosulfónico. Dicho
catalizador ácido puede ser un ácido heterogéneo como las resinas
de intercambio iónico fuertemente ácidas, todas las cuales son del
tipo sulfónico. Ejemplos de resinas de intercambio iónico
fuertemente ácidas disponibles en el comercio del tipo acrílico son
las conocidas por las marcas registradas AMBERLYST A15, AMBERLYST
38 W, AMBERLYST 36, AMBERJET 1500H, AMBERJET 1200H, (AMBERJET es
una marca registrada de la empresa Rohm and Haas Company) DOWEX
MSC-1, DOWEX 50W (DOWEX es una marca registada de
la empresa Dow Chemical Company), DELOXAN ASP I/O (DELOXAN es una
marca registrada de la empresa Degussa), DIAION SK1B (DIAION es una
marca registrada de la empresa Mitsubushi), LEWATIT VP OC 1812,
LEWATIT S 100 MB, LEWATIT S 10 G1 (LEWATIT es una marca registrada
de la empresa Bayer), NAFION SAC13, NAFION NR50 (NAFION es una
marca registrada de la empresa DuPong) y CT275 (una resina
macroporosa con un diámetro medio de poros en el intervalo de 600 a
750, disponible en la empresa Purlite). En otra realización, los
catalizadores de ácidos de Lewis adeucuados incluyen, pero sin
limitación, ZnCl_{2}, BeCl_{2}, TiCl_{4}, SnCl_{4},
FeCl_{3}, FeCl_{2}, SbCl_{5}, AlCl_{3} y otros haluros
metálicos. Pueden ser usados también
co-catalizadores como ácido acético en el proceso
según la invención.
Debido a que permiten la supresión de reacciones
de equilibrio debido a la reagrupación de enlaces de siloxano,
establecen selectivamente puentes alrededor de la reacción de
abertura de anillos del ciclosiloxano y pueden suprimir reacciones
secundarias no deseables, los haluros metálicos que exhiben
propiedades de ácidos de Lewis son particularmente útiles. En una
realización preferida, el catalizador usado durante la reacción es
ZnCl_{2}. Cuando se usa un ácido heterogéneo en el proceso según
la invención, éste tiene la ventaja de una separación más fácil del
producto de reacción. En una realización preferida, se usa AMBERLYST
A15. Cuando la reacción se realiza con copolímeros de carboxilato
organosililado insaturado, es preferido el uso de catalizadores
heterogéneos porque ofrece la ventaja de ser fácilmente separado de
la resina al final del proceso.
La reacción de telomerización entre el
ciclosiloxano y el carboxilato organosililado insaturado se puede
realizar a una temperatura seleccionada en el intervalo de 20 a
150ºC, preferentemente 50 a 120ºC, más preferentemente 90 a 110ºC.
En otra realización preferida, dicha reacción se realiza a
temperatura ambiente.
La reacción se puede realizar con o sin
inhibidor de la polimerización añadido. Los inhibidores de
polimerización que pueden ser usados en el proceso de la invención
son preferentemente estabilizadores fenólicos como cresol o
derivados de hidroquinona, por ejemplo,
bis(terc-butil)cresol,
2,5-di-terc-butilhidroquinona,
4-metoxi-fenol,
2,6-di-terc-butil-4-metilfenol
o el monometil-éter de hidroquinona o fenotiazina, en una
concentración que varía en el intervalo de 0,001% a 2% en peso,
preferentemente de 0,002% a 0,7% en peso, basado en el peso total
de ciclosiloxano y carboxilato organosililado insaturado (II).
La reacción de abertura del anillo puede ser
terminada neutralizando el catalizador ácido con una base adecuada
que puede ser seleccionada entre el grupo que comprende
trietilamina, dietilamina, tributilamina, hexametildisilazano,
N-metilmorfolina, diisopropiletilamina,
diciclohexilamina, N-metilpiperidina, piridina,
4-pirrolidinopiridina, picolina,
4-(N,N-dimetilamino)piridina,
2,6-di(t-butil)-4-metilpiridina,
quinolina, N,N-dimetilanilina,
N,N-dietilanilina y similares. En una realización
preferida, dicha base es trietilamina. Las sales producidas durante
esta reacción de neutralización pueden ser separadas por filtración
o decantación.
El compuesto de carboxilato poliorganosililado
de fórmula (I) puede ser aislado mediante destilación bajo presión
reducida. El progreso de la reacción puede ser verificado mediante
cualquier método analítico adecuado. El polímero de compuesto de
carboxilato poliorganosililado de fórmula (I) puede ser aislado
filtrando el catalizador al final de la reacción.
La presente invención se refiere adicionalmente
a monómeros de carboxilatos poliorganosililados de fórmula (I) o
sus polímeros, que pueden ser obtenidos mediante el proceso según la
invención. En otra realización, la presente invención se refiere a
monómeros o polímeros de carboxilatos poliorganosililados obtenidos
mediante el proceso según la invención, en una realización
preferida, R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4}, R^{5}, R^{6} y
R^{9} en un compuesto de fórmula (I) se seleccionan cada uno
independientemente entre el grupo que comprende metilo, etilo,
propilo, isopropilo, isobutilo, n-butilo,
sec-butilo o t-butilo. Más
preferentemente, R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4}, R^{5},
R^{6} y R^{9} son metilo. En otra realización preferida, n se
selecciona de forma que represente un número de unidades
dihidrocarbilsiloxano de 3 a 12, preferentemente de 3 a 8, más
preferentemente de 3 a 6. En una realización más preferida, n es
3.
\newpage
Ejemplos de monómeros de carboxilatos
poliorganosililados mediante el proceso de la invención incluyen,
pero sin limitación,
nonametil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nonaetil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-t-butil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nonabencil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-isopropil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-n-propil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-isobutil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-amil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-n-butil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-dodecil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-hexil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-fenil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
nona-octil-1-(met)acriloiloxi-tetrasiloxano,
undecametil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undecaetil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-t-butil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undecabencil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-isopropil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-n-propil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-isobutil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-amil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-n-butil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-dodecil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-hexil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-fenil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano,
undeca-octil-1-(met)acriloiloxi-pentasiloxano
tridecametil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
tridecaetil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-t-butil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
tridecabencil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-isopropil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-n-propil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-isobutil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-amil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-n-butil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-dodecil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-hexil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-fenil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano,
trideca-octil-1-(met)acriloiloxi-hexasiloxano
y sus polímeros.
La ventaja de esta invención es que el proceso
usa reactantes que pueden ser fácilmente manejados. Otra ventaja
consiste en la simplicidad y seguridad del procedimiento (sin
atrapamiento de material gaseoso corrosivo). Además de ello, otra
ventaja es que la reacción es un procedimiento en una etapa.
También, no se produce ninguna degradación del material. Debido a
su corta duración, su fácil procedimiento de tratamiento y su
elevado rendimiento, el proceso de la presente invención puede ser
considerado una mejora sustancial sobre los métodos existentes
anteriormente descritos.
Todavía otra ventaja de la invención es que los
monómeros o polímeros de carboxilatos poliorganosililados obtenidos
mediante el proceso según la invención tienen exactamente el número
deseado de unidades dihidrosililoxi. Los monómeros de carboxilatos
poliorganosililados obtenidos mediante el proceso de la invención
pueden ser polimerizados con otros diversos monómeros como
monómeros vinílicos que incluyen ésteres acrílicos, ésteres
metacrílicos, estireno, ésteres vinílicos (por ejemplo, acetato de
vinilo, propionato de vinilo, butirato de vinilo, benzoato de
vinilo), viniltolueno, alfa-metilestireno, ésteres
crotónicos y ésteres itacónicos.
Los polímeros y copolímeros de dichos monómeros
son útiles en composiciones de revestimientos o pinturas. Más
preferentemente, son usados como una unidad comonómera en el
aglutinante de composiciones de revestimiento
anti-suciedad. Cuando son usados en una composición
de revestimiento anti-suciedad, proporcionan una
película que no experimenta agrietamiento ni desprendimientos y
muestra una capacidad de hidrolización moderada para disolverse en
agua marina constantemente a una velocidad adecuada y que, por lo
tanto, exhibe una excelente propiedad anti-suciedad
a largo plazo.
Las composiciones de revestimiento
anti-suciedad preparadas usando los monómeros
obtenidos mediante el proceso de la invención son revestimientos
exentos de estaño y proporcionan una alternativa a la actual
tecnología de revestimientos de auto-pulido basadas
en polímeros de tributil-estaño hidrolizables (cuyo
uso está previsto que se prohíba en pinturas
anti-suciedad en 2.003). Los monómeros de
carboxilatos poliorganosililados proporcionados por el proceso de
la invención, en comparación con compuestos de
organo-estaño, son menos tóxicos, menos polares,
más hidrófobos y más estables.
La invención se comprenderá más fácilmente
mediante una referencia a los siguientes ejemplos, que son incluidos
meramente para fines de ilustración de ciertos aspectos y
realizaciones de la presente invención y no está previsto que
limiten la invención.
\vskip1.000000\baselineskip
En los siguientes ejemplos, los datos de RMN han
sido determinados en CDCl_{3} y están expresados como delta
frente a TMS. Salvo que se establezca otra cosa, todos los
reactantes fueron adquiridos de la empresa Aldrich y se usaron sin
purificación.
\vskip1.000000\baselineskip
Se disolvieron 50 g de
hexametilciclotrisiloxano, 35,6 g de metacrilato de trimetilsililo,
2,5 g de cloruro de zinc y 0,4 g de
4-metoxi-fenol en 50 ml de tolueno.
Después de 11 h a 100ºC, la mezcla se dejó enfriar hasta
temperatura ambiente, seguidamente se añadieron 40 ml de
trietilamina y las sales se filtraron. Después de evaporar el
disolvente, una destilación bajo presión reducida (0,3 mbar, 80ºC)
suministró
nonametil-1-metacriloiloxi-tetrasiloxano.
^{13}C RMN: 167,0, 137,7, 126,4, 18,5, 2,0,
1,3, 1,1, 0,0; ^{29}Si RMN: 7,3, -8,6, -20,1, -21,0; IR
(película): 2963, 1707, 1638, 1335, 1310, 1261, 1179, 1082, 1044,
842, 804 cm^{-1}.
\vskip1.000000\baselineskip
Se agitaron 5 g de hexametilciclotrisiloxano,
3,5 g de metacrilato de trimetilsililo y 0,06 g de ácido
trifluorometano-sulfónico durante 24 h a
temperatura ambiente. Seguidamente se añadieron 0,5 ml de
trietilamina y las sales se filtrarpon para suministrar
nonametil-1-metacriloiloxi-tetrasiloxano.
\vskip1.000000\baselineskip
Se agitaron 5 g de hexametilciclotrisiloxano,
3,5 g de metacrilato de trimetilsililo y 0,3 g de catalizador de
resina Amberlyst A15 en 2,5 ml de tolueno. Después de 7 h a
temperatura ambiente, el catalizador se filtró y el disolvente se
evaporó bajo presión reducida para suministrar
nonametil-1-metacriloiloxi-tetrasiloxano.
El uso de catalizador de resina AMBERLYST A15,
que es una resina ácida insoluble, proporciona las ventajas de
permitir una transformación limpia a temperatura ambiente. Además de
ello, es fácilmente separada por filtración.
\vskip1.000000\baselineskip
Se agitaron 5 g de hexametilciclotrisiloxano,
4,4 g de metacrilato de trietilsililo y 0,3 g de Amberlyst A15 en
2,5 ml de tolueno. Después de 7 h a temperatura ambiente, el
catalizador se filtró y el disolvente se evaporó bajo presión
reducida par suministrar
1,1,1-trietil-2,2,3,3,4,4-hexametil-1-metacriloiloxi-tetrasiloxano.
El compuesto fue caracterizado mediante
GC-MS. Columna: HP5 (30 m/d.i.: 0,32 mm/grosor: 0,25
micrómetros), temperatura inicial: 70ºC, temperatura vinal: 300ºC,
velocidad: 10ºC/min, tiempo de retención: 11,2 min. EIMS: M^{+}:
422 (<1%), 407 (100%), 393 (85%), 309 (5%), 253 (10%), 217 (10%);
IR (película): 2961, 2881, 1704, 1637, 1336, 1261, 1178, 1088, 1023
y 808 cm^{-1}.
\vskip1.000000\baselineskip
Se añadieron 100 g de xileno a un matraz de 4
bocas de 2 l y se mantuvo bajo atmósfera de nitrógeno. Las cuatro
bocas del matraz fueron equipadas con medios de agitación, un
condensador a reflujo, y termómetro para el control de la
temperatura de la reacción y medios para la adición de los
monómeros.
Se preparó una mezcla previa en un recipiente
separado, que contenía:
- 148,5 g de metacrilato de metilo
- 346,5 g de acrilato de butilo
- 49,5 g de metacrilato de trimetilsililo
- 9,9 g (= 2% del peso total me monómeros) de
peroxi-2-etil-hexanoato
de t-butilo (= TBPEH, comercializado bajo la marca
Trigonox 21S por la empresa Akzo-Nobel).
La mezcla previa se añadió gota a gota al
recipiente de la reacción (tiempo total = 3 horas) mientras se
mantenía la temperatura a 90ºC. Treinta minutos después del final
de la adición de la mezcla previa, se prepararon cinco adiciones
posteriores de TBPEH al 0,1% a intervalos de 45 minutos. Después de
15 minutos de la última adición posterior, la temperatura se
aumentó hasta 120ºC durante una hora. Después de enfriar, la
solución de aglutinante se diluyó con 98 g de xileno hasta una
viscosidad de 14 dPa.s.
Se añadieron al aglutinante 66,5 g de
hexametilciclotrisiloxano y 1 g de resina Amberlyst A15. Después de
5 h a temperatura ambiente, el catalizador se filtró y el
aglutinante de diluyó con xileno hasta una viscosidad de 14
dPa.s.
Los espectros RMN del polímero obtenido se
encontró que eran iguales a los espectros RMN del polímero obtenido
polimerizando
nonametil-1-metacriloiloxi-tetrasiloxano.
Se encontró sorprendentemente que la
telomerización de hexametilciclotrisiloxano se podría realizar con
metacrilatos de sililo o sus polímeros o copolímeros, que se conoce
que son menos reactivos y propensos a la polimerización. Se observó
una conversión limpia (GC) y ninguna oligomerización del
poli(metacrilato de sililo) formado. El producto fue
fácilmente purificado por destilación. Cuando se sintetizó el
polímero, se aisló eliminando simplemente el catalizador.
El proceso según la invención tiene la ventaja
de ser un proceso en una etapa. Además de ello, durante dicho
proceso no hay liberación de materia corrosiva. La purificación de
producto producido es directa y hay un buen control del PM del
polidimetil-siloxano producido. Además, las unidades
de polidialquilsiloxano no experimentan fragmentación ni
oligomerización durante la reacción.
Aunque la invención ha sido descrita en detalle
y con referencia a realizaciones específicas de la misma, será
evidente para un experto en la técnica que se pueden hacer en ella
diversos cambios y modificaciones sin salir de sus características
generales y alcance.
Claims (19)
1. Monómeros de carboxilatos poliorganosililados
de fórmula (I):
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
o sus polímeros, en la
que:
R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4} y R^{5}
representan cada uno independientemente hidrógeno, un radical
alquilo, alquenilo, aquinilo, alquiloxi, arilo, aralquilo o halógeno
opcionalmente sustituido con uno o más sustituyentes
independientemente seleccionados entre el grupo que comprende
radicales alquilo, aralquilo, arilo, hidroxi, halógeno, amino o
amino-alquilo,
R^{6} representa hidrógeno, un radical alquilo
o
-CH_{2}-CO_{2}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
R^{7} representa hidrógeno, un radical alquilo
o -COOR^{9}, en donde R^{9} representa un grupo alquilo,
R^{8} representa hidrógeno, un radical alquilo
o
-CH_{2}-CO_{2}-(SiR^{4}R^{5}O)_{n}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
y
n representa un número de unidades
dihidrocarbilsiloxano de 3 a 20.
\vskip1.000000\baselineskip
2. Monómeros de carboxilatos poliorganosililados
o sus polímeros según la reivindicación 1, en los que R^{1},
R^{2}, R^{3}, R^{4}, R^{5}, R^{6} y R^{9} se seleccionan
cada uno independientemente entre el grupo que comprende metilo,
etilo, propilo, isopropilo, isobutilo, n-butilo,
sec-butilo o t-butilo.
3. Monómeros de carboxilatos poliorganosililados
o sus polímeros según la reivindicación 2, en los que R^{1},
R^{2}, R^{3}, R^{4}, R^{5}, R^{6} y R^{9} son
metilo.
4. Monómeros de carboxilatos poliorganosililados
o sus polímeros según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en
los que n representa un número de unidades dihidrocarbilsiloxano de
3 a 12, preferentemente de 3 a 8, más preferentemente de 3 a 6.
5. Monómeros de carboxilatos poliorganosililados
o sus polímeros según cualquiera de las reivindicación 4, en los
que n es 3.
6. Uso de monómeros de carboxilatos
poliorganosililados o sus polímeros según cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 5, en composiciones de revestimiento.
7. Uso de monómeros de carboxilatos
poliorganosililados según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6,
como unidad comonómera en el aglutinante de composiciones de
revestimiento anti-suciedad.
\vskip1.000000\baselineskip
8. Proceso para la preparación de monómeros de
carboxilatos poliorganosililados de fórmula general (I) o sus
polímeros, que comprende las etapas de:
\vskip1.000000\baselineskip
hacer reaccionar un ciclosiloxano
de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} con un carboxilato
organosililado insaturado de fórmula (II) o sus copolímeros bajo la
presencia de un catalizador
adecuado,
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
en la
que:
R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4} y R^{5}
representan cada uno independientemente hidrógeno o un radical
alquilo, alquenilo, aquinilo, alquiloxi, arilo, aralquilo o halógeno
opcionalmente sustituido con uno o más sustituyentes
independientemente seleccionados entre el grupo que comprende
radicales alquilo, aralquilo, arilo, hidroxi, halógeno, amino o
amino-alquilo,
R^{6} representa hidrógeno, un radical alquilo
o
-CH_{2}-CO_{2}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
R^{7} representa hidrógeno, un radical alquilo
o -COOR^{9}, en donde R^{9} representa un grupo alquilo,
R^{8} representa hidrógeno, un radical alquilo
o
-CH_{2}-CO_{2}-(SiR^{4}R^{5}O)_{n}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
y
n representa un número de unidades
dihidrocarbilsiloxano de 3 a 20.
\vskip1.000000\baselineskip
9. Proceso según la reivindicación 8, en el que
dicho ciclosiloxano de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} se
selecciona entre el grupo que comprende
1,1,3,3,5,5-hexametil-ciclotrisiloxano
(D3),
1,1,3,3,5,5-hexaetil-ciclotrisiloxano,
1,1,3,3,5,5-hexafenil-ciclotrisiloxano,
1,1,3,3,5,5-hexavinil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-trivinil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-trifenil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-tripropil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trietil-1,3,5-trimetil-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetil-1,3,5-trifenetil-ciclosiloxano,
1,3,5-triviniltrihidro-ciclotrisiloxano,
1,3,5-trimetiltrihidro-ciclotrisiloxano,
pentametil-ciclotrisiloxanos,
1,1,3,3,5,5,7,7-octametil-ciclotetrasiloxano
(D4),
1,1,3,3,5,5,7,7-octafenil-ciclotetrasiloxano,
1,1,3,3,5,5,7,7-octavinil-ciclotetrasiloxano,
1,1,3,3,5,5,7,7-octahidro-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetrahidro-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetrametil-1,3,5,7-tetra(1-octil)-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetrametil-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetraetil-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetravinil-1,3,
5,7-tetrafenil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetra(1-hexadecil)-1,3,5,7-tetrametil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraoctiltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraviniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraetiltetrahidro-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetrapropeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrapenteniltetrapentil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrafeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, pentametil-ciclotetrasiloxanos, hexametil-ciclotetrasiloxanos, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decametil-ciclopentasiloxano (D5), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decahidro-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentavinil-1,3,5,7,9-pentametil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentadecenil-1,3,5,7,9-pentapropil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentametilpentahidro-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentavinilpentahidro-ciclopentasiloxano, tetrametil-ciclopentasiloxanos, hexametil-ciclopentasiloxanos, heptametil-ciclopentasiloxanos, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecametil-ciclohexasiloxano
(D6), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecahidro-ciclohexasiloxano, 1,3,5,7,9,11-hexavinilhexametil-ciclohexasiloxano, 1,
3,5,7,9,11-hexametilhexahidro-ciclohexasiloxano, tetrametil-ciclohexasiloxanos, pentametil-ciclohexasiloxanos, 1,3,
5,7,9,11,13,15,17,19-decavinildecahidro-ciclodecasiloxano, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23,25,27,29-pentadecavinil-
pentadecahidro-ciclopentadecasiloxano.
5,7-tetrafenil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetra(1-hexadecil)-1,3,5,7-tetrametil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraoctiltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraviniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetraetiltetrahidro-ciclotetrasiloxano,
1,3,5,7-tetrapropeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrapenteniltetrapentil-ciclotetrasiloxano, 1,3,5,7-tetrafeniltetrahidro-ciclotetrasiloxano, pentametil-ciclotetrasiloxanos, hexametil-ciclotetrasiloxanos, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decametil-ciclopentasiloxano (D5), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decahidro-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentavinil-1,3,5,7,9-pentametil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentadecenil-1,3,5,7,9-pentapropil-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentametilpentahidro-ciclopentasiloxano, 1,3,5,7,9-pentavinilpentahidro-ciclopentasiloxano, tetrametil-ciclopentasiloxanos, hexametil-ciclopentasiloxanos, heptametil-ciclopentasiloxanos, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecametil-ciclohexasiloxano
(D6), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-dodecahidro-ciclohexasiloxano, 1,3,5,7,9,11-hexavinilhexametil-ciclohexasiloxano, 1,
3,5,7,9,11-hexametilhexahidro-ciclohexasiloxano, tetrametil-ciclohexasiloxanos, pentametil-ciclohexasiloxanos, 1,3,
5,7,9,11,13,15,17,19-decavinildecahidro-ciclodecasiloxano, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23,25,27,29-pentadecavinil-
pentadecahidro-ciclopentadecasiloxano.
10. Proceso según cualquiera de las
reivindicaciones 8 ó 9, en el que la etapa de hacer reaccionar el
ciclosiloxano de fórmula (R^{4}R^{5}SiO)_{n} con el
carboxilato organosililado insaturado de fórmula (II) o un
copolímero o un polímero del mismo se realiza en presencia de un
disolvente adecuado.
11. Monómeros de carboxilatos
poliorganosililados de fórmula (I):
o sus polímeros, que pueden ser
obtenidos mediante el proceso según cualquiera de las
reivindicaciones 8 a 10, en la
que:
R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4} y R^{5}
representan cada uno independientemente hidrógeno, un radical
alquilo, alquenilo, aquinilo, alquiloxi, arilo, aralquilo o halógeno
opcionalmente sustituido con uno o más sustituyentes
independientemente seleccionados entre el grupo que comprende
radicales alquilo, aralquilo, arilo, hidroxi, halógeno, amino o
amino-alquilo,
R^{6} representa hidrógeno, un radical alquilo
o
-CH_{2}-CO_{2}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
R^{7} representa hidrógeno, un radical alquilo
o -COOR^{9}, en donde R^{9} representa un grupo alquilo,
R^{8} representa hidrógeno, un radical alquilo
o
-CH_{2}-CO_{2}-(SiR^{4}R^{5}O)_{n}-SiR^{1}R^{2}R^{3},
y
n representa un número de unidades
dihidrocarbilsiloxano de 3 a 20.
\vskip1.000000\baselineskip
12. Monómeros de carboxilatos
poliorganosililados o polímeros de los mismos según la
reivindicación 11, en los que R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4},
R^{5}, R^{6} y R^{9} se seleccionan cada uno
independientemente entre el grupo que comprende metilo, etilo,
propilo, isopropilo, isobutilo, n-butilo,
sec-butilo o t-butilo
13. Monómeros de carboxilatos
poliorganosililados o polímeros de los mismos según la
reivindicación 12, en los que R^{1}, R^{2}, R^{3}, R^{4},
R^{5}, R^{6} y R^{9} son metilo.
14. Monómeros de carboxilatos
poliorganosililados o polímeros de los mismos según cualquiera de
las reivindicaciones 11 a 13, en los que n representa un números de
unidades dihidrocarbilsiloxano de 3 a 12, preferentemente de 3 a 8,
más preferentemente de 3 a 6.
15. Monómeros de carboxilatos
poliorganosililados o polímeros de los mismos según la
reivindicación 14, en los que n es 3.
16. Uso de monómeros de carboxilatos
poliorganosililados o sus polímeros según cualquiera de las
reivindicaciones 11 a 15, en composiciones de revestimiento.
17. Uso de monómeros de carboxilatos
poliorganosililados según cualquiera de las reivindicaciones 11 a
16, como unidad comonómera en el aglutinante de composiciones de
revestimiento anti-suciedad.
18. Composición de revestimiento, que comprende
monómeros de carboxilatos poliorganosililados o sus polímeros según
una cualquiera de las reivindicaciones 1-6 ó
11-15.
19. Composición de revestimiento
anti-suciedad, que comprende un aglutinante,
teniendo el aglutinante unidades comonómeras de monómeros de
carboxilatos poliorganosililados según cualquiera de las
reivindicaciones 1-6 ó 11-15.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP02254861 | 2002-07-10 | ||
| EP02254861A EP1380611A1 (en) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | Process for the preparation of polyorganosilylated carboxylate monomers or polymers thereof |
| EP02255549 | 2002-08-08 | ||
| EP02255549 | 2002-08-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2339165T3 true ES2339165T3 (es) | 2010-05-17 |
Family
ID=30116922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES07004596T Expired - Lifetime ES2339165T3 (es) | 2002-07-10 | 2003-07-09 | Monomeros y polimeros de carboxilatos poliorganosililados y proceso para la preparacion de los mismos. |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7595370B2 (es) |
| EP (2) | EP1539861A1 (es) |
| JP (3) | JP4411277B2 (es) |
| KR (2) | KR101035342B1 (es) |
| AT (1) | ATE453676T1 (es) |
| AU (1) | AU2003250918A1 (es) |
| DE (1) | DE60330815D1 (es) |
| DK (1) | DK1795551T3 (es) |
| ES (1) | ES2339165T3 (es) |
| WO (1) | WO2004007591A1 (es) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK1795551T3 (da) * | 2002-07-10 | 2010-03-08 | Sigmakalon Services B V | Polyorganosilylerede carboxylatmonomerer og polymerer samt fremgangsmåde til fremstilling deraf |
| US7781575B2 (en) | 2002-11-14 | 2010-08-24 | Dharmacon, Inc. | siRNA targeting tumor protein 53 (p53) |
| EP1614722A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-11 | SigmaKalon B.V. | Hydrolysable binders and compositions |
| KR100772653B1 (ko) * | 2005-10-14 | 2007-11-02 | 주식회사 휘닉스피디이 | 플라즈마 디스플레이 패널용 감광성 무연 격벽 유리 조성물및 이를 포함하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이패널 |
| DE102008041601A1 (de) | 2008-08-27 | 2010-03-04 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstellung verzweigter SiH-funtioneller Polysiloxane und deren Verwendung zur Herstellung flüssiger, SiC- oder SiOC-verknüpfter, verzweigter organomodifizierter Polysiloxane |
| JP5282526B2 (ja) | 2008-10-29 | 2013-09-04 | 信越化学工業株式会社 | 嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法 |
| JP5278040B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2013-09-04 | 信越化学工業株式会社 | 嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法 |
| CN101838393B (zh) * | 2010-04-29 | 2012-04-04 | 山东大学 | 一种高分子量乙基聚硅氧烷的合成方法 |
| JP4769331B1 (ja) * | 2010-08-25 | 2011-09-07 | 日東化成株式会社 | 防汚塗料組成物、防汚塗料組成物用共重合体、該組成物を用いて形成される防汚塗膜を表面に有する塗装物 |
| WO2015012148A1 (ja) * | 2013-07-24 | 2015-01-29 | 日東化成株式会社 | 防汚塗料組成物、防汚塗料組成物用共重合体、該組成物を用いて形成される防汚塗膜、該塗膜を表面に有する塗装物、及び該塗膜を形成する防汚処理方法 |
| US20180273793A1 (en) * | 2015-12-21 | 2018-09-27 | Nippon Soda Co., Ltd. | Coating agent |
| US11679412B2 (en) | 2016-06-13 | 2023-06-20 | Gvd Corporation | Methods for plasma depositing polymers comprising cyclic siloxanes and related compositions and articles |
| WO2017218561A1 (en) | 2016-06-13 | 2017-12-21 | Gvd Coproraton | Methods for plasma depositing polymers comprising cyclic siloxanes and related compositions and articles |
| JP6638958B2 (ja) * | 2016-11-09 | 2020-02-05 | 中国塗料株式会社 | 防汚塗料組成物、防汚塗膜、防汚塗膜付き基材及びその製造方法、並びに防汚方法 |
| CN111065642A (zh) * | 2017-09-22 | 2020-04-24 | 3M创新有限公司 | 环状硅氧烷、组合物、方法和制品 |
| CN116574427B (zh) * | 2023-03-09 | 2024-03-19 | 浙江飞鲸新材料科技股份有限公司 | 海洋钢结构长效防护多层环氧重防腐涂层及制备方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL128599C (es) * | 1963-08-07 | 1970-04-15 | ||
| US4593055A (en) | 1983-01-17 | 1986-06-03 | M&T Chemicals Inc. | Erodible ship-bottom paints for control of marine fouling |
| US5481122A (en) * | 1994-07-25 | 1996-01-02 | Industrial Technology Research Institute | Surface light emitting diode with electrically conductive window layer |
| MY115462A (en) | 1995-06-01 | 2003-06-30 | Chugoku Marine Paints | Antifouling coating composition, coating film formed from said antifouling coating composition, antifouling method using said antifouling coating composition and hull or underwater structure coated with said coating film |
| JP4025385B2 (ja) * | 1996-12-06 | 2007-12-19 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | オルガノペンタシロキサンの製造方法 |
| JPH10168089A (ja) * | 1996-12-04 | 1998-06-23 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | １−アシルオキシ−オルガノテトラシロキサンおよびその製造方法 |
| US6031019A (en) * | 1997-02-07 | 2000-02-29 | Kao Corporation | Aqueous ink for ink-jet printing |
| JPH10245451A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Nok Corp | アクリルゴムまたはそれのブレンドゴムの組成物 |
| US6057562A (en) * | 1997-04-18 | 2000-05-02 | Epistar Corp. | High efficiency light emitting diode with distributed Bragg reflector |
| JP3862399B2 (ja) * | 1998-01-29 | 2006-12-27 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
| JP3763667B2 (ja) * | 1998-04-23 | 2006-04-05 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子 |
| JP2001223384A (ja) * | 2000-02-08 | 2001-08-17 | Toshiba Corp | 半導体発光素子 |
| DK1795551T3 (da) * | 2002-07-10 | 2010-03-08 | Sigmakalon Services B V | Polyorganosilylerede carboxylatmonomerer og polymerer samt fremgangsmåde til fremstilling deraf |
-
2003
- 2003-07-09 DK DK07004596.8T patent/DK1795551T3/da active
- 2003-07-09 AT AT07004596T patent/ATE453676T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-07-09 ES ES07004596T patent/ES2339165T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-09 EP EP03763756A patent/EP1539861A1/en not_active Withdrawn
- 2003-07-09 KR KR1020057000421A patent/KR101035342B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-07-09 KR KR1020077008062A patent/KR101159833B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-07-09 DE DE60330815T patent/DE60330815D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-09 EP EP07004596A patent/EP1795551B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-09 JP JP2005505062A patent/JP4411277B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-09 US US10/520,636 patent/US7595370B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-09 WO PCT/EP2003/007360 patent/WO2004007591A1/en active Application Filing
- 2003-07-09 AU AU2003250918A patent/AU2003250918A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-03-12 JP JP2007061671A patent/JP4628385B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-21 US US11/726,130 patent/US7736634B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-05-13 JP JP2010111145A patent/JP2010196070A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20070196326A1 (en) | 2007-08-23 |
| EP1539861A1 (en) | 2005-06-15 |
| AU2003250918A1 (en) | 2004-02-02 |
| US7736634B2 (en) | 2010-06-15 |
| US7595370B2 (en) | 2009-09-29 |
| JP4628385B2 (ja) | 2011-02-09 |
| KR101159833B1 (ko) | 2012-06-26 |
| KR20070047851A (ko) | 2007-05-07 |
| ATE453676T1 (de) | 2010-01-15 |
| KR20050044889A (ko) | 2005-05-13 |
| DE60330815D1 (de) | 2010-02-11 |
| JP4411277B2 (ja) | 2010-02-10 |
| EP1795551B1 (en) | 2009-12-30 |
| JP2005537335A (ja) | 2005-12-08 |
| JP2007262063A (ja) | 2007-10-11 |
| KR101035342B1 (ko) | 2011-05-20 |
| DK1795551T3 (da) | 2010-03-08 |
| US20060142516A1 (en) | 2006-06-29 |
| JP2010196070A (ja) | 2010-09-09 |
| WO2004007591A1 (en) | 2004-01-22 |
| EP1795551A1 (en) | 2007-06-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7736634B2 (en) | Process for the preparation of polyorganosilylated carboxylate monomers or polymers thereof | |
| US9951185B2 (en) | Aminosiloxanes of high purity | |
| JP2005537335A5 (es) | ||
| JP2006022332A (ja) | 加水分解型バインダーおよび組成物 | |
| JP4619001B2 (ja) | オルガノシリル化カルボキシレートモノマーの製法および防汚塗膜中へのそれらの使用 | |
| EP1380611A1 (en) | Process for the preparation of polyorganosilylated carboxylate monomers or polymers thereof | |
| KR20040003001A (ko) | 트리알킬실릴화된 카르복실레이트 단량체의 제조 방법,이로부터 얻어진 트리알킬실릴화된 카르복실레이트 단량체및 이의 방오 코팅에서의 용도 | |
| US20060252953A1 (en) | Process for the production of silyl carboxylate monomers | |
| KR101633931B1 (ko) | 부피가 큰 치환기를 갖는 실록시기 함유 실릴(메트)아크릴레이트 화합물 및 그의 제조 방법 | |
| EP1431301A1 (en) | Process for the production of silyl carboxylate monomers | |
| EP1295888A1 (en) | Process for the preparation of trialkylsilylated carboxylate monomers, the obtained trialkylsilylated carboxylate monomers and their use in antifouling coatings | |
| WO2003072585A1 (en) | Process for the preparation of trihydrocarbylsilylated carboxylate monomers | |
| EP1462472A1 (en) | A process for the protection of acid groups in polymers | |
| JPH11209696A (ja) | 加水分解性ケイ素含有樹脂を含む自己研磨型防汚塗料組成物 | |
| WO2004005302A1 (en) | Process for the preparation of acyloxysilanes |