KR101159833B1 - 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의폴리머의 제조방법 - Google Patents

폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의폴리머의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 또는 그의 코폴리머 또는 폴리머와 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산을 적절한 촉매 존재하에 반응시키는 단계를 포함하는 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머를 제조하는 방법에 관한 것이다.

Description

폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머의 제조방법 {Process for the preparation of polyorganosilylated carboxylate monomers or polymers thereof}
본 발명은 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머를 제조하는 개선된 방법에 관한 것이다. 또한 본 발명은 제조한 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머에 관한 것이며, 현대적 방오 코팅을 위한 바인더와 같은 가수분해성 폴리머의 합성을 위한 용도에 관한 것이다.
방오 페인트는 조개 껍질, 해초 및 수생 박테리아와 같은 다양한 해양 생물체로 인해 유발되는 수중 구조체(예를 들어 배의 바닥, 도크, 어망, 및 부표)의 오염을 억제하거나 지연시키기 위하여 일반적으로 사용된다. 상기 수생 생물체가 배의 바닥과 같은 수중 구초제 상에 부착하여 번식하는 경우, 배 전체의 표면 거칠기가 증가하여 배의 속도를 감소시키게 되어 연료의 소모량을 증가시키게 된다. 이와 같은 수생 생물체를 배 바닥으로부터 제거하는 것은 많은 노력과 장기간의 작업시간을 필요로 한다. 또한 이들 수생 생물체가 강철 구조체와 같은 수중 구조체에 부착하여 번식하는 경우에는 방식(anticorrosive) 코팅 필름을 열화시켜 수중 구조체 의 수명을 감소시키게 된다.
그러므로 다양한 가수분해성 작용기, 더욱 구체적으로는 오르가노실릴기를 포함하는 폴리머를 포함하는 방오 페인트로 상기 수중 구조체를 도포하는 것이 바람직하다. 다양한 방오 페인트가 알려져 있다.
예를 들어 EP 0 297 505호에는 측쇄에 오르가노실릴기 및/또는 오르가노폴리실록산기를 갖는 폴리머를 포함하는 방오 페인트가 기재되어 있다. 상기 오르가노폴리실록산기는 메타크릴산을 갖는 실리콘 오일의 탈수 축합 반응 등의 방법으로 유도되므로, 상기 문헌은 상이한 숫자의 반복되는 오르가노실록산기를 갖는 올리고머의 혼합물을 개시하고 있다.
WO 84/02915호 및 JP 63215780호에는 측쇄에 트리오르가노실릴기를 갖는 메타크릴계 에스테르 폴리머 또는 유사 폴리머를 채용한 가수분해성 셀프-폴리싱 종류의 방오 페인트가 개시되어 있다. 방오 조성물에 오르가노실릴 아크릴레이트 폴리머를 사용하는 것과 관련된 다른 예로서는 EP 1 127 902, EP 1 127 925, JP 63118381, WO 96/38508, EP 0 802 243, EP 0 714 957, JP 07018216, JP 01132668, JP 01146969 및 미국특허 4,957,989가 있으며 인용에 의해 본 명세서에 통합되어 있다.
상술한 방오 페인트에 사용된 폴리머는 실릴화 카르복실레이트 모노머를 기초로 하고 있다. 상기 실릴화 카르복실레이트 모노머의 합성을 위한 일반적인 기술은 몇가지 공정이 알려져 있다.
예를 들어 JP 5306290호는 메타크릴계 작용기 함유 오르가노실리콘 화합물을 제조하는 방법을 기술하고 있다. 상기 방법은 고리형 구조를 갖는 4급 아민 화합물의 존재하에 할로겐화 알킬실란, 예를 들어 트리알킬실릴클로라이드와 메타크릴산을 반응시키는 단계를 포함한다. 이와 같은 공정은 상기 실릴 클로라이드의 유용성 및 저장 안정성 등을 저하시키는 문제점을 갖는다. 더욱이 상기 반응은 부산물로서 하이드로겐 할라이드 또는 할라이드염을 생성하며, 이들은 각각 생산 장비의 부식을 유발하거나, 여과에 의해 제거되어야 하는 부가 공정을 필요로 한다.
메타크릴산 및 트리메틸실릴 클로라이드에서 트리메틸실릴 메타크릴레이트를 합성하는 방법은 문헌(Fedotov. 등, Zh.Prikl.Khim.(1971), 44(3), 695)에 개시되어 있다. 메타크릴산 및 헥사메틸디실라잔에서 트리메틸실릴 메타크릴레이트를 합성하는 방법은 문헌(A. Chapman & A.D. Jenkins J.Polym.Sci. Polym.Chem.Edn. vol 15, p.3075 (1977))에 개시되어 있다. 이러한 방법은 암모니아를 생성하는 문제점을 갖고 있다.
JP 10195084호는 구리 촉매의 존재하에 아크릴산 또는 메타크릴산과 같은 불포화 카르복실산을 트리알킬실릴하이드라이드 화합물과 반응시키는 방법을 개시하고 있다. 이와 같은 방법의 문제점 중 하나는 탄소-탄소 이중 결합 상에 생성된 H2의 부반응으로 인해 불포화 카르복실산의 수소화반응에 대한 위험이 있다는 것이다.
미국특허 6,063,887호는 아실옥시실란과 헥사메틸시클로트리실록산의 반응에 의해 얻어지는 1-아실옥시-오르가노테트라실록산을 개시하고 있다.
본 발명의 목적은 용이하게 입수가능한 출발물질로부터 고수율로 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머를 쉽게 제조할 수 있는 신규한 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 용이한 작업 공정으로 상기 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머를 합성하는 더욱 직접적인 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상술한 단점에 대한 개선점을 제공하는 신규한 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 하기 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 또는 그의 코폴리머 또는 폴리머와 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산을 적절한 촉매 존재하에 반응시키는 단계를 포함하는 하기 일반식 I의 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머를 제조하는 방법에 관한 것이다:
<화학식 I>
Figure 112007027123219-pat00001
<화학식 II>
Figure 112007027123219-pat00002
식중, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 독립적으로, 알킬기, 아르알킬기, 아릴기, 히드록시, 할로겐, 아미노기 또는 아미노 알킬기를 포함하는 군으로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환된 수소, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 알킬옥시기, 아릴기, 아르알킬기 또는 할로겐을 나타내고,
R6는 수소, 알킬기, 또는 -CH2-CO2-SiR1R2R3을 나타내며,
R7은 수소, 알킬기 또는 -COOR9을 나타내고, 식중 R9은 알킬기를 나타내며,
R8은 수소, 알킬기 또는 -CH2-CO2-(SiR4R5O)n-SiR1R2R3을 나타내고, 그리고
n은 3 내지 20의 디히드로카르빌실록산 유닛의 수를 나타낸다.
본 발명의 일구현예에 따르면, 상기 R1, R2, R3, R4, R5, R6 및 R9는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 이소부틸, n-부틸, sec-부틸, t-부틸을 포함하는 군으로부터 각각 독립적으로 선택된다.
바람직하게는 상기 R1, R2, R3, R4, R5, R6 및 R9는 메틸이다.
본 발명의 다른 일구현예에 따르면, n은 3 내지 12, 바람직하게는 3 내지 8, 더욱 바람직하게는 3 내지 6의 디히드로카르빌실록산 유닛의 수를 나타낸다. 바람직한 구현예에서 n은 3이다.
불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트가 매우 반응성이 없는 화합물이고 쉽게 중합하는 것으로 알려져 있음에도 시클로실록산을 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머, 그의 폴리머 또는 코폴리머와 반응시켜, 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트가 합성될 수 있음을 놀랍게도 발견하였다.
본 발명은 하기 일반식 I의 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머를 합성하는 신규한 제조방법에 관한 것으로, 여기서 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산은 하기 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 또는 그의 코폴리머 또는 폴리머와 적절한 촉매 존재하에 반응한다:
<화학식 I>
Figure 112007027123219-pat00003
<화학식 II>
Figure 112007027123219-pat00004
식중 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 상기 정의한 바와 같다.
본 발명에 따른 제조방법은 정확히 목적하는 수의 디히드로카르빌실릴옥산 유닛을 갖는 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 폴리머를 제조하는 장점을 갖는다.
본 발명에 따른 제조방법은 특정 텔로머화 반응(telomerisation)을 특징으로 한다. 놀랍게도 활성이 큰 화합물이 아니며 쉽게 중합하는 것으로 알려져 있는 불포화 오르가노실릴 카르복실레이트와 함께 상기 시클로실록산의 텔로머화를 수행할 수 있음을 발견하였다.
본 명세서에서 사용되는 "텔로머화"라는 용어는 다른 화합물의 라디칼 (telogen)에 의하여 각 말단에서 종결된 제한된 수의 유닛의 체인으로 이루어지는 저분자량 모노머를 생성하는 방법을 나타낸다. 참조(Oxford English Dictionary, Second Ed., Clarendon, Oxford, 1989). 상기 텔로머화 반응은 말단기 및 결과적인 텔로머 분자의 내부 연결을 각각 제공하는 두가지 물질 사이의 중합 반응으로서 진행한다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "폴리머"라는 용어는 중합 반응의 생성 물을 칭하며, 호모폴리머, 코폴리머, 터폴리머 등을 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "코폴리머"라는 용어는 적어도 2개의 상이한 모노머의 중합 반응에 의해 생성되는 폴리머를 나타낸다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "독립적으로 선택된"이라는 용어는 그와 같이 기술된 각 라디칼 R이 동일하거나 또는 상이할 수 있다는 것을 나타낸다. 예를 들어 화학식 I의 화합물에서 각 R4는 n의 각 값에 대하여 상이할 수 있다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이 "알킬"이라는 용어는, 직쇄형, 분지형 또는 고리형 모이어티 또는 이들의 조합을 갖는 포화된 탄화수소 라디칼에 관한 것으로 1 내지 20개의 탄소원자, 바람직하게는 1 내지 10개의 탄소원자, 더욱 바람직하게는 1 내지 8 탄소원자, 더욱 더 바람직하게는 1 내지 6 탄소원자, 더더욱 더 바람직하게는 1 내지 탄소원자를 포함한다. 이와 같은 라디칼의 예로서는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 2-메틸부틸, 펜틸, 이소-아밀, 헥실, 시클로헥실, 3-메틸펜틸, 옥틸 등을 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이 "알케닐"이라는 용어는, 하나 이상 여러개의 이중 결합을 갖는 탄화수소 라디칼에 관한 것으로, 직쇄형, 분지형 또는 고리형 모이어티 또는 이들의 조합을 가지며 2 내지 18개의 탄소원자, 바람직하게는 2 내지 10개의 탄소원자, 더욱 바람직하게는 2 내지 8개의 탄소원자, 더욱 더 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소원자, 더더욱 더 바람직하게는 2 내지 4개의 탄소원자를 포함한다. 알케킬의 예는 비닐, 알릴, 이소프로페닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 시 클로프로페닐, 시클로부테닐, 시클로펜테닐, 시클로헥세닐, 1-프로페닐, 1-부테닐, 2-메틸-2-부테닐, 이소프레닐, 파르네실, 게라닐, 게라닐게라닐 등을 들 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같은 "알키닐"이라는 용어는 하나 이상 여러개의 삼중 결합을 갖는 탄화수소 라디칼에 관한 것으로, 직쇄형, 분지형 또는 고리형 모이어티 또는 이들의 조합을 가지며, 2 내지 18개의 탄소원자, 바람직하게는 2 내지 10개의 탄소원자, 더욱 바람직하게는 2 내지 8개의 탄소원자, 더욱 더 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소원자, 더더욱 더 바람직하게는 2 내지 4개의 탄소원자를 갖는다. 알키닐 라디칼의 예로서는 에티닐, 프로피닐, (프로파르길), 부티닐, 펜티닐, 헥시닐 등을 포함한다.
본 명세서 사용되는 바와 같은 "아릴"이라는 용어는 방향족 탄화수소에서 하나의 수소를 제거하여 얻어지는 유기 라디칼에 관한 것으로서, 각 고리 내에 7 멤버까지의 모노시클릭 또는 바이시클릭 탄소 고리를 포함하며, 이들 중 적어도 하나는 방향족이다. 상기 라디칼은 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환될 수 있으며, 상기 치환기는 알킬, 알콕시, 할로겐, 히드록시 또는 아미노 라디칼로부터 독립적으로 선택된다. 아릴의 예로서는 페닐, p-톨릴, 4-메톡시페닐, 4-(tert-부톡시)페닐, 3-메틸-4-메톡시페닐, 4-플루오로페닐, 4-클로로페닐, 3-니트로페닐, 3-아미노페닐, 3-아세트아미도페닐, 4-아세트아미도페닐, 2-메틸-3-아세트아미도페닐, 2-메틸-3-아미노페닐, 3-메틸-4-아미노페닐, 2-아미노-3-메틸페닐, 2,4-디메틸-3-아미노페닐, 4-히드록시페닐, 3-메틸-4-히드록시페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 3-아미노-1-나프틸, 2-메틸-3-아미노-1-나프틸, 6-아미노-2-나프틸, 4,6-디메톡시-2- 나프틸, 테트라히드로나프틸, 인다닐, 비페닐, 페난트릴, 안트릴 또는 아세나프틸 등을 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같은 "아르알킬"이라는 용어는 화학식 알킬-아릴의 군에 관계되는 것으로, 여기서 알킬 및 아릴은 상기 정의한 바와 같다. 아르알킬 라디칼의 예로서는 벤질, 페네틸, 디벤질메틸, 메틸페닐메틸, 3-(2-나프틸)-부틸 등을 포함한다.
본 발명에 따른 제조방법은 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산을 상기 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 또는 그의 코폴리머 또는 폴리머와 촉매의 존재하에 용매와 함께 혹은 용매없이 개환 반응시키는 단계로 이루어진다. 상기 반응은 시클로실록산 1몰에 대하여 상기 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 또는 그의 코폴리머 또는 폴리머를 적어도 1몰 이상으로 처리하는 방법으로 수행하는 것이 바람직하다.
상기 반응은 용매와 함께 또는 용매 없이 수행될 수 있다. 본 발명에 따른 상기 제조 방법에서 사용할 수 있는 적절한 용매는 비극성 불활성 용매가 좋으며, 그 예로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 또는 에틸벤젠, 지방족 탄화수소 (통상 펜탄, 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸 또는 데카히드로나프탈렌), 비고리형 에테르 (통상 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 디이소프로필 에테르 또는 디이소부틸 에테르), 또는 이들의 혼합물을 예로 들 수 있다. 바람직한 일구현예에서 상기 용매는 톨루엔이다.
상기 본 발명에 따른 제조 방법에서 사용할 수 있는 시클로실록산의 예는 문헌("Encyclopedia of Polymer Science and Engineering", Mark 등, eds., 2nd ed., John Wiley & Sons (1989), vol. 15, p.207 et seq.)에 개시되어 있으며, 이 내용들은 본 명세서에 인용에 의해 통합되어 있다.
본 발명에 따른 상기 제조방법에서 사용하기 위한 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산의 적절한 예로서는 1,1,3,3,5,5-헥사메틸시클로트리실록산 (D3), 1,1,3,3,5,5-헥사에틸시클로트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사페닐-시클로트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사비닐-시클로트리실록산, 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리비닐-시클로트리실록산, 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리페닐-시클로트리실록산, 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리프로필-시클로트리실록산, 1,3,5-트리에틸-1,3,5-트리메틸-시클로트리실록산, 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리펜에틸-시클로실록산, 1,3,5-트리비닐트리히드로-시클로트리실록산, 1,3,5-트리메틸트리히드로-시클로트리실록산, 펜타메틸-시클로트리실록산, 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리(3',3',3'-트리플루오로프로필)-시클로트리실록산 (F3), 1,1,3,3,5,5,7,7-옥타메틸시클로테트라실록산 (D4), 1,1,3,3,5,5,7,7-옥타페닐-시클로테트라실록산, 1,1,3,3,5,5,7,7-옥타비닐-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-테트라히드로-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-테트라(1-옥틸)-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라메틸-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라에틸-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라알릴-1,3,5,7-테트라페닐-시클로테트라실 록산, 1,3,5,7-테트라(1-헥사데실)-1,3,5,7-테트라메틸-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라옥틸테트라히드로-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라비닐테트라히드로-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라에틸테트라히드로-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라프로페닐테트라히드로-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라펜테닐테트라펜틸-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라페닐테트라히드로-시클로테트라실록산, 펜타메틸-시클로테트라실록산, 헥사메틸-시클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-테트라키스(3',3',3'-트리플루오로프로필)-시클로테트라실록산 (F4), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-데카메틸시클로펜타실록산 (D5), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-데카히드로시클로펜타실록산, 1,3,5,7,9-펜타비닐-1,3,5,7,9-펜타메틸-시클로펜타실록산, 1,3,5,7,9-펜타데세닐-1,3,5,7,9-펜타프로필-시클로펜타실록산, 1,3,5,7,9-펜타메틸펜타히드로-시클로펜타실록산, 1,3,5,7,9-펜타비닐펜타히드로-시클로펜타실록산, 테트라메틸-시클로펜타실록산, 헥사메틸-시클로펜타실록산, 헵타메틸-시클로펜타실록산, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-도데카메틸-시클로헥사실록산 (D6), 1,3,5,7,9,11-헥사비닐헥사메틸-시클로헥사실록산, 1,3,5,7,9,11-헥사메틸헥사히드로-시클로헥사실록산, 테트라메틸-시클로헥사실록산, 펜타메틸-시클로헥사실록산, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19-데카비닐데카히드로-시클로데카실록산, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23,25,27,29-펜타데카비닐펜타데카히드로-시클로펜타데카실록산 등을 포함하지만 이들에 한정되는 것은 아니다.
바람직한 일구현예에서, 상기 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산은 1,3,3,5,5-헥사메틸시클로트리실록산 (D3), 1,1,3,3,5,5,7,7-옥타메틸시클로테트라실록산 (D4), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-데카메틸-시클로펜타실록산 (D5), 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-도데카메틸-시클로헥사실록산 (D6)를 포함하는 군으로부터 선택된다. 상기 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산으로서는 1,3,3,5,5-헥사메틸시클로트리실록산 (D3)이 더욱 바람직하다.
본 발명에 따른 상기 제조방법에서 사용할 수 있는 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트의 예로서는 트리메틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-t-부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리벤질실릴 (메타)아크릴레이트, 트리에틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-이소프로필실릴 (메타)아크릴레이트, 트리이소부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-아밀실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-도데실실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-헥실실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-옥틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-프로필실릴 (메타)아크릴레이트, 트리페닐실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-p-메틸페닐실릴 (메타)아크릴레이트, 디부틸시클로헥실실릴 (메타)아크릴레이트, 디부틸페닐실릴 (메타)아크릴레이트; 디시클로헥실페닐실릴 (메타)아크릴레이트, 디이소프로필-n-부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 디이소프로필스테아릴실릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸시클로헥실실릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸헥실실릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸옥틸실릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸페닐실릴 (메타)아크릴레이트, 에틸디부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 에틸디메틸실릴 (메타)아크릴 레이트, 라우릴디페닐실릴 (메타)아크릴레이트, 메틸디부틸실릴 (메타)아크릴레이트, n-옥틸디-n-부틸실릴 (메타)아크릴레이트, t-부틸 디메틸실릴 (메타)아크릴레이트 t-부틸디페닐실릴 (메타)아크릴레이트, 비스(트리메틸실릴) 이타코네이트, t-부틸디페닐실릴 메틸 푸마레이트, t-부틸디페닐실릴 메틸 말레에이트, t-부틸디페닐실릴 n-부틸 푸마레이트, t-부틸디페닐실릴 n-부틸 말레에이트, 트리이소프로필실릴 아밀 푸마레이트, 트리이소프로필실릴 아밀 말레에이트, 트리이소프로필실릴 메틸 푸마레이트, 트리이소프로필실릴 메틸 말레에이트, 트리-n-부틸실릴 n-부틸 푸마레이트, 트리-n-부틸실릴 n-부틸 말레에이트, 및 그의 폴리머 또는 코폴리머 등을 포함하지만 이들에 한정되는 것은 아니며, 상기 메타크릴레이트 또는 아크릴레이트는 본 명세서에서 "(메트)아크릴레이트"로서 집합적으로 칭해진다.
바람직한 구현예에서, 상기 화학식 II의 오르가노실릴화 카르복실레이트는 트리메틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-t-부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리벤질실릴 (메타)아크릴레이트, 트리에틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-이소프로필실릴 (메타)아크릴레이트, 트리이소부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-아밀실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-부틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-도데실실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-헥실실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-옥틸실릴 (메타)아크릴레이트, 트리-n-프로필실릴 (메타)아크릴레이트 및 트리페닐실릴 (메타)아크릴레이트 및 그의 폴리머 또는 코폴리머를 포함하는 군으로부터 선택된다. 더욱 바람직한 화학식 II의 상기 오르가노실릴화 카르복실레이트는 트리메틸실릴 메타크릴레이트 또는 그의 코폴리머 또는 폴리머이다.
상기 제조방법은 불포화 오르카노실릴화 카르복실레이트 코폴리머 또는 폴리머에 적절히 적용될 수 있다. 상기 반응은 상기 코폴리머 또는 폴리머 내에 존재하는 상기 트리알킬실릴 카르복실레이트 작용기들이 폴리오르가노실릴 작용기로 선택적으로 변환되도록 수행된다. 적절한 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 코폴리머 또는 폴리머는 상기 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머의 중합 및/또는 아크릴계 에스테르, 메타크릴계 에스테르, 스타이렌, 비닐 에스테르(예를 들어 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부티레이트, 비닐 벤조에이트), 비닐톨루엔, 알파-메틸스타이렌, 크로톤산 에스테르, 및 이타콘산 에스테르를 포함하는 비닐 모노머 등의 다양한 여러 모노머와의 중합에 의해 종래 기술에 알려진 방법을 사용하여 제조할 수 있다.
상기 화학식 II의 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트의 폴리머 또는 코폴리머는 예를 들어 벤조일 퍼옥사이드, tert-부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트(TBPEH), t-부틸 퍼옥시벤조에이트(TBP), 또는 아조비스이소부티로니트릴과 같은 유리 라디칼 촉매를 사용하는 중합 조건에서 적절한 비율의 소정 모노머를 첨가 중합하여 제조할 수 있다. 상기 반응은 예를 들어 크실렌, 톨루엔, N-메틸피롤리돈 및 N,N-디메틸포름아미드와 같은 아미드계, 디옥산, THF 및 디에틸 에테르와 같은 에테르계, 부틸 아세테이트, n-부탄올, 2-에톡시에탄올, 시클로헥사논, 메틸-이소아밀 케톤, 2-메톡시에탄올, 2-부톡시에탄올, 2-에톡시에틸 아세테이트, 및 이들의 혼합물과 같은 유기 용매에서 수행된다. 중합 공정은 더 높은 온도가 가능하지만 상기 용매 및 촉매가 이에 적응된다면 70 내지 140℃ 범위의 온도에서 수행하는 것 이 바람직하다. 이와 같은 범위 내에서, 더 높은 온도를 사용하는 경우 저분자량의 폴리머가 생성된다. 중합공정은 용매 내에서 모든 폴리머 원료성분을 중합함으로써, 또는 바람직하게는 가열한 용매에 모노머 및 촉매를 점진적으로 첨가하여 수행될 수 있다. 후자 공정이 저분자량의 폴리머를 생성하게 된다.
상기 반응을 위한 적절한 촉매의 예는 산성 촉매를 포함하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 산 촉매의 예는 프로톤 산촉매 및 루이스 산촉매를 포함한다. 바람직한 구현예에서, 상기 제조방법에서 사용하기 적절한 프로톤 산촉매는 염산, 질산, 아세트산, 황산, 트리플루오로메탄술폰산, 트리플루오로아세트산을 포함하지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 구현예에서, 트리플루오로메탄술폰산이 사용된다. 상기 산 촉매는 강한 산성의 이온 교환 수지와 같은 이종 산일 수 있으며, 이들 모두는 상기 술폰계 종류이다. 술폰계 종류의 상업적으로 이용가능한 강산성 이온 교환수지의 예로서는 상표명 AMBERLYST A15, AMBERLYST 38 W, AMBERLYST 36, AMBERJET 1500H, AMBERJET 1200H (AMBERJET은 Rohm and Haas사의 상표명이다), DOWEX MSC-1, DOWEX 5OW (DOWEX는 Dow Chemical사의 상표명이다), DELOXAN ASP I/9 (DELOXAN은 Degussa사의 상표명이다), DIAION SK1B (DIAION은 Mitsubishi사의 상표명이다), LEWATIT VP OC 1812, LEWATIT S 100 MB, LEWATIT S 100 G1 (LEWATIT는 Bayer사의 상표명이다), NAFION SAC13, NAFION NR50 (NAFION은 DuPont사의 상표명이다), CT275 (600 내지 750 범위의 매질 기공 직경을 갖는 거대다공성 수지, Purlite사에서 구입가능)으로 알려진 것들을 들 수 있다. 다른 구현예에서, 적절한 루이스 산촉매는 ZnCl2, BeCl2, TiCl4, SnCl4, FeCl3, FeCl2, SbCl5, AlCl3 및 기타 금속 할라이드를 포함하지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 아세트산 같은 공-촉매도 또한 본 발명에 따른 제조방법에서 사용할 수 있다.
이들이 실록산 결합 재배열, 상기 시클로실록산의 개환 반응에 대한 선택적인 가교결합에 기인한 평형 반응을 억제하고, 원하지 않는 부반응을 억제할 수 있으므로, 루이스산 성질을 나타내는 금속 할라이드는 특히 유용하다. 바람직한 구현예에서, 상기 반응 공정에서 사용된 촉매는 ZnCl2이다. 본 발명에 따른 제조공정에서 이종(heterogeneous) 산이 사용되는 경우, 상기 반응 생성물로부터 분리가 보다 용이해진다는 이점을 갖는다. 바람직한 구현예에서 AMBERLYST A15가 사용된다. 상기 반응이 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트의 코폴리머와 함께 수행되는 경우, 상기 이종 촉매의 사용은 상기 공정의 후반부에서 수지로부터 쉽게 제거되는 이점을 제공하므로 바람직하다.
상기 시클로실록산과 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 사이의 텔로머화 반응은 20 내지 150℃, 바람직하게는 50 내지 120℃, 더욱 바람직하게는 90 내지 110℃의 범위에서 선택된 온도에서 수행될 수 있다. 다른 바람직한 구현예에서 상기 반응은 실온에서 수행된다.
상기 반응은 첨가 중합 억제제와 함께 또는 첨가 중합 억제제 없이 수행될 수 있다. 본 발명에 따른 제조 공정에서 사용될 수 있는 상기 중합 억제제는 바람직하게는 크레졸 또는 히드로퀴논 유도체, 예를 들어, 비스(tert-부틸)크레솔, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 4-메톡시-페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 또는 히드로퀴논 또는 페노티아진의 모노메틸 에테르과 같은 페놀계 안정화제를 시클로실록산 및 불포화 오르가노실릴화 카르복실레이트 II의 전체 중량을 기준으로 0.001 내지 2중량%, 바람직하게는 0.002 내지 0.7중량%의 함량으로 사용하는 것이 바람직하다.
상기 개환 반응은 트리에틸아민, 디에틸아민, 트리부틸아민, 헥사메틸디실라잔, N-메틸몰포린, 디이소프로필에틸아민, 디시클로헥실아민, N-메틸피페리딘, 피리딘, 4-피롤리디노피리딘, 피콜린, 4-(N,N-디메틸아미노)피리딘, 2,6-디(t-부틸)-4-메틸피리딘, 퀴놀린, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린 등을 포함하는 군으로부터 선택될 수 있는 적절한 염기로 상기 산성 촉매를 중화시킴으로써 종결될 수 있다. 바람직한 구현예에서, 상기 염기는 트리에틸아민이다. 이와 같은 중화 반응에서 생성된 염은 여과 또는 경사 분리에 의해 제거할 수 있다.
상기 화학식 I 의 상기 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 화합물은 감압하 증류에 의해 분리할 수 있다. 상기 반응 공정은 적절한 분석 방법에 의해 모니터링할 수 있다. 상기 화학식 I의 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 화합물의 폴리머는 상기 반응의 후반부에 상기 촉매를 여과하여 분리할 수 있다.
본 발명은 또한 화학식 I의 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 그의 폴리머에 관한 것으로, 이는 본 발명에 따른 제조공정에 의해 제조할 수 있다. 다른 구현예에서, 본 발명은 본 발명에 의한 제조 공정에서 얻어진 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 또는 폴리머에 관한 것이다. 바람직한 구현예에서, 화학 식 I의 화합물에서 R1, R2, R3, R4, R5, R6 및 R9는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 이소부틸, n-부틸, sec-부틸, t-부틸을 포함하는 군으로부터 각각 독립적으로 선택된다. 더욱 바람직하게는 R1, R2, R3, R4, R5, R6 및 R9는 메틸이다. 다른 바람직한 구현예에서, n은 3 내지 12, 바람직하게는 3 내지 8, 더욱 바람직하게는 3 내지 6의 디히드로카르빌실록산 유닛의 수를 나타내도록 선택된다. 더욱 바람직한 구현예에서, n은 3이다.
본 발명에 따른 제조방법에서 얻어진 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트의 예는 노나메틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나에틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-t-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나벤질-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-이소부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-아밀-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-n-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-도데실-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-헥실-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-페닐-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-옥틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 운데카메틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카에틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-t-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카벤질-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타 실록산, 운데카-이소부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-아밀-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-n-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-도데실-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-헥실-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-페닐-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-옥틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 트리데카메틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카에틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-t-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카벤질-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-이소부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-아밀-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-n-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-도데실-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-헥실-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-페닐-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-옥틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산 및 그의 폴리머를 포함하지만 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 제조방법은 다루기 쉬운 반응물을 사용한다는 장점을 제공한다. 다른 장점으로서는 제조공정이 단순하고 안전하다는 점이다(부식성 기상 물질의 포회과정이 불필요). 더욱이 다른 장점은 상기 반응이 일단계 공정이라는 점이다. 또한 재료의 열화가 발생하지 않는다는 점이다. 짧은 공정, 용이한 작업 공정 및 고 수율로 인해, 본 발명에 따른 제조방법은 상술한 바와 같은 종래의 방법에 비해 실질적인 개선이 이루어진 것으로 여겨진다.
본 발명의 또 다른 장점은 본 발명에 따른 제조방법에 따라 얻어진 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머 또는 폴리머가 정확히 목적하는 수의 디히드로카르빌실릴옥시 유닛을 갖는다는 점이다. 본 발명에 따른 제조방법으로 얻어진 상기 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머는 아크릴계 에스테르, 메타크릴계 에스테르, 스타이렌, 비닐 에스테르(예를 들어 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부티레이트, 비닐 벤조에이트), 비닐톨루엔, 알파-메틸스타이렌, 크로톤산 에스테르, 및 이타콘산 에스테르를 포함하는 비닐 모노머와 같은 다양한 다른 모노머와 함께 중합될 수 있다.
상기 모노머의 폴리머 및 코폴리머는 코팅 또는 페인트 조성물에서 유용하다. 더욱 바람직하게는 이들은 방오 코팅 조성물의 바인더에서 코모노머 유닛으로서 사용된다. 방오 코팅 조성물에 사용되는 경우, 균열이나 박리 현상을 보이지 않고, 적절한 속도로 일정하게 해수로 용해되는 적당한 가수분해성을 나타내며, 그에 따라 뛰어난 방오성을 장시간 나타내는 막을 제공한다.
상기 본 발명에 따른 제조방법으로 얻어진 모노머를 사용하여 제조된 방오 코팅 조성물은 납이 없는 코팅이며, 가수분해성 트리부틸틴 폴리머(이 물질을 방오 페인트에 사용하는 것은 2003년까지 금지될 예정이다)를 기초로 한 현존하는 자기-폴리싱 코팅 기술에 대한 대안을 제공한다. 유기 납 화합물과 비교하여 본 발명에 따른 제조방법으로 생성한 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머는 유독성 및 독성이 적고, 소수성 및 안정성이 증가한다.
본 발명을 하기 실시예를 참조하여 더욱 상세하게 설명하지만, 이는 본 발명의 특정 태양 및 구현예를 설명할 목적에 불과한 것으로 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다.
하기 실시예에서 NMR 자료는 CDCl3에서 측정하였고, 델타값 vs. TMS로서 표시한다. 다르게 언급하지 않는다면, 모든 반응물은 알드리치사에서 구입하였고, 정제없이 사용하였다.
실시예 1:
헥사메틸시클로트리실록산 50g, 트리메틸실릴 메타크릴레이트 35.6g, 염화 아연 2.5g 및 4-메톡시 페놀 0.4g을 톨루엔 50ml에 용해하였다. 100℃에서 11시간 방치한 후, 상기 혼합물을 실온까지 냉각하고 트리에틸아민 40ml를 첨가하고나서 염을 여과하였다. 용매를 증발시킨 후, 감압하에 증류하여(0.3mbar, 80℃) 순수한 노나메틸-1-메타크릴로일옥시-테트라실록산을 얻었다.
13C NMR: 167.0, 137.7, 126.4, 18.5, 2.0, 1.3, 1.1, 0.0;
29Si NMR: 7.3, -8.6, -20.1, -21.0;
IR (필름): 2963, 1707, 1638, 1335, 1310, 1261, 1179, 1082, 1044, 842, 804 cm-1.
실시예 2:
헥사메틸시클로트리실록산 5g, 트리메틸실릴 메타크릴레이트 3.5g, 트리플루오로메탄 술폰산 0.016g을 실온에서 24시간 동안 교반하였다. 트리에틸아민 0.5ml를 가한 후, 염을 여과하여 노나메틸-1-메타크릴로일옥시-테트라실록산을 얻었다.
실시예 3
헥사메틸시클로트리실록산 5g, 트리메틸실릴 메타크릴레이트 3.5g 및 Amberlyst A 15 수지 촉매 0.3g을 톨루엔 2.5ml에서 교반하였다. 실온에서 7시간 경과한 후, 상기 촉매를 여과하고, 용매를 감압하에 증발시켜 노나메틸-1-메타크릴로일-테트라실록산을 얻었다.
불용성 산성 수지인 AMBERLYST A15 수지를 사용함으로써 실온에서 확실한 변환을 가능하게 하는 장점이 있다. 더욱이 여과에 의해 용이하게 제거된다.
실시예 4
헥사메틸시클로트리실록산 5g, 트리에틸실릴 메타크릴레이트 4.4g 및 Amberlyst A15 수지 0.3g을 톨루엔 2.5ml에서 교반하였다. 실온에서 7시간 방치한 후, 촉매를 여과하고, 용매를 감압하에 증발시켜 1,1,1-트리에틸-2,2,3,3,4,4-헥사메틸-1-메타크릴로일옥시-테트라실록산을 얻었다.
상기 화합물을 GC-MS로 분석하였다. 컬럼: HP5 (30m/i.d.: 0.32mm i.d./두께: 0.25미크론), 초기 온도: 70℃, 최종 온도: 300℃, 속도 10℃/분, 유지 시간: 11.2분, EIMS: M+.: 422 (<1%), 407 (100%), 393 (85%), 309 (5%), 253 (10%), 217 (10%); IR (필름): 2961, 2881, 1704, 1637, 1336, 1261, 1178, 1088, 1023, 808 cm-1.
실시예 5
크실렌 100g을 2리터 용량의 4구 플라스크에 가하고 질소 하에 방치하였다. 4구 플라스크에 반응의 온도 조절용 온도계, 리플럭스 냉각기, 교반 수단, 모노머 첨가 장치를 장착하였다.
하기 조성을 포함하는 예비 혼합물을 분리 용기에서 제조하였다:
- 메틸 메타크릴레이트 148.5g
- 부틸 아크릴레이트 346.5g
- 트리메틸실릴 메타크릴레이트 49.5g
- t-부틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노에이트 (=TBPEH, Akzo-Nobel사에 의해 Trigonox 21S라는 명칭으로 판매중) 9.9g (전체 모노머 중량의 2%)
온도를 90℃로 유지하면서 상기 예비 혼합물을 상기 반응 용기에 적가하였다 (전체 시간 = 3시간). 상기 예비 혼합물을 첨가한 때로부터 30분 경과 후, 0.1% TBPEH 45분 간격으로 5회 더 첨가하였다. 마지막으로 첨가하고나서 15분 경과 후, 1시간 동안 온도를 120℃까지 증가시켰다. 냉각 후, 바인더 용액을 크실렌 98g을 사용하여 14dPa.s.의 점도로 희석하였다.
헥사메틸시클로트리실록산 66.5g 및 Amberlyst A15 수지 1g을 상기 바인더에 첨가하였다. 실온에서 5시간 방치 후, 상기 촉매를 여과하고, 크실렌을 사용하여 상기 바인더를 14dPa.s.의 점도로 희석하였다.
얻어진 폴리머의 NMR 스펙트럼은 노나메틸-1-메타크릴로일옥시-테트라실록산을 중합하여 얻어진 폴리머의 NMR 스펙트럼과 일치하였다.
반응성이 적고 중합반응이 용이하게 일어나는 실릴 메타크릴레이트 또는 그의 폴리머 또는 코폴리머와 함께 헥사메틸시클로트리실록산의 텔로머화가 수행될 수 있음이 놀랍게도 발견되었다. 완전한 변환이 관찰되었고(GC), 형성된 폴리실릴 메타크릴레이트의 올리고머화도 관찰되지 않았다. 상기 생성물은 증류에 의해 쉽게 정제되었다. 상기 폴리머가 합성된 경우, 단순히 촉매를 제거함으로써 분리되었다.
본 발명에 따른 제조방법은 일단계 공정이라는 장점을 갖는다. 더욱이 상기 반응 공정에서, 부식성 물질의 배출은 없다. 얻어진 생성물의 정제는 직접적이고, 생성된 폴리디메틸 실록산의 분자량의 제어도 우수하다. 더욱이 폴리디알킬실록산 유닛은 상기 반응 중에 분획화되거나 올리고머화 되지 않는다.
본 발명을 특정 실시예를 참조로 구체적으로 기술하였지만, 본 발명의 개념 및 범위를 벗어나지 않고 다양한 변경 및 수정이 행해질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.

Claims (23)

  1. 하기 화학식 I의 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머의 폴리머를 포함한 방오 코팅 조성물:
    <화학식 I>
    Figure 112011007916133-pat00005
    식중, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 독립적으로, 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬옥시기를 나타내고,
    R7은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -COOR9을 나타내고, 식중 R9는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기를 나타내며,
    R8은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -CH2-CO2-(SiR4R5O)n-SiR1R2R3을 나타내고, 그리고
    n은 3 내지 12의 수를 나타낸다.
  2. 하기 화학식 I의 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머의 코폴리머를 포함한 방오 코팅 조성물:
    <화학식 I>
    Figure 112011007916133-pat00008
    식중, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 독립적으로, 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬옥시기를 나타내고,
    R7은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -COOR9을 나타내고, 식중 R9는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기를 나타내며,
    R8은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -CH2-CO2-(SiR4R5O)n-SiR1R2R3을 나타내고, 그리고
    n은 3 내지 12의 수를 나타낸다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 식중, R1, R2, R3, R4, R5 및 R9이 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 이소부틸, n-부틸, sec-부틸, 및 t-부틸로 이루어진 군으로부터 각각 독립적으로 선택된 것을 특징으로 하는 방오 코팅 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 R1, R2, R3, R4, R5, R8 및 R9이 메틸인 것을 특징으로 하는 방오 코팅 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 n이 3 내지 8의 수를 나타내는 것을 특징으로 하는 방오 코팅 조성물.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, n이 3인 것을 특징으로 하는 방오 코팅 조성물.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머가 노나메틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나에틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-t-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나벤질-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-이소부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-아밀-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-n-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-도데실-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-헥실-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-페닐-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 노나-옥틸-1-(메트)아크릴로일옥시-테트라실록산, 운데카메틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카에틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-t-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카벤질-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-이소부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-아밀-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-n-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-도데실-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-헥실-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-페닐-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 운데카-옥틸-1-(메트)아크릴로일옥시-펜타실록산, 트리데카메틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카에틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-t-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카벤질-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-n-프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-이소프로필-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-아밀-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-n-부틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-도데실-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-헥실-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 트리데카-페닐-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산, 및 트리데카-옥틸-1-(메트)아크릴로일옥시-헥사실록산으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 방오 코팅 조성물.
  10. 삭제
  11. 제2항에 있어서, 상기 폴리오르가노실릴화 카르복실레이트 모노머의 코폴리머가 아크릴산 에스테르, 메타크릴산 에스테르, 스타이렌, 비닐 에스테르, 비닐톨루엔, 알파-메틸스타이렌, 크로톤산 에스테르, 및 이타콘산 에스테르로 이루어진 비닐 모노머로부터 선택되는 다른 모노머와의 코폴리머인 것임을 특징으로 하는 방오 코팅 조성물.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 코모노머 유닛으로서 하기 화학식 I의 모노머를 포함하는 방오 코팅 조성물 바인더:
    <화학식 I>
    Figure 112011007916133-pat00009
    식중, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 독립적으로, 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬옥시기를 나타내고,
    R7은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -COOR9을 나타내고, 식중 R9는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기를 나타내며,
    R8은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -CH2-CO2-(SiR4R5O)n-SiR1R2R3을 나타내고, 그리고
    n은 3 내지 12의 수를 나타낸다.
  15. 제14항에 따른 바인더를 포함하는 방오 코팅 조성물.
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 하기 화학식 II의 모노머의 중합에 의하여 제조된 폴리머와 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산의 반응으로부터 제조된 폴리머:
    <화학식 II>
    Figure 112011007916133-pat00006
    여기서, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 독립적으로, 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기, 또는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬옥시기를 나타내고,
    R6은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기, 또는 -CH2-CO2-SiR1R2R3을 나타내며,
    R7은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -COOR9을 나타내고, 식중 R9는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기를 나타내며, 그리고
    상기 n은 3 내지 12의 수를 나타낸다.
  19. 하기 화학식 II의 모노머의 공중합에 의하여 제조된 코폴리머와 화학식 (R4R5SiO)n의 시클로실록산의 반응으로부터 제조된 코폴리머:
    <화학식 II>
    Figure 112011007916133-pat00007
    여기서, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 독립적으로, 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기, 또는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬옥시기를 나타내고,
    R6은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기, 또는 -CH2-CO2-SiR1R2R3을 나타내며,
    R7은 수소, 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기 또는 -COOR9을 나타내고, 식중 R9는 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬기를 나타내며, 그리고
    상기 n은 3 내지 12의 수를 나타낸다.
  20. 제18항에 따른 폴리머를 포함하는 방오 코팅 조성물.
  21. 제19항에 따른 코폴리머를 포함하는 방오 코팅 조성물.
  22. 삭제
  23. 삭제
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK1795551T3 (da) * 2002-07-10 2010-03-08 Sigmakalon Services B V Polyorganosilylerede carboxylatmonomerer og polymerer samt fremgangsmåde til fremstilling deraf
US7781575B2 (en) 2002-11-14 2010-08-24 Dharmacon, Inc. siRNA targeting tumor protein 53 (p53)
EP1614722A1 (en) * 2004-07-07 2006-01-11 SigmaKalon B.V. Hydrolysable binders and compositions
KR100772653B1 (ko) * 2005-10-14 2007-11-02 주식회사 휘닉스피디이 플라즈마 디스플레이 패널용 감광성 무연 격벽 유리 조성물및 이를 포함하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이패널
DE102008041601A1 (de) 2008-08-27 2010-03-04 Evonik Goldschmidt Gmbh Verfahren zur Herstellung verzweigter SiH-funtioneller Polysiloxane und deren Verwendung zur Herstellung flüssiger, SiC- oder SiOC-verknüpfter, verzweigter organomodifizierter Polysiloxane
JP5282526B2 (ja) 2008-10-29 2013-09-04 信越化学工業株式会社 嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法
JP5278040B2 (ja) * 2009-02-27 2013-09-04 信越化学工業株式会社 嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法
CN101838393B (zh) * 2010-04-29 2012-04-04 山东大学 一种高分子量乙基聚硅氧烷的合成方法
JP4769331B1 (ja) * 2010-08-25 2011-09-07 日東化成株式会社 防汚塗料組成物、防汚塗料組成物用共重合体、該組成物を用いて形成される防汚塗膜を表面に有する塗装物
WO2015012148A1 (ja) * 2013-07-24 2015-01-29 日東化成株式会社 防汚塗料組成物、防汚塗料組成物用共重合体、該組成物を用いて形成される防汚塗膜、該塗膜を表面に有する塗装物、及び該塗膜を形成する防汚処理方法
US20180273793A1 (en) * 2015-12-21 2018-09-27 Nippon Soda Co., Ltd. Coating agent
US11679412B2 (en) 2016-06-13 2023-06-20 Gvd Corporation Methods for plasma depositing polymers comprising cyclic siloxanes and related compositions and articles
WO2017218561A1 (en) 2016-06-13 2017-12-21 Gvd Coproraton Methods for plasma depositing polymers comprising cyclic siloxanes and related compositions and articles
JP6638958B2 (ja) * 2016-11-09 2020-02-05 中国塗料株式会社 防汚塗料組成物、防汚塗膜、防汚塗膜付き基材及びその製造方法、並びに防汚方法
CN111065642A (zh) * 2017-09-22 2020-04-24 3M创新有限公司 环状硅氧烷、组合物、方法和制品
CN116574427B (zh) * 2023-03-09 2024-03-19 浙江飞鲸新材料科技股份有限公司 海洋钢结构长效防护多层环氧重防腐涂层及制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10168088A (ja) * 1996-12-06 1998-06-23 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd オルガノペンタシロキサンの製造方法
JPH11212289A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Canon Inc 電子写真感光体

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL128599C (ko) * 1963-08-07 1970-04-15
US4593055A (en) 1983-01-17 1986-06-03 M&T Chemicals Inc. Erodible ship-bottom paints for control of marine fouling
US5481122A (en) * 1994-07-25 1996-01-02 Industrial Technology Research Institute Surface light emitting diode with electrically conductive window layer
MY115462A (en) 1995-06-01 2003-06-30 Chugoku Marine Paints Antifouling coating composition, coating film formed from said antifouling coating composition, antifouling method using said antifouling coating composition and hull or underwater structure coated with said coating film
JPH10168089A (ja) * 1996-12-04 1998-06-23 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd １−アシルオキシ−オルガノテトラシロキサンおよびその製造方法
US6031019A (en) * 1997-02-07 2000-02-29 Kao Corporation Aqueous ink for ink-jet printing
JPH10245451A (ja) * 1997-03-05 1998-09-14 Nok Corp アクリルゴムまたはそれのブレンドゴムの組成物
US6057562A (en) * 1997-04-18 2000-05-02 Epistar Corp. High efficiency light emitting diode with distributed Bragg reflector
JP3763667B2 (ja) * 1998-04-23 2006-04-05 株式会社東芝 半導体発光素子
JP2001223384A (ja) * 2000-02-08 2001-08-17 Toshiba Corp 半導体発光素子
DK1795551T3 (da) * 2002-07-10 2010-03-08 Sigmakalon Services B V Polyorganosilylerede carboxylatmonomerer og polymerer samt fremgangsmåde til fremstilling deraf

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10168088A (ja) * 1996-12-06 1998-06-23 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd オルガノペンタシロキサンの製造方法
JPH11212289A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Canon Inc 電子写真感光体

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