ES2274446T3 - Sistemas de acelerador para el curado a baja temperatura de compuestos de resinas epoxidicas. - Google Patents
Sistemas de acelerador para el curado a baja temperatura de compuestos de resinas epoxidicas. Download PDFInfo
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Abstract
Composición que comprende como componente A) un compuesto de 2-naftol sustituido con 1-imidazolilmetilo de la fórmula general (I) en la que R1, R2 y R3 son cada uno independientemente entre sí H; alquilo C1-17; cicloalquilo C3-12, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; cicloalquil-C4-20-alquilo, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; arilo C6-10, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; fenilalquilo C7-15, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; alquenilo C3-17; alquinilo C3-12; o acilo C3-12 aromático o alifático; R4, R5, R6, R7, R8, y R9 son cada uno independientemente entre sí H; alquilo C1-12; cicloalquilo C3-12, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; cicloalquil-C4-20-alquilo, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; arilo C6-10, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; fenilalquilo C7-15, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; alquenilo C3-17; alquinilo C3-12; alcoxilo C1-12; u OH; y comocomponente B) un fenol que es líquido a temperatura ambiente, siendo la razón en peso de componente A) con respecto a componente B) de desde 10:90 hasta 80:20.
Description
Sistemas de acelerador para el curado a baja
temperatura de compuestos de resinas epoxídicas.
La invención se refiere a bases de Mannich
novedosas a base de compuestos de 2-naftol
sustituidos con 1-imidazolilmetilo modificados y
también a su uso como aceleradores para sistemas de resinas
epoxídicas que permite altos valores de ILS en materiales
laminados, particularmente para la impregnación mediante el método
de laminación en húmedo ("wet layup") y otros métodos de
impregnación. Los aceleradores descritos son adecuados
adicionalmente para aplicaciones de compuestos de moldeo por
compresión, resina para colada y polvo sinterizado realizadas a
temperaturas inferiores a 200ºC, en particular en el intervalo de
temperatura de 150ºC a 180ºC.
Se conoce el compuesto
1-imidazolilmetil-2-naftol
y otros aceleradores y catalizadores de imidazol en relación con
las resinas epoxídicas.
Sin embargo, los imidazoles utilizados
habitualmente tales como imidazol, 1-metilimidazol,
2-metilimidazol,
2-etil-4-metilimidazol
o incluso 2-fenilimidazoles, en muchas formulaciones
de resina epoxídica producen estabilidades en almacenamiento
inadecuadas de los materiales preimpregnados (tiempos de reposo para
abreviar) a temperatura ambiente cuando se emplean en formulaciones
de materiales preimpregnados.
En el pasado se han hecho intentos para
solucionar este problema buscando reducir la reactividad de los
imidazoles mediante la formación de sales con ácidos orgánicos o
inorgánicos: véanse los documentos US 3.356.645 y US 5.001.212, por
ejemplo. Aunque se lograron mejoras en los tiempos de reposo en esos
casos, todavía no son suficientes para muchas aplicaciones.
Otro modo de aumentar los tiempos de reposo es
formar complejos de imidazol haciendo reaccionar los imidazoles con
sales metálicas: véanse los documentos US 4.101.514 y US 4.487.914,
por ejemplo. En términos generales, la mejora en los tiempos de
reposo que puede lograrse de esta manera se obtiene a expensas de un
aumento en las temperaturas de tratamiento. Además, los complejos
metálicos presentes en el sistema de resina epoxídica curada
conducen a un deterioro en los valores dieléctricos y también a un
aumento en la absorción de agua. Sin embargo, en muchas
aplicaciones se requiere que no haya ningún cambio sustancial en la
absorción de agua, ya que de otro modo la temperatura de transición
vítrea puede disminuir, lo que conduce a un cambio considerable de
las propiedades mecánicas, eléctricas y térmicas del componente
impregnado.
El documento EP 0 761 709 describe compuestos de
2-naftol sustituidos con
1-imidazolilmetilo como catalizadores que hacen
posible evitar sustancialmente las desventajas descritas en las
citas anteriores. Los compuestos en cuestión son bases de Mannich
estables que en sistemas de resinas epoxídicas conducen a una mejora
marcada del tiempo de reposo del sistema global a temperatura
ambiente. Una formulación que comprende un catalizador de este tipo
puede curarse rápidamente en el intervalo de temperatura de entre
110ºC y 150ºC. Los materiales de este tipo muestran buenas
propiedades mecánicas con intervalos de transición vítrea
relativamente elevados. Los materiales preimpregnados que
comprenden tales catalizadores pueden almacenarse sin problemas
durante hasta 16 días a temperatura ambiente y tratarse para dar
laminados.
Los métodos establecidos para producir
componentes con precios favorables de gran área superficial incluyen
el método de laminación en húmedo y otros métodos de impregnación.
Por motivos de coste, el objetivo son las temperaturas inferiores a
100ºC durante la operación de impregnación. Por motivos de mayor
facilidad de manejo, los productos semiterminados fabricados de
esta manera (materiales preimpregnados) deben tener una estabilidad
en almacenamiento relativamente larga a temperatura ambiente, lo que
significa que debe poderse realizar una conversión libre de
problemas del material preimpregnado en el material laminado tras el
almacenamiento durante cuatro
días.
días.
Cuando los materiales laminados producidos de
esta manera se emplean en instalaciones de producción de energía,
al someterse los materiales laminados a movimientos giratorios y
fuerzas de corte durante su uso, es necesaria una cierta cantidad
mínima de adhesión entre las capas individuales que componen el
material laminado. Una medición de esta adhesión es lo que se
conoce como resistencia al corte interlaminar, también denominada
ILS ("Interlaminar shear strenght") para abreviar, que se
determina según la norma ASTM (ASTM D 2344-84). Por
tanto, un valor de ILS máximo es un objetivo para tales
aplicaciones.
Ahora se ha encontrado que
1-(imidazolil-2-metil)-2-naftol
permite estabilidades en almacenamiento excepcionales a temperatura
ambiente en formulaciones de materiales preimpregnados pero no
valores de resistencia al corte interlaminar muy elevados. El valor
máximo que puede alcanzarse es de aproximadamente 22 MPa,
independientemente de si el curado se lleva a cabo a 60ºC durante
cuatro horas, a 75ºC durante cuatro horas, a 75ºC durante ocho
horas o a 140ºC durante 30 minutos.
Ahora se ha encontrado sorprendentemente que
ciertas composiciones de compuestos de 2-naftol
sustituidos con
1-imidazolil-2-metilo
con fenoles tienen un perfil de propiedades que permite su uso
ventajoso como aceleradores para sistemas de resinas epoxídicas,
particularmente en el contexto del método de laminación en húmedo y
otros métodos de impregnación. En particular es posible alcanzar de
este modo aumentos del valor de ILS de hasta 50 MPa.
Por consiguiente, la invención proporciona en
primer lugar composiciones que comprenden como componente A) un
compuesto de 2-naftol sustituido con
1-imidazolilmetilo de la fórmula general (I)
en la
que
R_{1}, R_{2} y R_{3} son cada uno
independientemente entre sí H; alquilo C_{1-17};
cicloalquilo C_{3-12}, opcionalmente sustituido
por grupos alquilo C_{1-4};
cicloalquil-C_{4-20}-alquilo,
opcionalmente sustituido por grupos alquilo
C_{1-4}; arilo C_{6-10},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; fenilalquilo C_{7-15},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; alquenilo C_{3-17};
alquinilo C_{3-12}; o acilo
C_{3-12} aromático o alifático;
R_{4}, R_{5}, R_{6}, R_{7}, R_{8}, y
R_{9} son cada uno independientemente entre sí H; alquilo
C_{1-12}; cicloalquilo C_{3-12},
opcionalmente sustituido por grupos alquilo
C_{1-4};
cicloalquil-C_{4-20}-alquilo,
opcionalmente sustituido por grupos alquilo
C_{1-4}; arilo C_{6-10},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; fenilalquilo C_{7-15},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; alquenilo C_{3-17};
alquinilo C_{3-12}; alcoxilo
C_{1-12}; u OH; y
como componente B) un fenol que es líquido a
temperatura ambiente (TA = de 15 a 35ºC), siendo la razón en peso
(en % en peso) de componente A) con respecto a componente B) de
desde 10:90 hasta 80:20, preferiblemente desde 20:80 hasta 70:30,
más preferiblemente desde 25:75 hasta 50:50.
Como componente A) se da preferencia a
compuestos de la fórmula general (I) para los que los radicales
R_{1}, R_{2} y R_{3} son cada uno independientemente entre sí
H; alquilo C_{1-12}; fenilo; o fenilalquilo
C_{7-15}, opcionalmente sustituido por
1-3 grupos alquilo C_{1-4}; se da
preferencia particular a compuestos en los que R_{2} y R_{3}
son cada uno H; y R_{1} es alquilo C_{1-12};
fenilo; o fenilalquilo C_{7-15}, opcionalmente
sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}.
Se da preferencia particular como componente A)
a compuestos de la fórmula general (I) para los que los radicales
R_{2} a R_{9} son un átomo de hidrógeno y el radical R_{1} es
alquilo C_{1-4} (metilo, etilo,
n,i-propilo, n,i,t-butilo), o
fenilo, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos
alquilo C_{1-4}.
Como componente B) se prefiere utilizar
1,4-n-pentil-,
-n-hexil-, -n-heptil-,
-n-octil-, -n-nonil-, y
-n-decilfenol, y se da preferencia particular a usar
un O,O'-dialil-bisfenol A.
La fracción de derivado de naftol debe ser
preferiblemente de al menos el 20% en peso en la composición de
componentes A) y B) con el fin de evitar reducciones sustanciales en
el intervalo de transición vítrea de la formulación curada como
resultado del fenol.
Para preparar las composiciones de la invención,
se prepara en primer lugar un 2-naftol sustituido
con 1-imidazolilmetilo tal como se describe, por
ejemplo, en el documento EP 0 761 709. Luego se introduce
ventajosamente el fenol deseado (componente B) y se añade el naftol
a él, y se agita la mezcla de manera íntima a una temperatura
elevada de 160ºC, por ejemplo, durante desde cuatro hasta 6 horas.
Dependiendo de la elección de los componentes y de la razón de
mezclado elegida, los productos son líquidos de viscosos a de alta
viscosidad o sólidos. La naturaleza de la composición obtenida
también puede describirse como una disolución sólida del naftol en
el fenol. Cuando se añade al menos aproximadamente el 20% en peso de
un fenol a los naftoles, el cambio en el perfil de propiedades del
naftol así "modificado" ya es tan significativo que las
composiciones de este tipo tienen un perfil de propiedades que es
suficiente para su uso ventajoso en materiales preimpregnados. Las
composiciones que se ha encontrado que son particularmente
ventajosas son las que tienen un exceso de ligero a marcado (en %
en peso) de
fenol.
fenol.
Tal como se mencionó al principio, las
composiciones de la invención son adecuadas como aceleradores para
sistemas de resinas epoxídicas curables.
Por tanto, la invención proporciona además
composiciones de resina epoxídica curables que comprenden
a) una resina epoxídica cuyo contenido en
epóxido es de desde 0,1 hasta 11, preferiblemente desde 0,1 hasta
2,2, equivalentes de epóxido/kg,
b) una composición que comprende como componente
A) un compuesto de 2-naftol sustituido con
1-imidazolilmetilo de la fórmula general (I)
anterior y como componente B) un fenol que es líquido a temperatura
ambiente
(TA = de 15 a 35ºC) tal como, por ejemplo, n-pentil-, n-hexil-, n-heptil-, n-octil-, n-nonil-, n-decilfenol, en particular un O,O'-dialil-bisfenol A, siendo la razón en peso (% en peso) de componente A) con respecto a componente B) de desde 10:90 hasta 80:20, preferiblemente desde 20:80 hasta 70:30, más preferiblemente desde 25:75 hasta 50:50,
(TA = de 15 a 35ºC) tal como, por ejemplo, n-pentil-, n-hexil-, n-heptil-, n-octil-, n-nonil-, n-decilfenol, en particular un O,O'-dialil-bisfenol A, siendo la razón en peso (% en peso) de componente A) con respecto a componente B) de desde 10:90 hasta 80:20, preferiblemente desde 20:80 hasta 70:30, más preferiblemente desde 25:75 hasta 50:50,
c) un agente de curado para la resina epoxídica,
y opcionalmente
d) un aditivo habitual en la tecnología de las
resinas epoxídicas.
En principio, todas las resinas epoxídicas son
adecuadas como componente (a).
Ejemplos adecuados incluyen diglicidil o
poliglicidil éteres de polioles cicloalifáticos, tales como
2,2-bis(4'-hidroxiciclohexil)propano,
diglicidil o poliglicidil éteres de fenoles polihidroxilados, tales
como resorcinol,
bis(4'-hidroxifenil)metano (bisfenol
F),
2,2-bis(4'-hidroxifenil)-propano
(bisfenol A),
2,2-bis(4'-hidroxi-3',5'-dibromofenil)propano,
1,1,2,2-tetrakis(4'-hidroxifenil)etano,
o productos de condensación de fenoles con formaldehído, tales como
novolacas de fenol y novolacas de cresol; adicionalmente, di o
poli(\beta-metilglicidil) éteres de los
polialcoholes y polifenoles mencionados anteriormente; ésteres
poliglicidílicos y ésteres
poli(\beta-metilglicidílicos) de ácidos
carboxílicos polibásicos tales como ácido ftálico, ácido
tereftálico, tetrahidroftálico y ácido hexahidroftálico; derivados
de glicidilo de aminofenoles, tales como
triglicidil-p-aminofenol; derivados
de N-glicidilo de aminas, amidas y bases de
nitrógeno heterocíclicas, tales como
N,N-diglicidilanilina,
N,N-diglicidiltoluidina,
N,N,N',N'-tetraglicidil-bis(4-aminofenil)metano,
isocianurato de triglicidilo,
N,N-diglicidil-N,N'-etilenurea,
N,N'-diglicidil-5,5-dimetilhidantoína,
N,N'-diglicidil-5-isopropilhidantoína,
N,N'-diglicidil-5,5-dimetil-6-isopropil-5,6-dihidrouracilo;
resinas epoxídicas polifuncionales, tales como los
4-epoxipropilfenilglicidil éteres
2,6-disustituidos y aductos de los mismos que se
describen en los documentos EP-A 205 409 y
EP-A 204 659; bisfenoles tales como los sustituidos
en cada caso con dos grupos glicidiloxilo y grupos
2,3-epoxipropilo, tales como el
2,2-bis(3'-epoxipropil-4'-epoxipropilfenil)propano
descrito en el documento GB 828364; derivados de glicidilo de
ciclohexanoles, ciclohexanonas, ciclopentanoles y ciclopentanonas
sustituidos con tetrametilol, tales como los compuestos descritos en
el documento US 4.549.008; benzofenonas sustituidas con
glicidiloxilo; y glicidiloxidicetonas, tales como los compuestos
descritos en el documento US 4.649.181.
En general, también es posible utilizar mezclas
de dos o más resinas epoxídicas como componentes en las
formulaciones de la invención.
Las resinas epoxídicas adecuadas incluyen
preferiblemente glicidil éteres tales como bisfenol A o F, ésteres
glicidílicos, derivados de N-glicidilo y
N,O-glicidilo de compuestos aromáticos o
heterocíclicos, y también compuestos de glicidilo cicloalifáticos.
Preferiblemente tienen una funcionalidad de desde 0,1 hasta 2,2
equivalentes de epóxido/kg.
Como agentes de curado, o componente (c), en
principio pueden utilizarse todos los agentes de curado que son
habituales en la química de resinas epoxídicas, tales como aminas,
diciandiamida, cianoguanidinas, melaminas, novolacas, incluyendo
novolacas de cresol, polioles y anhídridos, por ejemplo.
Como agente de curado se prefiere utilizar
aminas y poliaminas, siendo ejemplos aquellas del tipo Jeffamine, y
otras. Ejemplos que pueden mencionarse incluyen o, m, y
p-fenilendiamina; diaminotoluenos, tales como
2,4-diaminotolueno,
1,4-diamino-2-metoxibenceno,
2,5-diaminoxileno,
1,3-diamino-4-clorobenceno,
4,4'-diaminodifenilmetano,
4,4'-diaminodifenil éter,
4,4'-diaminodifenil tioéter,
4,4'-diaminodifenilsulfona,
2,2'-diaminobenzofenona, 1,8 ó
1,5-diaminonaftaleno,
2,6-diaminopiridina, 1,4-piperazina,
2,4-diaminopirimidina,
2,4-diamino-s-triazina,
di, tri, tetra, hexa, hepta, octa, y decametilendiamina,
3-metilheptametilen-1,6-diamina,
3-metoxihexametilendiamina,
2,11-diaminododecano, 2,2,4 y
2,4,4-trimetilhexametilendiamina,
1,2-bis(3-aminopropoxi)etano,
N,N'-dimetiletilendiamina,
N,N'-dimetil-1,6-diaminohexano
y también las diaminas de las fórmulas
H_{2}N(CH_{2})_{3}O(CH_{2})_{2}O(CH_{2})_{3}-NH_{2}
y
H_{2}N(CH_{2})_{3}S(CH_{2})_{3}NH_{2},
1,4-diaminociclohexano,
1,4-bis(2-metil-4-aminopentil)benceno,
1,4-bis(aminometil)benceno.
Aminas adecuadas adicionalmente son las diaminas
aromáticas carbocíclicas, especialmente diaminas dinucleares
sustituidas, tales como
bis(3,5-diisopropil-4-aminofenil)metano,
bis(2-cloro-3,5-dietil-4-aminofenil)metano,
bis(3-etil-4-amino-5-sec-butilfenil)metano,
bis(2-cloro-3,5-dietil-4-aminofenil)metano
y
bis(3,5-dietil-4-aminofenil)metano,
por ejemplo.
Adecuadas adicionalmente son
propano-1,3-diamina,
m-xilenodiamina,
bis(4-aminociclohexil)-propano,
3-aminometil-3,5,5-trimetilciclohexilamina
(isoforondiamina), poliaminoamidas, siendo ejemplos aquellas que
consisten en poliaminas alifáticas y ácidos grasos dimerizados o
trimerizados; polifenoles, tales como resorcinol, hidroquinona,
bisfenol A y resinas de fenol/aldehído, y también politioles tales
como los "Thiokol" por ejemplo.
Se da preferencia particular a diaminas o
poliaminas, polialquilenglicoles terminados en amino y
polioxipropilendiaminas (por ejemplo, Jeffamines, en este caso
Jeffamine D 230, amino-poli-THF) o
poliaminoamidas, especialmente dimeros o copolímeros de
propilenglicol y etilenglicol, polibutadienos terminados en amino
con pesos moleculares en el intervalo de desde aproximadamente 150
hasta 5000, en particular desde 200 hasta 600.
Como componente d) opcional pueden utilizarse
aditivos habituales en la tecnología de las resinas epoxídicas. Por
ellos se entienden los aditivos y compuestos auxiliares habituales
que un experto en la técnica conoce y utiliza con respecto a la
aplicación particular. Los ejemplos incluyen cargas y pigmentos
orgánicos e inorgánicos, agentes de desmoldeo, y aditivos que
influyen en la viscosidad.
Para preparar las composiciones curables de la
invención pueden disolverse previamente los aceleradores de la
invención en el agente de curado, generalmente a temperaturas
elevadas: por ejemplo, cuando se utiliza una Jeffamine, a
aproximadamente 80ºC. Las disoluciones de este tipo pueden enfriarse
hasta 40ºC y luego mezclarse con la resina epoxídica. Estas mezclas
pueden utilizarse entonces directamente como disoluciones de
impregnación. Otra posibilidad es dispersar previamente las
composiciones de la invención de manera homogénea en la resina
epoxídica, por medio de, por ejemplo, agitadores adecuados, tales
como un aparato Ultra-Turrax o molino de tres
cilindros.
cilindros.
Los compuestos de la invención se utilizan
ventajosamente a desde 5 hasta 40 partes en peso, preferiblemente
desde 5 hasta 30 partes en peso, basándose en la formulación global
que comprende resina epoxídica, agente de curado, acelerador y,
cuando se utilizan, aditivos. Es particularmente ventajoso utilizar
desde 5 hasta 20 partes en peso. Los agentes de curado se emplean
en las cantidades habituales, que por tanto deben calculares de tal
manera que en promedio por grupo epóxido haya desde 0,5 hasta 1,5,
preferiblemente desde 0,8 hasta 1,2, grupos funcionales del agente
de curado. En principio pueden utilizarse aditivos y compuestos
auxiliares en amplios intervalos de cantidad, siempre que sea
posible sin un aumento significativo de la viscosidad de las
composiciones
deseadas.
deseadas.
Los materiales preimpregnados que comprenden
sistemas de acelerador de la invención de este tipo tienen la
capacidad para proporcionar un valor de ILS de hasta 50 MPa. En
consecuencia, los aceleradores de la invención son particularmente
adecuados para su uso en formulaciones de resina epoxídica que se
emplean como compuestos de moldeo por compresión, polvos
sinterizados, sistemas de encapsulación, resinas para colada y para
producir materiales preimpregnados y materiales laminados mediante
el método de laminación en húmedo y métodos de inyección,
especialmente para producir componentes de gran área
superficial.
Se carga el componente de fenol en un recipiente
y luego se añade el componente de naftol. Las cantidades utilizadas
pueden observarse en la tabla 1 a continuación. Se agita la mezcla a
160ºC durante 4 horas. Esto proporciona líquidos de viscosos a de
alta viscosidad de coloración rojo oscuro a negro o sólidos.
\vskip1.000000\baselineskip
^{1)} | 1-imidazolilmetil-2-naftol (de Vantico AG); |
^{2)} | Dialilbisfenol A (de Vantico AG); |
^{3)} | \begin{minipage}[t]{150mm} ng = no medido, nm = no medible a 60^{o}C, viscosidad determinada con un aparato Rheometrix RD2 con ajuste placa/placa.\end{minipage} |
\newpage
Se disuelven los productos de la sección
experimental a) anterior a temperaturas de entre 60ºC y 80ºC en el
agente de curado de amina (en este caso Jeffamine®
D-230). Esto proporciona disoluciones transparentes
de color marrón oscuro. Tras enfriar hasta temperatura ambiente, se
mezcla esta disolución con la cantidad calculada de resina
epoxídica. Para detalles, véase la tabla 2 a continuación:
\vskip1.000000\baselineskip
^{1)} | Araldite LY 556 | Resina de bisfenol A (Vantico AG) |
^{2)} | Amina | Jeffamine® D-230 |
^{3)} | Acelerador | 1-imidazolilmetil-2-naftol (Vantico AG) |
^{4)} | E2 | Experimento 2 (véase la tabla 1) |
^{5)} | Preparación | Preparación de materiales preimpregnados y materiales laminados tras un número de |
días | ||
^{6)} | Material preimpregnado | Número de capas = 12 |
^{7)} | Contenido en resina | Contenido en resina en porcentaje tras haber prensado los materiales laminados |
^{8)} | Almacenamiento | A de 20ºC a 25ºC = TA |
^{9)} | F_{max} | Resistencia límite (carga de rotura) con respecto a la norma ASTM D 2344 |
^{10)} | \sigma_{max} | Resistencia al corte con respecto a la norma ASTM D 2344 |
Valor de ILS a) | Resistencia al corte interlaminar (ILS) tras 30 min. a 140ºC | |
Valor de ILS b) | Resistencia al corte interlaminar (ILS) tras 4 h a 75ºC | |
Valor de ILS c) | Resistencia al corte interlaminar (ILS) tras 8 h a 75ºC | |
Valor de ILS d) | Resistencia al corte interlaminar (ILS) tras 4 h a 60ºC |
Resultan sorprendentes las resistencias al corte
interlaminar muy buenas que pueden obtenerse con los aceleradores
de la invención en el intervalo de temperatura inferior
(60ºC-75ºC/4-8 horas). Los valores
encontrados son sustancialmente superiores que en el caso del
sistema de comparación.
Claims (12)
1. Composición que comprende como
componente A) un compuesto de 2-naftol sustituido
con 1-imidazolilmetilo de la fórmula general
(I)
en la
que
R_{1}, R_{2} y R_{3} son cada uno
independientemente entre sí H; alquilo C_{1-17};
cicloalquilo C_{3-12}, opcionalmente sustituido
por grupos alquilo C_{1-4};
cicloalquil-C_{4-20}-alquilo,
opcionalmente sustituido por grupos alquilo
C_{1-4}; arilo C_{6-10},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; fenilalquilo C_{7-15},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; alquenilo C_{3-17};
alquinilo C_{3-12}; o acilo
C_{3-12} aromático o alifático;
R_{4}, R_{5}, R_{6}, R_{7}, R_{8}, y
R_{9} son cada uno independientemente entre sí H; alquilo
C_{1-12}; cicloalquilo C_{3-12},
opcionalmente sustituido por grupos alquilo
C_{1-4};
cicloalquil-C_{4-20}-alquilo,
opcionalmente sustituido por grupos alquilo
C_{1-4}; arilo C_{6-10},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; fenilalquilo C_{7-15},
opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}; alquenilo C_{3-17};
alquinilo C_{3-12}; alcoxilo
C_{1-12}; u OH; y
como componente B) un fenol que es líquido a
temperatura ambiente, siendo la razón en peso de componente A) con
respecto a componente B) de desde 10:90 hasta 80:20.
2. Composición según la reivindicación
1, que comprende como componente A) un compuesto en el que los
radicales R_{1}, R_{2} y R_{3} son cada uno independientemente
entre sí H; alquilo C_{1-12}; fenilo; o
fenilalquilo C_{7-15}, opcionalmente sustituido
por 1-3 grupos alquilo
C_{1-4}.
3. Composición según la reivindicación
2, que comprende como componente A) un compuesto en el que R_{2} y
R_{3} son cada uno H; y R_{1} es alquilo
C_{1-12}; fenilo; o fenilalquilo
C_{7-15}, opcionalmente sustituido por
1-3 grupos alquilo C_{1-4}.
4. Composición según la reivindicación
3, que comprende como componente A) un compuesto de la fórmula
general (I) en el que los radicales R_{2} a R_{9} son un átomo
de hidrógeno y el radical R_{1} es alquilo
C_{1-4}, o fenilo, opcionalmente sustituido por
1-3 grupos alquilo C_{1-4}.
5. Composición según la reivindicación
1, caracterizada porque se utiliza,
1,4-n-pentil-,
-n-hexil-, -n-heptil-,
-n-octil-, -n-nonil-,
-n-decilfenol o
O,O'-dialil-bisfenol A como
componente B).
6. Composición según la reivindicación
1, caracterizada porque la razón en peso de componente A) con
respecto a componente B) es de desde 20:80 hasta 70:30,
preferiblemente desde 25:75 hasta 50:50.
7. Uso de una composición según la
reivindicación 1 como acelerador en composiciones de resina
epoxídica.
8. Composición curable que comprende
a) una resina epoxídica cuyo contenido en
epóxido es de desde 0,1 hasta 11 equivalentes de epóxido/kg,
b) desde 5 hasta 40 partes en peso, basado en la
composición global de componentes a) a d), de una composición según
la reivindicación 1,
c) un agente de curado para la resina epoxídica,
calculado de tal manera que por cada grupo epóxido hay desde 0,5
hasta 1,5 grupos funcionales del agente de curado, y
opcionalmente
d) un aditivo habitual en la tecnología de las
resinas epoxídicas.
9. Composición según la reivindicación
8, caracterizada porque el agente de curado se selecciona de
aminas, preferiblemente de diaminas y poliaminas.
10. Composición según la reivindicación 7,
caracterizada porque el agente de curado es una
polioxipropilendiamina.
11. Composición según la reivindicación 8,
caracterizada porque la resina epoxídica es un derivado de
glicidil éter, éster glicidílico, N-glicidilo o
N,O-glicidilo de un compuesto aromático o
heterocíclico, o un compuesto de glicidilo cicloalifático.
12. Uso de una composición curable según la
reivindicación 6, como compuesto de moldeo por compresión, polvo
sinterizado, sistema de encapsulación, resina para colada, para
producir materiales preimpregnados y materiales laminados
utilizando métodos de impregnación o métodos de inyección, para
producir componentes, especialmente componentes de gran área
superficial.
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US4105667A (en) | 1970-07-17 | 1978-08-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Imidazole type curing agents |
CH621810A5 (es) * | 1976-06-17 | 1981-02-27 | Ciba Geigy Ag | |
JPS562315A (en) * | 1979-06-22 | 1981-01-12 | Shigeo Kiyono | Cure accelerating liquid composition containing amine |
CA1206687A (en) * | 1982-02-08 | 1986-06-24 | Celanese Corporation | Polyol/imidazole curing agents for epoxy resins |
GB8304581D0 (en) | 1983-02-18 | 1983-03-23 | Secr Defence | Curing agents for epoxy resins |
US4549008A (en) | 1983-08-23 | 1985-10-22 | Ciba-Geigy Corporation | Novel tetraglycidyl ethers |
DE3479810D1 (en) * | 1983-08-24 | 1989-10-26 | Ciba Geigy Ag | Method of producing prepregs and composite materials reinforced therewith |
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EP0197892B1 (de) * | 1985-04-02 | 1989-10-18 | Ciba-Geigy Ag | Härtbare Gemische |
DE3682537D1 (de) | 1985-06-06 | 1992-01-02 | Ciba Geigy Ag | Polyepoxide und deren verwendung. |
US4652398A (en) * | 1985-09-12 | 1987-03-24 | Stauffer Chemical Company | Rapid curing, thermally stable adhesive composition comprising epoxy resin, polyimide, reactive solvent, and crosslinker |
JPS6361016A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-17 | New Japan Chem Co Ltd | エポキシ樹脂硬化剤組成物 |
US5001212A (en) | 1988-06-28 | 1991-03-19 | Skw Trostberg Aktiengesellschaft | Additive for heat-hardenable epoxide resin masses |
FI91062C (fi) * | 1988-12-28 | 1994-05-10 | Eisai Co Ltd | Menetelmä lääkeaineena käyttökelpoisten naftaleenijohdannaisten valmistamiseksi |
DE69133280T2 (de) * | 1990-05-21 | 2004-05-06 | Dow Global Technologies, Inc., Midland | Latente Katalysatoren, Härtungsinhibierte Epoxyharzzusammensetzungen und daraus hergestellte Laminate |
US5912308A (en) * | 1994-11-30 | 1999-06-15 | Alliedsignal Inc. | Multifunctional cyanate ester and epoxy blends |
US5591811A (en) * | 1995-09-12 | 1997-01-07 | Ciba-Geigy Corporation | 1-imidazolylmethyl-2-naphthols as catalysts for curing epoxy resins |
US6245835B1 (en) * | 1996-02-29 | 2001-06-12 | The Dow Chemical Company | Polymeric amines and reactive epoxy polymer compositions |
JP2000007891A (ja) * | 1998-04-22 | 2000-01-11 | Asahi Chiba Kk | 新規液状エポキシ樹脂組成物、その硬化物並びに半導体封止装置 |
US6617399B2 (en) * | 1999-12-17 | 2003-09-09 | Henkel Loctite Corporation | Thermosetting resin compositions comprising epoxy resins, adhesion promoters, curatives based on the combination of nitrogen compounds and transition metal complexes, and polysulfide tougheners |
JP2003026766A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | New Japan Chem Co Ltd | エポキシ系反応性希釈剤及び該希釈剤を含む液状エポキシ樹脂組成物 |
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