EP3743546A1 - Vorrichtung zum verbinden eines suszeptors mit einer antriebswelle - Google Patents

Vorrichtung zum verbinden eines suszeptors mit einer antriebswelle

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Publication number
EP3743546A1
EP3743546A1 EP19702036.5A EP19702036A EP3743546A1 EP 3743546 A1 EP3743546 A1 EP 3743546A1 EP 19702036 A EP19702036 A EP 19702036A EP 3743546 A1 EP3743546 A1 EP 3743546A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
susceptor
drive shaft
base plate
support plate
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
EP19702036.5A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Torsten Werner BASTKE
Francisco Ruda Y Witt
Mike PFISTERER
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aixtron SE
Original Assignee
Aixtron SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aixtron SE filed Critical Aixtron SE
Publication of EP3743546A1 publication Critical patent/EP3743546A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth
    • C30B25/12Substrate holders or susceptors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
    • C23C16/4584Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally the substrate being rotated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
    • C23C16/4586Elements in the interior of the support, e.g. electrodes, heating or cooling devices

Definitions

  • the invention relates to a device for fastening a susceptor of a CVD reactor to a drive shaft, comprising a support plate having a support surface on which a support surface of the susceptor can be placed, and a base plate which is connectable to the drive shaft is and from the support plate is supported position adjustable.
  • the invention further relates to a CVD reactor having a reactor housing, a susceptor and a drive shaft connected to a susceptor carrier.
  • a CVD reactor is known from US Pat. No. 9,765,427 B2, in the reactor housing of which a susceptor is arranged.
  • the susceptor carries a plurality of substrate carriers which are rotatable about an axis.
  • the susceptor is connected to a susceptor carrier with the end face of a shaft. Means are provided for adjusting the position of the susceptor relative to the shaft.
  • a CVD reactor of the generic type is used for depositing III-V layers and in particular for depositing Galliumnitrit harshen on substrates.
  • the diameter of a susceptor of a generic CVD reactor can be 30 cm and more.
  • the distance between a process chamber ceiling and the bottom of the process chamber formed by the susceptor is about 10 to 50 mm, preferably 30 to 40 mm.
  • the gas is fed into the process chamber through a gas inlet element arranged in the center of the process chamber, with which a hydride of the V main group and an organometallic compound of the III main group are fed separately into the process chamber.
  • a gas inlet element arranged in the center of the process chamber, with which a hydride of the V main group and an organometallic compound of the III main group are fed separately into the process chamber.
  • the wafers produced in a batch which are arranged in a circle around the center of the process chamber on the susceptor, must be coated in a uniform manner.
  • the coating takes place in that the process gases introduced into the process chamber decompose pyrolytically, in particular on the heated surface of the substrates.
  • an as exact as possible parallel position of susceptor surface and underside of a reactor ceiling is required.
  • the reactor cover preferably extends in a plane of rotation of the drive shaft, which rotates the susceptor.
  • a susceptor of a generic CVD reactor has a support surface facing down and resting on a support surface of a susceptor support carried by the drive shaft. Due to manufacturing tolerances, the support surface usually does not run exactly parallel to the top side of the susceptor, which forms the bottom of the process chamber. The Suszeptorley must therefore have means to adjust the inclination of the susceptor relative to the drive shaft can.
  • the invention has for its object to further develop a generic Suszeptoris nutzsvorteilhaft. [0008]
  • the object is achieved by the invention specified in the claims, wherein the subclaims represent not only advantageous developments of the independent claims 1 and 16, but also independent solutions to the problem.
  • the susceptor carrier have three elements arranged axially one after the other with respect to the axis of the drive shaft.
  • a lower element is attached to the drive shaft.
  • This lower element carries a central element, which rests in particular on a plane surface of the lower element.
  • the central element in turn carries an upper element, which forms the support surface on which the susceptor is supported.
  • Means are provided to be able to adjust at least the inclination position of the upper element with respect to the central element.
  • the lower element is preferably a flange element which can be fastened to the drive shaft.
  • the drive element can also be attached to the drive shaft.
  • the flange is in particular permanently attached to the drive shaft.
  • the central element which forms a base plate and the associated, formed by a support plate upper element can be removed from the flange and detachably connected to the Flanschele- ment.
  • the support plate can be positionally adjusted relative to the base plate by means of the adjusting elements outside of the CVD reactor housing. It is thus possible to perform a pre-adjustment outside the reactor housing, in which, for example, the support surface of the support plate is brought into a parallel position to a contact surface of the base plate, with which the base plate rests on the support surface of the flange element.
  • the position of the support plate relative to the base plate can thus be pre-adjusted in a first step.
  • the ensemble consisting of support plate and base plate can be used as a unit in the process chamber, wherein the bearing surface of the base plate lies on the support surface of the flange element. Subsequently, the sus- With its support surface, the zeptor can be placed on the support surface of the support plate. But it is also possible to connect the existing support plate and base plate ensemble outside with the susceptor and then introduce the module so formed in the CVD reactor and set up on the support surface of the support element. Before the final position adjustment takes place, the base plate can be connected to the flange element. For this purpose, fastening means are provided. These are releasable fasteners.
  • the fastening means may have a plurality of screws which are inserted into fixing holes of the base plate and are screwed into threaded bores of the flange element.
  • the fastening screws can have heads which are inserted in enlarged-diameter sections of the fastening bores.
  • the fastening bores are thus in particular stepped bores within the base plate.
  • the fastening bores and the threaded bores preferably extend parallel to the axis of the drive shaft.
  • One of the base plate pioneering end face of the support plate may have a central region, which is in particular of the support surface to give.
  • Through-openings may be arranged in this central region through which the fastening screws can be inserted, if they are to be inserted into the fastening bores and screwed into the threaded bores of the flange element.
  • the diameter-enlarged sections of the fastening bores preferably have such an axial depth that the screw heads find complete acceptance there.
  • the means for adjusting the inclination of the support surface relative to the support surface of the base plate, which rests on the bearing surface of the flange, may preferably be accessible from the central region forth.
  • the means for adjusting the inclination can preferably be actuated with a tool which acts in the direction of the drive axle.
  • the inclination adjustment means may be screws whose threaded engagement holes are accessible from the central area.
  • These screws preferably extend parallel to the axis of the drive shaft. It may be grub screws. It may be provided a leverage to make the position adjustment sensitive. In order to avoid static overdeterminations, three means for tilt adjustment arranged at an angular distance of 120 ° are provided, these means in particular having levers extending in the radial direction.
  • the levers form adjustment levers, which are preferably supported on the base plate.
  • a short lever arm can be directed in the radial outward direction.
  • a long lever arm may be directed radially inward. The short lever arm engages in the radially outer region on the underside of the support plate.
  • the long lever arm preferably acts an adjusting screw, which is in particular formed by a grub screw and which is screwed into a threaded bore of the central region.
  • the adjusting screw which acts on the long lever arm, preferably has a frontally rounded shaft, which rests in a recess of the long lever arm.
  • the support plate is subjected to force in the direction of the baseplate.
  • tension elements may be screws that are screwed into sliding blocks that can move in a bearing recess of the base plate in the axial direction.
  • the flange element can be connected by means of suitable fastening means, in particular with an end section of the drive shaft.
  • the flange is connected via clamping elements with the drive shaft.
  • the clamping elements can act on an outer lateral surface of the drive shaft.
  • Two clamping jaws can be provided, which can be displaced toward each other with a clamping element, for example a clamping screw. In a clamping position, the jaws act clampingly together with the drive shaft. It can be in Radially extending screws, in particular grub screws, which perform the function of clamping screws, which can be brought against the outer lateral surface of the drive shaft.
  • the susceptor is a carrier of a multiplicity of substrate carriers.
  • Each substrate carrier carries one or more substrates and is located in a pocket of the susceptor.
  • In the bottom of the bag opens a gas supply line through which a carrier gas can be fed into the bag.
  • the carrier gas forms a gas bearing on which the Suszeptorlie rests rotatably.
  • the gas outlet nozzle in the bottom of the pocket has such a direction that the gas emerging from it causes the substrate carrier to rotate.
  • the gas supply lines extend in the radial direction from a central opening of the susceptor to the gas outlet openings at the bottom of the pockets.
  • the support plate has gas passages extending in the radial direction, which open into the supporting surface.
  • the gas ducts may open into a cylinder shell wall of the support plate. They are aligned with the flow channels in the susceptor, through which the gas is transported to the pockets.
  • the gas channels within the support plate have gas inlet openings which lie on the underside of the support plate. It is provided, in particular, that there is an extension on the underside of the support plate, which forms an axial end face in which open the gas ducts. Gas inlet openings are formed in one plane, through which the inert gas can be fed into the gas channels and subsequently the flow channels.
  • the plane in which the gas inlet openings lie is preferably a bottom plane of a cavity.
  • a seal having gas passage openings which is aligned with the gas inlet openings of the gas channels.
  • the seal lies between the plane in which the gas inlet openings are located and an end face of the drive shaft, which has an axial cavity through which the gas into the gas passage openings of the seal and then into the gas passages can flow.
  • the seal is made of a flexible material.
  • the extension formed by the underside of the support plate engages in a central bore of the baseplate.
  • the underside of the support plate is spaced from an upper surface of the base plate by a gap.
  • the outer edge of the underside of the support plate rests on upwardly facing extensions of the short lever arms of the adjustment lever.
  • the upper side of the support plate has an annular ridge along the outer edge following a circular contour line. This ring land can engage in an annular recess of the underside of the susceptor.
  • An orientation element for example an orientation pin, is preferably provided, which is assigned to the upper side of the support plate and which corresponds to a counter-orientation element, for example an orientation opening on the underside of the susceptor. This ensures that the susceptor can be assigned to the susceptor carrier only in a single rotational position.
  • the flange element, the base plate and the support plate are preferably made of metal. They can be made of stainless steel. But they can also be made of another metal and be coated.
  • the seal is preferably made of rubber, so that it is a rubber seal.
  • the flange assembly ie the support plate, relative to the base plate or the drive shaft or the shaft to which the flange is attached, can be repeatedly adjusted without the rubber seal wears.
  • the rubber seal is thus clamped between the support plate, base plate or flange element or shaft or drive shaft such that gas-tightness exists.
  • the shaft or the drive shaft may be open at the top.
  • the drive shaft or the shaft may be closed at the end, the closure plate closing the end face having openings which are aligned with the gas inlet openings of the flow channel in the support plate.
  • a flexible seal such as a polymer seal, which can develop a restoring force, but can also plastically deformable seal, for example a graphite seal, be used.
  • At least one adjustment lever is provided which is mounted on a bearing point and starting from the bearing point has a long lever arm and a short lever arm, wherein the long Lever arm an adjusting element, for example, an adjusting screw engages, with which a gap between the base plate and the support plate is adjustable gap width, wherein the bearing point of either the support plate or the base plate is assigned net, and the short lever arm engages the other plate, on wel cher other plate preferably also the actuator is attached.
  • the invention further relates to a device for attaching a susceptor of a CVD reactor to a drive shaft, with a connectable to the drive shaft via a screw base plate and a spaced from the base plate by a gap support plate which carries the susceptor and the opposite the base plate is positionally variable, wherein the support plate has a with a mounting hole of the base plate for the passage of the screw aligned through opening.
  • Such a device can carry the susceptor in particular with the interposition of an annular support element, the support element being supported on a bottom surface of a central region of the support plate.
  • a support piece associated with the susceptor can support, which carries an annular susceptor plate.
  • the edge region of a clamping piece can be supported, which is connected to a clamping element, in particular a pull rod, with the drive shaft or traction unit.
  • the annular support element forms a cavity, which is connected via the insertion opening and the gap with a space below the susceptor, in which a heating device is located.
  • closure means are provided which close the insertion opening.
  • the insertion opening is preferably detachably closed by a closure means.
  • a plug in each of the one or more insertion openings a plug is inserted, which closes the insertion opening sealing.
  • the plug can have a cylinder-shaped sealing surface, which bears sealingly against the cylinder inner surface of the insertion opening.
  • a sealing element for example an O-ring, is arranged between the jacket wall of the plug and the inner wall of the push-through opening.
  • the jacket wall of the plug can also have an external thread which is screwed into an internal thread of the wall of the insertion opening or which has self-tapping threads.
  • the plug may also have a head whose diameter is larger than the diameter of the Through opening, so that the plug can be supported with the head on a bottom surface of the central region of the support plate.
  • the support element having a tubular shape has a wall thickness such that the underside of the support element completely closes the insertion opening. The underside of the support element then forms a sealing surface.
  • the extending through the support plate gas channels Mün each in an axial gas channel extending through the support member to the Mün in the gas channels of the susceptor or the support piece to.
  • the support element is in particular releasably connected to the support plate.
  • the screw with which the base plate is connected to the drive shaft may be screwed into an internal thread of a flange, which is fixed to the drive shaft.
  • FIG. 1 is a perspective view of a susceptor
  • FIG. 2 shows the susceptor carrier shown in FIG. 1 in the view
  • FIG. 3 shows the section according to the line III-III in FIG. 2
  • FIG. 3a shows a cutaway perspective view according to FIG. 3
  • FIG. 4 shows a broken perspective view of the susceptor carrier 1,
  • 5 is a first exploded view
  • 6 is a second exploded view
  • FIG. 7 shows an overview in cross section through a reactor housing 30, in which a susceptor carrier 1 connects a drive shaft 40 to a susceptor 31,
  • Fig. 11 shows a second embodiment of the invention in the form of a
  • FIG. 12 shows a representation according to FIG. 11 of a third exemplary embodiment
  • FIG. 13 shows a representation according to FIG. 11 of a fourth exemplary embodiment.
  • a CVD reactor according to the invention has a reactor housing 30 which closes a process chamber arranged inside the reactor housing 30 in a gas-tight manner to the outside.
  • a gas inlet element 37 is provided, with which process gases can be fed into the process chamber. Exhaust gases can emerge from the process chamber through a gas outlet 39. through a pump connected to the gas outlet 39 can evacuate the process chamber.
  • a hollow drive shaft 40 Through which an inert gas can flow.
  • a susceptor carrier 1 On an upper end of the drive shaft 40, a susceptor carrier 1 is fixed, which carries the susceptor 31.
  • the susceptor 31 has a central opening made of graphite, in particular coated graphite or a metal, has in the radial direction away from the central opening extending flow channels 35 and one or more arranged around the center of the susceptor 31 substrate carrier 36. Die Substrate carriers 36 rest on a bearing surface, which may be the bottom of a pocket.
  • the flow channels 35 open into the bearing surface in such a way that the inert gas emerging from flow channels 35 on the one hand forms a gas cushion on which the substrate carriers rest and on the other hand causes the substrate carrier to rotate.
  • the susceptor 31 can be rotated by rotating the drive shaft 40.
  • the gas inlet member 37 has a plurality of gas inlet channels for introducing mutually different process gases into the process chamber, which extends between an upper side of the susceptor 31 and an underside of a ceiling plate 38.
  • the process chamber height a between the lower side of the ceiling panel 38 and the upper side of the susceptor 31 is 20 to 50 mm, preferably 30 to 40 mm, in the exemplary embodiment about 32 to 35 mm.
  • the diameter of the top plate 38 and the diameter of the susceptor 31 are greater than 30 cm.
  • the susceptor support 1 has means with which the inclination position of the susceptor 31 can be adjusted relative to the axis of the drive shaft 40, so that the process chamber height a can be standardized over the entire circumference of the susceptor 31.
  • the Suszeptorlie 1 has a flange 4, which can be connected to the upwardly facing end of the drive shaft 40.
  • the flange element 4 is an annular body with a radial slot 26 which cuts through the ring.
  • the two opposing halves of the ring of the flange element 4 formed by the slot form clamping jaws 41, which can be displaced towards one another by means of a clamping screw 25, wherein the gap 26 is reduced.
  • clamping screws 28 which can be screwed in the radial direction into threaded bores of the flange element 4.
  • the threaded holes are assigned to the two clamping jaws 41.
  • the tips of the clamping screws 28 may be supported on an outer circumferential surface of the drive shaft 40. But it is also envisaged that the rounded clamping jaws 41 lie flat against the outer circumferential surface of the drive shaft 40 and are held in a clamping fit by means of the clamping screw 25.
  • the grub screws 28 are then used essentially for axial securing.
  • An upwardly facing surface of the flange element 4 forms a bearing surface 4 ', which preferably lies exactly in a plane of rotation of the drive shaft 40. From the bearing surface 4 'go out three threaded holes 7, in the fastening screws 8 can be screwed.
  • a base plate 3 has a bearing surface 3 ", which can be placed flat on the bearing surface 4 '.
  • the base plate 3 can be connected to the flange element 4 by means of the fastening screws 8.
  • the base plate 3 is provided for this purpose Mounting holes extending in the axial direction of the drive shaft 40, which have an upper, enlarged diameter portion 9 'The shaft of the screw 8 penetrates the mounting hole 9, so that the head 8' of the screw 8 completely in the upper portion 9 'of Mounting hole 9 is located.
  • the base plate 3 has a central cavity through which an upper portion of the drive shaft 40 can protrude. While the drive shaft 40 projects from below into the central opening of the base plate, an extension 42 of a support plate 2 projects from above into the central cavity.
  • the extension 42 forms a downwardly open cavity, on the bottom of a seal 21 is located.
  • the other side of the seal 21 is acted upon by the end face of the drive shaft 40.
  • the drive shaft 40 has a plurality of flow channels 45 extending in its axial direction.
  • tension members 11 are provided, which apply force to the support plate 2 in the direction of the base plate 3.
  • tension members 11 There are three particular in gleichze- FLOWING scope V grant to a center of the support plate 2 or the base plate 3 arranged pulling elements 11 is provided.
  • the tension elements 11 generate a force with which the seal 21 is acted upon.
  • the seal 21 has a plurality of gas passage openings 22 which are aligned with gas inlet openings of gas channels 23 which extend within the support plate 2. These gas inlet openings connect the gas channels 23 to gas outlet openings 24.
  • the gas channels 23 have first sections which extend in the axial direction and which open into second sections which extend in the radial direction. The second sections are sealed to the cylinder jacket outer wall of the support plate 2 with plugs. The second sections open into third sections, which extend in the axial direction and form the gas outlet openings 24, which lie in an end face of the support plate 2, through which an inert gas can flow into the flow channels 35 of the susceptor 31.
  • the flow channels 45 are aligned with the gas passage openings 22, so that a gas can be fed into the support plate 2 through the flow channels 45.
  • the tension element 11 is formed by a threaded screw which is inserted in a bore 22 of the support element 2 and which projects through a bore 13 of the base plate 3 and which ends in a subsequent to the bore 13 bearing recess 13 '.
  • the end of the screw is screwed into a non-circular sliding block 14, which can move in the bearing recess 13 'in the axial direction.
  • the bearing recess 13 ' has a bottom, on which a spring element 15 is supported.
  • the spring element 15 is acted upon by sliding stone 14.
  • the spring element 15 is formed by a compression spring element. The latter are stacked disc springs.
  • the adjustment lever 16 has a downwardly directed bearing portion 16 'which is mounted on a Bottom of Lagerausneh- mung 20 is stored.
  • Three bearing recesses 20 are provided, which are each formed by a radial cut in the upper side 3 '.
  • the bearing recess 20 is a rectangular cross-section groove which extends in the radial direction.
  • the adjusting lever 16 has a radially outwardly pointing short lever arm 17, the upwardly facing extension engages the edge of the bottom 2 below.
  • At the pointing radially inward long lever arm 18 engages an adjusting screw 19.
  • the adjustment screw 19 is a grub screw which is screwed into a threaded bore of a central region 6 of the support plate 2.
  • the central region 6 is surrounded by a bearing surface 5, which lies opposite the underside 2.
  • the support surface 5 is in turn surrounded by a ring land 34. On the support surface 5 rests a support surface 32 of the susceptor 31.
  • the gas outlet openings 24 lie in the support surface 5 and are aligned with gas inlet openings of the flow channel 35, which extends through the susceptor 31.
  • the susceptor 31 is shown in several parts in the drawings. But it can also be integrally formed.
  • the adjustment means 19 for adjusting the tilt position of the support plate 2 opposite to the base plate 3 can by means of a suitable tool, examples game as a screw W erkzeuges, be adjusted. They are accessible in particular through the central opening of the susceptor 31.
  • the susceptor support 1 When replacing a susceptor removed, for example for the purpose of cleaning or replacement, from the reactor housing 30, the susceptor support 1 can first be pre-adjusted outside the CVD reactor housing 30 by bringing the underside of the base plate 3 into a parallel position to the support surface 5 becomes. Subsequently, the ensemble consisting of support plate 2 and base plate 3 can be inserted into the reactor housing 30. In this case, the bearing surface 3 "is placed on the bearing surface 4 'of the flange element 4.
  • the bearing surface 4' preferably extends exactly in the plane of rotation of the drive shaft 40, so that the pre-adjusted bearing surface 5 is likewise in a plane of rotation of the drive shaft 40
  • the fastening of the base plate 3 with the flange element 4 takes place by means of the screws 8 which are accessible from the central region 6 and are screwed into threaded bores 7 of the flange element 4.
  • the assignment of the fastening screws 8 takes place through the through-openings 10 of the support plate 2, which engage with the mounting Holes 9 of the base plate 3 and the threaded holes 7 of the flange 4 are aligned.
  • Fine adjustment takes place after placement of the susceptor 31 on the support plate 2.
  • the downwardly facing support surface 32 of the susceptor 31 is supported on the support surface 5 from.
  • the adjusting element that is, in particular the adjusting screw 19
  • the central hollow of the susceptor 31 so that the inclination position of the susceptor 31 changes such that its upper side lies in the plane of rotation and in particular parallel to the bottom of the process chamber ceiling 8.
  • FIGS. 11, 12 and 13 show a second aspect of the invention.
  • a drive shaft 40 is connected to a base plate 3.
  • the base plate 3 carries a support plate 2, wherein the measures already described above are provided to te the support plate 2 relative to the Grundplat- 3 to adjust.
  • adjusting means are provided with which the inclination position of the support plate 2 relative to the base plate 3 is adjustable.
  • the support plate 2 is spaced from the base plate 3 by a gap 53.
  • This gap 53 extends in a horizontal plane and opens into an annular gap 54 which surrounds the support plate 2 and opens into a space extending below the susceptor 31.
  • Heating element 51 with which a susceptor plate of the susceptor 31 is heated, which is annular and supports on a support piece 49.
  • the support piece 49 is again supported by a tubular support element 47, which is supported on a bottom surface 6 'of the support plate 2.
  • the support element 7 forms an annular cavity into which through-openings 10 open, which are flow-connected to the gap 53, so that the central cavity is flow-connected to the space below the susceptor 31 ,
  • the annular edge of a clamping piece 48 which is connected to a tensioning element 50 with the drive shaft 40 or with a tensioning means arranged below the drive shaft 40, rests on an annular edge of the susceptor plate in order to apply tension to the tensioning element 50 exercise.
  • the clamping piece 48 is formed in the embodiment of a pull plate.
  • the stopper 46 shown in FIG. 11 which is the through-opening 10, which is aligned with a fastening bore 9 in which a fastening screw 8 is inserted, the flow connection between the central cavity and the space below the susceptor 31 closed.
  • the fastening screw 8 can be inserted through the insertion opening 10 into the fastening opening 9.
  • the threaded portion of the fastening screw 8 is then screwed into a threaded bore 7 of a flange 4, which is fixed to the drive shaft 40.
  • the closure means shown in the drawings seal the through-openings 10 detachably.
  • the plug 10 has a cylindrical sealing area which engages in the through opening 10.
  • the sealing area is located on the wall of the cylindrical through-opening 10 with an elastic contact pressure.
  • a head of the plug 46 has areas that project radially beyond the sealing surface and can rest on the bottom surface 6 'in order to hold the plug 10 axially in the fastening bore 9 ,
  • the embodiment shown in Figure 13 differs from the embodiment shown in Figure 11 essentially in that the sealing means is an O-ring 52 which rests in an annular groove of the cylindrical lateral surface of the plug 46.
  • the compressed O-ring 52 can be sealingly supported on the wall of the insertion opening 10.
  • the tubular support element 47 has a wall thickness such that an underside of the support element 47 forms a sealing surface 47 'which completely closes the through-opening 10.
  • the radial extension of the central opening below the clamping piece 48, through which the clamping element 50 extends, that is to say the diameter thereof, is smaller in the exemplary embodiment shown in FIG. 12 than in the exemplary embodiments illustrated in FIGS. 11 and 13.
  • the plug can have alternative designs.
  • it can have an external thread, which is screwed into an internal thread of the wall of the through-opening 10. It can be a self-sealing thread.
  • the stopper may also have a self-tapping thread which, when the stopper is screwed in, fens 46 digs into the smooth-walled wall of the insertion opening 10.
  • the diameter-enlarged edge of the head can form a sealing surface.
  • a device which is characterized by a flange element 4 carried by the drive shaft 40 and / or attachable to the drive shaft 40, to which the base plate 3 can be fastened or fastened with releasable fastening means 7, 8, 9.
  • a device which is characterized in that the fastening means 7, 8, 9 have a plurality of screws 8, which are inserted into fastening bores 9 of the base plate 3 and are screwed into threaded bores 7 of the flange element 4.
  • Base plate 4 cybersecurity end face of the support plate 2 has a central region 6, in the through-openings 10 for passing through the fastening screws 8 are arranged.
  • a device which is characterized in that the support surface 5 surrounds the central region 6.
  • a device which is characterized by adjusting means 16, 17, 18, 19 for adjusting the inclination of the support surface 5 with respect to a bearing surface 3 "of the base plate 3 resting on a bearing surface 4 'of the flange element and / or can be placed.
  • a device which is characterized in that the flange element 4 has one or more clamping screws 28 which can be brought radially against the outer circumferential surface of the drive shaft 4.
  • a device characterized in that the adjustment means are adjustment levers 16, which are supported on the base plate 3 and engage with a short lever arm 17 on the underside 2 'of the support plate 2 and the one long lever arm 18 have, on which a screwed into a threaded bore of the central portion 6 screw 19 acts.
  • a device which is characterized by the support plate 2 in the direction of the base plate 3 kraftbeier tode tension elements 11, 14, 15th
  • a device which is characterized by gas channels 23 arranged in the support plate 2 which connect gas inlet openings with gas outlet openings 24 assigned to a lower side 2 'of the support plate 2.
  • a device which is characterized by a flexible seal 21 which is located in a recess 43 of the extension 2 associated with the underside 2 'of the support plate 2 and which has gas passage openings 22 aligned with the gas inlet openings and which projects onto the end face of the drive shaft - le 40 can be placed.
  • a device which is characterized by a ring web 34 surrounding the support surface 5.
  • a device which is characterized by a position-adjusting element 33 arranged in the region of the bearing surface 5, in particular in the form of an orientation tapping pin.
  • a CVD reactor characterized in that the susceptor 31 is connected to the drive shaft 40 by a device according to any of claims 1 to 15, the susceptor 31 having a central opening defined by the Support surface 32 is surrounded and whose diameter corresponds approximately to the diameter of the central region 6.
  • a device which is characterized by the attachment of a susceptor 31 of a CVD reactor to a drive shaft 40 with three in the axial direction of the drive shaft 40 superimposed elements, wherein a lower element is connected to the drive shaft 40 and carries a central element and the middle element is arranged between the lower and an upper element, the upper element being opposite to the middle one Element is positionally adjustable and has means for fixing the susceptor 31 up.
  • a device which is characterized by at least one closure means 46, 47 ', with which the insertion opening 10 is closed.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Befestigung eines Suszeptors (31) eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle (40), mit der der Suszeptor (31) in eine Drehung versetzt werden kann. Die Antriebswelle (40) trägt eine Grundplatte (3), an der eine Tragplatte (2) befestigt ist, die den Suszeptor (31) trägt. Über Einstellhebel (16) kann die Neigung der Tragplatte (2) gegenüber der Grundplatte (3) eingestellt werden. Die Tragplatte (2) ist mit einer Schraube (8) mit einem Flanschelement (4) verbunden. Eine fluchtend zur Schraube (8) angeordnete Durchstecköffnung (10) ist mit einem Stopfen (46) verschlossen.

Description

Beschreibung
Vorrichtung zum Verbinden eines Suszeptors mit einer Antriebswelle
Gebiet der Technik
[0001] Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Befestigung eines Suszep- tors eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle, mit einer Tragplatte, die eine Tragfläche aufweist, auf der eine Stützfläche des Suszeptors auflegbar ist, und mit einer Grundplatte, die mit der Antriebswelle verbindbar ist und von der die Tragplatte lagejustierbar getragen wird.
[0002] Die Erfindung betrifft darüber hinaus einen CVD-Reaktor mit einem Reaktorgehäuse, einem Suszeptor und einer mit einem Suszeptorträger ver- bundenen Antriebswelle.
Stand der Technik
[0003] Einen CVD-Reaktor mit einem Suszeptor, der an einer drehbaren An- triebswelle befestigt ist und mit Mitteln zur Lagejustierung der Antriebswelle beschreibt die US 2008/0017117 Al.
[0004] Aus der US 9,765,427 B2 ist ein CVD-Reaktor vorbekannt, in dessen Re- aktorgehäuse ein Suszeptor angeordnet ist. Der Suszeptor trägt eine Vielzahl von Substratträgern, die um eine Achse drehangetrieben werden können. Der Suszeptor ist mit einem Suszeptorträger mit der Stirnseite eines Schaftes ver- bunden. Es sind Mittel vorgesehen, um die Lage des Suszeptors gegenüber dem Schaft zu justieren.
[0005] Zum Stand der Technik gehören ferner die WO 2018/022577 Al, US 2003/0029384 Al, US 5,762,544 A und US 2016/0138159 Al. [0006] Ein CVD-Reaktor der gattungsgemäßen Art dient zum Abscheiden von III-V-Schichten und insbesondere zum Abscheiden von Galliumnitritschichten auf Substraten. Der Durchmesser eines Suszeptors eines gattungs gemäßen CVD-Reaktors kann 30 cm und mehr betragen. Der Abstand zwischen einer Prozesskammerdecke und dem vom Suszeptor gebildeten Boden der Prozess- kammer beträgt etwa 10 bis 50 mm, bevorzugt 30 bis 40 mm. Die Gaseinspei- sung in die Prozesskammer erfolgt durch ein im Zentrum der Prozesskammer angeordnetes Gaseinlassorgan, mit welchem getrennt voneinander ein Hydrid der V-Hauptgruppe und eine metallorganische Verbindung der III-Haupt- gruppe in die Prozesskammer eingespeist werden. In der industriellen Ferti- gung müssen die in einer Charge produzierten Wafer, die kreisförmig um das Zentrum der Prozesskammer auf dem Suszeptor angeordnet sind, in gleich- bleibender Weise beschichtet werden. Die Beschichtung erfolgt dadurch, dass sich die in die Prozesskammer eingeleiteten Prozessgase insbesondere auf der beheizten Oberfläche der Substrate pyrolytisch zerlegen. Um eine laterale Ho- mogenität der abgeschiedenen Schichten zu erreichen, ist eine möglichst exakte Parallellage von Suszeptoroberfläche und Unterseite einer Reaktordecke erfor- derlich. Die Reaktordecke erstreckt sich bevorzugt in einer Drehebene der An- triebswelle, die den Suszeptor drehantreibt. Ein Suszeptor eines gattungsgemä- ßen CVD-Reaktors besitzt eine Stützfläche, die nach unten weist und die auf einer Tragfläche eines von der Antriebswelle getragenen Suszeptorträgers auf- liegt. Aufgrund von Fertigungstoleranzen verläuft die Stützfläche üblicher- weise nicht exakt parallel zur Oberseite des Suszeptors, die den Boden der Pro- zesskammer bildet. Der Suszeptorträger muss deshalb Mittel aufweisen, um die Neigungslage des Suszeptors gegenüber der Antriebswelle justieren zu können.
Zusammenfassung der Erfindung
[0007] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen gattungsgemäßen Suszeptorträger gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden. [0008] Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Er- findung, wobei die Unteransprüche nicht nur vorteilhafte Weiterbildungen der nebengeordneten Ansprüche 1 und 16 darstellen, sondern auch eigenständige Lösungen der Aufgabe.
[0009] Zunächst und im Wesentlichen wird vorgeschlagen, dass der Suszep- torträger drei bezogen auf die Achse der Antriebswelle axial hintereinander angeordnete Elemente aufweist. Ein unteres Element ist an der Antriebswelle befestigt. Dieses untere Element trägt ein mittleres Element, das insbesondere auf einer Planfläche des unteren Elementes ruht. Das mittlere Element trägt wiederum ein oberes Element, welches die Tragfläche ausbildet, auf der sich der Suszeptor abstützt. Es sind Mittel vorgesehen, um zumindest die Neigungs- lage des oberen Elementes gegenüber dem mittleren Element verstellen zu können. Bevorzugt ist das untere Element ein Flanschelement, welches an der Antriebswelle befestigbar ist. Das Antriebselement kann aber auch an der An- triebswelle befestigt sein. Das Flanschelement ist insbesondere permanent an der Antriebswelle befestigt. Das mittlere Element, welches eine Grundplatte ausbildet und das damit verbundene, von einer Tragplatte ausgebildete obere Element können vom Flanschelement entfernt werden und mit dem Flanschele- ment lösbar verbunden werden. Die Tragplatte kann mittels der Justierelemente außerhalb des CVD-Reaktorgehäuses gegenüber der Grundplatte lagejustiert werden. Es ist somit möglich, außerhalb des Reaktorgehäuses eine Vorjustie- rung vorzunehmen, bei der beispielsweise die Tragfläche der Tragplatte in eine Parallellage zu einer Auflagefläche der Grundplatte gebracht wird, mit der die Grundplatte auf der Tragfläche des Flanschelementes aufliegt. Beim Austau- schen eines Suszeptors aus einem CVD-Reaktor kann somit in einem ersten Schritt die Lage der Tragplatte gegenüber der Grundplatte vorjustiert werden. Das aus Tragplatte und Grundplatte bestehende Ensemble kann als Einheit in die Prozesskammer eingesetzt werden, wobei die Auflagefläche der Grundplat- te auf der Tragfläche des Flanschelementes liegt. Anschließend kann der Sus- zeptor mit seiner Stützfläche auf die Tragfläche der Tragplatte aufgelegt wer- den. Es ist aber auch möglich, das aus Tragplatte und Grundplatte bestehende Ensemble außerhalb mit dem Suszeptor zu verbinden und die so ausgebildete Baugruppe dann in den CVD-Reaktor einzubringen und auf die Tragfläche des Tragelementes aufzusetzen. Bevor die endgültige Lagejustierung erfolgt, kann die Grundplatte mit dem Flanschelement verbunden werden. Hierzu sind Be- festigungsmittel vorgesehen. Es handelt sich um lösbare Befestigungsmittel. Die Befestigungsmittel können mehrere Schrauben aufweisen, die in Befestigungs- bohrungen der Grundplatte stecken und in Gewindebohrungen des Flanschele- mentes eingeschraubt sind. Dabei können die Befestigungsschrauben Köpfe aufweisen, die in durchmesservergrößerten Abschnitten der Befestigungsboh- rungen einliegen. Bei den Befestigungsbohrungen handelt es sich somit insbe- sondere um Stufenbohrungen innerhalb der Grundplatte. Die Befestigungsboh- rungen und die Gewindebohrungen verlaufen bevorzugt parallel zur Achse der Antriebswelle. Eine von der Grundplatte wegweisende Stirnseite der Tragplatte kann einen Zentralbereich aufweisen, der insbesondere von der Tragfläche um geben ist. In diesem Zentralbereich können Durchstecköffnungen angeordnet sein, durch welche die Befestigungsschrauben hindurchgesteckt werden kön- nen, wenn sie in die Befestigungsbohrungen eingesteckt und in die Gewinde- bohrungen des Flanschelementes eingeschraubt werden sollen. Die durchmes- servergrößerten Abschnitte der Befestigungsbohrungen haben bevorzugt eine derartige axiale Tiefe, dass die Schraubenköpfe dort vollständige Aufnahme finden. Die Mittel zur Verstellung der Neigung der Tragfläche gegenüber der Auflagefläche der Grundplatte, die auf der Lagerfläche des Flanschelementes aufliegt, können bevorzugt vom Zentralbereich her zugänglich sein. Die Mittel zur Verstellung der Neigung können bevorzugt mit einem Werkzeug betätigt werden, welches in Richtung der Antriebsachse wirkt. Bei den Mitteln zur Nei- gungsverstellung kann es sich um Schrauben handeln, deren Schraubwerk- zeug-Eingriffs Öffnungen vom Zentralbereich aus zugänglich sind. Diese Schrauben erstrecken sich bevorzugt parallel zur Achse der Antriebswelle. Es kann sich um Madenschrauben handeln. Es kann eine Hebelübersetzung vor- gesehen sein, um die Lagejustierung feinfühliger vornehmen zu können. Zur Vermeidung statischer Überbestimmungen sind drei in einem Winkelabstand von 120° angeordnete Mittel zur Neigungsverstellung vorgesehen, wobei diese Mittel insbesondere sich in Radialrichtung erstreckende Hebel aufweisen. Die Hebel bilden Einstellhebel, die sich bevorzugt an der Grundplatte abstützen. Ein kurzer Hebelarm kann in Radialauswärtsrichtung gerichtet sein. Ein langer Hebelarm kann in Radialeinwärtsrichtung gerichtet sein. Der kurze Hebelarm greift im radial äußeren Bereich an der Unterseite der Tragplatte an. Auf den langen Hebelarm wirkt bevorzugt eine Einstellschraube, die insbesondere von einer Madenschraube ausgebildet ist und die in einer Gewindebohrung des Zentralbereichs eingeschraubt ist. Die Einstellschraube, die auf den langen He- belarm wirkt, besitzt bevorzugt einen stirnseitig abgerundeten Schaft, der in einer Mulde des langen Hebelarmes einliegt. In einer Weiterbildung der Erfin- dung ist vorgesehen, dass die Tragplatte in Richtung auf die Grundplatte kraft- beaufschlagt ist. Hierzu dienen bevorzugt Zugelemente. Bei den Zugelementen kann es sich um Schrauben handeln, die in Gleitsteine eingeschraubt sind, die sich in einer Lagerausnehmung der Grundplatte in Achsrichtung bewegen können. Es sind bevorzugt Federelemente und besonders bevorzugt Druckfe- derelemente vorgesehen, die zwischen einem Gleitstein und einem Boden der Lagerausnehmung angeordnete sind. Es sind bevorzugt drei in gleichmäßiger Winkel Verteilung um das Zentrum der Grundplatte beziehungsweise Tragplat- te angeordnete Zugelemente vorgesehen. Das Flanschelement kann über geeig- nete Befestigungsmittel mit insbesondere einem Endabschnitt der Antriebswel- le verbunden sein. Bevorzugt ist das Flanschelement über Klemmelemente mit der Antriebswelle verbunden. Die Klemmelemente können an einer Außen- mantelfläche der Antriebswelle angreifen. Es können zwei Klemmbacken vor- gesehen sein, die mit einem Klemmelement, beispielsweise einer Klemm- schraube, aufeinander zu verlagerbar sind. In einer Klemmstellung wirken die Klemmbacken klemmend mit der Antriebswelle zusammen. Es können sich in Radialrichtung erstreckende Schrauben, insbesondere Madenschrauben vorge- sehen sein, die die Funktion von Klemmschrauben ausüben, die gegen die Au- ßenmantelfläche der Antriebswelle bringbar sind. Die Klemmschrauben sind insbesondere in Radialrichtung verstellbar. In einer Weiterbildung der Erfin- dung ist vorgesehen, dass der Suszeptor Träger einer Vielzahl von Substratträ- gern ist. Jeder Substratträger trägt ein oder mehrere Substrate und liegt in einer Tasche des Suszeptors ein. In den Boden der Tasche mündet eine Gaszuleitung, durch die ein Trägergas in die Tasche eingespeist werden kann. Das Trägergas bildet ein Gaslager, auf dem der Suszeptorträger drehbeweglich aufliegt. Die Gasaustrittsdüse im Boden der Tasche hat eine derartige Richtung, dass das aus ihr heraustretende Gas den Substratträger in eine Drehung versetzt. Die Gaszu- leitungen verlaufen in Radialrichtung von einer zentralen Öffnung des Suszep- tors hin zu den Gasaustrittsöffnungen am Boden der Taschen. Die Einspeisung des Inertgases erfolgt durch die Tragplatte hindurch. Hierzu weist die Tragplat- te sich in Radialrichtung erstreckende Gaskanäle auf, die in der Tragfläche münden. Es ist aber alternativ auch möglich, dass die Gaskanäle in einer Zylin- dermantelwand der Tragplatte münden. Sie fluchten mit den Strömungskanä- len im Suszeptor, durch die das Gas zu den Taschen transportiert wird. Die Gaskanäle innerhalb der Tragplatte besitzen Gaseintrittsöffnungen, die an der Unterseite der Tragplatte liegen. Es ist insbesondere vorgesehen, dass sich an der Unterseite der Tragplatte ein Fortsatz befindet, der eine axiale Stirnfläche ausbildet, in der die Gaskanäle münden. Es bilden sich in einer Ebene liegende Gaseintrittsöffnungen, durch die das Inertgas in die Gaskanäle und anschlie- ßend die Strömungskanäle eingespeist werden kann. Die Ebene, in der die Gas- eintrittsöffnungen liegen, ist bevorzugt eine Bodenebene einer Höhlung. Es ist eine Dichtung vorgesehen, die Gasdurchtrittsöffnungen aufweist, die mit den Gaseintrittsöffnungen der Gaskanäle fluchtet. Die Dichtung liegt zwischen der Ebene, in der sich die Gaseintrittsöffnungen befinden und einer Stirnseite der Antriebswelle, welche eine axiale Höhlung aufweist, durch die das Gas in die Gasdurchtrittsöffnungen der Dichtung und anschließend in die Gaskanäle strömen kann. Die Dichtung ist aus einem flexiblen Werkstoff gefertigt. Der von der Unterseite der Tragplatte ausgebildete Fortsatz greift in eine zentrale Boh- rung der Grundplatte ein. Die Unterseite der Tragplatte ist von einer Oberseite der Grundplatte durch einen Spalt beabstandet. Der äußere Rand der Unterseite der Tragplatte ruht auf nach oben weisenden Fortsätzen der kurzen Hebelarme der Einstellhebel. Die Oberseite der Tragplatte besitzt entlang des äußeren, ei- ner kreisrunden Konturlinie folgenden Randes einen Ringsteg. Dieser Ringsteg kann in eine Ringausnehmung der Unterseite des Suszeptors eingreifen. Es ist bevorzugt ein Orientierungselement, beispielsweise ein Orientierungszapfen, vorgesehen, der der Oberseite der Tragplatte zugeordnet ist und der mit einem Gegenorientierungselement, beispielsweise einer Orientierungsöffnung an der Unterseite des Suszeptors, korrespondiert. Hierdurch ist sichergestellt, dass der Suszeptor nur in einer einzigen Drehstellung dem Suszeptorträger zugeordnet werden kann. Das Flanschelement, die Grundplatte und die Tragplatte sind bevorzugt aus Metall gefertigt. Sie können aus Edelstahl gefertigt sein. Sie kön- nen aber auch aus einem anderen Metall bestehen und beschichtet sein. Die Dichtung besteht bevorzugt aus Gummi, so dass es sich um eine Gummidich- tung handeln. Sie ist derart elastisch, dass die Flanschanordnung, also die Trag- platte, gegenüber der Grundplatte beziehungsweise der Antriebswelle oder dem Schaft, an dem das Flanschelement befestigt ist, mehrfach verstellt werden kann, ohne dass die Gummidichtung verschleißt. Die Gummidichtung ist der- art zwischen Tragplatte, Grundplatte oder Flanschelement oder Schaft bezie- hungsweise Antriebswelle eingespannt, dass Gasdichtigkeit besteht. Der Schaft beziehungsweise die Antriebswelle kann nach oben hin offen sein. Es ist aber auch möglich, dass die Antriebswelle beziehungsweise der Schaft stirnseitig verschlossen ist, wobei die die Stirnseite verschließende Verschlussplatte Öff- nungen aufweist, die mit den Gaseintrittsöffnungen des Strömungskanals in der Tragplatte fluchten. Anstelle einer flexiblen Dichtung, beispielsweise einer Polymerdichtung, die eine Rückstellkraft entfalten kann, kann aber auch eine plastisch verformbare Dichtung, beispielsweise eine Graphitdichtung, verwen- det werden.
[0010] Zur Lösung der Aufgabe wird insbesondere vorgeschlagen, dass an einer gattungs gemäßen Vorrichtung zur Befestigung eines Suszeptors eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle, mit einer Tragplatte, die eine Tragfläche aufweist, auf der eine Stützfläche des Suszeptors auflegbar ist, und mit einer Grundplatte, die mit einer Antriebswelle verbindbar ist und von der die Trag- platte lagejustierbar getragen wird, zumindest ein Einstellhebel vorgesehen ist, der an einem Lagerpunkt gelagert ist und ausgehend von dem Lagerpunkt ei- nen langen Hebelarm und einen kurzen Hebelarm aufweist, wobei am langen Hebelarm ein Stellelement, beispielsweise eine Stellschraube angreift, mit wel- chem ein Spalt zwischen Grundplatte und Tragplatte spaltweitenverstellbar ist, wobei der Lagerpunkt entweder der Tragplatte oder der Grundplatte zugeord- net ist, und der kurze Hebelarm an der jeweils anderen Platte angreift, an wel- cher anderen Platte bevorzugt auch das Stellelement befestigt ist.
[0011] Die Erfindung betrifft darüber hinaus eine Vorrichtung zum Befestigen eines Suszeptors eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle, mit einer mit der Antriebswelle über eine Schraube verbindbare Grundplatte und eine von der Grundplatte durch einen Spalt beabstandete Tragplatte, die den Suszeptor trägt und die gegenüber der Grundplatte lageveränderbar ist, wobei die Tragplatte eine mit einer Befestigungsbohrung der Grundplatte zum Hindurchtreten der Schraube fluchtende Durchstecköffnung aufweist.
[0012] Eine derartige Vorrichtung kann den Suszeptor insbesondere unter Zwischenschaltung eines ringförmigen Tragelementes tragen, wobei sich das Tragelement auf einer Bodenfläche eines Zentralbereichs der Tragplatte ab- stützt. Auf dem ringförmigen Tragelement, durch welches Gaskanäle hindurch verlaufen können, kann sich ein dem Suszeptor zugeordnetes Tragstück abstüt- zen, welches eine ringförmige Suszeptorplatte trägt. Auf einem Randbereich der ringförmigen Suszeptorplatte kann sich der Randbereich eines Spannstücks abstützen, welches mit einem Spannelement, insbesondere einer Zugstange, mit der Antriebswelle oder Zugaggregat verbunden ist. Das ringförmige Tragele- ment bildet einen Hohlraum aus, der über die Durchstecköffnung und den Spalt mit einem Raum unterseitig des Suszeptors verbunden ist, in dem sich eine Heizeinrichtung befindet.
[0013] Es liegt die Aufgabe vor, Strömungsverbindungen zwischen dem Hohl- raum oberhalb der Tragplatte und dem Raum unterhalb des Suszeptors zu vermeiden.
[0014] Gelöst wird die Aufgabe durch die im Anspruch 18 angegebenen Merk- male, wobei Verschlussmittel vorgesehen sind, die die Durchstecköffnung ver- schließen. Die Durchstecköffnung ist bevorzugt von einem Verschlussmittel lösbar verschlossen.
[0015] In einer ersten Variante der Erfindung ist vorgesehen, dass in den ein oder mehreren Durchstecköffnungen jeweils ein Stopfen eingesteckt ist, der die Durchstecköffnung dichtend verschließt. Der Stopfen kann eine zylinderman- telförmige Dichtfläche aufweisen, die dichtend an der Zylinderinnenfläche der Durchstecköffnung anliegt. Es kann aber auch vorgesehen sein, dass zwischen der Mantelwand des Stopfens und der Innenwand der Durchstecköffnung ein Dichtelement, beispielsweise ein O-Ring, angeordnet ist. Die Mantelwand des Stopfens kann aber auch ein Außengewinde aufweisen, welches in ein Innen- gewinde der Wandung der Durchstecköffnung eingeschraubt ist oder welches selbstschneidende Gewindegänge aufweist. Der Stopfen kann darüber hinaus einen Kopf besitzen, dessen Durchmesser größer ist als der Durchmesser der Durchstecköffnung, so dass sich der Stopfen mit dem Kopf auf einer Bodenflä- che des Zentralbereichs der Tragplatte abstützen kann. In einer Variante der Erfindung besitzt das eine Rohrform aufweisende Tragelement eine derartige Wandstärke, dass die Unterseite des Tragelementes die Durchstecköffnung vollständig verschließt. Die Unterseite des Tragelementes bildet dann eine Dichtfläche aus. Die sich durch die Tragplatte erstreckenden Gaskanäle mün den jeweils in einen axialen Gaskanal, der sich durch das Tragelement erstreckt, um in die Gaskanäle des Suszeptors beziehungsweise des Tragstücks zu mün den. Das Tragelement ist insbesondere lösbar mit der Tragplatte verbunden. Die Schraube, mit der die Grundplatte mit der Antriebswelle verbunden ist, kann in ein Innengewinde eines Flanschelementes eingeschraubt sein, welches an der Antriebswelle befestigt ist.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
[0016] Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand bei- gefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 perspektivisch einen Suszeptorträger 1,
Fig. 2 den in Figur 1 dargestellten Suszeptorträger in der Ansicht, Fig. 3 den Schnitt gemäß der Linie III-III in Figur 2, Fig. 3a eine geschnittene perspektivische Darstellung gemäß Figur 3, Fig. 4 eine aufgebrochene perspektivische Darstellung des Suszeptor- trägers 1,
Fig. 5 eine erste Explosionsdarstellung, Fig. 6 eine zweite Explosionsdarstellung,
Fig. 7 eine Übersichtsdarstellung im Querschnitt durch ein Reaktor- gehäuse 30, in dem ein Suszeptorträger 1 eine Antriebswelle 40 mit einem Suszeptor 31 verbindet,
Fig. 8 das Detail VIII- VIII in Figur 7,
Fig. 9 den Schnitt gemäß der Linie IX-IX in Figur 7,
Fig. 10 den Schnitt gemäß der Linie X-X in Figur 7,
Fig. 11 ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung in Form eines
Querschnitts durch eine Suszeptor-Traganordnung eines CVD- Reaktors,
Fig. 12 eine Darstellung gemäß Figur 11 eines dritten Ausführungsbei- spiels und
Fig. 13 eine Darstellung gemäß Figur 11 eines vierten Ausführungsbei- spiels.
Beschreibung der Ausführungsformen [0017] Ein erfindungsgemäßer CVD-Reaktor besitzt ein Reaktorgehäuse 30, welches eine innerhalb des Reaktorgehäuses 30 angeordnete Prozesskammer gasdicht nach außen verschließt. Es ist ein Gaseinlassorgan 37 vorgesehen, mit dem Prozessgase in die Prozesskammer eingespeist werden können. Durch ei- nen Gasauslass 39 können Abgase aus der Prozesskammer heraustreten. Mittels einer am Gasauslass 39 angeschlossenen Pumpe lässt sich die Prozesskammer evakuieren.
[0018] In das Innere des Reaktorgehäuses 30 ragt eine hohle Antriebswelle 40, durch die ein Inertgas strömen kann. Auf einem oberen Ende der Antriebswel- le 40 ist ein Suszeptorträger 1 befestigt, der den Suszeptor 31 trägt. Der Suszep- tor 31 besitzt eine zentrale Öffnung, besteht aus Graphit, insbesondere be- schichtetem Graphit oder einem Metall, besitzt in Radialrichtung sich von der zentralen Öffnung weg erstreckende Strömungskanäle 35 und ein oder mehrere um das Zentrum des Suszeptors 31 angeordnete Substratträger 36. Die Substrat- träger 36 liegen auf einer Lagerfläche auf, die der Boden einer Tasche sein kann. In die Lagerfläche münden die Strömungskanäle 35 derart, dass das aus Strö- mungskanälen 35 heraustretende Inertgas einerseits ein Gaspolster ausbildet, auf dem die Substratträger 36 ruhen und andererseits den Substratträger 36 in eine Drehung versetzen. Der Suszeptor 31 kann durch Drehen der Antriebswel- le 40 in eine Drehung versetzt werden.
[0019] Das Gaseinlassorgan 37 besitzt mehrere Gaseinlasskanäle zum Einleiten voneinander verschiedener Prozessgase in die Prozesskammer, die sich zwi- schen einer Oberseite des Suszeptors 31 und einer Unterseite einer Deckenplat- te 38 erstreckt. Die Prozesskammerhöhe a zwischen Unterseite der Deckenplat- te 38 und Oberseite des Suszeptors 31 beträgt 20 bis 50 mm, bevorzugt 30 bis 40 mm, im Ausführungsbeispiel etwa 32 bis 35 mm. Der Durchmesser der De- ckenplatte 38 und der Durchmesser des Suszeptors 31 sind größer als 30 cm.
[0020] Der Suszeptorträger 1 besitzt Mittel, mit denen die Neigungslage des Suszeptors 31 gegenüber der Achse der Antriebswelle 40 verstellt werden kann, so dass die Prozesskammerhöhe a über den gesamten Umfang des Suszep- tors 31 vereinheitlicht werden kann. [0021] Der Suszeptorträger 1 besitzt ein Flanschelement 4, das mit dem nach oben weisenden Ende der Antriebswelle 40 verbunden werden kann. Bei dem Flanschelement 4 handelt es sich um einen ringförmigen Körper mit einem ra- dialen Schlitz 26, der den Ring durchtrennt. Die beiden sich gegenüberliegen- den durch den Schlitz gebildeten Hälften des Rings des Flanschelementes 4 bil- den Klemmbacken 41 aus, die mittels einer Klemmschraube 25 aufeinander zu verlagert werden können, wobei sich der Spalt 26 verkleinert. Es sind weitere Klemmschrauben 28 vorgesehen, die in radialer Richtung in Gewindebohrun- gen des Flanschelementes 4 eingeschraubt werden können. Die Gewindeboh- rungen sind den beiden Klemmbacken 41 zugeordnet. Die Spitzen der Klemm- schrauben 28 können sich auf einer Außenmantelfläche der Antriebswelle 40 abstützen. Es ist aber auch vorgesehen, dass die gerundeten Klemmbacken 41 flächig an der Außenmantelfläche der Antriebswelle 40 anliegen und mittels der Klemmschraube 25 in einem Klemmsitz gehalten werden. Die Maden- schrauben 28 dienen dann im Wesentlichen zur axialen Sicherung.
[0022] Eine nach oben weisende Fläche des Flanschelementes 4 bildet eine La- gerfläche 4', die bevorzugt exakt in einer Drehebene der Antriebswelle 40 liegt. Von der Lagerfläche 4' gehen drei Gewindebohrungen 7 aus, in die Befesti- gungsschrauben 8 eingeschraubt werden können.
[0023] Eine Grundplatte 3 besitzt eine Auflagefläche 3", die flächig auf die La- gerfläche 4' aufgesetzt werden kann. Die Grundplatte 3 kann mittels der Befes- tigungsschrauben 8 mit dem Flanschelement 4 verbunden werden. Hierzu be- sitzt die Grundplatte 3 sich in Achsrichtung der Antriebswelle 40 erstreckende Befestigungsbohrungen, die einen oberen, durchmesservergrößerten Ab- schnitt 9' aufweisen. Der Schaft der Schraube 8 durchdringt die Befestigungs- bohrung 9, so dass der Kopf 8' der Schraube 8 vollständig im oberen Ab- schnitt 9' der Befestigungsbohrung 9 liegt. [0024] Die Grundplatte 3 besitzt eine zentrale Höhlung, durch die ein oberer Abschnitt der Antriebswelle 40 hindurchragen kann. Während die Antriebswel- le 40 von unten in die zentrale Öffnung der Grundplatte hineinragt, ragt von oben her ein Fortsatz 42 einer Tragplatte 2 in die zentrale Höhlung hinein. Der Fortsatz 42 bildet eine nach unten offene Höhlung aus, auf deren Boden eine Dichtung 21 liegt. Die andere Seite der Dichtung 21 wird von der Stirnfläche der Antriebswelle 40 beaufschlagt. Die Antriebswelle 40 weist eine Vielzahl von in ihrer Achsrichtung verlaufende Strömungskanäle 45 auf.
[0025] Es sind Zugelemente 11 vorgesehen, die die Tragplatte 2 in Richtung der Grundplatte 3 kraftbeaufschlagen. Es sind insbesondere drei in gleichmä- ßiger Umfangs Verteilung um eine Mitte der Tragplatte 2 beziehungsweise der Grundplatte 3 angeordnete Zugelemente 11 vorgesehen. Die Zugelemente 11 erzeugen eine Kraft, mit der die Dichtung 21 beaufschlagt wird.
[0026] Die Dichtung 21 besitzt eine Vielzahl von Gasdurchtrittsöffnungen 22, die mit Gaseintrittsöffnungen von Gaskanälen 23 fluchten, die sich innerhalb der Tragplatte 2 erstrecken. Diese Gaseintrittsöffnungen verbinden die Gaska- näle 23 mit Gasaustrittsöffnungen 24. Die Gaskanäle 23 besitzen erste Abschnit- te, die sich in Achsrichtung erstrecken und die in zweite Abschnitte münden, die sich in Radialrichtung erstrecken. Die zweiten Abschnitte sind zur Zylinder- mantel- Außenwand der Tragplatte 2 mit Stopfen verschlossen. Die zweiten Ab- schnitte münden in dritte Abschnitte, die sich in Axialrichtung erstrecken und die Gasaustrittsöffnungen 24 ausbilden, die in einer Stirnseite der Tragplatte 2 liegen, durch die ein Inertgas in die Strömungskanäle 35 des Suszeptors 31 flie- ßen kann. Die Strömungskanäle 45 fluchten mit den Gasdurchtrittsöffnun- gen 22, so dass durch die Strömungskanäle 45 ein Gas in die Tragplatte 2 einge- speist werden kann. [0027] Das Zugelement 11 wird von einer Gewindeschraube ausgebildet, die in einer Bohrung 22 des Tragelementes 2 steckt und die eine Bohrung 13 der Grundplatte 3 durchragt und die sich in einer an die Bohrung 13 anschließende Lagerausnehmung 13' endet. Das Ende der Schraube ist in einen unrunden Gleitstein 14 eingedreht, der sich in der Lagerausnehmung 13' in Axialrichtung bewegen kann. Die Lagerausnehmung 13' besitzt einen Boden, an dem sich ein Federelement 15 abstützt. Das Federelement 15 wird andererseits vom Gleit- stein 14 beaufschlagt. Beim Ausführungsbeispiel wird das Federelement 15 von einem Druckfederelement ausgebildet. Letzteres sind übereinander gestapelte Tellerfedern.
[0028] In einem Spaltzwischenraum zwischen der Unterseite 2' der Tragplat- te 2 und der Oberseite 3' der Grundplatte 3 erstrecken sich drei Einstellelemente in Form jeweils eines Einstellhebels 16. Der Einstellhebel 16 besitzt einen nach unten weisenden Lagerabschnitt 16', der auf einem Boden einer Lagerausneh- mung 20 gelagert ist. Es sind drei Lagerausnehmungen 20 vorgesehen, die je- weils von einem radialen Einschnitt in der Oberseite 3' gebildet sind. Die Lager- ausnehmung 20 ist eine im Querschnitt rechteckige Nut, die sich in Radialrich- tung erstreckt.
[0029] Der Einstellhebel 16 besitzt einen radial nach außen weisenden kurzen Hebelarm 17, dessen nach oben weisender Fortsatz den Rand der Unterseite 2 unter greift. An dem nach radial innen weisenden langen Hebelarm 18 greift eine Einstellschraube 19 an. Bei der Einstellschraube 19 handelt es sich um eine Madenschraube, die in eine Gewindebohrung eines Zentralbereichs 6 der Trag- platte 2 eingedreht ist. Der Zentralbereich 6 wird von einer Tragfläche 5 umge- ben, die der Unterseite 2 gegenüberliegt. Die Tragfläche 5 wird wiederum von einem Ringsteg 34 umgeben. Auf der Tragfläche 5 ruht eine Stützfläche 32 des Suszeptors 31. In einer Öffnung der Tragfläche 5 steckt ein Orientierungszap- fen 33 zur Drehlagenorientierung des Suszeptors 31. Die Gasaustrittsöffnun- gen 24 liegen in der Tragfläche 5 und fluchten mit Gaseintrittsöffnungen des Strömungskanals 35, der sich durch den Suszeptor 31 erstreckt. Der Suszep- tor 31 ist in den Zeichnungen mehrteilig dargestellt. Er kann aber auch einteilig ausgebildet sein.
[0030] Im Zentrum des Zentralbereichs befindet sich eine Durchtrittsöffnung, die mit einer Öffnung der Dichtung 21 fluchtet.
[0031] Die Einstellmittel 19 zum Einstellen der Neigungslage der Tragplatte 2 gegenüber der Grundplatte 3 können mittels eines geeigneten Werkzeuges, bei- spiels weise eines Schraub Werkzeuges, verstellt werden. Sie sind insbesondere durch die zentrale Öffnung des Suszeptors 31 zugänglich.
[0032] Bei einem Wiedereinsetzen eines beispielsweise zum Zwecke der Reini- gung oder des Austausches aus dem Reaktorgehäuse 30 entfernten Suszeptors kann der Suszeptorträger 1 zunächst außerhalb des CVD-Reaktorgehäuses 30 vorjustiert werden, indem die Unterseite der Grundplatte 3 in eine Parallellage zur Tragfläche 5 gebracht wird. Anschließend kann das aus Tragplatte 2 und Grundplatte 3 bestehende Ensemble in das Reaktorgehäuse 30 eingesetzt wer- den. Dabei wird die Auflagefläche 3" auf die Lagerfläche 4' des Flanschelemen- tes 4 aufgesetzt. Die Lagerfläche 4' erstreckt sich bevorzugt exakt in der Dreh- ebene der Antriebswelle 40, so dass die vorjustierte Tragfläche 5 ebenfalls in ei- ner Drehebene der Antriebswelle 40 liegt. Die Befestigung der Grundplatte 3 mit dem Flanschelement 4 erfolgt mittels der vom Zentralbereich 6 zugänglichen Schrauben 8, die in Gewindebohrungen 7 des Flanschelementes 4 eingedreht werden. Die Zuordnung der Befestigungsschrauben 8 erfolgt dabei durch die Durchstecköffnungen 10 der Tragplatte 2 hindurch, die mit den Befestigungs- bohrungen 9 der Grundplatte 3 und den Gewindebohrungen 7 des Flansch- elementes 4 fluchten.
[0033] Es wird als vorteilhaft angesehen, dass mittels der drei Einstellmittel 16, 17, 18, 19 die Neigung der Tragfläche 5 in allen Richtungen gegenüber einer Figurenachse der Grundplatte 3 verstellt werden kann. Die Zugelemente 11 er- zeugen eine Kraft, mit der der Rand der Tragplatte 2 auf dem kurzen Arm 17 des Einstellhebels 16 auf liegt.
[0034] Eine Feinjustierung erfolgt nach dem Aufsetzen des Suszeptors 31 auf die Tragplatte 2. Dabei stützt sich die nach unten weisende Stützfläche 32 des Suszeptors 31 auf der Tragfläche 5 ab. Durch die zentrale Höhlung des Suszep- tors 31 kann mittels geeigneter Verstellwerkzeuge das Einstellelement, also ins- besondere die Stellschraube 19, verändert werden, so dass sich die Neigungsla- ge des Suszeptors 31 derart ändert, dass seine Oberseite in der Drehebene liegt und insbesondere parallel zur Unterseite der Prozesskammerdecke 8.
[0035] In den Figuren 11, 12 und 13 ist ein zweiter Aspekt der Erfindung dar- gestellt. Eine Antriebswelle 40 ist mit einer Grundplatte 3 verbunden. Die Grundplatte 3 trägt eine Tragplatte 2, wobei die bereits zuvor geschilderten Maßnahmen vorgesehen sind, um die Tragplatte 2 gegenüber der Grundplat- te 3 zu verstellen. Hierzu sind Verstellmittel vorgesehen, mit denen die Nei- gungslage der Tragplatte 2 gegenüber der Grundplatte 3 verstellbar ist.
[0036] Wie auch in den bereits oben diskutierten Figuren 1 bis 8 dargestellt, ist die Tragplatte 2 gegenüber der Grundplatte 3 durch einen Spalt 53 beabstandet. Dieser Spalt 53 erstreckt sich in einer Horizontalebene und mündet in einen Ringspalt 54, der die Tragplatte 2 umgibt und sich in einen Raum öffnet, der sich unterhalb des Suszeptors 31 erstreckt. In diesem Raum befindet sich ein Heizelement 51, mit dem eine Suszeptorplatte des Suszeptors 31 beheizt ist, die ringförmig ausgebildet ist und auf einem Tragstück 49 lagert.
[0037] Das Tragstück 49 wird wiederum von einem rohrförmigen Tragele- ment 47 getragen, welches sich auf einer Bodenfläche 6' der Tragplatte 2 ab- stützt. Das Tragelement 7 bildet in der in den Figuren 11 und 13 dargestellten Ausführungsbeispielen einen ringförmigen Hohlraum, in den Durchstecköff- nungen 10 münden, die mit dem Spalt 53 strömungsverbunden sind, so dass der zentrale Hohlraum mit dem Raum unterhalb des Suszeptors 31 strömungs- verbunden ist.
[0038] Auf einem ringförmigen Rand der Suszeptorplatte ruht der ringförmige Rand eines Spannstücks 48, welches mit einem Spannelement 50 mit der An- triebswelle 40 beziehungsweise mit einem unterhalb der Antriebswelle 40 an- geordneten Spannmittel verbunden ist, um eine Spannung auf das Spannele- ment 50 auszuüben. Das Spannstück 48 wird im Ausführungsbeispiel von einer Zugplatte ausgebildet.
[0039] Mit dem in der Figur 11 dargestellten Stopfen 46, der die Durchs tecköff- nung 10, die mit einer Befestigungsbohrung 9 fluchtet, in der eine Befestigungs- schraube 8 steckt, ist die Strömungsverbindung zwischen dem zentralen Hohl- raum und dem Raum unterhalb des Suszeptors 31 geschlossen. Bei der Monta- ge kann die Befestigungsschraube 8 durch die Durchstecköffnung 10 hindurch in die Befestigungsöffnung 9 hineingesteckt werden. Der Gewindeabschnitt der Befestigungsschraube 8 wird dann in eine Gewindebohrung 7 eines Flansch- elementes 4 eingeschraubt, welches an der Antriebswelle 40 befestigt ist. Die in den Zeichnungen dargestellten Verschlussmittel verschließen die Durchsteck- öffnungen 10 lösbar. [0040] Der Stopfen 10 besitzt einen zylinderförmigen Dichtbereich, der in die Durchstecköffnung 10 eingreift. Der Dichtbereich liegt mit einer elastischen Anpresskraft an der Wandung der zylinderförmigen Durchstecköffnung 10. Ein Kopf des Stopfens 46 besitzt radial über die Dichtfläche hinausragende Berei- che, die auf der Bodenfläche 6' aufliegen können, um den Stopfen 10 axial in der Befestigungsbohrung 9 zu halten.
[0041] Das in der Figur 13 dargestellte Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von dem in der Figur 11 dargestellten Ausführungsbeispiel im Wesentlichen dadurch, dass das Dichtmittel ein O-Ring 52 ist, der in einer ringförmigen Nut der zylinderförmigen Mantelfläche des Stopfens 46 einliegt. Der komprimierte O-Ring 52 kann sich an der Wand der Durchstecköffnung 10 dichtend abstüt- zen.
[0042] Bei dem in der Figur 12 dargestellten Ausführungsbeispiel besitzt das rohrförmige Tragelement 47 eine derartige Wandstärke, dass eine Unterseite des Tragelementes 47 eine Dichtfläche 47' ausbildet, die die Durchstecköff- nung 10 vollständig verschließt. Die radiale Erstreckung der zentralen Öffnung unterhalb des Spannstückes 48, durch die sich das Spannelement 50 erstreckt, also deren Durchmesser, ist bei dem in der Figur 12 dargestellten Ausführungs- beispiel geringer, als bei den in den Figuren 11 und 13 dargestellten Ausfüh- rungsbeispielen.
[0043] In weiteren, nicht dargestellten Ausführungsbeispielen kann der Stop- fen alternative Gestaltungen aufweisen. Er kann beispielsweise ein Außenge- winde aufweisen, welches in ein Innengewinde der Wandung der Durchs teck- öffnung 10 eingeschraubt ist. Es kann sich dabei um ein selbstdichtendes Ge- winde handeln. In einer Alternative kann der Stopfen aber auch ein selbst- schneidendes Gewinde aufweisen, welches sich beim Einschrauben des Stop- fens 46 in die glattwandige Wand der Durchstecköffnung 10 eingräbt. Darüber hinaus kann der durchmesservergrößerte Rand des Kopfes eine Dichtfläche ausbilden.
[0044] Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zu mindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils auch eigenstän- dig weiterbilden, wobei zwei, mehrere oder alle dieser Merkmalskombinatio- nen auch kombiniert sein können, nämlich:
[0045] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch ein von der Antriebs- welle 40 getragenes und/ oder an der Antriebswelle 40 befestigbares Flansch- element 4, an dem die Grundplatte 3 mit lösbaren Befestigungsmitteln 7, 8, 9 befestigt oder befestigbar ist.
[0046] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Befesti- gungsmittel 7, 8, 9 mehrere Schrauben 8 aufweisen, die in Befestigungsbohrun- gen 9 der Grundplatte 3 stecken und in Gewindebohrungen 7 des Flanschele- mentes 4 eingeschraubt sind.
[0047] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Befesti- gungsschrauben 8 Köpfe 8' aufweisen, die in durchmesservergrößerten Ab- schnitten 9' der Befestigungsbohrungen 9 einliegen. [0048] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass eine von der
Grundplatte 4 wegweisende Stirnseite der Tragplatte 2 einen Zentralbereich 6 aufweist, in dem Durchstecköffnungen 10 zum Hindurchstecken der Befesti- gungsschrauben 8 angeordnet sind. [0049] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Tragfläche 5 den Zentralbereich 6 umgibt.
[0050] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch Einstellmittel 16, 17, 18, 19 zur Verstellung der Neigung der Tragfläche 5 gegenüber einer Auflageflä- che 3" der Grundplatte 3, die auf einer Lagerfläche 4' des Flanschelementes auf- liegt und/ oder auflegbar ist.
[0051] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Flanschele- ment 4 Klemmelemente 25, 28, 41 aufweist, um auf einer Außenmantelfläche der Antriebswelle 40 befestigt zu werden. [0052] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Flanschele- ment 4 zwei Klemmbacken 41 aufweist, die mit einem Klemmelement 25 aufei- nander zu verlagerbar sind.
[0053] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Flanschele- ment 4 ein oder mehrere Klemmschrauben 28 aufweist, die in Radialrichtung gegen die Außenmantelfläche der Antriebswelle 4 bringbar sind.
[0054] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Einstellmit- tel Einstellhebel 16 sind, die sich an der Grundplatte 3 abstützen und mit einem kurzen Hebelarm 17 an der Unterseite 2' der Tragplatte 2 angreifen und die ei- nen langen Hebelarm 18 aufweisen, auf die eine in eine Gewindebohrung des Zentralbereichs 6 eingeschraubte Stellschraube 19 wirkt.
[0055] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch die Tragplatte 2 in Rich- tung auf die Grundplatte 3 kraftbeaufschlagende Zugelemente 11, 14, 15. [0056] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch in der Tragplatte 2 an- geordnete Gaskanäle 23, die einer Unterseite 2' der Tragplatte 2 zugeordnete Gaseintrittsöffnungen mit Gasaustrittsöffnungen 24 miteinander verbinden.
[0057] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch eine in einer Höh- lung 43 eines der Unterseite 2' der Tragplatte 2 zugeordneten Fortsatzes 42 ein- liegende flexible Dichtung 21, die mit den Gaseintrittsöffnungen fluchtende Gasdurchtrittsöffnungen 22 aufweist und die auf die Stirnseite der Antriebswel- le 40 auflegbar ist.
[0058] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch einen die Tragfläche 5 umgebenden Ringsteg 34.
[0059] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch ein im Bereich der Trag- fläche 5 angeordnete Lagejustierelement 33, insbesondere in Form eines Orien- tierungszapf ens .
[0060] Ein CVD-Reaktor, der dadurch gekennzeichnet ist, dass der Suszep- tor 31 mit einer Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15 mit der An- triebswelle 40 verbunden ist, wobei der Suszeptor 31 eine zentrale Öffnung aufweist, die von der Stützfläche 32 umgeben ist und deren Durchmesser in etwa dem Durchmesser des Zentralbereiches 6 entspricht.
[0061] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch die Befestigung eines Suszeptors 31 eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle 40 mit drei in axialer Richtung der Antriebswelle 40 übereinander angeordneten Elementen, wobei ein unteres Element mit der Antriebswelle 40 verbunden ist und ein mittleres Element trägt und das mittlere Element zwischen dem unteren und einem obe- ren Element angeordnet ist, wobei das obere Element gegenüber dem mittleren Element lagejustierbar ist und Mittel zur Befestigung des Suszeptors 31 auf- weist.
[0062] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch zumindest ein Ver- schlussmittel 46, 47', mit dem die Durchstecköffnung 10 verschlossen ist.
[0063] Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Verschluss- mittel von einem Stopfen 46 ausgebildet ist, der dichtend in die Durchstecköff- nung 10 eingreift, oder dass das Verschlussmittel eine Dichtfläche 47' ist, die von einem den Suszeptor 31 tragenden und an der Tragplatte 2 abgestützten Tragelement 47 aus gebildet ist.
[0064] Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/ beigefügten Prioritäts- Unterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender An- meldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren, auch ohne die Merkmale eines in Bezug genommenen Anspruchs, mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbe- sondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen. Die in jedem Anspruch angegebene Erfindung kann zusätzlich ein oder mehrere der in der vorstehenden Beschreibung, insbesondere mit Bezugsziffern versehene und/ oder in der Bezugsziffernliste angegebene Merkmale aufweisen. Die Er- findung betrifft auch Gestaltungsformen, bei denen einzelne der in der vorste- henden Beschreibung genannten Merkmale nicht verwirklicht sind, insbeson- dere soweit sie erkennbar für den jeweiligen Verwendungszweck entbehrlich sind oder durch andere technisch gleichwirkende Mittel ersetzt werden kön nen. Liste der Bezugszeichen
1 Suszeptorträger 20 Lagerausnehmung
2 Tragplatte 21 Dichtung
2' Unterseite 22 Gasdurchtrittsöffnung
3 Grundplatte 23 Gaskanal
3' Oberseite 24 Gasaustrittsöffnung
3" Auflagefläche 25 Klemmelement
4 Flanschelement 26 Spalt
4' Lagerfläche 27 Gewindebohrung
5 Tragfläche 28 Klemmelement, Klemm-
6 Zentralbereich schraube
6' Bodenfläche 29 Höhlung
7 Gewindebohrung 30 Reaktorgehäuse
8 Schraube 31 Suszeptor
8' Kopf 32 Stützfläche
9 Befestigungsbohrung 33 Orientierungszapfen 9' Abschnitt 34 Ringsteg
10 Durchstecköffnung 35 Strömungskanal
11 Zugelement 36 Substratträger
12 Bohrung 37 Gaseinlassorgan
13 Bohrung 38 Deckenplatte
13' Lagerausnehmung 39 Gasauslass
14 Gleitstein 40 Antriebswelle
15 Federelement 41 Klemmbacke
16 Einstellhebel 42 Fortsatz
16' Lagerabschnitt 43 Höhlung
17 Hebelarm 44 Klemmring
18 Hebelarm 45 Strömungskanal
19 Stellschraube 46 Stopfen Tragelement a Prozesskammerhöhe Dichtfläche
Spannstück
Tragstück
Spannelement
Heizelement
O-Ring
Spalt
Spalt

Claims

Ansprüche
1. Vorrichtung zur Befestigung eines Suszeptors (31) eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle (40), mit einer Tragplatte (2), die eine Tragfläche (5) aufweist, auf der eine Stützfläche (32) des Suszeptors (31) auflegbar ist, und mit einer Grundplatte (3), die mit der Antriebswelle (40) verbindbar ist und von der die Tragplatte (2) lagejustierbar getragen wird, gekenn- zeichnet durch ein von der Antriebswelle (40) getragenes und/ oder an der Antriebswelle (40) befestigbares Flanschelement (4), an dem die Grund- platte (3) mit lösbaren Befestigungsmitteln (7, 8, 9) befestigt oder befestig- bar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Befesti- gungsmittel (7, 8, 9) mehrere Schrauben (8) aufweisen, die in Befestigungs- bohrungen (9) der Grundplatte (3) stecken und in Gewindebohrungen (7) des Flanschelementes (4) eingeschraubt sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Befesti- gungsschrauben (8) Köpfe (8') aufweisen, die in durchmesservergrößerten
Abschnitten (9') der Befestigungsbohrungen (9) einliegen.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeich- net, dass eine von der Grundplatte (4) wegweisende Stirnseite der Trag- platte (2) einen Zentralbereich (6) aufweist, in dem Durchstecköffnun- gen (10) zum Hindurchstecken der Befestigungsschrauben (8) angeordnet sind.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass die Tragfläche (5) den Zentralbereich (6) umgibt.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch Einstellmittel (16, 17, 18, 19) zur Verstellung der Neigung der Trag- fläche (5) gegenüber einer Auflagefläche (3") der Grundplatte (3), die auf einer Lagerfläche (4') des Flanschelementes aufliegt und/ oder auflegbar ist.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass das Flanschelement (4) Klemmelemente (25, 28, 41) aufweist, um auf einer Außenmantelfläche der Antriebswelle (40) befestigt zu werden.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass das Flanschelement (4) zwei Klemmbacken (41) auf- weist, die mit einem Klemmelement (25) aufeinander zu verlagerbar sind.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass das Flanschelement (4) ein oder mehrere Klemm- schrauben (28) aufweist, die in Radialrichtung gegen die Außenmantelflä- che der Antriebswelle (4) bringbar sind.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Einstellmittel Einstellhebel (16) sind, die sich an der Grundplat- te (3) abstützen und mit einem kurzen Hebelarm (17) an der Unterseite (2') der Tragplatte (2) angreifen und die einen langen Hebelarm (18) aufwei- sen, auf die eine in eine Gewindebohrung des Zentralbereichs (6) einge- schraubte Stellschraube (19) wirkt.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Tragplatte (2) in Richtung auf die Grundplatte (3) kraftbeauf- schlagende Zugelemente (11, 14, 15).
12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch in der Tragplatte (2) angeordnete Gaskanäle (23), die einer Untersei- te (2') der Tragplatte (2) zugeordnete Gaseintrittsöffnungen mit Gasaus- trittsöffnungen (24) miteinander verbinden.
13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine in einer Höhlung (43) eines der Unterseite (2') der Tragplat- te (2) zugeordneten Fortsatzes (42) einliegende flexible Dichtung (21), die mit den Gaseintrittsöffnungen fluchtende Gasdurchtrittsöffnungen (22) aufweist und die auf die Stirnseite der Antriebswelle (40) auflegbar ist.
14. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen die Tragfläche (5) umgebenden Ringsteg (34).
15. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch ein im Bereich der Tragfläche (5) angeordnete Lagejustierele- ment (33), insbesondere in Form eines Orientierungszapfens.
16. CVD-Reaktor mit einem Reaktorgehäuse (30), einem Suszeptor (31) und einer den Suszeptor (31) tragenden und drehantreibbaren Antriebswel- le (40), dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (31) mit einer Vorrich- tung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15 mit der Antriebswelle (40) ver- bunden ist, wobei der Suszeptor (31) eine zentrale Öffnung aufweist, die von der Stützfläche (32) umgeben ist und deren Durchmesser in etwa dem Durchmesser des Zentralbereiches (6) entspricht.
17. Vorrichtung zur Befestigung eines Suszeptors (31) eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle (40) mit drei in axialer Richtung der Antriebswel- le (40) übereinander angeordneten Elementen, wobei ein unteres Element mit der Antriebswelle (40) verbunden ist und ein mittleres Element trägt und das mittlere Element zwischen dem unteren und einem oberen Ele- ment angeordnet ist, wobei das obere Element gegenüber dem mittleren Element lagejustierbar ist und Mittel zur Befestigung des Suszeptors (31) aufweist.
18. Vorrichtung zum Befestigen eines Suszeptors (31) eines CVD-Reaktors an einer Antriebswelle (40), mit einer mit der Antriebswelle (40) über eine
Schraube (8) verbindbare Grundplatte (3) und eine von der Grundplatte (3) durch einen Spalt (53) beabstandete Tragplatte (2), die den Suszeptor (31) trägt und die gegenüber der Grundplatte (3) lageveränderbar ist, wobei die Tragplatte (2) eine mit einer Befestigungsbohrung (9) der Grundplatte (3) zum Hindurchtreten der Schraube (8) fluchtende Durchstecköffnung (10) aufweist, gekennzeichnet durch zumindest ein Verschlussmittel (46, 47'), mit dem die Durchstecköffnung (10) verschlossen ist.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass das Ver- schlussmittel von einem Stopfen (46) ausgebildet ist, der dichtend in die Durchstecköffnung (10) eingreift, oder dass das Verschlussmittel eine
Dichtfläche (47') ist, die von einem den Suszeptor (31) tragenden und an der Tragplatte (2) abgestützten Tragelement (47) ausgebildet ist.
20. Vorrichtung oder CVD-Reaktor, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche.
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