JP4977864B2 - 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置 - Google Patents

同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4977864B2
JP4977864B2 JP2006118143A JP2006118143A JP4977864B2 JP 4977864 B2 JP4977864 B2 JP 4977864B2 JP 2006118143 A JP2006118143 A JP 2006118143A JP 2006118143 A JP2006118143 A JP 2006118143A JP 4977864 B2 JP4977864 B2 JP 4977864B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
insulating member
slit portion
trigger electrode
vacuum arc
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006118143A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007291425A (ja
Inventor
顕一郎 栄
敦史 齋藤
原  泰博
阿川  義昭
誠一 秦
隆介 山内
淳平 桜井
明 下河邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Institute of Technology NUC
Ulvac Inc
Original Assignee
Tokyo Institute of Technology NUC
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Institute of Technology NUC, Ulvac Inc filed Critical Tokyo Institute of Technology NUC
Priority to JP2006118143A priority Critical patent/JP4977864B2/ja
Publication of JP2007291425A publication Critical patent/JP2007291425A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4977864B2 publication Critical patent/JP4977864B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は蒸着装置に関し、特に、同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置に関する。
金属薄膜や誘電体材料の薄膜は、半導体装置や液晶表示装置に用いられており、このような薄膜は、スパッタリング法、蒸着法、CVD法等によって成膜される。
これらの薄膜形成方法のうち、膜厚制御性に優れ、高品質の薄膜を形成できることから、近年では同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置が注目されている(例えば、特許文献1参照)。
図6は、従来の同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置の全体構成を示す断面図、図7は、従来の同軸型真空アーク蒸着源の要部を示す斜視図である。
図6に示すように、この蒸着装置101は、図示しない真空排気系に接続された真空槽102を有している。
この真空槽102内の底壁には、同軸型真空アーク蒸着源103が配置され、さらに真空槽102内の天井側には、基板ホルダ104によって保持された基板105が配置されている。
同軸型真空アーク蒸着源103は、開放口側が基板ホルダ104に向けられた円筒形形状のアノード電極106を有しており、このアノード電極106の内部の空間には、カソード電極となる蒸着材料107が設けられている。
この蒸着材料107は、金属やカーボン等の薄膜材料を用いて円柱形状に形成されたもので、金属製の基台110に電気的に接続された状態で、その中心軸線がアノード電極106の中心軸線と一致するように配設されている。
ここで、蒸着材料107は、円筒形形状の絶縁部材108の内周面に接触した状態で先端部分が突出するように挿入固定され、この絶縁部材108の突出する部分の外周面が、アノード電極106の内周面と対向するように構成されている。
さらに、絶縁部材108は、円筒形形状の金属からなるトリガ電極109の内周面に接触するように挿入固定され、またトリガ電極109と基台110との間には絶縁碍子113が設けられており、これによりトリガ電極109は、蒸着材料107に対して電気的に絶縁された状態になっている。
一方、真空槽102の外部には、トリガ電源111とアーク電源112が配設されている。
ここで、トリガ電源111とアーク電源112の負電位側の端子は、それぞれ基台110に共通に接続されている。
他方、トリガ電源111の正電位側の端子は、トリガ電極109に接続され、またアーク電源112の正電位側の端子は、アノード電極106に接続されている。
このような蒸着装置101では、真空槽102内を真空排気し、蒸着材料107に負電圧を印加するとともに、トリガ電極109に正のパルス電圧を印加してトリガ放電を発生させると、蒸着材料107がカソード電極になり、トリガ電極109と蒸着材料107との間にアーク放電が誘起され、蒸着材料107を構成する粒子が放出される。そして、この粒子を基板105に導くことにより、基板105上に薄膜を形成することができる。
しかし、このような従来技術においては、アーク蒸着源を構成する蒸着材料107、絶縁部材108及びトリガ電極109の寸法公差により、それぞれの間(蒸着材料107と絶縁部材108との間並びに絶縁部材108とトリガ電極109との間)に隙間が形成されてしまい、その隙間によって蒸着材料107とトリガ電極109との間の絶縁抵抗値が上昇するため、トリガ放電によって誘起されるアーク放電の不安定等の不具合が発生する要因となっている。
特開2001−11606公報
本発明は、このような従来の技術の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、アーク蒸着源を構成する蒸着材料、絶縁部材及びトリガ電極間の密着性を向上させることによってトリガ放電を安定化させ、アーク放電の不具合の発生を抑制可能な同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた請求項1記載の発明は、筒状のアノード電極と、中心軸線を前記アノード電極の中心軸線と略一致させ、当該アノード電極内部に配置された柱状の蒸着材料と、前記蒸着材料の周囲に密着配置された筒状の絶縁部材と、前記絶縁部材の周囲に密着配置された筒状のトリガ電極とを有し、前記トリガ電極と前記蒸着材料の間で発生したトリガ放電によって、前記アノード電極内壁面と前記蒸着材料側面との間にアーク放電を誘起させ、前記蒸着材料側面から放出された微小粒子を前記アノード電極の開放口から放出させる同軸型真空アーク蒸着源であって、前記絶縁部材に、その軸線方向に延び当該絶縁部材を部分的に切断するように形成されたスリット部が設けられるとともに、前記トリガ電極に、その軸線方向に延び当該トリガ電極を部分的に切断するように形成されたスリット部が設けられているものである。
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記絶縁部材に二つのスリット部を設けることにより当該絶縁部材が二つに分割された部材から構成されているものである。
請求項3記載の発明は、請求項1又は2のいずれか1項記載の発明において、前記絶縁部材の直径方向に対する前記スリット部の角度が、0°以上60°以下であることを特徴とする。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項記載の発明において、前記絶縁部材の直径方向に対する前記スリット部の角度が、20°以上60°以下であることを特徴とする。
請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項記載の発明において、前記トリガ電極に、前記スリット部の幅を狭めるように当該トリガ電極を締め付ける締付機構が設けられているものである。
請求項6記載の発明は、真空槽内に請求項1乃至5のいずれか1項記載の同軸型真空アーク蒸着源が設けられている蒸着装置である。
本発明の場合、絶縁部材に、その軸線方向に延び当該絶縁部材を部分的に切断するように形成されたスリット部が設けられるとともに、トリガ電極に、その軸線方向に延び当該トリガ電極を部分的に切断するように形成されたスリット部が設けられていることから、蒸着材料と絶縁部材との間並びに絶縁部材とトリガ電極との間の隙間を極力抑えてこれらの密着性を向上させることができ、その結果、トリガ放電を安定化させ、アーク放電の不具合の発生を抑制することができる。
本発明において、絶縁部材に二つのスリット部を設けることにより当該絶縁部材が二つに分割された部材から構成されている場合には、組立時により確実にガタを吸収して蒸着材料及びトリガ電極との間の密着性を向上させることができる。
本発明において、絶縁部材の直径方向に対するスリット部の角度が、0°以上60°以下、より好ましくは、20°以上60°以下である場合には、絶縁部材が破壊しにくくなり、また、よりトリガ放電の安定化が可能になる。
本発明において、トリガ電極に、スリット部の幅を狭めるように当該トリガ電極を締め付ける締付機構が設けられている場合には、蒸着材料と絶縁部材との間並びに絶縁部材とトリガ電極との間の密着性を更に向上させることができる。
そして、上述した同軸型真空アーク蒸着源を真空槽内に設けた蒸着装置によれば、安定してトリガ放電を生じさせ、基板上に蒸着を行うことができる。
本発明によれば、トリガ放電を安定化させ、アーク放電の不具合の発生を抑制することができる。
以下、本発明の好ましい実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明に係る蒸着装置の実施の形態の構成を示す断面図である。
図1に示すように、本実施の形態の蒸着装置1は、図示しない真空排気系に接続された真空槽2を有している。
ここで、真空槽2内の底壁には、後述する同軸型真空アーク蒸着源3が配置され、さらに真空槽2内の天井側には、基板ホルダ4によって保持された基板5が配置されている。
同軸型真空アーク蒸着源3は、開放口側が基板ホルダ4に向けられた円筒形形状のアノード電極6を有しており、このアノード電極6の内部の空間には、カソード電極となる蒸着材料7が設けられている。
蒸着材料7は、金属やカーボン等の薄膜材料を用いて円柱形状に形成され、金属製の基台10に電気的に接続された状態で取り付けられている。
ここで、蒸着材料7は、その中心軸線がアノード電極6の中心軸線と一致するように配置されている。
蒸着材料7の周囲には、円筒形形状の絶縁性材料(例えばAl23等)からなる絶縁部材8が蒸着材料7と密着するように配設されている。
ここでは、絶縁部材8の端部から蒸着材料7の先端部が突出する状態で挿入固定され、これにより蒸着材料7の絶縁部材8から突出する部分の外周面が、アノード電極6の内周面と対向するように構成されている。
さらに、絶縁部材8の周囲には、円筒形形状の金属からなるトリガ電極9が絶縁部材8と密着するように設けられるとともに、トリガ電極9と基台10との間には絶縁碍子13が設けられており、これによりトリガ電極9は、蒸着材料7に対して電気的に絶縁された状態になっている。
真空槽2の外部には、トリガ電源11とアーク電源12が配置されている。トリガ電源11とアーク電源12の負電位側の端子は、それぞれ基台10に共通に接続されている。
他方、トリガ電源11の正電位側の端子は、トリガ電極9に接続され、またアーク電源12の正電位側の端子は、アノード電極6に接続されている。
図2は、本実施の形態の同軸型真空アーク蒸着源の要部を示す斜視図である。図3(a)は、本実施の形態における絶縁部材の構成を示す平面図、図3(b)は、同絶縁部材の構成を示す正面図である。
図2及び図3(a)(b)に示すように、絶縁部材8には、その円筒の軸線方向に延び当該絶縁部材8を部分的に切断するように形成されたスリット部20が設けられている。
本発明の場合、絶縁部材8に設けるスリット部20の数は特に限定されることはないが、組立時により確実にガタを吸収して蒸着材料7及びトリガ電極9との間の密着性を向上させる観点からは、絶縁部材8にスリット部20を二つ設け、これにより絶縁部材8が二つの部材8a、8bに分割されるように構成することが好ましい。
この場合、特に限定されることはないが、組立時の作業性向上の観点からは、絶縁部材8においてスリット部20を点対称の位置に設け、二つの部材8a、8bの形状が同一となるように構成することが好ましい。
本発明の場合、スリット部20の切断方向は特に限定されることはないが、絶縁部材8の直径方向に対するスリット部20の角度θが、0°以上60°以下となるように構成することが好ましく、より好ましくは、20°以上60°以下である。
絶縁部材8の直径方向に対するスリット部20の角度θが20°より小さいと、スリット部20の長さが絶縁部材8の両端(直径方向)の縁面距離と近くなるためスリット部20において異常放電が生ずる場合がある。
他方、絶縁部材8の直径方向に対するスリット部20の角度θが60°より大きいと、絶縁部材8の肉厚が部分的に薄くなって壊れやすくなるとともに、スリット部20において異常放電が生ずるおそれがある。
なお、本発明は、絶縁部材8として、円筒の肉厚が0.3〜3.0mmのものを用いた場合に特に好適となるものである。
また、本発明の場合、スリット部20の幅W1は、特に限定されることはないが、蒸着材料7及びトリガ電極9との間の密着性を向上させる観点からは、0.1〜5.0mmとすることが好ましい。
図4(a)は、本実施の形態におけるトリガ電極の構成を示す平面図、図4(b)は、同トリガ電極の構成を示す正面図である。
図2及び図4(a)(b)に示すように、トリガ電極9には、その円筒の軸線方向に延び当該トリガ電極9を部分的に切断するように形成されたスリット部30が設けられている。
本発明の場合、トリガ電極9に設けるスリット部30の数は特に限定されることはないが、組立時の作業性向上の観点からは、トリガ電極9にスリット部30を一つ設けることが好ましい。
本発明の場合、スリット部30の切断方向は特に限定されることはないが、後述するように締付機構40をスリット部30に設ける観点からは、スリット部30をトリガ電極9の直径方向に切断することが好ましい。
また、スリット部30の幅W2は、特に限定されることはないが、締付作業の容易さの観点からは、0.1〜2.0mmとすることが好ましい。
なお、本発明は、トリガ電極9として、円筒の肉厚が1.0〜9.0mmのものを用いた場合に特に好適となるものである。
図2及び図4(a)(b)に示すように、トリガ電極9のスリット部30には、締付機構40が設けられている。
本実施の形態の場合、トリガ電極9のスリット部30の両側の部位に取付凹部9a、9bが形成され、この取付凹部9a、9b間を貫通するように設けられた孔部(図示せず)に例えばボルトとナットからなる締付機構40が装着される。そして、この締付機構40を締め付けることにより、スリット部30の幅W2を狭めてトリガ電極9の内径を小さくするように構成されている。
以上述べた本実施の形態によれば、絶縁部材8に、その軸線方向に延び当該絶縁部材8を部分的に切断するように形成されたスリット部20が設けられるとともに、トリガ電極9に、その軸線方向に延び当該トリガ電極9を部分的に切断するように形成されたスリット部30が設けられていることから、蒸着材料7と絶縁部材8との間並びに絶縁部材8とトリガ電極9との間の隙間を極力抑えてこれらの密着性を向上させることができ、その結果、トリガ放電を安定化させ、アーク放電の不具合の発生を抑制することができる。
特に、本実施の形態では、絶縁部材8に二つのスリット部20を設けることにより当該絶縁部材8が二つに分割された部材8a、8bから構成されていることから、組立時により確実にガタを吸収して蒸着材料7及びトリガ電極9との間の密着性を向上させることができる。
また、本実施の形態では、トリガ電極9に、スリット部30の幅W2を狭めるように当該トリガ電極9を締め付ける締付機構40が設けられていることから、蒸着材料7と絶縁部材8との間並びに絶縁部材8とトリガ電極9との間の密着性を更に向上させることができる。
そして、上述した同軸型真空アーク蒸着源3を真空槽2内に設けた本実施の形態の蒸着装置1によれば、安定してトリガ放電を生じさせ、基板5上に蒸着を行うことができる。
なお、本発明は上述の実施の形態に限られることなく、種々の変更を行うことができる。
例えば、上述の実施の形態においては、絶縁部材にスリット部を二つ設けるようにしたが、本発明はこれに限られず、一つ又は三つ以上設けることも可能である。
また、トリガ電極にスリット部を一つ設けるようにしたが、本発明はこれに限られず、二つ以上設けることも可能である。
さらに、トリガ電極を締め付ける締付機構としては、ボルトとナットの組み合わせの他、例えば、ばね等の付勢手段を用いることも可能である。
以下、本発明の実施例について比較例とともに説明する。
図5(a)〜(c)は、実施例及び比較例に用いた蒸着材料、絶縁部材及びトリガ電極の寸法関係を示す説明図である。
ここでは、蒸着材料の直径D1=10mm、絶縁部材の内径D2=10mm、絶縁部材の外径D3=12mm、トリガ電極の内径D4=12mm、トリガ電極の外径D5=15mm、絶縁部材のスリット部の幅W1=0.8mm、トリガ電極のスリット部の幅W2=2mmとした。
Figure 0004977864
<実施例1>
絶縁部材として、スリット部を一つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを0°としたものを用いた。
<実施例2>
絶縁部材として、スリット部を二つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを0°としたものを用いた。
<実施例3>
絶縁部材として、スリット部を一つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを20°としたものを用いた。
<実施例4>
絶縁部材として、スリット部を二つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを20°としたものを用いた。
<実施例5>
絶縁部材として、スリット部を一つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを30°としたものを用いた。
<実施例6>
絶縁部材として、スリット部を二つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを30°としたものを用いた。
<実施例7>
絶縁部材として、スリット部を一つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを60°としたものを用いた。
<実施例8>
絶縁部材として、スリット部を二つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを60°としたものを用いた。
<比較例1>
絶縁部材として、スリット部を設けない従来の構成のものを用いた。
<比較例2>
絶縁部材として、スリット部を一つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを70°としたものを用いた。
<比較例3>
絶縁部材として、スリット部を二つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを70°としたものを用いた。
上記実施例及び比較例を用い、圧力10-4Pa〜10-5Paの条件の下、アノード電極及びトリガ電極間に3.0〜4.0kVの電圧を印加するとともに、アノード電極及び蒸着材料間に100Vの電圧を印加し、絶縁不良を起こすまでのアーク放電の回数を計測した。また、絶縁部材に割れが発生したか否かを目視によって観察した。その結果を表1に示す。
表1から明らかなように、絶縁部材として、スリット部を二つ設け、直径方向に対するスリット部の角度θを0〜60°とした実施例2、実施例4、実施例6及び実施例8は、絶縁不良を起こすまでに18000回以上アーク放電が可能であり、特に直径方向に対するスリット部の角度θを20〜60°とした実施例4、実施例6及び実施例8については20000回以上アーク放電が可能であった。
さらに、絶縁部材として、スリット部を一つ設け、直径方向に対するスリット部の角度θを0〜60°とした実施例1、実施例3、実施例5及び実施例7は、絶縁部材の一部に割れが発生したが実用上問題のないレベルであり、また絶縁不良を起こすまでに17000回以上アーク放電が可能であった。
一方、絶縁部材として、スリット部を設けない従来構成のものを用いた比較例1については、絶縁部材に割れは生じなかったが、10000回のアーク放電で絶縁不良が発生した。
さらに、絶縁部材として、スリット部を一つ又は二つ設けるとともに、直径方向に対するスリット部の角度θを70°としたものを用いた比較例2及び比較例3は、異常放電により成膜ができず、また絶縁部材に割れが発生した。
本発明に係る蒸着装置の実施の形態の構成を示す断面図 同実施の形態の同軸型真空アーク蒸着源の要部を示す斜視図 (a):同実施の形態における絶縁部材の構成を示す平面図、(b):同絶縁部材の構成を示す正面図 (a):同実施の形態におけるトリガ電極の構成を示す平面図、(b):同トリガ電極の構成を示す正面図 (a)〜(c):実施例及び比較例に用いた蒸着材料、絶縁部材及びトリガ電極の寸法関係を示す説明図 従来の同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置の全体構成を示す断面図 従来の同軸型真空アーク蒸着源の要部を示す斜視図
符号の説明
1……蒸着装置 2……真空槽 3……同軸型真空アーク蒸着源 6……アノード電極 7……蒸着材料 8……絶縁部材 9……トリガ電極 20……スリット部 30……スリット部 40……締付機構

Claims (6)

  1. 筒状のアノード電極と、
    中心軸線を前記アノード電極の中心軸線と略一致させ、当該アノード電極内部に配置された柱状の蒸着材料と、
    前記蒸着材料の周囲に密着配置された筒状の絶縁部材と、
    前記絶縁部材の周囲に密着配置された筒状のトリガ電極とを有し、
    前記トリガ電極と前記蒸着材料の間で発生したトリガ放電によって、前記アノード電極内壁面と前記蒸着材料側面との間にアーク放電を誘起させ、
    前記蒸着材料側面から放出された微小粒子を前記アノード電極の開放口から放出させる同軸型真空アーク蒸着源であって、
    前記絶縁部材に、その軸線方向に延び当該絶縁部材を部分的に切断するように形成されたスリット部が設けられるとともに、
    前記トリガ電極に、その軸線方向に延び当該トリガ電極を部分的に切断するように形成されたスリット部が設けられている同軸型真空アーク蒸着源。
  2. 前記絶縁部材に二つのスリット部を設けることにより当該絶縁部材が二つに分割された部材から構成されている請求項1記載の同軸型真空アーク蒸着源。
  3. 前記絶縁部材の直径方向に対する前記スリット部の角度が、0°以上60°以下である請求項1又は2のいずれか1項記載の同軸型真空アーク蒸着源。
  4. 前記絶縁部材の直径方向に対する前記スリット部の角度が、20°以上60°以下である請求項1乃至3のいずれか1項記載の同軸型真空アーク蒸着源。
  5. 前記トリガ電極に、前記スリット部の幅を狭めるように当該トリガ電極を締め付ける締付機構が設けられている請求項1乃至4のいずれか1項記載の同軸型真空アーク蒸着源。
  6. 真空槽内に請求項1乃至5のいずれか1項記載の同軸型真空アーク蒸着源が設けられている蒸着装置。
JP2006118143A 2006-04-21 2006-04-21 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置 Active JP4977864B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006118143A JP4977864B2 (ja) 2006-04-21 2006-04-21 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006118143A JP4977864B2 (ja) 2006-04-21 2006-04-21 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007291425A JP2007291425A (ja) 2007-11-08
JP4977864B2 true JP4977864B2 (ja) 2012-07-18

Family

ID=38762327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006118143A Active JP4977864B2 (ja) 2006-04-21 2006-04-21 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4977864B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5013331B2 (ja) * 2007-05-25 2012-08-29 株式会社アルバック 同軸型真空アーク蒸着源
JP2009179863A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Ulvac Japan Ltd 同軸型真空アーク蒸着源及び蒸着装置
JP5250887B2 (ja) * 2008-07-14 2013-07-31 株式会社アルバック 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置
JP5124725B2 (ja) * 2008-07-14 2013-01-23 株式会社アルバック 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置
DE202018100363U1 (de) * 2018-01-23 2019-04-24 Aixtron Se Vorrichtung zum Verbinden eines Suszeptors mit einer Antriebswelle

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000008159A (ja) * 1998-06-19 2000-01-11 Ulvac Corp 同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置
JP2001011606A (ja) * 1999-06-24 2001-01-16 Ulvac Japan Ltd 同軸型真空アーク蒸着源を有する蒸着装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007291425A (ja) 2007-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8702920B2 (en) Repeller structure and ion source
JP4977864B2 (ja) 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置
US7365339B2 (en) Ion source
US9153406B2 (en) Supporting structure and ion generator using the same
US20100259273A1 (en) Cold cathode ionization vacuum gauge, vacuum processing apparatus including same and discharge starting auxiliary electrode
US9117630B2 (en) Insulation structure of high voltage electrodes for ion implantation apparatus
WO2011130929A1 (zh) 激光触发真空开关
US20140368210A1 (en) Cold cathode ionization vacuum gauge and inner wall protection member
KR102524433B1 (ko) 활성 가스 생성 장치
JP2006351374A (ja) イオン源
JP4725969B2 (ja) 同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置
JP4204695B2 (ja) 蒸着源、蒸着装置
KR100449524B1 (ko) 플라즈마 처리방법 및 장치
US10914649B1 (en) Ionization gauge and cartridge
US10910795B2 (en) Arrester for surge protection
JP5048538B2 (ja) 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置
CN111584334A (zh) 用于离子注入装置的绝缘结构
JP2020149780A (ja) 真空遮断器
JP2008059759A (ja) 真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット
JP2005149899A (ja) 真空バルブ
JP2000208091A (ja) イオン注入装置
JP5636931B2 (ja) 電子ビーム照射装置、これを用いる電子ビーム照射処理装置、及びこれらに用いるコレクター電極
JP4739384B2 (ja) 蒸着方法
JP2010248548A (ja) ホローカソード型放電管
JP2009256740A (ja) スパッタリング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120306

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120326

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4977864

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533