TW201936983A - 用於連接基座與驅動軸之裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關於一種用於將CVD反應器之基座(31)緊固在驅動軸(40)上之裝置，該驅動軸可用以使基座(31)旋轉。驅動軸(40)載有底板(3)，其上緊固有載有基座(31)的載板(2)。可透過調節桿(16)以調節載板(2)相對於底板(3)之傾斜度。載板(2)係藉由螺釘(8)以與法蘭元件(4)連接。與螺釘(8)對齊佈置的貫穿孔(10)係用插塞(46)封閉。

Description

用於連接基座與驅動軸之裝置
本發明係有關於一種用於將CVD反應器之基座緊固在驅動軸上之裝置，此裝置具有包含承載面的載板，該基座之支撐面可放置在該承載面上，以及，此裝置具有底板，該底板可與該驅動軸連接，並且用來以位置可調節的方式承載該載板。
此外，本發明係有關於一種CVD反應器，其具有反應器殼體、基座及與基座支架相連接的驅動軸。
US 2008/0017117 A1描述過一種具有基座之CVD反應器，其基座係緊固在可轉動的驅動軸上，並且具有用於調節此驅動軸之手段。
US 9,765,427 B2先前揭露過一種CVD反應器，在其反應器殼體中佈置有基座。其基座載有數個基板架，可繞軸旋轉驅動此等基板架。此基座係以基座支架而與桿部之端側連接。設有用來相對於該桿部以調節基座之位置的手段。
先前技術還包括WO 2018/022577 A1、US 2003/0029384 A1、US 5,762,544 A及US 2016/0138159 A1。
一種同類型的CVD反應器用於沈積III-V族層，且特別是用於將氮化鎵層沈積至基板。同類型的CVD反應器之基座的直徑可為30cm或以上。製程室頂部與製程室之由基座構成的底部之間 的距離為10mm至50mm，較佳為30mm至40mm。透過佈置在製程室之中心的氣體入口構件，以實施饋送至製程室的氣體饋送，而該氣體入口構件係用來將第V主族之氫化物及第III主族之有機金屬化合物相互分離地饋送入製程室。在工業製造中，必須以不變的方式塗佈一批次製造之呈圓環狀地圍繞製程室之中心以佈置在基座上的晶圓。透過將被引入製程室之製程氣體特別是在基板之經過加熱的表面上分解，以實施塗佈。為達到所沈積之層的橫向均勻性，需要基座上表面及反應器頂部之底側之儘可能精確的平行位置。反應器頂部較佳在旋轉驅動基座的驅動軸之旋轉平面內延伸。同類型的CVD反應器之基座具有支撐面，此支撐面係指向下方並且放置在由驅動軸所承載的基座支架之承載面上。由於製造公差，該支撐面通常並非精確地平行於基座之構成製程室之底部的頂側。因此，基座支架必須具有手段方能調節基座相對於驅動軸之傾斜位置。
本發明之目的在於改良同類型的基座支架以利其使用。
該目的係透過申請專利範圍所給出之發明而達成，其中，附屬項不僅為並列的請求項1及16所給出之有利改良方案，亦為該目的之獨創解決方案。
本發明首先且實質上提出：基座支架具有三個就驅動軸之軸線而言為軸向地依次佈置的元件。下元件緊固在驅動軸上。下元件載有中間元件，該中間元件則特別是倚靠在該下元件之平面上。中間元件又載有上元件，該上元件係形成承載面，而基座係支撐在該承載面上。設有至少可用來調節上元件相對於中間元件之傾 斜位置的手段。下元件較佳為法蘭元件，其可被緊固在驅動軸上。而驅動元件亦可被緊固在驅動軸上。法蘭元件特別是被永久地緊固在驅動軸上。可將構成底板的中間元件以及與其相連接而由載板所構成的上元件從法蘭元件移除，並且以可分離的方式與法蘭元件連接在一起。可藉由調節元件在CVD反應器殼體之外部相對於底板對載板進行位置調節。因此，可在反應器殼體外部實施預調節，其中，例如將載板之承載面送入與底板之支承面平行的平行位置，其底板則以該支承面支承在法蘭元件之承載面上。因此，在從CVD反應器更換基座時，在第一步中對載板之相對於底板的位置進行預調節。可將由載板與底板構成之總體作為單元以嵌入製程室，其中，底板之支承面處於法蘭元件之承載面上。隨後，可將基座以其支撐面支承在載板之承載面上。但，亦可將由載板與底板構成之總體在外部與基座連接在一起，並且隨後將以該方式構成之組件送入CVD反應器，且放置在承載元件之承載面上。在實施最終的位置調節前，可將底板與法蘭元件連接在一起。為此，設有緊固手段。緊固手段係指可分離的緊固手段。緊固手段可具有數個螺釘，該等螺釘係插入底板之緊固孔並且被旋入法蘭元件之螺紋孔。其中，諸緊固螺釘可具有頭部，該等頭部係嵌入緊固孔之直徑逐漸增大的區段。因此，緊固孔特別是指底板內之分級孔。緊固孔及螺紋孔較佳地平行於驅動軸之軸體。載板之背離底板的端側具有中心區，該中心區特別是被承載面包圍。在其中心區內可佈置有貫穿孔，可在需將緊固螺釘插入緊固孔並且旋入法蘭元件之螺紋孔的情況下，將緊固螺釘穿過該等貫穿孔。緊固孔之直徑逐漸增大的區段較佳地具有使得螺釘頭被完全容置在該處之軸向深度。用於調節承載面相對於底板之支承 面的傾斜度的手段較佳係可自中心區被接觸到，該支承面則係支承在法蘭元件之載區上。較佳地，可用一工具操縱用於調節傾斜度之手段，該工具係朝驅動軸方向作用。用於傾斜度調節之手段可指螺釘，其擰緊工具卡入口可自中心區被接觸到。該等螺釘優選地平行於驅動軸之軸線。該等螺釘可指無頭螺釘。可設有一槓桿傳動裝置，以便靈敏地實施位置調節。為了避免靜態冗餘，設有三個以120°之角距佈置的用於傾斜度調節之手段，其中，該等手段特別是具有沿徑向延伸的桿部。其桿部構成了較佳係支撐在底板上的調節桿。短的桿臂可沿徑向而向外定向。長的桿臂則可沿徑向而向內定向。短的桿臂在徑向的外區域內卡在載板之底側上。調節螺釘較佳係作用於長的桿臂，該調節螺釘特別是由無頭螺釘所構成，且被旋入中心區之螺紋孔。作用於長的桿臂的調節螺釘較佳地具有端側倒圓的螺桿，該螺桿係嵌入長的桿臂之凹部。在本發明之一種改良方案中，朝其底板之方向對載板施力。為此，較佳係應用拉伸元件。拉伸元件可指被旋入諸多滑塊的螺釘，該等滑塊則可在底板之支承槽中沿軸線方向運動。較佳係設有彈簧元件，尤佳係設有壓力彈簧元件，其係佈置在滑塊與支承槽之底部之間。較佳地設有三個以均勻的角分佈圍繞底板或載板之中心而佈置的拉伸元件。法蘭元件可透過適宜的緊固手段以與特別是驅動軸之端部相連接。法蘭元件較佳係透過夾緊元件以與驅動軸相連接。夾緊元件可卡在驅動軸之外側面上。可設有兩個夾爪，其可藉由例如夾緊螺釘之類的夾緊元件以朝彼此移動。在夾緊位置上，夾爪以夾緊的方式與驅動軸共同作用。可設有沿徑向延伸的螺釘，特別是無頭螺釘，實施夾緊螺釘之功能，而該等夾緊螺釘可朝驅動軸之外側面移動。夾緊螺釘特別是 沿徑向為可調節。在本發明之一種改良方案中，其基座為數個基板架之支架。每個基板架皆載有一或數個基板，並且嵌入基座之凹槽。氣體輸送管線係與該凹槽之底部連通，可用以將載氣饋送入該凹槽。載氣形成氣體軸承，基座支架則係以可旋轉運動的方式支承在該氣體軸承上。凹槽之底部上的排氣噴嘴之方向，使得自其處排出的氣體致使基座支架發生旋轉。氣體輸送管線沿徑向自基座之中心的開口延伸直至凹槽之底部上的排氣孔。穿過載板以饋送惰性氣體。為此，載板具有沿徑向延伸之諸多氣體通道，該等氣體通道係與承載面連通。作為替代方案，諸氣體通道亦可與載板之柱面壁連通。諸氣體通道係與基座中之諸多流道連通，該等流道係用以將氣體運輸至凹槽。載板內之諸多氣體通道具有處於載板之底側上的進氣孔。載板之底側特別是構成突起，該突起構成軸向的端面，氣體通道則與該端面連通。形成處於一平面內的進氣孔，可用以將惰性氣體饋送入氣體通道並且隨後饋送入流道。進氣孔所處之平面較佳為一空腔之底部平面。設有具有通氣孔的密封件，該密封件係與氣體通道之進氣孔連通。該密封件係處於進氣孔所處之平面與驅動軸之端側之間，該驅動軸則具有軸向的空腔，氣體可穿過該空腔流入密封件之通氣孔並且隨後流入氣體通道。密封件係由撓性材料製成。由載板之底側所構成的突起係卡入底板之中心的鑽孔。載板之底側與底板之頂側透過間隙而隔開。載板之底側之外邊緣倚靠在調節桿之短的桿臂之指向上方的突起上。載板之頂側沿著跟隨渾圓的輪廓線之外輪廓具有環形接片。該環形接片可卡入基座之底側之環形槽。較佳係設有定向元件，例如，定向銷，其係對應於載板之頂側，並且與對配定向元件，例如基座之底側上的定向孔相對應。如 此，便能確保基座僅能在若干旋轉位置上對應於基座支架。法蘭元件、底板及載板較佳係由金屬製成。其可由優質鋼板製成。但，其亦可由其他金屬構成並且經塗佈。密封件較佳係由橡膠構成，使得密封件係指橡膠密封件。該密封件如此地具有彈性，使其能夠相對於底板或驅動軸或者緊固有法蘭元件的桿部以調節法蘭裝置，亦即，載板，而橡膠密封件不會磨損。其密封件如此地張緊在載板、底板或者法蘭元件或者桿部或驅動軸之間，從而形成氣密性。桿部或驅動軸可朝上方曝露。但，驅動軸或桿部亦可在端側封閉，其中，封閉該端側的封板具有諸多開口，該等開口係與載板中之流道的諸多進氣孔對齊。但，作為撓性的密封件、例如可施展復位力的聚合物密封件之替代方案，亦可應用可塑性變形的密封件，例如，石墨密封件。
為達成上述目的，本發明特別提出：在用於將CVD反應器之基座緊固在驅動軸上之同類型的裝置上，設有至少一個調節桿，此裝置具有包括承載面的載板，其基座之支撐面可支承在該承載面上，以及，此裝置具有底板，其可與驅動軸連接，並且用來以位置可調節的方式承載該載板，其調節桿係支承在支點上，並且自該支點出發具有長的桿臂及短的桿臂，其中，在長的桿臂上卡設有調節元件，例如，調節螺釘，可用來對底板與載板之間的間隙進行間隙寬度調節，其中，該支點係對應於載板或基板，以及，短的桿臂卡設在另一板件上，其調節元件較佳地固定在該另一板件上。
此外，本發明係有關於一種用於將CVD反應器之基座緊固在驅動軸上之裝置，此裝置具有可透過螺釘以與驅動軸連接的底板以及透過間隙以與該底板隔開的載板，該載板載有基座並且可 相對於底板發生位置變化，其中，載板具有為螺釘所穿過而與底板之緊固孔對齊的貫穿孔。
此種裝置特別是可在中間連接環形承載元件的情況下載有其基座，其中，承載元件係支撐在載板之中心區之底面上。對應於基座的承載件可支撐在可供氣體通道穿過的環形承載元件上，而該承載件則載有環形的基座板。一張緊件之邊緣區域可支撐在環形的基座板之邊緣區域上，該張緊件係以特別是拉桿的張緊元件而與驅動軸或拉伸組件相連接。環形的承載元件形成一空腔，該空腔係透過貫穿孔及間隙以與基座底側之空間相連接，而在該空間中設有加熱裝置。
本發明之目的在於：防止在載板上方之空腔與基座下方之空間之間形成流體連接。
本發明用以達成上述目的之解決方案為請求項18所給出之特徵，其中，設有封閉其貫穿孔的封閉手段。該貫穿孔較佳係以可分離的方式被封閉手段所封閉。
在本發明之第一變體中，在其一或數個貫穿孔中各插入一插塞，該插塞係密封地封閉該貫穿孔。插塞可具有圓柱面狀的密封面，其係密封地抵靠在貫穿孔之圓柱內面上。但，在插塞之外套壁與貫穿孔之內壁之間，亦可佈置有密封元件，例如，O型環圈。但，插塞之外套壁亦可具有外螺紋，其可被旋入貫穿孔之壁部之內螺紋，或者具有自攻螺紋線。此外，該插塞可具有一頭部，該頭部之直徑大於貫穿孔之直徑，使得該插塞能以該頭部支撐在載板之中心區之底面上。在本發明之一變體中，呈管狀的承載元件具有使得承載元件之底側完全封閉其貫穿孔的壁厚。承載元件之底側便形成 為密封面。穿過載板的氣體通道各與一軸向的氣體通道相連通，而該軸向的氣體通穿過其承載元件，以便與基座或承載件之氣體通道相連通。其承載元件特別是以可分離的方式與載板相連接。用來連接底板與驅動軸的螺釘可被旋入法蘭元件之內螺紋，而該法蘭元件則係固定在驅動軸上。
1‧‧‧基座支架
2‧‧‧載板；承載元件
2'‧‧‧(載板)底側
3‧‧‧底板
3'‧‧‧(底板)頂側
3"‧‧‧(底板)支承面
4‧‧‧法蘭元件
4'‧‧‧(法蘭元件)載區
5‧‧‧承載面
6‧‧‧(載板)中心區
6'‧‧‧底面
7‧‧‧螺紋孔；緊固手段
8‧‧‧(緊固)螺釘；緊固手段
8'‧‧‧(螺釘)頭部
9‧‧‧緊固孔；緊固手段
9'‧‧‧(緊固孔)(上方)區段
10‧‧‧貫穿孔
11‧‧‧拉伸元件
12‧‧‧(載板)鑽孔
13‧‧‧(底板)鑽孔
13'‧‧‧支承槽
14‧‧‧滑塊；拉伸元件
15‧‧‧彈簧元件；拉伸元件
16‧‧‧調節桿；調節手段
16'‧‧‧(調節桿)支承區段
17‧‧‧(短)桿臂；調節手段
18‧‧‧(長)桿臂；調節手段
19‧‧‧調節螺釘；調節手段
20‧‧‧支承槽
21‧‧‧(撓性)密封件
22‧‧‧(密封件)通氣孔
23‧‧‧氣體通道
24‧‧‧排氣孔
25‧‧‧夾緊元件；(夾緊)螺釘
26‧‧‧(徑向)縫隙；間隙
27‧‧‧螺紋孔
28‧‧‧夾緊元件；(夾緊)螺釘
29‧‧‧空腔
30‧‧‧反應器殼體
31‧‧‧基座
32‧‧‧支撐面
33‧‧‧定向銷；位置調節元件
34‧‧‧環形接片
35‧‧‧(基座)流道
36‧‧‧基板架
37‧‧‧氣體入口構件
38‧‧‧(製程室)頂板/頂部
39‧‧‧氣體出口
40‧‧‧驅動軸
41‧‧‧夾爪；夾緊元件
42‧‧‧(載板)突起
43‧‧‧空腔
44‧‧‧夾緊環
45‧‧‧(驅動軸)流道
46‧‧‧插塞；封閉手段
47‧‧‧承載元件
47'‧‧‧密封面；封閉手段
48‧‧‧張緊件
49‧‧‧承載件
50‧‧‧張緊元件
51‧‧‧加熱元件
52‧‧‧O型環圈
53‧‧‧間隙
54‧‧‧間隙
a‧‧‧(製程室)高度
圖1為基座支架1之透視立體圖。
圖2為圖1所示基座支架之視圖。
圖3為沿圖2中之線III-III的剖視圖。
圖3a為根據圖3之剖面透視立體圖。
圖4為基座支架1之切開的透視立體圖。
圖5為第一分解圖。
圖6為第二分解圖。
圖7為反應器殼體30之剖面的概示圖，在其中基座支架1係將驅動軸40與基座31連接在一起。
圖8為圖7中之細節VIII-VIII之示意圖。
圖9為沿圖7中之線IX-IX的剖視圖。
圖10為沿圖7中之線X-X的剖視圖。
圖11本發明之以CVD反應器之基座支承裝置之橫截面形式示出的第二實施例之示意圖。
圖12為第三實施例之對應於圖11的視圖。
圖13為第四實施例之對應於圖11的視圖。
下面結合附圖對本發明之實施例進行說明。本發明之CVD反應器具有反應器殼體30，其係將佈置在反應器殼體30內之製程室氣密地對外封閉。設有氣體入口構件37，可用以將製程氣體饋送入製程室。廢氣可透過氣體出口39自製程室排出。製程室可藉由連接氣體出口39的泵而抽真空。
空心的驅動軸40伸入反應器殼體30，惰性氣體可穿過該驅動軸。在驅動軸40之上末端上緊固有載有基座31的基座支架1。基座31具有中心的開口，而該基座係由石墨、特別是包覆石墨或金屬所構成，該基座具有沿徑向遠離中心開口而延伸的流道35及一或數個圍繞基座31之中心而佈置的基板架36。基板架36處於一載區上，該載區可為凹槽之底部。流道35係與載區連通，使得，自流道35排出之惰性氣體一方面形成供基板架36倚靠之氣墊，另一方面使得基板架36旋轉。可透過旋轉驅動軸40以使基座31旋轉。
氣體入口構件37具有數個用於將互不相同的製程氣體引入製程室之進氣通道，該等進氣通道在基座31之頂側與頂板38之底側之間延伸。頂板38之底側與基座31之頂側之間的製程室高度a為20mm至50mm，較佳為30mm至40mm，在實施例中約為32mm至35mm。頂板38之直徑及基座31之直徑大於30cm。
基座支架1具有可用於調節基座31之相對於驅動軸40之軸線的傾斜位置的手段，從而使得製程室高度a在基座31之整個周邊上統一。
基座支架1具有法蘭元件4，可將該法蘭元件與驅動軸40之指向上方的末端連接在一起。法蘭元件4係指具有徑向的縫隙26的環形體，該縫隙將其環體分開。法蘭元件4之透過該縫隙所形 成的二個相對立佈置的半環構成為夾爪41，該等夾爪可藉由夾緊螺釘25而朝彼此移動，其中，間隙26縮小。設有其他夾緊螺釘28，可將其沿徑向旋入法蘭元件4之螺紋孔。螺紋孔對應於二個夾爪41。夾緊螺釘28之頂端可支撐在驅動軸40之外側面上。但，倒圓的夾爪41同樣係平面地抵靠在驅動軸40之外側面上，並且，藉由夾緊螺釘25以將該等夾爪保持在夾座中。無頭的螺釘28便實質上用於軸向固定。
法蘭元件4之指向上方的表面構成為一載區4'，其較佳係精確地處於驅動軸40之旋轉平面內。三個螺紋孔7從載區4'出發，可將緊固螺釘8旋入該等螺紋孔。
底板3具有支承面3"，可將該支承面平面地放置在載區4'上。可藉由緊固螺釘8以將底板3與法蘭元件4連接在一起。為此，底板3具有沿驅動軸40之軸線方向延伸的緊固孔，該等緊固孔具有直徑較大的上方區段9'。螺釘8之螺桿穿過緊固孔9，使得螺釘8之頭部8'完全處於緊固孔9之上方區段9'中。
底板3具有中心的空腔，驅動軸40之上方區段可穿過該空腔。驅動軸40自下方伸入底板之中心的孔，而載板2之突起42自上方伸入中心的空腔。突起42構成朝下方曝露的空腔，在該空腔之底部上設有密封件21。對密封件21之另一側施加驅動軸40之端面。驅動軸40具有數個沿其軸線方向延伸的流道45。
設有拉伸元件11，其係朝底板3之方向對載板2施力。特別是，設有三個圍繞載板2或底板3之中心而沿周向均勻分佈的拉伸元件11。拉伸元件11產生用來施加至密封件21之力。
密封件21具有數個通氣孔22，其係與氣體通道23之進 氣孔對齊，該等氣體通道則係在載板2內延伸。氣體通道23將諸進氣孔與排氣孔24連接在一起。氣體通道23具有第一區段，該第一區段係沿軸線方向延伸並且與第二區段相連通，第二區段則係沿徑向延伸。用插塞使得第二區段相對於載板2之圓柱面外壁封閉。第二區段與第三區段相連通，該第三區段係沿軸向延伸並且形成多個排氣孔24，該等排氣孔係處於載板2之端側上，惰性氣體可穿過排氣孔流入基座31之流道35。流道45與通氣孔22對齊，從而將氣體穿過流道45饋送入載板2。
拉伸元件11由螺紋螺釘構成，該螺紋螺釘係插入承載元件2之鑽孔12並穿過底板3之鑽孔13，並且在連接鑽孔13的支承槽13'中收尾。螺釘之末端被旋入非圓形的滑塊14，該滑塊可在支承槽13'中沿軸向運動。支承槽13'具有一底部，彈簧元件15支撐在該底部上。滑塊14在另一側對彈簧元件15施力。在實施例中，彈簧元件15係由壓力彈簧元件所構成。壓力彈簧元件為疊加在一起的碟形彈簧。
三個形式分別呈現為一調節桿16的調節元件在載板2之底側2'與底板3之頂側3'之間的間隙空白處延伸。調節桿16具有指向下方的支承區段16'，該支承區段係支承在支承槽20之底部上。設有三個支承槽20，其分別由頂側3'中之一徑向切口所構成。支承槽20為在剖面中呈矩形的槽，該槽係沿徑向延伸。
調節桿16具有沿徑向朝外的短桿臂17，其指向上方的突起係自下方卡住底側2'之邊緣。調節螺釘19卡在沿徑向朝內的長桿臂18上。調節螺釘19係指被旋入載板2之中心區6之螺紋孔的無頭螺釘。中心區6被與底側2'相對立的承載面5所包圍。承載面5又被環 形接片34所包圍。基座31之支撐面32倚靠在承載面5上。定向銷33在承載面5之開口中延伸，以便對基座31進行旋轉位置定向。諸排氣孔24處於承載面5中，並且與穿過基座31之流道35的諸進氣孔對齊。基座31在圖中為複合式的。但，該基座亦可建構為整體式的。
在中心區之中心設有與密封件21之開口對齊的貫通孔。
可藉由例如擰緊工具之類適宜的工具，以調節用於調節載板2相對於底板3之傾斜位置的調節手段19。諸調節手段特別是可透過基座31之中心的開口而接觸到。
在將例如為進行清潔或更換而自反應器殼體30移除的基座時，可首先在CVD反應器殼體30外部對基座支架1進行預調節，其具體方式為將底板3送入與承載面5平行的平行位置。隨後，將由載板2及底板3所構成之總體嵌入反應器殼體30。其中，將支承面3"放置在法蘭元件4之載區4'上。載區4'較佳係精確地在驅動軸40之旋轉平面內延伸，使得經預調節的承載面5同樣處於驅動軸40之旋轉平面內。藉由可自中心區6被接觸到的螺釘8以將底板3與法蘭元件4緊固在一起，將諸螺釘旋入法蘭元件4之螺紋孔7。其中，穿過載板2而透過諸貫穿孔10以對應緊固螺釘8，該等貫穿孔係與底板3之緊固孔9及法蘭元件4之螺紋孔7對齊。
可有利地藉由三個調節手段16、17、18、19以調節承載面5在所有方向上相對於底板3之圖形軸(figure axis)的傾斜度。拉伸元件11產生力，載板2之邊緣藉由該力以支承在調節桿16之短桿臂17上。
在將基座31放置在載板2上之後，實施精密調節。其 中，基座31之指向下方的支撐面32係支撐在承載面5上。可透過基座31之中心的空腔，藉由適宜的調節工具以改變調節元件，亦即，特別是改變調節螺釘19，從而改變基座31之傾斜位置，使得，該基座之頂側處於旋轉平面內，且特別是平行於製程室頂部38之底側。
圖11、圖12及圖13示出本發明之第二態樣。驅動軸40與底板3連接。底板3載有載板2，其中，設有前文已闡述過的措施以相對於底板3調節載板2。為此，設有調節手段，可用來調節載板2相對於底板3之傾斜位置。
如前文已述及之圖1至圖8所示，載板2透過間隙53以與底板3隔開。此間隙53係在水平面內延伸，且與包圍住載板2的環形間隙54相連通，並且打開形成在基座31下方延伸的空間。在該空間中設有加熱元件51，用以加熱基座31之基座板，而該基座板係呈環形並且支承在承載件49上。
承載件49又被管狀的承載元件47所承載，該承載元件係支撐在載板2之底面6'上。在圖11及圖13所示實施例中，承載元件47構成環形的空腔，與間隙53呈流體連接的貫穿孔10則與該空腔相連通，使得其中心的空腔與基座31下方之空間呈流體連接。
張緊件48之環形邊緣係倚靠在基座板之環形的邊緣上，該張緊件則以張緊元件50而與驅動軸40、或與佈置在驅動軸40下方的夾具相連接，從而將應力施加至張緊元件50。在實施例中，張緊件48係由拉伸板所構成。
藉由圖11所示之插塞46，中心的空腔與基座31下方的空間之間的流體連接被封閉，該插塞係堵住了與插有緊固螺釘8的緊固孔9對齊的貫穿孔10。在安裝時，可將緊固螺釘8穿過貫穿孔10 以插入緊固孔9。隨後，將緊固螺釘8之螺紋段旋入法蘭元件4之螺紋孔7，而該法蘭元件係緊固在驅動軸40上。圖中所示封閉手段係以可分離的方式封閉貫穿孔10。
插塞46具有圓柱形的密封區域，該密封區域卡入貫穿孔10。密封區域以彈性的壓緊力抵靠在圓柱形的貫穿孔10之壁部上。插塞46之頭部具有徑向地伸出密封面的區域，該等區域可支承在底面6'上，以便將插塞46軸向地保持在緊固孔9中。
圖13所示實施例與圖11所示實施例之區別實質上在於：密封元件為O型環圈52，其係嵌入插塞46之圓柱形側面之環形槽中。經壓縮的O型環圈52係可密封地支撐在貫穿孔10之壁部上。
在圖12所示實施例中，管狀的承載元件47具有使得承載元件47之底側構成為密封面47'的壁厚，而該密封面係將貫穿孔10完全封閉。張緊件48下方之供張緊元件50穿過的中心開口之徑向延伸度，即，其直徑，在圖12所示實施例中係小於圖11及圖13所示實施例。
在未示出的其他實施例中，插塞可具有替代的設計。插塞可具有被旋入貫穿孔10之壁部之內螺紋的外螺紋。上述螺紋可為自鎖的螺紋。但，在替代方案中，插塞亦可具有自攻的螺紋，該螺紋係在旋入插塞46時埋入貫穿孔10之平滑的壁部。此外，頭部之直徑逐漸增大的邊緣可形成密封面。
前述實施方案係用於說明本申請案整體所包含之發明，該等發明至少透過以下特徵組合分別獨立構成相對於先前技術之改良方案，其中，此等特徵組合中的兩項、數項或其全部亦可相互組合，即：
一種裝置，其特徵在於：設有受驅動軸40承載及/或可緊固在驅動軸40上的法蘭元件4，底板3係以可分離的緊固手段7、8、9緊固在該法蘭元件上，或可被緊固在該法蘭元件上。
一種裝置，其特徵在於：該等緊固手段7、8、9具有數個螺釘8，該等螺釘係插入底板3之諸多緊固孔9，並且被旋入法蘭元件4之諸多螺紋孔7。
一種裝置，其特徵在於：諸緊固螺釘8具有頭部8'，其係嵌入諸緊固孔9之直徑逐漸增大的區段9'。
一種裝置，其特徵在於：載板2之背離該底板3的端側具有中心區6，在該中心區內佈置有用於插入諸緊固螺釘8之多個貫穿孔10。
一種裝置，其特徵在於：承載面5包圍中心區6。
一種裝置，其特徵在於：設有調節手段16、17、18、19，用於調節承載面5相對於底板3之支承面3"的傾斜度，而該底板係支承在且/或可被支承在該法蘭元件之載區4'上。
一種裝置，其特徵在於：法蘭元件4具有多個夾緊元件25、28、41，以便緊固在驅動軸40之外側面上。
一種裝置，其特徵在於：法蘭元件4具有兩個夾爪41，該等夾爪可藉由夾緊元件25而朝彼此移動。
一種裝置，其特徵在於：法蘭元件4具有一或數個夾緊螺釘28，該等夾緊螺釘可沿徑向朝該驅動軸40之外側面被移動。
一種裝置，其特徵在於：諸調節手段為調節桿16，該等調節桿係支撐在底板3上，並且以短的桿臂17卡在載板2之底側2'上，以及，該等調節桿具有長的桿臂18，而被旋入中心區6之螺紋 孔的調節螺釘19則作用於該長的桿臂。
一種裝置，其特徵在於：設有朝底板3之方向對載板2施力的多個拉伸元件11、14、15。
一種裝置，其特徵在於：設有佈置在載板2中的多個氣體通道23，該等氣體通道係將對應於載板2之底側2'的多個進氣孔與多個排氣孔24相互連接在一起。
一種裝置，其特徵在於：設有嵌入對應於載板2之底側2'的突起42的空腔43的撓性密封件21，該密封件具有與諸進氣孔對齊的多個通氣孔22，並且可支承在驅動軸40之端側上。
一種裝置，其特徵在於：設有包圍承載面5的環形接片34。
一種裝置，其特徵在於：設有佈置在承載面5之區域內而特別是形式為定向銷的位置調節元件33。
一種CVD反應器，其特徵在於：基座31係藉由請求項1至15中任一項之裝置以與該驅動軸40連接，其中，基座31具有中心開口，該開口被支撐面32包圍，且該開口之直徑約相當於中心區6之直徑。
一種裝置，其特徵在於：將CVD反應器之基座31緊固在驅動軸40上，該驅動軸具有三個沿驅動軸40之軸向相疊佈置的元件，其中，下元件與驅動軸40連接並且載有中間元件，而該中間元件係佈置在下元件與上元件之間，其中，該上元件可相對於中間元件而進行位置調節，並且具有用於緊固基座31之手段。
一種裝置，其特徵在於：設有至少一個封閉手段46、47'，用來封閉貫穿孔10。
一種裝置，其特徵在於：該封閉手段係由插塞46構成，該插塞密封地卡入貫穿孔10，或者，該封閉手段為密封面47'，該密封面係由載有基座31且支撐在載板2上的承載元件47所構成。
所有已揭露特徵(作為單項特徵或特徵組合)皆為發明本質所在。故，本申請案之揭露內容亦包含相關/所附優先權檔案(在先申請案副本)所揭露之全部內容，該等檔案所述特徵亦一併納入本申請案之申請專利範圍。諸附屬項以其特徵對本發明針對先前技術之改良方案的特徵予以說明(亦無相關請求項之特徵)，其目的主要在於可在該等請求項基礎上進行分案申請。每個請求項中所給出的發明可進一步具有前述說明中給出的、特別是以元件符號標示且/或在元件符號說明中給出的諸多特徵中之一或數項。本發明亦有關於如下設計形式：不實現前述說明中所述及之個別特徵，特別是對於具體用途而言為非必需的或者可被技術上具有相同功效的其他手段所替代之特徵。

Claims (19)

  1. 一種用於將CVD反應器之基座緊固在驅動軸上之裝置，此裝置具有包含一承載面(5)的一載板(2)，該基座(31)之一支撐面(32)可放置在該承載面上，以及，此裝置具有一底板(3)，其可與該驅動軸(40)連接，並且用來以位置可調節的方式承載該載板(2)，其特徵在於：設有該驅動軸(40)承載及/或可緊固在該驅動軸(40)上的一法蘭元件(4)，該底板(3)係以可分離的緊固手段(7、8、9)緊固在該法蘭元件上，或可被緊固在該法蘭元件上。
  2. 如請求項1之裝置，其中，該等緊固手段(7、8、9)具有數個螺釘(8)，該等螺釘係插入該底板(3)之諸多緊固孔(9)，並且被旋入該法蘭元件(4)之諸多螺紋孔(7)。
  3. 如請求項2之裝置，其中，該等緊固螺釘(8)具有頭部(8')，其係嵌入該等緊固孔(9)之直徑逐漸增大的區段(9')。
  4. 如請求項2之裝置，其中，該載板(2)之背離該底板(3)的一端側具有一中心區(6)，在該中心區內佈置有用於插入該等緊固螺釘(8)之諸多貫穿孔(10)。
  5. 如請求項1之裝置，其中，該承載面(5)包圍該中心區(6)。
  6. 如請求項1之裝置，其中，設有調節手段(16、17、18、19)，用於調節該承載面(5)相對於該底板(3)之支承面(3")的傾斜度，而該底板係支承在且/或可被支承在該法蘭元件之一載區(4')上。
  7. 如請求項1之裝置，其中，該法蘭元件(4)具有諸多夾緊元件(25、28、41)，以便緊固在該驅動軸(40)之外側面上。
  8. 如請求項1之裝置，其中，該法蘭元件(4)具有兩個夾爪(41)， 該等夾爪可藉由一夾緊元件(25)而朝彼此移動。
  9. 如請求項1之裝置，其中，該法蘭元件(4)具有一或數個夾緊螺釘(28)，該等夾緊螺釘可沿徑向朝該驅動軸(40)之外側面被移動。
  10. 如請求項6之裝置，其中，該等調節手段為調節桿(16)，該等調節桿係支撐在該底板(3)上，並且以一短的桿臂(17)卡在該載板(2)之底側(2')上，以及，該等調節桿具有一長的桿臂(18)，而被旋入該中心區(6)之一螺紋孔的一調節螺釘(19)則作用於該長的桿臂。
  11. 如請求項1之裝置，其中，設有朝該底板(3)之方向對該載板(2)施力的諸多拉伸元件(11、14、15)。
  12. 如請求項1之裝置，其中，設有佈置在該載板(2)中的諸多氣體通道(23)，該等氣體通道係將對應於該載板(2)之一底側(2')的多個進氣孔與多個排氣孔(24)相互連接在一起。
  13. 如請求項1之裝置，其中，設有嵌入對應於該載板(2)之底側(2')的一突起(42)的一空腔(43)的一撓性密封件(21)，該密封件具有與該等進氣孔對齊的諸多通氣孔(22)，並且可支承在該驅動軸(40)之端側上。
  14. 如請求項1之裝置，其中，設有包圍該承載面(5)的一環形接片(34)。
  15. 如請求項1之裝置，其中，設有佈置在該承載面(5)之區域內而特別是形式為定向銷的一位置調節元件(33)。
  16. 一種CVD反應器，具有一反應器殼體(30)、一基座(31)及承載該基座(31)且可旋轉驅動的一驅動軸(40)，其特徵在於：該基座(31)係藉由請求項1之裝置以與該驅動軸(40)連接，其中，該基座(31)係具有一中心開口，該開口係被其支撐面(32)包圍，且 該開口之直徑約相當於中心區(6)之直徑。
  17. 一種用於將CVD反應器之基座緊固在驅動軸上之裝置，該驅動軸具有三個沿該驅動軸(40)之軸向相疊佈置的元件，其中，一下元件與該驅動軸(40)連接並且載有一中間元件，而該中間元件係佈置在該下元件與一上元件之間，其中，該上元件可相對於該中間元件而進行位置調節，並且具有用於緊固該基座(31)之手段。
  18. 一種用於將CVD反應器之基座緊固在驅動軸上之裝置，此裝置具有可透過一螺釘(8)以與該驅動軸(40)連接的一底板(3)以及透過一間隙(53)以與該底板(3)隔開的一載板(2)，該載板載有該基座(31)並且可相對於該底板(3)發生位置變化，其中，該載板(2)具有為該螺釘(8)所穿過而與該底板(3)之一緊固孔(9)對齊的一貫穿孔(10)，其特徵在於：設有至少一個封閉手段(46、47')，用來封閉該貫穿孔(10)。
  19. 如請求項18之裝置，其中，該封閉手段係由一插塞(46)構成，該插塞密封地卡入該貫穿孔(10)，或者，該封閉手段為一密封面(47')，該密封面係由載有該基座(31)且支撐在該載板(2)上的一承載元件(47)所構成。
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