EP2001813A2 - Systeme de couches a faible emissivite et haute tenue a la chaleur pour substrats transparents. - Google Patents
Systeme de couches a faible emissivite et haute tenue a la chaleur pour substrats transparents.Info
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Definitions
- the invention relates to a low-emissivity and heat treatment-resistant layer system for transparent substrates, in particular glass panes, which has at least from the substrate a lower antireflection coating consisting of a plurality of partial layers and having a layer essentially consisting of ZnO to which is adjacent a silver-based functional layer, a substantially metallic blocking layer located above the silver-based layer, an upper antireflection coating consisting of several partial layers and a possibly covering coating consisting of several partial layers, the layers being applied by vacuum spraying.
- the present invention also relates to a glazing incorporating at least one carrier substrate of a layer system according to the invention.
- heat-treated high temperature layer systems is meant layer systems which withstand the temperatures of about 600-750 ° C. necessary for the bending and / or tempering operation of glass substrates without being destroyed and without losing their essential properties, namely a high transmission in the visible range of the spectrum, a high reflection in the range of thermal radiation, a low dispersion, a high neutrality of hue, a high mechanical resistance and high chemical resistance.
- these layer systems are also called “hardenable” and / or “bumpy”. Basically, of course, it is also possible to deposit these layer systems on substrates which are not subsequently thermally treated.
- both these known layer systems and the layer systems according to the invention are suitable also for transparent substrates made of synthetic material.
- Functional layers are generally metal layers that can be intrinsically used for thermal insulation (heat reflection).
- the functional layer of the present layer systems is silver-based or essentially silver (which has a positive effect on the color neutrality of the layer system), but also known other materials for functional layers, for example gold and copper.
- the antireflection layers are all made of silicon nitride (Si 3 N 4 ) which is separated from the silver functional layer by thin CrNi blocking layers and / or NiCrO x .
- the anti-reflective layers consist of oxide layers.
- These layer systems whose antireflection layers consist of pure oxides are described for example in the documents DE 198 52 358 C1, EP 0 991 92 B1, EP 1 538 131 A1 and WO 2004/058660 A1.
- These layer systems can also be equipped with upper layer of metal nitride and in particular Si 3 N 4 .
- EP 0 718 250 B1 discloses quenchable layer systems with anti-reflective layers of oxides, nitrides or carbides and in which the silver-based functional layer is covered by a metal blocking layer which may consist for example of Nb, Ta, Ti, Cr or Ni or an alloy of at least two of these metals.
- a thin ZnO intermediate layer is disposed between the Nb blocking layer disposed on the silver layer and the upper Si 3 N 4 antireflection layer.
- DE 102 35 154 B4 discloses a high heat resistant layer system of the type indicated at the beginning and provided with a titanium alloy blocking layer. This document also discloses layer systems in which a ZnO layer optionally doped with Al is applied to the metal blocking layer, a layer of Si 3 N 4 which is part of the upper antireflection coating such as the ZnO layer being disposed on this layer. layer of ZnO.
- DE 101 05 199 C1 discloses a high heat resistant layer structure with oxide anti-reflection layers in which an intermediate layer of 0.5 to 5 nm thickness of metal nitride is provided. for example Si 3 N 4 or AlN, is disposed between the silver layer and the metal blocking layer disposed above the silver layer.
- EP 1 238 950 A2 and EP 1 583 723 A1 disclose quenchable layer systems which optionally have a plurality of silver functional layers and nitride antireflection layers or nitride partial layers which form the antireflection layers, and in which which a succession of layers in NiCrO x - SnO 2 - Si 3 N 4 is placed above the silver functional layer.
- WO 97/48649 also discloses high heat resistant layer systems which are provided with silver functional layers and Si 3 N 4 antireflection layers.
- the succession of layers situated above the upper layer of silver may also consist of Nb - ZnO - TiN - Si 3 N 4 .
- the problem underlying the invention is to further improve the mechanical properties and chemical properties of high heat-resistant layer systems and to develop layer systems that have good optical properties and high strength. technical manipulations.
- the invention solves this problem with the arrangements described in claim 1.
- the detailed dependent claims have particularly advantageous features.
- a relatively high hardness and good properties of manipulation of the layer system with the known sequence of Si 3 N 4 -ZnO above and / or above the silver layer can already be obtained basically, with this succession of layers, quality defects are sometimes observed in the production and subsequent processing operations.
- these quality defects can be avoided by intercalating according to the invention a separation layer into a metal oxide or a mixed oxide cubic lattice.
- Si 3 N 4 is an amorphous material which has marked isotropic properties
- ZnO is a crystalline material with a very dense hexagonal stack and anisotropic properties.
- Anisotropy is caused by the spatial structure of the network and manifests itself for example in elasticity, hardness, peelability and thermal elongation, depending on the dependence of these properties on from the direction.
- the layer of intercalated cubic lattice crystalline material as the separation layer is optically isotropic, but as far as its mechanical properties are concerned, it behaves as an anisotropic material. It thus performs a dual function and in this way acts as a reinforcing layer for the bond between the Si 3 N 4 layer and the ZnO layer.
- materials for the cubic lattice separation layer are suitable for example layers based on or consisting of NiCrO x , Al 2 O 3 , MgAlO x , TiAlO x , NiAlO x and NiO.
- the mixed oxide layer which contains ZnO may be based on or consisting of ZnSnO x , ZnAlO x , ZnBiO x , ZnSbO x or ZnInO x . (in the usual way, letters in index indicate numbers to obtain some stoichiometry).
- the succession of partial layers of the upper antireflection coating proposed by the invention that is to say the arrangement of a separation layer in a metal oxide or a mixed oxide with cubic crystal lattice between the partial layer which contains the ZnO and in an advantageous development of the invention, the silicon nitride partial layer may alternatively or cumulatively also be produced inside the lower antireflection coating of the layer system.
- a lower antireflection coating and / or an upper antireflection coating which has:
- a separation layer with a thickness of 0.5 to 5 nm, consisting of a metal oxide or a mixed oxide with a cubic crystal lattice, which prevents direct contact between these two partial layers by direct contact.
- the layer systems according to the invention can also have in particular the following arrangements of the partial layers: substrate (glass) / Si 3 N 4 / ZnO: Al / Ag / NiCr / ZnO: Al /
- ZnO Al / NiCrO x / Si 3 N 4 / (cover layer) substrate (glass) / Si 3 N 4 / ZnSnO x / ZnO: Al / Ag / NiCr /
- ZnO Al / NiCrO x / Si 3 N 4 / (cover layer) substrate (glass) / Si 3 N 4 / NiCrO x / ZnSnO x / ZnO: Al / Ag /
- a first advantageous covering layer consists of TiZrHf (C x OyN 2 ).
- This covering layer is sprayed from a metal target of TiZrHf with N 2 working gas supplemented with 0.5% CH 4 .
- CH 4 the necessary carbon in the working gas which surrounds the TiZrHf target by the hydrocarbons present in the pumping system at a low level of suction capacity, as well as basically disclosed EP 0 270 024 B 1 in which the sputtering of TiC x OyN 2 layers. Oxygen incorporation occurs immediately when the layer comes in contact with the atmosphere.
- WO 2004/71984 A1 discloses quenchable layer systems in which the cover layer may consist of oxynitrides, oxycarbides and carbonitrides of Ti, Zr and other elements of groups IVb, Vb and VIb of the periodic system.
- the cover layer may consist of oxynitrides, oxycarbides and carbonitrides of Ti, Zr and other elements of groups IVb, Vb and VIb of the periodic system.
- these known layer systems are mixtures of individual compounds and this layer is not identical to the complex and homogeneous bonding structure provided in the invention.
- Another advantageous covering layer consists of an oxidized pure layer of TiZrHfYO x .
- This oxidized coating layer is preferably sprayed from an oxidized conductive ceramic target which contains, based on the ZrO 2 content, from 5 to 10% by weight of Y 2 O 3 .
- This layer is preferably sprayed from a tubular target in a working atmosphere of Ar / O 2 .
- ASTM 2486 It is measured to what extent defects in the layer can be observed after 300 strokes.
- a needle biased by a weight on the layer is fired at a defined speed, both before quenching (v) and after quenching (n).
- the weight for which scratches are visible is a measure of the scratch resistance.
- This test is performed after prestressing by rubbing the layer with a cloth impregnated with alcohol. You can not see any friction spots.
- the ZnOiAl layers are sprayed from a ZnAl metal target which contains 2% by weight of Al.
- the blocking layer disposed on the silver layer is sprayed with argon as the working gas from a NiCr metal target consisting of 80% by weight of Ni and 20% by weight of Cr.
- the silicon nitride antireflection upper layer is sprayed under reactive conditions with a working gas of Ar / N 2 from a Si target and the upper covering layer (“topcoat" layer) is also sprayed under conditions reactive with ArO 2 working gas from a metal target of ZnTi alloy which has 73% by weight of Zn and 27% by weight of Ti.
- topcoat upper covering layer
- a 4 mm thick floatr glass pane was coated with the following layer system: glass / 25Si 3 N 4 / 9ZnO: Al / 11, 5Ag / 3.5NiCr / 5ZnO: Al /
- the ZnO: Al layers, the NiCr layer and the Si 3 N 4 layers are sprayed under the same conditions as those indicated in the comparative example.
- the target used for the deposition of the TiZrHf covering layer (C x OyN 2 ) consists of an alloy of TiZrHf at 55% by weight of Ti, 44% by weight of Zr and 1% by weight of Hf and is sprayed with a mixture of Ar and N 2 as working gas.
- the incorporation of C into the covering layer is carried out from the residual gas present in the installation after lowering the suction power on this cathode and the incorporation of 0 also takes place from the residual gas, but also from the atmosphere after the layer has been brought into contact with the cathode. outside atmosphere.
- the XPS / ESCA and AES measurements made on this overlay layer have a good correspondence with the data of the structure Me-carbooxynitride disclosed in the literature.
- a 4 mm thick float glass pane was coated with the following layer system: glass / 25Si 3 N 4 / 2.5NiCrO x / 9Zn0: Al / 11.5Ag / 3.5NiCr /
- the TiZrHfYO x cover layer is deposited from a tubular ceramic target made of a conductive oxidized material.
- the oxidized material is prepared from a metal alloy which comprises 56% by weight of Ti, 40% by weight of Zr, 1% by weight of Hf and 3% by weight of Y.
- the other layers are pulverized in the same conditions than in the previous examples.
- this layer system is reproducibly free of roughness and when examined under daylight or under halogen light.
Abstract
Un système de couches à faible émissivité et à haute tenue au traitement thermique pour substrats transparents comprend un revêtement antireflet inférieur constitué de plusieurs couches partielles et comportant une couche essentiellement constituée de ZnO à laquelle est adjacente une couche fonctionnelle à base d'argent, une couche essentiellement métallique de blocagesur la couche à base d'argent, un revêtement antireflet supérieur constitué de plusieurs couches partielles et un revêtement de recouvrement éventuellement constituée de plusieurs couches partielles. Le revêtement antireflet supérieur présente : une couche partielle en ZnO ou en un oxyde mixte ZnMeOx qui contient du ZnO ou une succession de couches d'oxydes mixtes de type ZnO: Al / ZnMeOx, -une couche partielle en Si3N4 ou en SixOyNz et entre ces deux couches partielles une couche de séparation d'une épaisseur de 0,5 à 5 nm, constituée d'un oxyde métallique ou d'un oxyde mixte à réseau cristallin cubique, qui empêche un contact direct entre ces deux couches partielles; cette couche améliore les propriétés mécaniques du revêtement.
Description
SYSTEME DE COUCHES A FAIBLE EMISSIVITE ET HAUTE TENUE A LA CHALEUR POUR SUBSTRATS TRANSPARENTS
L'invention concerne un système de couches à faible émissivité et haute tenue au traitement thermique pour des substrats transparents, en particulier des vitres, et qui présente au moins à partir du substrat un revêtement antireflet inférieur constitué de plusieurs couches partielles et comportant une couche essentiellement constituée de ZnO à laquelle est adjacente une couche fonctionnelle à base d'argent, une couche essentiellement métallique de blocage située au-dessus de la couche à base d'argent, un revêtement antireflet supérieur constitué de plusieurs couches partielles et un revêtement de recouvrement éventuellement constitué de plusieurs couches partielles, les couches étant appliquées par pulvérisation sous vide.
La présente invention se rapport aussi à un vitrage incorporant au moins un substrat porteur d'un système de couches selon l'invention.
Par systèmes de couches à haute tenue au traitement thermique, on entend des systèmes de couches qui résistent aux températures d'environ 600-7500C nécessaires pour l'opération de bombage et / ou de trempe de substrats en verre sans être détruites et sans perdre leurs propriétés essentielles, à savoir une haute transmission dans la plage visible du spectre, une haute réflexion dans la plage du rayonnement thermique, une faible dispersion, une haute neutralité de teinte, une haute résistance mécanique et haute résistance chimique. Dans le traitement technique ultérieur des vitres sur lesquelles ils sont de préférence déposés, ces systèmes de couches sont également appelés "trempables" et / ou "bombables". Fondamentalement, il est évidemment aussi possible de déposer ces systèmes de couches sur des substrats qui ne sont pas ensuite traités thermiquement . Ainsi, tant ces systèmes de couches connus que les systèmes de couches selon l'invention conviennent
également pour des substrats transparents en matière synthétique .
On appelle couches fonctionnelles des couches en général métalliques qui peuvent être utilisées intrinsèquement pour l'isolation thermique (la réflexion de chaleur). Dans de nombreux cas, la couche fonctionnelle des systèmes de couches actuels est à base d'argent ou constituée pour l'essentiel d'argent (qui a un effet positif sur la neutralité de la teinte du système de couches), mais l'on connaît également d'autres matériaux pour couches fonctionnelles, par exemple l'or et le cuivre.
On connaît différents modes de réalisation de systèmes de couches à haute tenue à la chaleur. Dans un premier groupe de systèmes de couches à haute tenue à la chaleur, les couches antireflet sont toutes constituées de nitrure de silicium (Si3N4) qui est séparé de la couche fonctionnelle d'argent par de minces couches de blocage en CrNi et / ou en NiCrOx.
Des systèmes de couches qui présentent des structures sont décrits par exemple dans les documents EP 0 567 735 Bl, EP 0 717 014 Bl, EP 0 771 766 Bl, EP 0 646 551 Bl, EP 0 796 825 Bl, EP 1 446 364 Bl et EP 1 174 397 A2. Dans le système de couches décrit dans le document EP 0 883 584 Bl, les couches de blocage disposées entre la couche d'argent et les couches antireflet Si3N4 sont constituées de silicium.
Dans un autre groupe de systèmes de couches à haute tenue la chaleur qui présentent une couche d'argent comme couche fonctionnelle, les couches antireflet sont constituées de couches d'oxydes. Ces systèmes de couches dont les couches antireflet sont constituées d'oxydes purs sont décrits par exemple dans les documents DE 198 52 358 Cl, EP 0 991 92 Bl, EP 1 538 131 Al et WO 2004 / 058660 Al. Ces systèmes de couches peuvent également être dotés d'une
couche supérieure en nitrure métallique et en particulier en Si3N4.
Par le document EP 0 718 250 Bl, on connaît des systèmes de couches trempables dotés de couches antireflet d'oxydes, de nitrures ou de carbures, et dans lesquelles la couche fonctionnelle à base d'argent est recouverte par une couche métallique de blocage qui peut être constituée par exemple de Nb, de Ta, de Ti, de Cr ou de Ni ou d'un alliage d'au moins deux de ces métaux. Dans un exemple de réalisation, une mince couche intermédiaire ZnO est disposée entre la couche de blocage en Nb disposée sur la couche d'argent et la couche antireflet supérieure en Si3N4.
Le document DE 102 35 154 B4 divulgue un système de couches à haute tenue à la chaleur du type indiqué au début et doté d'une couche de blocage à base d'un alliage de titane. Ce document présente également des systèmes de couches dans lesquelles une couche de ZnO éventuellement dopée en Al est appliquée sur la couche métallique de blocage, une couche en Si3N4 qui fait partie du revêtement antireflet supérieur comme la couche de ZnO étant disposée sur cette couche de ZnO.
Par le document DE 101 05 199 Cl, on connaît une structure de couches à haute tenue à la chaleur, dotée de couches antireflet en oxyde, dans laquelle une couche intermédiaire d'une épaisseur de 0,5 à 5 nm en nitrure de métal, par exemple en Si3N4 ou en AlN, est disposée entre la couche d'argent et la couche métallique de blocage disposée au- dessus de la couche d'argent.
Le document EP 1 238 950 A2 et le document EP 1 583 723 Al décrivent des systèmes de couches trempables qui présentent éventuellement plusieurs couches fonctionnelles en argent et des couches antireflet en nitrure ou des couches partielles en nitrure qui forment les couches en antireflet, et dans lesquelles une succession de couches en
NiCrOx - SnO2 - Si3N4 est disposée au-dessus de la couche fonctionnelle d'argent.
Le document DE 103 51 616 Al, qui concerne également des systèmes de couches à haute tenue à la chaleur, divulgue également des systèmes de couches qui présentent la succession de couches Ag - Si3N4 - ZnO - SnO - Si3N4.
Le document WO 97/48649 décrit également des systèmes de couches à haute tenue à la chaleur qui sont dotés de couches fonctionnelles d'argent et de couches antireflet en Si3N4. Selon ce document, la succession de couches situées au-dessus de la couche supérieure d'argent peut être également constituée de Nb - ZnO - TiN - Si3N4.
Aux systèmes de couches trempables ou bombables, on impose des exigences élevées non seulement en termes de tenue à la chaleur mais également en termes de propriétés mécaniques et de propriétés chimiques. Lors du transport à l'intérieur de l'entreprise, de la découpe et du rodage des vitres, lors de l'opération de lavage dans les automates de lavage, lors du transport dans le four de trempe et / ou de bombage et lors des opérations ultérieures de transport et de traitement (que l'on rassemble dans ce qui suit sous le nom de "manipulations"), ces couches sont exposées à des sollicitations élevées qui peuvent aisément entraîner des dommages au système de couches.
Le problème à la base de l'invention est d'améliorer encore les propriétés mécaniques et les propriétés chimiques de systèmes de couches à haute tenue à la chaleur et de mettre au point des systèmes de couches qui présentent de bonnes propriétés optiques et une haute résistance aux manipulations techniques.
L'invention résout ce problème avec les dispositions décrites dans la revendication 1. Les revendications dépendantes détaillents des caractéristiques particulièrement avantageuses.
Bien que l'on puisse obtenir fondamentalement déjà une dureté relativement élevée et de bonnes propriétés de manipulation du système de couches avec la succession connue de Si3N4 - ZnO au-dessus et/ou au-dessus de la couche d'argent, avec cette succession de couches, on observe parfois des défauts de qualité dans les opérations de production et de traitement ultérieur. De manière surprenante, ces défauts de qualité peuvent être évités en intercalant selon l'invention une couche de séparation en un oxyde métallique ou un oxyde mixte à réseau cristallin cubique .
Une cause de la sensibilité de la succession de couches Si3N4 - ZnO et ZnO - Si3N4 pourrait être un défaut d'établissement de la couche frontière. En effet, Si3N4 est un matériau amorphe qui présente des propriétés d'isotropie accusées, alors que ZnO est un matériau cristallin à empilement hexagonal très dense et aux propriétés anisotropes. L ' anisotropie est provoquée par la structure spatiale du réseau et se manifeste par exemple dans l'élasticité, la dureté, l'aptitude au décollement et l'allongement thermique, et ce en fonction de la dépendance de ces propriétés vis-à-vis de la direction. En revanche, la couche d'un matériau cristallin à réseau cubique intercalée comme couche de séparation est isotrope du point de vue optique, mais pour ce qui concerne ses propriétés mécaniques, elle se comporte comme un matériau anisotrope. Elle assure ainsi une double fonction et agit de cette manière comme couche de renforcement de la liaison entre la couche de Si3N4 et la couche de ZnO.
Comme matériaux pour la couche de séparation à réseau cristallin cubique conviennent par exemple des couches à base de ou constituée de NiCrOx, Al2O3, MgAlOx, TiAlOx, NiAlOx et NiO. La couche d'oxyde mixte qui contient du ZnO peut être à base de ou constituée de ZnSnOx, ZnAlOx, ZnBiOx, ZnSbOx ou ZnInOx. (de manière habituelle, les lettres en
indice indiquent des chiffres permettant d'obtenir une certaine stoechiométrie) .
La succession des couches partielles du revêtement antireflet supérieur que propose l'invention, c'est-à-dire l'agencement d'une couche de séparation en un oxyde métallique ou un oxyde mixte à réseau cristallin cubique entre la couche partielle qui contient du ZnO et dans un développement avantageux de l'invention, la couche partielle en nitrure de silicium peut être alternativement ou cumulativement également réalisée à l'intérieur du revêtement antireflet inférieur du système de couches. Ainsi, il est possible de réaliser dans le cadre du préambule de la revendication 1, un revêtement antireflet inférieure et/ou un revêtement antireflet supérieur qui présente :
- une couche partielle de ZnO ou d'un oxyde mixte ZnMeOx qui contient du ZnO ou une succession de couches d'oxydes mixtes de type ZnO:Al / ZnMeOx,
- une couche partielle en Si3N4 ou en SixOyN2 et
- entre ces deux couches partielles une couche de séparation d'une épaisseur de 0,5 à 5 nm, constituée d'un oxyde métallique ou d'un oxyde mixte à réseau cristallin cubique, qui empêche un contact direct entre ces deux couches partielles en contact direct.
Les systèmes de couches selon l'invention peuvent également présenter en particulier les agencements ci-dessous des couches partielles : substrat (verre) / Si3N4 / ZnO:Al / Ag / NiCr / ZnO:Al /
NiCrOx / Si3N4 / (couche de recouvrement) substrat (verre) / Si3N4 / NiCrOx / ZnO:Al / Ag / NiCr /
ZnO:Al / NiCrOx / Si3N4 / (couche de recouvrement) substrat (verre) / Si3N4 / ZnSnOx / ZnO:Al / Ag / NiCr /
ZnO:Al / NiCrOx / Si3N4 / (couche de recouvrement) substrat (verre) / Si3N4 / NiCrOx / ZnSnOx / ZnO:Al / Ag /
NiCr / ZnO / ZnSnOx / NiCrOx / Si3N4 / (couche de recouvrement )
On peut obtenir encore une amélioration des propriétés de résistance mécanique du système de couches avec des couches de recouvrement à base de certains composés de TiZrHf.
Une première couche de recouvrement avantageuse ("topcoat") est constituée de TiZrHf(CxOyN2). Cette couche de recouvrement est pulvérisée depuis une cible métallique de TiZrHf avec comme gaz de travail N2 additionné de 0,5 % de CH4. On peut cependant aussi se passer de l'addition de CH4 et obtenir le carbone nécessaire dans le gaz de travail qui environne la cible de TiZrHf par les hydrocarbures présents dans le système de pompage à un bas niveau de capacité d'aspiration, ainsi que l'a divulgué fondamentalement le document EP 0 270 024 Bl dans lequel la pulvérisation de couches de TiCxOyN2. L'incorporation de l'oxygène s'effectue immédiatement lorsque la couche entre en contact avec l'atmosphère. A l'aide de la spectroscopie électronique d'Auger (AES) et de la spectroscopie électronique pour analyse chimique (XPS / ESCA) , on a pu démontrer que la couche de recouvrement ainsi préparée a une structure homogène de TiZrHf-carboxynitrure . L'existence d'une telle structure est connue dans la littérature spécialisée (voir par exemple le périodique allemand "Hochvakuum, Grenzflâchen / Dϋnne Schichten", fascicule 1, mars 1984, page 142 et "Thin Solid Films", 100 (1983), pages 193 à 201, "The micro hardness of reactively sputtered TiCxOyN2- films" .
Le document WO 2004/71984 Al divulgue des systèmes de couches trempables dans lesquels la couche de recouvrement peut être constituée d' oxynitrures, oxycarbures et carbonitrures de Ti, Zr et d'autres éléments des groupes IVb, Vb et VIb du système périodique. Cependant, ces systèmes de couches connus sont des mélanges de composés individuels et cette couche n'est pas identique à la structure complexe et homogène de liaison réalisée dans 1 ' invention .
Une autre couche de recouvrement avantageuse est constituée d'une couche pure oxydée de TiZrHfYOx. Cette couche de recouvrement oxydée est de préférence pulvérisée à partir d'une cible céramique conductrice oxydée qui contient par rapport à la teneur en ZrO2 de 5 à 10 % en poids de Y2O3. Cette couche est de préférence pulvérisée depuis une cible tubulaire dans une atmosphère de travail d'Ar / O2.
L'invention va maintenant être décrite au moyen de deux exemples de réalisation qui sont comparés à un exemple comparatif de l'état de la technique. Comme les dispositions selon l'invention doivent améliorer en particulier la résistance mécanique et la dureté, pour évaluer les propriétés des couches sur les vitres revêtues, on réalise les mesures et les tests indiqués ci-dessous.
A. Test Taber de la firme Taber Industries
Dans ce test, on serre une éprouvette revêtue et non trempée dans l'appareil et on la traite à l'aide d'un rouleau de frottement du type CS - 10 F en faisant tourner le rouleau de frottement pendant 50 tours sous une charge de 500 g. La couche ainsi traitée est évaluée au microscope. Les résultats de ce test sont indiqués en % de couches encore présentes.
B. Test de rayure Erichsen sur éprouvettes non trempées Sur des éprouvettes revêtues et non trempées de 10 x 10 cm2, on crée avec une pointe de type "van Laar" une rayure circulaire dans la couche sous une charge de 5 N. Ensuite, l' éprouvette est trempée thermiquement et on mesure au microscope la largeur de la rayure. Plus la rayure est étroite, moins la couche a subi de contrainte et meilleure est donc la qualité de la couche.
C. Test de rayure Erichsen sur éprouvettes trempées
Sur le même appareil que dans le test B, on réalise sous une charge croissante des rayures circulaires dans la couche sur des éprouvettes précontraintes au format de 10 x 10 cm2, et on détermine les charges auxquelles on
observe une rayure interrompue et celles auxquelles on observe une rayure continue.
D. Test de lavage Erichsen sur éprouvettes non précontraintes
On fait subir à des éprouvettes revêtues et non précontraintes un test de lavage Erichsen selon la norme
ASTM 2486. On mesure dans quelle mesure on peut observer des défauts dans la couche après 300 courses.
E. Test de lavage Erichsen sur éprouvettes précontraintes On trempe dans un four de trempe des éprouvettes revêtues aux dimensions 10 x 40 cm2 et on leur fait subir le même test de lavage. On mesure le nombre de courses auquel on commence à observer un décollement de la couche.
F. Mesure de la résistance aux rayures par notre propre méthode de test
Dans cette mesure, on tire à une vitesse définie une aiguille sollicitée par un poids sur la couche, et ce aussi bien avant la trempe (v) qu'après la trempe (n) . Le poids g pour lequel des traces de rayures sont visibles est une mesure de la résistance à la rayure.
G. Test à la laine d'acier
Dans ce test, on passe sous une légère pression un tampon de laine d'acier sur la couche d'une éprouvette non trempée. On considère que le test est réussi lorsque l'on ne peut voir aucune rayure.
H. Test à l'alcool
Ce test est réalisé après la précontrainte en frottant la couche à l'aide d'un chiffon imprégné d'alcool. On ne peut voir aucune tache de frottement.
I. Mesures à l'aide de l'appareil de mesure de diffusion de lumière de la firme Gardner
1.1. Mesure de la lumière dispersée avant (v) et après (n) la trempe
1.2. Mesure de la transmission avant (v) et après (n) la trempe
Exemple comparatif
Dans une installation industrielle de revêtement en continu dans laquelle on peut utiliser tous les types de cibles, à savoir aussi bien des cibles planes que des cibles tubulaires, en courant continu et / ou en courant alternatif, on applique à l'aide du procédé de pulvérisation cathodique réactive soutenue par champ magnétique et sur des vitres de verre float d'une épaisseur de 4 mm un système de couches à faible émissivité qui correspond à l'état de la technique, les nombres donnés avant le symbole chimique représentant l'épaisseur de chaque couche individuelle en nm : verre / 25Si3N4 / 9ZnO:Al / 11,5Ag / 3,5NiCr / 5ZnO:Al / 33Si3N4 / 2Zn2TiO4.
Les couches de ZnOiAl sont pulvérisées à partir d'une cible métallique de ZnAl qui contient 2 % en poids d'Al. La couche de blocage disposée sur la couche d'argent est pulvérisée avec de l'argon comme gaz de travail à partir d'une cible métallique de NiCr constituée de 80 % en poids de Ni et de 20 % en poids de Cr. La couche supérieure antireflet en nitrure de silicium est pulvérisée en conditions réactives avec un gaz de travail d'Ar / N2 à partir d'une cible de Si et la couche de recouvrement supérieure (couche dite "topcoat") est également pulvérisée en conditions réactives avec comme gaz de travail ArO2 à partir d'une cible métallique d'alliage de ZnTi qui compte 73 % en poids de Zn et 27 % en poids de Ti. Dans la vitre revêtue, on découpe les éprouvettes nécessaires pour réaliser les tests mentionnés plus haut.
Lorsque les éprouvettes doivent être précontraintes, elles le sont dans un four technique type 47067 de la firme EFKO en respectant les normes de la technologie.
Sur les éprouvettes de l'exemple comparatif, on détermine les propriétés à l'aide des tests mentionnés plus haut :
Exemple de réalisation 1
Sur la même installation de revêtement en continu que celle utilisée dans l'exemple comparatif, on revêt une vitre de verre floatr d'une épaisseur de 4 mm du système de couches suivant : verre / 25Si3N4 / 9ZnO:Al / 11,5Ag / 3,5NiCr / 5ZnO:Al /
2,5NiCrOx / 33Si3N4 / 2TiZrHf (CxOyNz) .
Les couches de ZnO:Al, la couche de NiCr et les couches de Si3N4 sont pulvérisées dans les mêmes conditions que celles indiquées à propos de l'exemple comparatif. La couche de NiCrOx est également pulvérisée à partir d'une couche de NiCr à 80 / 20, mais en conditions réactives avec comme mélange de gaz de travail Ar / O2 = 250 / 90 cm3 standard. La cible utilisée pour le dépôt de la couche de recouvrement de TiZrHf(CxOyN2) est constituée d'un alliage de TiZrHf à 55 % en poids de Ti, 44 % en poids de Zr et 1 % en poids de Hf et est pulvérisée avec comme gaz de travail un mélange d'Ar et N2. L'incorporation de C dans la couche de recouvrement s'effectue à partir du gaz résiduel présent
dans l'installation après abaissement de la puissance d'aspiration sur cette cathode et l'incorporation de 0 s'effectue également à partir du gaz résiduel, mais également à partir de l'atmosphère après que la couche a été mise en contact avec l'atmosphère extérieure. Les mesures XPS / ESCA et AES réalisées sur cette couche de recouvrement présentent une bonne correspondance avec les données de la structure Me-carbooxynitrure divulguées dans la littérature.
Sur ce produit, et à l'aide des tests mentionnés plus haut, on détermine les propriétés suivantes :
La transmission (74,4 %) de l'éprouvette avant la précontrainte est donc relativement basse, parce que la couche de recouvrement en TiZrHf (CXOVNZ) est relativement fort absorbante. Ce n'est qu'après l'opération de traitement thermique de trempe que les composants nitrurés et carbures sont décomposés en oxydes non absorbants.
Exemple de réalisation 2
Dans la même installation de revêtement en continu que celle utilisée dans l'exemple comparatif, on revêt une vitre de verre float d'une épaisseur de 4 mm du système de couches ci-dessous : verre / 25Si3N4 / 2,5NiCrOx / 9Zn0:Al / 11,5Ag / 3,5NiCr /
5Zn0:Al / 2,5NiCrOx / Si3N4 / 2TiZrHfYOx.
La couche de recouvrement en TiZrHfYOx est déposée à partir d'une cible tubulaire en céramique constituée d'un matériau oxydé conducteur. Le matériau oxydé est préparé à partir d'un alliage métallique qui compte 56 % en poids de Ti, 40 % en poids de Zr, 1 % en poids de Hf et 3 % en poids de Y. Les autres couches sont pulvérisées dans les mêmes conditions que dans les exemples précédents.
A l'aide des tests mentionnés plus haut, on détermine sur ce produit les propriétés suivantes :
Après la précontrainte de la vitre revêtue, ce système de couches est de manière reproductible exempt de rugosité et
de voile lorsqu'on l'examine sous lumière du jour rasante ou sous lumière halogène.
Claims
1. Système de couches à faible émissivité et à haute tenue au traitement thermique pour des substrats transparents, en particulier pour des vitres, et qui présente au moins à partir du substrat un revêtement antireflet inférieur constitué de plusieurs couches partielleset comportant une couche essentiellement constituée de ZnO à laquelle est adjacente une couche fonctionnelle à base d'argent, une couche essentiellement métallique de blocage située au-dessus de la couche à base d'argent, un revêtement antireflet supérieur constitué de plusieurs couches partielles et un revêtement de recouvrement éventuellement constituée de plusieurs couches partielles, les couches étant appliquées par pulvérisation sous vide, caractérisé en ce que le revêtement antireflet supérieur présente :
- une couche partielle de ZnO ou d'un oxyde mixte ZnMeOx qui contient du ZnO ou une succession de couches d'oxydes mixtes du type ZnO:Al / ZnMeOx,
- une couche partielle en Si3N4 ou en Six0yNz et
- entre ces deux couches partielles une couche de séparation d'une épaisseur de 0,5 à 5 nm, constituée d'un oxyde métallique ou d'un oxyde mixte à réseau cristallin cubique, qui empêche un contact direct entre ces deux couches partielles.
2. Système de couches selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de séparation est à base de ou constituée de NiCrOx, Al2O3, MgAlOx, TiAlOx, NiAlOx ou NiO.
3. Système de couches selon les revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que l'oxyde mixte qui contient du ZnO est à base de ou constituée de ZnSnOx, ZnAlOx, ZnBiOx, ZnSbOx ou ZnInOx.
4. Système de couches selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche partielle en ZnO ou en un oxyde mixte qui contient du
ZnO ou constituée d'une succession d'oxydes mixtes de type ZnO:Al / ZnMeOx est disposée directement sur la couche métallique de blocage.
5. Système de couches selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le revêtement antireflet inférieur présente également :
- une couche partielle de ZnO ou d'un oxyde mixte ZnMeOx qui contient du ZnO ou une succession de couches d'oxydes mixtes de type ZnO:Al / ZnMeOx,
- une couche partielle en Si3N4 ou en Six0yNz et
- entre ces deux couches partielles une couche de séparation d'une épaisseur de 0,5 à 5 nm, constituée d'un oxyde métallique ou d'un oxyde mixte à réseau cristallin cubique, qui empêche un contact direct entre ces deux couches partielles.
6. Système de couches selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que une couche de recouvrement disposée au-dessus du revêtement antireflet supérieur est constituée de TiZrHf (CxOyNz) .
7. Système de couches selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que une couche de recouvrement disposée au-dessus du revêtement antireflet supérieur est constituée de TiZrHfYOx.
8. Système de couches selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par la structure de couches suivante : substrat / Si3N4 / ZnO:Al / Ag / NiCr / ZnO:Al / NiCrOx / Si3N4 / TiZrHf (CxOyNz) .
9. Système de couches selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé par la structure de couches suivante : substrat / Si3N4 / NiCrOx / ZnO:Al / Ag / NiCr / ZnO:Al / NiCrOx / Si3N4 / TiZrHfYOx.
10. Système de couches selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé par la structure de couches suivante : substrat / Si3N4 / ZnSnOx / ZnO:Al / Ag / NiCr / ZnOiAl / NiCrOx / Si3N4 / TiZrHf (CxOyNz) .
11. Vitrage incorporant au moins un substrat porteur d'un système de couches selon l'une des revendications précédentes .
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