EP1819982A1 - Elektrische messung der dicke einer halbleiterschicht - Google Patents
Elektrische messung der dicke einer halbleiterschichtInfo
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- EP1819982A1 EP1819982A1 EP05814654A EP05814654A EP1819982A1 EP 1819982 A1 EP1819982 A1 EP 1819982A1 EP 05814654 A EP05814654 A EP 05814654A EP 05814654 A EP05814654 A EP 05814654A EP 1819982 A1 EP1819982 A1 EP 1819982A1
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- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
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- G01N27/041—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body
Definitions
- the invention relates to a method for the electrical measurement of the thickness of semiconductor layers and an associated arrangement that can be used as a test structure, manufactured or manufactured in the normal component process of semiconductor structures using conventional test systems.
- the trained as a test structure for example, annular arrangement, allows safe measurement and suppression of interfering interactions with adjacent structures.
- JP-A 10 154 735 shows a special method for measuring thin SOI layers by means of siliconized regions.
- the process requires special technological steps and is not generally applicable and is not intended or suitable for thicker semiconductor layers and for EPI layers and membranes.
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Abstract
Es wird ein Verfahren zur elektrischen Messung der Dicke von Halbleiterschichten (10, 11, 12) angegeben. Aktive Schichten auf SOI-Scheiben, EPI-Schichten mit inversem Leitungstyp und Membrandicken können gemessen werden. Dazu wird eine Teststruktur verwendet, die routinemässig im Laufe eines Fertigungsprozesses ausgemessen werden kann. Die Gestaltung der Teststruktur (Al bis Fl) erfolgt vorzugsweise ringförmig, damit ein hoher Grad an Symmetrie bei der Ausbreitung des Messstromes erfolgt, und damit zu den umgebenden Strukturen keine Wechselwirkungen entstehen können. Der "Durchmesser" der Anordnung kann dem entsprechenden Dickenbereich der zu messenden Halbleiterschicht angepasst werden. Die Anordnung lässt sich unter Nutzung von herkömmlichen U-I Parameter-Testsystemen bewerten, die üblicherweise in einer Halbleiterfertigung eingesetzt werden. Die Bestimmung der Schichtdicke erfolgt durch zwei aufeinanderfolgende Vierpolmessungen an sechs Kontaktgebieten.
Description
Elektrische Messung der Dicke einer Halbleiterschicht
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur elektrischen Messung der Dicke von Halbleiterschichten und eine dazugehörige Anordnung, die als Teststruktur, hergestellt oder herstellbar im normalen Bauelementeprozess von Halbleiterstrukturen unter Nutzung herkömmlicher Testsysteme eingesetzt werden kann. Die als Teststruktur ausgebildete, beispielsweise ringförmige Anordnung, ermöglicht eine sichere Messung und Unterdrückung von störenden Wechselwirkungen mit benachbarten Strukturen.
Die bisher verwendeten Messverfahren erfüllen nicht die Anforderungen an eine einfache und sichere Routinemessung im Rahmen der elektrischen Prozesskontrolle als automatische Messung im laufenden Fertigungsbetrieb.
Herkömmliche elektrische Verfahren beruhen auf der 4-Spitzen-Messung zur Bestimmung des spezifischen Widerstandes der Halbleiterschicht und der Messung des Ausbreitungswiderstandes mittels 2 Messspitzen. Daraus lässt sich dann der Schichtwiderstand und die Schichtdicke der Halbleiterschicht berechnen. Die in JP-A 57 037 846 angegebene Vorgehensweise nutzt diese Kombination beider Messverfahren mit einer 4-Spitzenanordnung, welche die zu messende Halbleiterschicht für die Zeit der Messung mittels Messspitzen kontaktiert. Dieses Verfahren ist ein Laborverfahren und nicht für den Routinebetrieb einer Fertigung geeignet.
JP-A 10 154 735 zeigt ein spezielles Verfahren zur Messung von dünnen SOI- Schichten mittels silizierter Bereiche. Das Verfahren erfordert spezielle technologische Schritte und lässt sich nicht allgemein anwenden und ist für dickere Halbleiterschichten sowie für EPI-Schichten und Membranen nicht vorgesehen oder geeignet.
Weitere Möglichkeiten zur Dickenmessung von Schichten bei Halbleitern bestehen im Einsatz anderer physikalischer Wirkprinzipien, die im Halbleiterfertigungsprozess als Routineverfahren im allgemeinen nicht zur Verfügung stehen und zusätzliche Kosten in der Halbleiterfertigung verursachen würden. Dafür seien beispielhaft folgende
Fundstellen genannt, die jedoch in keinem engeren Zusammenhang mit einem elektrisch messenden Verfahren stehen.
Einsatz von Röntgenstrahlung und Ausnutzung der Röntgenstrahlenbeugung, z.B. JP-A 10 185 537. - Ausnutzung der Röntgenstrahlentransmission, z.B. US-A 6 434217.
Ausnutzung der Röntgenfluoreszenz, z.B. GB-A 2 323 164 und
JP-A 2004 004 102.
Nutzung der Interferometrie, z.B. JP-A 2003 065 724, JP-A 06 077 302 und
US-A 2003/ 218 758. - Anwendung von Ultraschall, z.B. DE-B 44 14 030.
Zweck der Erfindung ist die Realisierung eines Messverfahrens zur Bestimmung der Dicke von Halbleiterschichten im Halbleiterfertigungsprozess unter Nutzung von automatischen Testsystemen. Das Verfahren soll allgemein anwendbar sein, zum Beispiel zur Dickenmessung von aktiven Halbleiterschichten, auf z. B. SOI -Scheiben, von EPI- Schichten mit inversem Leitungstyp und zur Membrandickenmessung.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein elektrisches Verfahren zur Messung der Dicke von Halbleiterschichten anzugeben, bei dem die Messkontaktierung mittels einer gebräuchlichen Probecard erfolgt, da gebräuchliche Testsysteme nur elektrische
Messwerte erfassen. Aus Gründen der Platzersparnis ist eine elektrische Separierung von anderen in der Nähe liegenden Testelementen erwünscht. Dabei ist es von großer Bedeutung, eine Lösung ohne zusätzliche technologische Schritte zur Realisierung der Teststruktur zu finden.
Gelöst wird diese Aufgabe mit den im Anspruch 1 und Anspruch 6 angegebenen Merkmalen.
Ansprüche 1 und 6 ergeben die Vorteile, dass für die Herstellung der zur Anwendung des Verfahrens notwendigen Kontakte auf der Halbleiterschicht keine zusätzlichen
Arbeitschritte benötigt werden und die spezielle Teststruktur in einem Testfeld zur Parametermessung mit Hilfe automatischer Testsysteme eingesetzt werden kann. Ferner werden für zwei notwendige separate Vierpolmessungen hier nur 6 Kontakte
anstelle von 8 Kontakten benötigt. Diese sechs Kontaktgebiete liegen zwar nebeneinander, sind aber auch ineinander verschachtelt.
Die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der Zeichnung erläutert und ergänzt.
Figur 1 eine schematische Darstellung einer ringförmigen Anordnung von sechs ineinander liegenden kreisförmigen Kontaktgebiete A1 bis F1 ; Figur 2 eine schematische Darstellung einer linearen Anordnung mit sechs geradlinigen Kontaktstreifen A2 bis F2 und einem umgebenden Schutzrahmen S2;
Figur 3 eine schematische Darstellung einer punktförmigen Anordnung mit sechs
Kontaktpunkten A3 bis F3 angeordnet in einer Linie und mit einem umgebenden Schutzrahmen S3.
In Figur 1 liegen die sechs ringförmigen, bevorzugt metallischen Kontaktgebiete A1 bis F1 konzentrisch ineinander. Sie liegen auf der Oberfläche einer Halbleiterschicht 10, 11 , 12.
Bei einer Messung werden die beiden "in der Mitte" liegenden Kontaktgebiete C1 und D1 je zweimal benutzt, einmal zum Anlegen des Messstroms und einmal zur Potentialmessung. Die Messstrecken der beiden nacheinander auszuführenden Messungen sind B1-C1 und D1-E1. Gleiche Verhältnisse liegen bei den Kontaktgebieten in Fig.2 und Fig.3 vor. Die das Testfeld umgebenden Schutzgebiete
(= Rahmen) sind mit S2 und S3 bezeichnet, beispielsweise als Ring oder Rechteck im Sinne einer Umrahmung.
Der im Folgenden verwendete Index "i" bezieht sich auf die Kontaktgebiete in drei beschriebenen, verschiedenen Kontaktanordnungen auf der Oberfläche und läuft für die
Gebiete A bis F bezogen auf die drei verschiedenen Anordnungen der Kontaktgebiete.
Alle drei verschiedenen Anordnungen (Kontaktgebiets-Geometrien oder -Anordnungen) haben die Gemeinsamkeit, dass immer die Abstände zwischen Ai und Bi, Ci und Di, Ei
und Fi minimal sind. Dagegen ist der Abstand zwischen den Kontakten Bi und Ci der größere Abstand im Vergleich zu dem kleineren Abstand Di und Ei. Di und Ci liegen "in der Mitte", also zwischen dem Gebietspaar Ai, Bi einerseits und Ei, Fi andererseits.
Die Beschaltung der einzelnen Kontaktgebiete ist für alle drei Anordnungen gleich. Die jeweiligen Messspitzen für Strom oder Spannung sind nicht gesondert dargestellt, aber dem Fachmann ohne weiteres auch ohne Bild einsichtig.
Für die Vierpolmessung am größeren Abstand Bi-Ci erfolgt die Stromeinspeisung (über Spitzen) in Ai und Di, während zwischen Bi und Ci das bei Stromfluss entstehende
Potentialgefälle (auch über spitzen) gemessen wird. Für die Vierpolmessung am kleineren Abstand Di-Ei erfolgt die Stromeinspeisung zwischen Ci und Fi, während zwischen Di und Ei das Potentialgefälle gemessen wird, jeweils ebenfalls über Spitzen (Messspitzen).
Zur elektrischen Abschirmung zu anderen umliegenden Testelementen wird eine Umrahmung S2, S3 einer jeweiligen Teststruktur vorgesehen. Die Ausführung der 6 Kontaktgebiete der doppelten Vierpolanordnung kann als Metall-Halbleiterkontakt oder als Diffusionsgebiet mit möglichst hoher Leitfähigkeit erfolgen, das dann auch über Metallkontakte angeschlossen wird.
Die geometrische Anordnung der sechs Kontaktgebiete kann vorzugsweise ringförmig erfolgen, in diesem Fall ist eine zusätzliche Abschirmung nicht erforderlich, wie Fig. 1 zeigt.
Ein jeweiliges Verfahren zur elektrischen Messung der Dicke einer Halbleiterschicht 10, 11 , 12 mittels der beiden verschachtelten Vierpolanordnungen erfolgt in zwei Schritten. Bei der einen Messung der Struktur mit dem größeren Kontaktabstand wird der Messwert vorrangig durch den Schichtwiderstand der zu messenden Halbleiterschicht 11 bestimmt. Dagegen wird bei der anderen Messung der
Vierpolanordnung mit dem kleineren Kontaktabstand vorrangig der spezifische Widerstand der zu messenden Halbleiterschicht 12 ermittelt. Dieses kann erste/zweite
Messung genannt werden, ist aber keine Vorgabe einer Reihenfolge. Ebenso kann die zweite Messung vor der ersten erfolgen.
Je nach Schichtdicke der zu messenden Halbleiterschicht (10, 11 , 12 bilden diselbe Schicht mit verschiedenen flächigen Abschnitten), können die Abstände der
Vierpolanordnungen angepasst werden, um eine möglichst hohe Auflösung und damit hohe Messgenauigkeit im betrachteten Schichtdickenbereich zu erzielen. Da beide Messungen die Einflüsse beider Parameter enthalten, den des Schichtwiderstandes (und damit der Schichtdicke) und den jeweiligen des spezifischen Widerstandes, kann für die Auswertung auf bekannter Zusammenhänge in einer komplexen mathematischen Beziehung zurückgegriffen werden, welche die Geometriefaktoren enthält. Aus diesem Grund ist eine mathematische Modellierung für eine konkrete Geometrie sinnvoll, und es erfolgt zugehörig eine einmalige Kalibrierung von mindestens zwei Punkten zur weiteren Modellanpassung.
Das Verfahren zur Messung der beiden Vierpolanordnungen lässt sich gleichermaßen für zumindest drei Arten von Kontaktgebieten anwenden, die hier gezeigt werden als ringförmige Anordnung in Form von sechs ineinander liegenden kreisförmigen Kontaktgebieten, sechs geradlinige parallele Kontaktstreifen und sechs punktförmige Kontakte, die in einer Linie liegen.
Bezugszeichen:
5 A1 : Äußerer Kontaktring
B1 : 1. innerer Kontaktring
B1-C1 : Größerer Abstand a2
C1 : 2. innerer Kontaktring
D1 : 3. innerer Kontaktring lo D1-E1 : Kleinerer Abstand a1
E1 : 4. innerer Kontaktring
F1 : 5. innerer Kontaktring
A2: Äußerer Kontaktstreifen, eine Seite i5 B2: 1. innerer Kontakt
B2-C2: Größerer Abstand; Messstrecke b2
C2: 2. innerer Kontakt
D2: 3. innerer Kontakt
D2-E2: Kleinerer Abstand; Messstrecke b1
20 E2: 4. innerer Kontakt
F2: Äußerer Kontaktstreifen, andere Seite
S2: Schutzring
A3: Äußerer Kontaktpunkt, eine Seite
25 B3: 1. innerer Kontaktpunkt
B3-C3: Größerer Abstand; Messstrecke c2
C3: 2. innerer Kontaktpunkt
D3: 3. innerer Kontaktpunkt
D3-E3: Kleinerer Abstand; Messstrecke d
3o E3: 4. innerer Kontaktpunkt
F3: Äußerer Kontaktpunkt, andere Seite
S3: Schutzring
35
Claims
1. Verfahren zur elektrischen Messung einer Dicke einer Halbleiterschicht durch ein Aufsetzen von Meßspitzen auf ausgebildete Kontaktgebiete an der Oberfläche der 5 Halbleiterschicht, welche Spitzen und Gebiete einer Teststruktur zugeordnet sind und zwei geometrisch verschiedene, nebeneinander angeordnete, insbesondere ineinander verschachtelte Vierpolanordnungen bilden; wobei
(a) die Messung zwei aufeinander folgende "Vierpolmessungen" aufweist, wobei der Abstand der Kontaktgebiete (b1 , b2; a1 , a2) zueinander bei den lo beiden Vierpolmessungen unterschiedlich ist;
(b) die Teststruktur insgesamt sechs Kontaktgebiete (Ai bis Fi, wobei i = 1...3) aufweist, wovon zwei (C1 , D1) in der Mitte oder zwischen den anderen angeordnete Kontaktgebiete doppelt so verwendet werden, dass diese einerseits zur ersten Vierpolanordnung (A1 bis D1) und andererseits zur i5 zweiten Vierpolanordnung (C1 bis F1) gehören und wobei
(d) bei der einen Messung der Vierpolstruktur (Vierpolmessung) mit einem größeren Kontaktabstand (a2) ein erster Messwert gemessen wird, der vorrangig durch den Schichtwiderstand der zu messenden Halbleiterschicht bestimmt wird;
20 (c2) bei der zweiten Messung der Vierpolstruktur mit einem kleineren
Kontaktabstand (a1) vorrangig ein spezifischer Widerstand der zu messenden Halbleiterschicht gemessen oder ermittelt wird;
(d) wobei die Abstände der Vierpolanordnungen an die Schichtdicke der zu messenden Halbleiterschicht angepasst werden, um eine möglichst hohe
25 Auflösung und damit hohe Messgenauigkeit im betrachteten oder von der
Messung erreichten Schichtdickenbereich zu erzielen;
(e) wobei die Schichtdicke mittels einer rechnerischen Beziehung, welche die Geometriefaktoren enthält, aus den Messwerten berechnet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei hinsichtlich der rechnerischen (mathematischen) Beziehung eine Modellierung für eine konkrete Geometrie vorgenommen wird und eine einmalige Kalibrierung von mindestens zwei Punkten zu einer weiteren Modellanpassung erfolgt,
5
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei eine oder mehrere aktive Halbleiterschicht(en) einer SOI-Scheibe gemessen werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei als Halbleiterschicht eine Epitaxieschicht mit lo inversem Leitungstyp gemessen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei als Halbleiterschicht eine Membrandicke gemessen wird.
i5
6. Geometrie von Kontaktgebieten zur elektrischen Messung einer Dicke von einer
Halbleiterschicht durch ein Aufsetzen von Meßspitzen auf die Kontaktgebiete (Ai, Bi, Ci, Di) an einer Oberfläche der Halbleiterschicht (10, 11 , 12), welche Spitzen zu einer Teststruktur gehören und zwei geometrisch verschiedene, nebeneinander angeordnete Vierpolanordnungen bilden,
20 dadurch gekennzeichnet, dass die Anordnung aus zwei geometrisch verschiedenen, nebeneinander angeordneten Vierpolanordnungen besteht, wobei der Abstand der Kontaktgebiete zueinander bei den beiden Vierpolanordnungen unterschiedlich ist, die Teststruktur insgesamt sechs Kontaktgebiete aufweist, wovon zwei in der Mitte
25 angeordnete Kontaktgebiete doppelt verwendbar sind, um diese doppelt nutzbaren Kontakte (C1 , D1) einerseits mit der ersten Vierpolanordnung und andererseits mit der zweiten Vierpolanordnung zu verwenden und bei der einen Vierpolanordnung ein größerer Kontaktgebiets-Abstand (a2) vorhanden ist, um den ersten Messwert primär durch den Schichtwiderstand der zu messenden
30 Halbleiterschicht zu bestimmen und bei der zweiten Vierpolanordnung ein kleinerer Abstand (a1) vorhanden ist, um den zweiten Messwert vom spezifischen Widerstand der zu messenden Halbleiterschicht (10, 11, 12) zu bestimmen.
7. Anordnung nach Anspruch 6, wobei die Abstände der Vierpolanordnungen an die Schichtdicke der zu messenden Halbleiterschicht angepasst sind, um eine möglichst hohe Auflösung und damit hohe Messgenauigkeit im betrachteten Schichtdickenbereich zu erzielen.
5
8. Anordnung nach Anspruch 6 oder 7, wobei die sechs elektrischen Kontaktgebiete (A1 bis F1) der doppelten Vierpolanordnung ringförmig konzentrisch ineinander liegend angeordnet sind und damit gleichzeitig eine Abschirmung zu anderen benachbarten Testelementen erfolgt.
! 0
9. Anordnung nach Anspruch 6 oder 7, wobei die sechs elektrischen Kontaktgebiete (A2 bis F2) der doppelten Vierpolanordnung streifenförmig parallel nebeneinander angeordnet und von einem Schutzrahmen (S2) umgeben sind.
i5 10. Anordnung nach Anspruch 6 oder 7, wobei die sechs elektrischen Kontaktgebiete
(A3 bis F3) der doppelten Vierpolanordnung punktförmig angeordnet und von einem Schutzrahmen (S3) umgeben sind.
11. Anordnung nach Anspruch 6 oder 7 und einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei die 20 sechs elektrischen Kontaktgebiete der doppelten Vierpolanordnung als direkte
Metall-Halbleiterkontakte ausgebildet sind.
12. Anordnung nach Anspruch 6 oder 7 und einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei die sechs elektrischen Kontaktgebiete der doppelten Vierpolanordnung als hoch
25 dotierte Diffusionsgebiete ausgebildet sind, die ihrerseits an definierten Stellen mit
Metall kontaktiert sind.
13. Anordnung nach Anspruch 6 oder 7 und einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei die sechs elektrischen Kontaktgebiete der doppelten Vierpolanordnung Bestandteil
30 eines größeren Testfeldes sind.
14. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei die rechnerische Beziehung eine komplexe mathematische Beziehung ist.
15. Anordnung nach einem der voranstellenden Ansprüche, wobei nicht mehr als sechs Kontaktgebiete (A bis F) zur Messung verwendet werden bzw. für die Messung vorgesehen sind.
* * *
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102004055181A DE102004055181B3 (de) | 2004-11-16 | 2004-11-16 | Verfahren und Anordnung zur elektrischen Messung der Dicke von Halbleiterschichten |
| PCT/DE2005/002063 WO2006053543A1 (de) | 2004-11-16 | 2005-11-16 | Elektrische messung der dicke einer halbleiterschicht |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| EP1819982A1 true EP1819982A1 (de) | 2007-08-22 |
Family
ID=35764705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EP05814654A Withdrawn EP1819982A1 (de) | 2004-11-16 | 2005-11-16 | Elektrische messung der dicke einer halbleiterschicht |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080100311A1 (de) |
| EP (1) | EP1819982A1 (de) |
| DE (2) | DE102004055181B3 (de) |
| WO (1) | WO2006053543A1 (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006002753B4 (de) * | 2006-01-20 | 2010-09-30 | X-Fab Semiconductor Foundries Ag | Verfahren und Anordnung zur Bewertung der Unterätzung von tiefen Grabenstrukturen in SOI-Scheiben |
| US8906710B2 (en) * | 2011-12-23 | 2014-12-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Monitor test key of epi profile |
| CN103235190B (zh) * | 2013-04-19 | 2015-10-28 | 重庆金山科技（集团）有限公司 | 一种电阻抗测试方法 |
| US9577358B2 (en) * | 2014-10-25 | 2017-02-21 | ComponentZee, LLC | Fluid pressure activated electrical contact devices and methods |
| US10003149B2 (en) | 2014-10-25 | 2018-06-19 | ComponentZee, LLC | Fluid pressure activated electrical contact devices and methods |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7008274A (de) * | 1970-06-06 | 1971-12-08 | ||
| US4218650A (en) * | 1978-06-23 | 1980-08-19 | Nasa | Apparatus for measuring semiconductor device resistance |
| JPS5737846A (en) * | 1980-08-20 | 1982-03-02 | Nec Corp | Measuring device for thickness of semiconductor layer |
| US4703252A (en) * | 1985-02-22 | 1987-10-27 | Prometrix Corporation | Apparatus and methods for resistivity testing |
| WO1994011745A1 (en) * | 1992-11-10 | 1994-05-26 | David Cheng | Method and apparatus for measuring film thickness |
| DE19619686C2 (de) * | 1996-04-18 | 1998-04-09 | Fraunhofer Ges Forschung | Halbleiter- oder hybridtechnologiebasierte Meßanordnung mit spezieller Impedanzanordnung |
| US6434217B1 (en) * | 2000-10-10 | 2002-08-13 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for analyzing layers using x-ray transmission |
| JP3928478B2 (ja) * | 2002-05-22 | 2007-06-13 | 株式会社島津製作所 | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
| US6943571B2 (en) * | 2003-03-18 | 2005-09-13 | International Business Machines Corporation | Reduction of positional errors in a four point probe resistance measurement |
| US7212016B2 (en) * | 2003-04-30 | 2007-05-01 | The Boeing Company | Apparatus and methods for measuring resistance of conductive layers |
| KR100556529B1 (ko) * | 2003-08-18 | 2006-03-06 | 삼성전자주식회사 | 다층 박막의 두께 측정 방법 및 이를 수행하기 위한 장치 |
-
2004
- 2004-11-16 DE DE102004055181A patent/DE102004055181B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-11-16 US US11/576,639 patent/US20080100311A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-16 WO PCT/DE2005/002063 patent/WO2006053543A1/de active Application Filing
- 2005-11-16 DE DE112005003278T patent/DE112005003278A5/de not_active Ceased
- 2005-11-16 EP EP05814654A patent/EP1819982A1/de not_active Withdrawn
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| See references of WO2006053543A1 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2006053543A1 (de) | 2006-05-26 |
| DE102004055181B3 (de) | 2006-05-11 |
| DE112005003278A5 (de) | 2007-09-27 |
| US20080100311A1 (en) | 2008-05-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
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