EP0816018B1 - Support de disque de polissage et procédé de polissage - Google Patents

Support de disque de polissage et procédé de polissage Download PDF

Info

Publication number
EP0816018B1
EP0816018B1 EP97401394A EP97401394A EP0816018B1 EP 0816018 B1 EP0816018 B1 EP 0816018B1 EP 97401394 A EP97401394 A EP 97401394A EP 97401394 A EP97401394 A EP 97401394A EP 0816018 B1 EP0816018 B1 EP 0816018B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
polishing
disc
coating
layer
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP97401394A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP0816018A1 (fr
Inventor
Georges Henri Les Terrasses de Genève Broido
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dite Lam-Plan Sa Ste
Lam Plan SA
Original Assignee
Dite Lam-Plan Sa Ste
Lam Plan SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dite Lam-Plan Sa Ste, Lam Plan SA filed Critical Dite Lam-Plan Sa Ste
Publication of EP0816018A1 publication Critical patent/EP0816018A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP0816018B1 publication Critical patent/EP0816018B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/11—Lapping tools
    • B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
    • B24B37/205—Lapping pads for working plane surfaces provided with a window for inspecting the surface of the work being lapped
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/11—Lapping tools
    • B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
    • B24B37/24—Lapping pads for working plane surfaces characterised by the composition or properties of the pad materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/11—Lapping tools
    • B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
    • B24B37/26—Lapping pads for working plane surfaces characterised by the shape of the lapping pad surface, e.g. grooved

Definitions

  • the invention relates to a disk support for polishing which overcomes the disadvantages mentioned above by changing the polishing disc without the abrasion being too strong during the first few seconds of use, and while getting however good flatness.
  • the following polishing disc holder the invention is defined by claim 1. It is made up of a disc-shaped body. A support centering hole is provided in the center of one of the faces of the body. A training hole for cooperate with a device training finger rotational drive is provided eccentrically in this same face. A coating of more material tender that that of the body is applied to the other side in a thickness between 5 ⁇ m and 4 mm.
  • the coating has a hardness shore D greater than 12 so as not to obtain a profile dented in the sample to be polished.
  • the coating is polytetrafluoroethylene. This makes it possible to take off and re-stick an abrasive paper or polishing cloth used previously, for example for polishing a different material, repositioning a sandpaper or polishing cloth that would have been improperly applied to the substrate and self-eliminating most air bubbles that have been trapped accidentally when laying sandpaper or polishing cloth. Due to the very low power sticky polytetrafluoroethylene, air bubbles are driven off by the pressure applied to the workpiece.
  • the coating can be applied by spraying, for example by applying three successive layers of 25 microns, but we can also apply the sheet coating if necessary laminated, these leaves undergoing treatment chemical on one side which allows them to be glued on a support with araldite or double adhesive face.
  • the coating can also be in the form a grid or a canvas, just like the disc-shaped body.
  • the body can also be laminate, aluminum plate or other hard material 1 to 5 mm thick being bonded to a substrate cast iron or aluminum.
  • the support comprises a body 1 made of aluminum disc shape with two faces 2 and 3. In the center of the face 2 is formed a blind hole 4 for centering, while that on this same face 2 are formed seven holes 5 and 7 training blinds intended to cooperate with a finger drive of a rotary drive motor.
  • the arrangement of holes 5 and 7 is as it is always one able to cooperate with the finger of a machine whatever the polisher.
  • a coating 6 in polytetrafluoroethylene in one thickness 100 microns is applied.
  • the profile of the sample is good.
  • the profile of the sample is good.
  • the profile of the sample is good.
  • the sample profile is excellent.
  • Polisher equipped with an aluminum plate with PVC coating 2000 ⁇ (2 mm)
  • the sample profile is excellent.
  • Polisher equipped with an aluminum plate with PVC coating 4000 ⁇ (4 mm)
  • the profile of the sample is rounded.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

Lors de la préparation d'échantillons métallographiques, on doit parfois changer le disque de polissage généralement en papier abrasif au cours de la préparation parce qu'il s'est décollé, s'est déchiré ou est trop usagé. Remplacer le papier usagé par un papier neuf constitue un handicap majeur à la préparation correcte d'échantillons particulièrement fragiles, lorsqu'il faut par exemple mettre en évidence des couches de dépôt de l'ordre de quelques microns comme c'est souvent le cas sur des circuits imprimés multicouches ou sur les composants électroniques.
En effet, pendant les premières secondes d'utilisation d'un papier abrasif neuf posé sur un support métallique dur (le plateau de polissage de la polisseuse) l'abrasion est très agressive et perturbe profondément la matière provoquant l'arrachement des fines couches que l'on doit observer. Cet enlèvement intempestif de matière est atténué et devient bien moins sensible si l'on utilise un support en matière plastique (généralement du polychlorure de vinyle) d'une dureté inférieure au métal. Mais ces supports en matière plastique provoquent une déformation géométrique du profil de l'échantillon à analyser par une perte de planéité due à un arrondissement excessif des bords de l'échantillon.
L'invention vise un support de disque de polissage qui pallie les inconvénients mentionnés ci-dessus en permettant de changer de disque de polissage sans pour autant que l'abrasion soit trop forte pendant les premières secondes d'utilisation, et tout en obtenant cependant une bonne planéité.
Le support de disque de polissage suivant l'invention est defini par la revendication 1. Il est formé d'un corps en forme de disque. Un trou de centrage du support est ménagé au centre de l'une des faces du corps. Un trou d'entraínement destiné à coopérer avec un doigt d'entraínement d'un dispositif d'entraínement en rotation est prévu de manière excentrée dans cette même face. Un revêtement en une matière plus tendre que celle du corps est appliqué sur l'autre face en une épaisseur comprise entre 5 µm et 4 mm. En déposant sur un corps dur notamment métallique un revêtement plus tendre notamment en matière plastique, on allie la douceur de l'abrasion du corps en matière plastique à la rigueur de la planéité obtenue par un support métallique. On a constaté qu'un revêtement de trois microns d'épaisseur n'atténue pas suffisamment l'abrasion tandis que si le revêtement a une épaisseur de plus de deux millimètres, on obtient une déformation voisine de celle obtenue avec un support tout en plastique.
Il vaut mieux que le revêtement ait une dureté shore D supérieure à 12 pour ne pas obtenir un profil bosselé de l'échantillon à polir.
Suivant un mode de réalisation d'un très grand intérêt, le revêtement est en polytétrafluoroéthylène. Cela permet de décoller et recoller un papier abrasif ou tissu de polissage utilisé précédemment, par exemple pour le polissage d'un matériau différent, de repositionner un papier abrasif ou un tissu de polissage qui aurait été mal appliqué sur le support et d'auto-éliminer la plupart des bulles d'air qui auraient été emprisonnées accidentellement lors de la pose du papier abrasif ou du tissu de polissage. En raison du très faible pouvoir collant du polytétrafluoroéthylène, les bulles d'air sont chassées par la pression appliquée sur la pièce à polir.
On peut appliquer le revêtement par pulvérisation au pistolet, par exemple en appliquant trois couches successives de 25 microns, mais on peut aussi appliquer le revêtement en feuille éventuellement stratifiées, ces feuilles subissant un traitement chimique sur une face qui leur permette d'être collées sur un support avec de l'araldite ou un adhésif double face. Le revêtement peut aussi se présenter sous la forme d'une grille ou d'une toile, tout comme d'ailleurs le corps en forme de disque. Le corps peut être aussi stratifié, une plaque en aluminium ou autre matériau dur d'une épaisseur de 1 à 5 mm étant collée sur un substrat en fonte ou en aluminium.
Au dessin, donné uniquement à titre d'exemple :
  • la Figure 1 est une vue de dessous d'un support de disque de polissage suivant l'invention et
  • la Figure 2 en est une vue en coupe.
    • Le support comporte un corps 1 en aluminium en forme de disque ayant deux faces 2 et 3. Au centre de la face 2 est ménagé un trou borgne 4 de centrage, tandis que sur cette même face 2 sont ménagés sept trous 5 et 7 borgnes d'entraínement destinés à coopérer avec un doigt d'entraínement d'un moteur d'entraínement en rotation. La disposition des trous 5 et 7 est telle qu'il s'en trouve toujours un pouvant coopérer avec le doigt d'une machine d'entraínement quelle que soit la polisseuse.
    Sur la face 3 du corps 1 est appliqué un revêtement 6 en polytétrafluoroéthylène en une épaisseur de 100 microns.
    Les essais suivants illustrent l'invention.
    ESSAI N°1 Comparatif Polisseuse munie d'un plateau aluminium massif non revêtu
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Dureté moyenne du revêtement
    : néant
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse de rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.48 g
    ESSAI N°2 Comparatif Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC3µ
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 3µ
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain du papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.48 g
    ESSAI N°3 Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC 10µ
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 10µ
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.27 g
    Le profil de l'échantillon est bon.
    ESSAI N°4 Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC 50µ
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 50µ
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.22 g
    Le profil de l'échantillon est bon.
    ESSAI N°5 Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC 100µ
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 100µ
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain du papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.22 g
    Le profil de l'échantillon est bon.
    ESSAI N°6 Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC 500µ
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 500 microns
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.23 g
    Le profil de l'échantillon est excellent.
    ESSAI N°7 Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC 2000µ (2 mm)
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 2000 microns
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.23 g
    Le profil de l'échantillon est excellent.
    ESSAI N°8 Polisseuse munie d'un plateau aluminium avec revêtement PVC 4000µ (4 mm)
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : aluminium
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 4000 microns
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.28 g
    Le profil de l'échantillon est encore satisfaisant.
    ESSAI N°9 Comparatif Polisseuse munie d'un plateau PVC MASSIF (épaisseur 12 mm)
    Matière du plateau porteur du papier abrasif
    : PVC
    Epaisseur revêtement sur plateau porteur
    : 12 mm
    Dureté moyenne du revêtement
    : 80 SHR D
    Grain papier abrasif
    : P240
    Temps de polissage
    : 3mn 45
    Pression sur échantillons
    : 449g/cm2
    Vitesse rotation plateau
    : 250 t/mn
    Echantillons traités
    : 3
    Matériau poli
    : acier
    Polissage sous eau
    : oui
    Enlèvement de métal
    : 0.27 g
    Le profil de l'échantillon est arrondi.
    Figure 00090001
    Figure 00100001
    Figure 00110001
    Figure 00120001

    Claims (4)

    1. Support de disque de polissage, constitué d'un corps (1) en forme de disque, un trou de centrage (4) étant ménagé au centre de l'une des faces (2) du corps (1) et un trou d'entraínement (5) étant prévu de manière excentrée dans cette même face (2), caractérisé en ce qu'un revêtement (6) en une matière plus tendre que celle du corps (1) est appliqué sur l'autre face (3) en une épaisseur comprise entre 5 µm et 4 mm.
    2. Support suivant la revendication, 1 caractérisé en ce que le revêtement (6) a une dureté shore D supérieure à 12.
    3. Support suivant la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le revêtement est en polytétrafluoroéthylène.
    4. Procédé de polissage d'un objet, caractérisé en qu'il consiste à le polir en le frottant, à l'aide d'un disque de polissage porté par un support suivant l'une des revendications précédentes.
    EP97401394A 1996-06-28 1997-06-18 Support de disque de polissage et procédé de polissage Expired - Lifetime EP0816018B1 (fr)

    Applications Claiming Priority (2)

    Application Number Priority Date Filing Date Title
    FR9608076 1996-06-28
    FR9608076A FR2750354B1 (fr) 1996-06-28 1996-06-28 Support de disque de polissage et procede de polissage

    Publications (2)

    Publication Number Publication Date
    EP0816018A1 EP0816018A1 (fr) 1998-01-07
    EP0816018B1 true EP0816018B1 (fr) 1999-08-04

    Family

    ID=9493524

    Family Applications (1)

    Application Number Title Priority Date Filing Date
    EP97401394A Expired - Lifetime EP0816018B1 (fr) 1996-06-28 1997-06-18 Support de disque de polissage et procédé de polissage

    Country Status (10)

    Country Link
    US (1) US6048261A (fr)
    EP (1) EP0816018B1 (fr)
    JP (1) JPH1076471A (fr)
    AT (1) ATE182829T1 (fr)
    CA (1) CA2208430A1 (fr)
    DE (2) DE69700374T4 (fr)
    DK (1) DK0816018T3 (fr)
    ES (1) ES2136460T3 (fr)
    FR (1) FR2750354B1 (fr)
    ZA (1) ZA975747B (fr)

    Families Citing this family (2)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE20106228U1 (de) 2001-04-09 2001-06-28 Jobra Metall GmbH, 84056 Rottenburg Trägerteller für Lamellenschleifscheiben
    EP2939788A1 (fr) * 2010-10-05 2015-11-04 Black & Decker Inc. Disque abrasif universel

    Family Cites Families (7)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    US2747343A (en) * 1954-09-02 1956-05-29 Contur Abrasive Company Inc Abrasive articles and the like and holders therefor
    DE2013896A1 (en) * 1970-03-23 1971-10-14 Alkor Werk, Karl Lissmann KG, 8000 München Semiconductor lapping machine
    JPH01193166A (ja) * 1988-01-28 1989-08-03 Showa Denko Kk 半導体ウェハ鏡面研磨用パッド
    US5564965A (en) * 1993-12-14 1996-10-15 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Polishing member and wafer polishing apparatus
    KR0165748B1 (ko) * 1994-05-10 1999-03-20 유미꾸라 레이이찌 불소계 수지 발포체 및 그의 제조 방법
    JPH09321001A (ja) * 1996-05-31 1997-12-12 Komatsu Electron Metals Co Ltd 半導体ウェハの研磨方法
    JP2738392B1 (ja) * 1996-11-05 1998-04-08 日本電気株式会社 半導体装置の研磨装置及び研磨方法

    Also Published As

    Publication number Publication date
    US6048261A (en) 2000-04-11
    JPH1076471A (ja) 1998-03-24
    ATE182829T1 (de) 1999-08-15
    FR2750354B1 (fr) 1998-08-07
    DE69700374T2 (de) 1999-11-25
    DE69700374D1 (de) 1999-09-09
    ES2136460T3 (es) 1999-11-16
    CA2208430A1 (fr) 1997-12-28
    ZA975747B (en) 1998-12-28
    DK0816018T3 (da) 1999-12-06
    EP0816018A1 (fr) 1998-01-07
    FR2750354A1 (fr) 1998-01-02
    DE69700374T4 (de) 2000-04-06

    Similar Documents

    Publication Publication Date Title
    FR2758285A3 (fr) Procede de fixation d'un agent abrasif ou de polissage, sous forme de feuille, sur un support magnetique
    US4132037A (en) Apparatus for polishing semiconductor wafers
    US6030280A (en) Apparatus for holding workpieces during lapping, honing, and polishing
    JPH1119866A (ja) 平坦な物体を研磨するための重合体キャリヤ
    KR20050030576A (ko) 화학기계적 연마용 레질리언트성 연마 패드
    US4288233A (en) Abrasive pads for lens lapping tools
    FR2594748A1 (fr) Bande stratifiee pour la production de signes, et procede d'utilisation de cette bande
    US6390909B2 (en) Disk for conditioning polishing pads
    WO2006009634A1 (fr) Polissage continu des contours d'une surface multimateriau
    EP0816018B1 (fr) Support de disque de polissage et procédé de polissage
    US6179950B1 (en) Polishing pad and process for forming same
    JPH0547392B2 (fr)
    JPH01197588A (ja) 被接着体の表面処理方法
    JP6247254B2 (ja) 研磨パッド及びその製造方法
    JP2002355755A (ja) 被研磨物保持用のバッキング材
    JP2002067225A (ja) 化粧シート貼り木質材
    JP4041577B2 (ja) ポリッシング装置の定盤及び研磨パッド貼着方法
    EP1648667A1 (fr) Procede de decoupe d'un film fonctionnel en matiere plastique applique sur un substrat tel qu'une plaque de verre
    JPH09207064A (ja) 両面研磨機用キャリアおよびこれを用いて被加工物の両面を研磨する方法
    JP2652905B2 (ja) ディスクチャック機構の載置面形成方法
    JP3630670B2 (ja) 化学機械研磨装置用のプラテン及びその製造方法
    JP3049369U (ja) 切削用チップ
    EP1504846B1 (fr) Plateau de polissage comportant un tissu de polissage n'adhérant qu'horizontalement au support
    JP3956346B2 (ja) 耐コンタミ性に優れた精密機器カバー用樹脂複合型ステンレス制振鋼板
    FR2808732A1 (fr) Ustensile de cuisson pourvu d'une decoration et procede de fabrication dudit ustensile

    Legal Events

    Date Code Title Description
    PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

    17P Request for examination filed

    Effective date: 19971030

    AK Designated contracting states

    Kind code of ref document: A1

    Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB IT LI NL

    GRAG Despatch of communication of intention to grant

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

    17Q First examination report despatched

    Effective date: 19980220

    GRAG Despatch of communication of intention to grant

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

    GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

    AKX Designation fees paid

    Free format text: AT BE CH DE DK ES FR GB IT LI NL

    RBV Designated contracting states (corrected)

    Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB IT LI NL

    GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

    GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

    GRAA (expected) grant

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

    AK Designated contracting states

    Kind code of ref document: B1

    Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB IT LI NL

    REF Corresponds to:

    Ref document number: 182829

    Country of ref document: AT

    Date of ref document: 19990815

    Kind code of ref document: T

    REG Reference to a national code

    Ref country code: CH

    Ref legal event code: NV

    Representative=s name: LUCHS & PARTNER PATENTANWAELTE

    Ref country code: CH

    Ref legal event code: EP

    GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

    Effective date: 19990805

    REF Corresponds to:

    Ref document number: 69700374

    Country of ref document: DE

    Date of ref document: 19990909

    REG Reference to a national code

    Ref country code: ES

    Ref legal event code: FG2A

    Ref document number: 2136460

    Country of ref document: ES

    Kind code of ref document: T3

    REG Reference to a national code

    Ref country code: DK

    Ref legal event code: T3

    PLBE No opposition filed within time limit

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

    STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

    Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

    26N No opposition filed
    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: BE

    Payment date: 20010614

    Year of fee payment: 5

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: ES

    Payment date: 20010628

    Year of fee payment: 5

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: AT

    Payment date: 20010629

    Year of fee payment: 5

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: NL

    Payment date: 20010630

    Year of fee payment: 5

    REG Reference to a national code

    Ref country code: GB

    Ref legal event code: IF02

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: AT

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20020618

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: ES

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20020619

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: BE

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20020630

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: CH

    Payment date: 20020702

    Year of fee payment: 6

    BERE Be: lapsed

    Owner name: S.A. *LAM-PLAN

    Effective date: 20020630

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: NL

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20030101

    NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

    Effective date: 20030101

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: LI

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20030630

    Ref country code: CH

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20030630

    REG Reference to a national code

    Ref country code: CH

    Ref legal event code: PL

    REG Reference to a national code

    Ref country code: ES

    Ref legal event code: FD2A

    Effective date: 20030711

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: IT

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.

    Effective date: 20050618

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: DK

    Payment date: 20120625

    Year of fee payment: 16

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: GB

    Payment date: 20120629

    Year of fee payment: 16

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: DE

    Payment date: 20120830

    Year of fee payment: 16

    REG Reference to a national code

    Ref country code: DK

    Ref legal event code: EBP

    Effective date: 20130630

    GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

    Effective date: 20130618

    REG Reference to a national code

    Ref country code: DE

    Ref legal event code: R119

    Ref document number: 69700374

    Country of ref document: DE

    Effective date: 20140101

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: DE

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20140101

    Ref country code: GB

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20130618

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: DK

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20130630

    REG Reference to a national code

    Ref country code: FR

    Ref legal event code: PLFP

    Year of fee payment: 20

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: FR

    Payment date: 20160617

    Year of fee payment: 20