EP0254111A1 - UV-Strahler - Google Patents
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- EP0254111A1 EP0254111A1 EP87109674A EP87109674A EP0254111A1 EP 0254111 A1 EP0254111 A1 EP 0254111A1 EP 87109674 A EP87109674 A EP 87109674A EP 87109674 A EP87109674 A EP 87109674A EP 0254111 A1 EP0254111 A1 EP 0254111A1
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Classifications
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- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
Definitions
- the invention relates to a high-power radiator, in particular for ultraviolet light, with a discharge space filled with filling gas, the walls of which are formed on the one hand by a dielectric which is provided with first electrodes on its surface facing away from the discharge space, and on the other hand by second electrodes or likewise are formed by a dielectric, which is provided on its surface facing away from the discharge space with second electrodes, with an alternating current source connected to the first and second electrodes for supplying the discharge and means for directing the radiation generated by the silent electrical discharge into an external space.
- the invention relates to a state of the art, such as that found in the publication "Vacuum-ultraviolet lamps with a barrier discharge in inert gases" by GA Volkova, NN Kirillova, EN Pavlovskaya and AV Yakovleva in the SU magazine Zhurnal Prikladnoi Spektoskopii 41 (1984) No. 4, 691-695, published in an English translation by Plenum Publishing Corporation 1985, Doc. No. 0021-9037 / 84 / 4104-1194 $ 08.50, pp. 1194 ff.
- high-performance lamps especially high-performance UV lamps, e.g. Disinfection, curing of paints and synthetic resins, flue gas cleaning, destruction and synthesis of special chemical compounds.
- the wavelength of the emitter will have to be matched very precisely to the intended process.
- the best-known UV lamp is probably the mercury lamp, which emits UV radiation with wavelengths of 254 nm and 185 nm with high efficiency.
- a low-pressure glow discharge burns in a noble gas-mercury vapor mixture in these lamps.
- This radiator consists of a tube made of dielectric material with a rectangular cross section. Two opposite tube walls are provided with flat electrodes in the form of metal foils, which are connected to a pulse generator. The tube is closed at both ends and filled with an inert gas (argon, krypton or xenon). Such filling gases form so-called excimers when an electrical discharge is ignited under certain conditions.
- An excimer is a molecule that is formed from an excited atom and an atom in the ground state. e.g. Ar + Ar * ⁇ Ar
- the UV light generated in a first embodiment reaches the outside through an end window in the dielectric tube.
- the broad sides of the tube are provided with metal foils which form the electrodes.
- the tube is provided with recesses, over which special windows are glued, through which the radiation can escape.
- the efficiency that can be achieved with the known radiator is of the order of 1%, which is far below the theoretical value of around 50% because the filling gas heats up inadmissibly.
- Another inadequacy of the known radiator can be seen in the fact that its light exit window has only a comparatively small area for reasons of stability.
- the object of the invention is to create a high-performance radiator, in particular of ultraviolet light, which has a significantly higher degree of efficiency, can be operated with higher electrical power densities and whose light exit surface is not subject to the restrictions mentioned.
- this object is achieved in that, in the case of a high-power radiator of the generic type, both the dielectric and the first electrodes for the said Radiation are permeable and at least the second electrodes are cooled.
- the geometry of the high-performance lamp can be adapted to the process in which it is used within wide limits. In addition to large, flat spotlights, cylindrical ones that radiate inwards or outwards are also possible.
- the discharges can be operated at high pressure (0.1 - 10 bar). With this design, electrical power densities of 1 - 50 KW / m2 can be realized. Since the electron energy in the discharge can be largely optimized, the efficiency of such radiators is very high, even if one excites resonance lines of suitable atoms.
- the wavelength of the radiation can be set by the type of fill gas, e.g.
- the advantage of these emitters is the areal radiation of large radiation outputs with high efficiency. Almost all of the radiation is concentrated in one or a few wavelength ranges. It is important in all cases that the radiation can escape through one of the electrodes.
- This problem can be solved with transparent, electrically conductive layers or else by using a fine-mesh wire network or applied conductor tracks as electrodes, which on the one hand ensure the current supply to the dielectric, but on the other hand are largely transparent to the radiation.
- a transparent electrolyte for example H20, can be used as a further electrode, which is particularly advantageous for the irradiation of water / waste water, since in this way the radiation generated is directly in irradiating liquid arrives and this liquid also serves as a coolant.
- a metal electrode 1 which is in contact on one side with a cooling medium 2, for example water.
- a plate 4 made of dielectric material is arranged, spaced apart by electrically insulating spacers 3, which are distributed over a certain area.
- a UV high-performance lamp it consists, for example, of quartz or sapphire, which is transparent to the UV radiation. Materials such as magnesium fluoride and calcium fluoride are also suitable for very short-wave radiation.
- Dielectric 4 and metal electrode 1 delimit a discharge space 5 with a typical gap width between 1 and 10 mm.
- a wire mesh there can also be a transparent, electrically conductive layer, the layer of indium or tin oxide being used for visible light, a gold layer 50-100 angstroms thick for visible and UV light, and especially a thin layer of alkali metals in UV can.
- An AC power source 7 is connected between the metal electrode 1 and the counter electrode (wire mesh 6).
- alternating current source 7 those can generally be used which have long been used in connection with ozone generators.
- the discharge space 5 is laterally closed in the usual way, was evacuated before closing and was filled with an inert gas or a substance that forms excimers under discharge conditions, e.g. Mercury, noble gas, noble gas-metal vapor mixture, noble gas-halogen mixture, filled, optionally using an additional further noble gas (Ar, He, Ne) as a buffer gas.
- an inert gas or a substance that forms excimers under discharge conditions e.g. Mercury, noble gas, noble gas-metal vapor mixture, noble gas-halogen mixture, filled, optionally using an additional further noble gas (Ar, He, Ne) as a buffer gas.
- the electron energy distribution can be optimally adjusted by varying the gap width of the discharge space, pressure and / or temperature (via the intensity of the cooling).
- a metal tube 8, a tube 9 made of dielectric material and an outer metal tube 10 are arranged coaxially one inside the other. Coolant or a gaseous coolant is passed through the interior 11 of the metal tube.
- the annular gap 12 between the tubes 8 and 9 forms the discharge space.
- the dielectric tube 9 a quartz tube in the example
- the outer metal tube spaced from it by a further annular gap 13 is the liquid to be irradiated, in the example water, which forms the other electrode due to its electrolytic property.
- the AC power source 7 is therefore connected to the two metal tubes 8 and 10.
- This arrangement has the advantage that the radiation can act directly on the water, the water also serves as a coolant, and a separate electrode on the outer surface of the dielectric tube 9 is therefore unnecessary.
- one of the electrodes mentioned in connection with FIG. 1 can be used (transparent electrically conductive layer, wire mesh) can be applied to the outer surface of the dielectric tube 9.
- a quartz tube 9 provided with a transparent, electrically conductive inner electrode 14 is arranged coaxially in a metal tube 8.
- An annular discharge gap 12 extends between the two tubes 8, 9.
- the metal tube 8 is formed to form an annular cooling gap 15 through which a coolant, e.g. Water that can be passed through is surrounded by an outer tube 10.
- the AC power source 7 is connected between the inner electrode 14 and the metal tube 8.
- the substance to be irradiated is guided through the interior 16 of the dielectric tube 9 and, if suitable, simultaneously serves as a coolant.
- an electrolyte e.g. Use water as an electrode.
- the individual tubes are spaced or fixed relative to one another by means of spacing elements, such as are used in ozone technology.
- FIG. 4 The basic structure of such a high-power radiator is shown in FIG. 4. There are the same with Fig. 1 parts with the same reference numerals.
- the basic difference between FIGS. 1 and 4 consists in the interposition of a second dielectric 17 between the discharge space 5 and the metallic electrode 1.
- the metallic electrode 1 is cooled by a cooling medium 2; the radiation leaves the discharge space 5 through the dielectric 4 which is permeable to the radiation and the wire mesh 6 serving as the second electrode.
- FIG. 5 A practical implementation of such a high-power radiator is illustrated schematically in FIG. 5.
- a double-walled quartz tube 18, consisting of an inner tube 19 and an outer tube 20, is surrounded on the outside by a wire mesh 6, which serves as the first electrode.
- the second electrode is designed as a metal layer 21 on the inner wall of the inner tube 19.
- the AC power source 7 is connected to these two electrodes.
- the annular space between the inner and outer tube serves as a discharge space 5. This is sealed off from the outer space by melting the filler neck.
- the radiator is cooled by passing a coolant through the interior of the inner tube 19, a tube 23 being inserted into the inner tube 19 to guide the coolant, leaving an annular space 24 between the inner tube 19 and the tube 23.
- the direction of flow of the coolant is shown by arrows.
- the hermetically sealed radiator according to FIG. 5 can also be operated as an internal radiator analogous to FIG. 3 if the cooling is fitted on the outside and the UV-permeable electrode on the inside.
- the high-power radiators according to FIGS. 4 and 5 can also be modified in a variety of ways without departing from the scope of the invention:
- the metallic electrode 1 can be dispensed with if the cooling medium is an elec trolyte, which also serves as an electrode.
- the wire mesh 6 can also be replaced by an electrically conductive, radiation-permeable layer.
- the wire mesh 6 can be replaced by such a layer.
- the metal layer 21 is formed as a layer which is transparent to the radiation, e.g. from indium or tin oxide, the radiation can be applied directly to the cooling medium, e.g. Water. If the coolant itself is an electrolyte, this can take over the function of the electrode 21.
- each volume element in the discharge gap will emit its radiation in the entire solid angle 4 ⁇ . If one only wants to use the radiation that emerges from the UV-permeable electrode 6, the usable radiation can be practically doubled if the counter electrode 21 is made of a material that reflects UV radiation well (e.g. aluminum). 5, the inner electrode could be aluminum vapor deposition.
- Thin (0.1-1 ⁇ m) layers of alkali metals are also suitable for the UV-permeable, electrically conductive electrode 6.
- the alkali metals lithium, potassium, rubidium, cesium in the ultraviolet spectral range have a high transparency with little reflection. Alloys (eg 25% sodium / 75% potassium) are also suitable. Since the alkali metals react with air (sometimes very violently), they must be provided with a UV-permeable protective layer (eg Mg F2) after application in a vacuum.
- a UV-permeable protective layer eg Mg F2
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Abstract
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit Füllgas gefüllten Entladungsraum, dessen Wandungen zum einen durch ein Dielektrikum gebildet sind, welches auf seiner dem Entladungsraum abgewandten Oberfläche mit ersten Elektroden versehen ist, zum anderen aus zweiten Elektroden oder gleichfalls durch ein Dielektrikum gebildet sind, welches auf seiner dem Entladungsraum abgewandten Oberfläche mit zweiten Elektroden versehen ist, mit einer an die ersten und zweiten Elektroden angeschlossenen Wechselstromquelle zur Speisung der Entladung sowie Mitteln zur Leitung der durch stille elektrische Entladung erzeugten Strahlung in einen Aussenraum.
- Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik, wie er sich beispielsweise aus der Veröffentlichung "Vacuum-ultraviolet lamps with a barrier discharge in inert gases" von G.A. Volkova, N.N. Kirillova, E.N. Pavlovskaya and A.V. Yakovleva in der SU-Zeitschrift Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii 41 (1984) No. 4, 691-695, veröffentlicht in einer englischsprachigen Uebersetzung der Plenum Publishing Corporation 1985, Dok. Nr. 0021-9037/84/4104-1194 $ 08.50, S. 1194 ff., ergibt.
- Für Hochleistungsstrahler, insbesondere Hochleistungs-UV-Strahler, gibt es diverse Anwendungen wie z.B. Entkeimung, Aushärten von Lacken und Kunstharzen, Rauchgasreinigung, Zerstörung und Synthese spezieller chemischer Verbindungen. Im allgemeinen wird die Wellenlänge des Strahlers sehr genau auf den beabsichtigten Prozess abgestimmt sein müssen. Der bekannteste UV-Strahler ist vermutlich der Quecksilberstrahler, der UV-Strahlung der Wellenlänge 254 nm und 185 nm mit hohem Wirkungsgrad abstrahlt. In diesen Strahlern brennt eine Niederdruck-Glimmentladung in einem Edelgas-Quecksilberdampf-Gemisch.
- In der eingangs genannten Veröffentlichung "Vakuum ultraviolet lamps ..." wird eine auf dem Prinzip der stillen elektrischen Entladung basierende UV-Strahlenquelle beschrieben. Dieser Strahler besteht aus einem Rohr aus dielektrischem Material mit Rechteckquerschnitt. Zwei gegenüberliegende Rohrwände sind mit flächenhaften Elektroden in Form von Metallfolien versehen, die an einen Impulsgenerator angeschlossen sind. Das Rohr ist an beiden Enden verschlossen und mit einem Edelgas (Argon, Krypton oder Xenon) gefüllt. Derartige Füllgase bilden beim Zünden einer elektrischen Entladung unter bestimmten Bedingungen sogenannte Excimere. Ein Excimer ist ein Molekül, das aus einem angeregten Atom und einem Atom im Grundzustand gebildet wird.
z.B. Ar + Ar* → Ar - Es ist bekannt, dass die Umwandlung von Elektronenenergie in UV-Strahlung mit diesen Excimeren sehr effizient erfolgt. Bis zu 50 % der Elektronenenergie kann in UV-Strahlung umgewandelt werden, wobei die angeregten Komplexe nur einige Nanosekunden leben und beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von UV-Strahlung abgehen. Wellenlängenbereiche:
- Bei dem bekannten Strahler gelangt das erzeugte UV-Licht bei einer ersten Ausführung über ein stirnseitiges Fenster im dielektrischen Rohr in den Aussenraum. Bei einer zweiten Ausführungsform sind die Breitseiten des Rohres mit Metallfolien versehen, welche die Elektroden bilden. An den Schmalseiten ist das Rohr mit Ausnehmungen versehen, über welche spezielle Fenster geklebt sind, durch welche die Strahlung austreten kann.
- Der mit dem bekannten Strahler erreichbare Wirkungsgrad liegt in der Grössenordnung von 1 %, also weit unter dem theoretischen Wert von um 50 %, weil sich das Füllgas unzulässig aufheizt. Eine weitere Unzulänglichkeit des bekannten Strahlers ist darin zu sehen, dass sein Lichtaustrittsfenster aus Stabilitätsgründen nur eine vergleichsweise kleine Fläche aufweist.
- Ausgehend vom Bekannten liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen Hochleistungsstrahler, insbesondere von ultraviolettem Licht zu schaffen, der einen wesentlich grösseren Wirkungsgrad aufweist, mit höheren elektrischen Leistungsdichten betrieben werden kann und dessen Lichtaustrittsfläche den genannten Beschränkungen nicht unterliegt.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass bei einem gattungsgemässen Hochleistungsstrahler sowohl das Dielektrikum als auch die ersten Elektroden für die besagte Strahlung durchlässig sind und zumindest die zweiten Elektroden gekühlt sind.
- Auf diese Weise ist ein Hochleistungsstrahler geschaffen, der mit grossen elektrischen Leistungsdichten und hohem Wirkungsgrad betrieben werden kann. Die Geometrie des Hochleistungsstrahlers ist in weiten Grenzen dem Prozess anpassbar, in welchem er eingesetzt wird. So sind neben grossflächigen ebenen Strahlern auch zylindrische, die nach innen oder nach aussen strahlen, möglich. Die Entladungen können bei hohem Druck (0.1 - 10 bar) betrieben werden. Mit dieser Bauweise lassen sich elektrische Leistungsdichten von 1 - 50 KW/m² realisieren. Da die Elektronenenergie in der Entladung weitgehend optimiert werden kann, liegt der Wirkungsgrad solcher Strahler sehr hoch, auch dann, wenn man Resonanzlinien geeigneter Atome anregt. Die Wellenlänge der Strahlung lässt sich durch die Art des Füllgases einstellen z.B. Quecksilber (185 nm, 254 nm), Stickstoff (337-415 nm), Selen (196, 204, 206 nm), Xenon (119, 130, 147 nm), Krypton (124 nm). Wie bei anderen Gasentladungen empfiehlt sich auch die Mischung verschiedener Gasarten.
- Der Vorteil dieser Strahler liegt in der flächenhaften Abstrahlung grosser Strahlungsleistungen mit hohem Wirkungsgrad. Fast die gesamte Strahlung ist auf einen oder wenige Wellenlängenbereiche konzentriert. Wichtig ist in allen Fällen, dass die Strahlung durch eine der Elektroden austreten kann. Dieses Problem ist lösbar mit transparenten, elektrisch leitenden Schichten oder aber auch, indem man ein feinmaschiges Drahtnetz oder aufgebrachte Leiterbahnen als Elektrode benützt, die einerseits die Stromzufuhr zum Dielektrikum gewährleisten, andererseits für die Strahlung aber weitgehend transparent sind. Auch kann ein transparenter Elektrolyt, z.B. H₂0, als weitere Elektrode verwendet werden, was insbesondere für die Bestrahlung von Wasser/Abwasser vorteilhaft ist, da auf diese Weise die erzeugte Strahlung unmittelbar in die zu bestrahlende Flüssigkeit gelangt und diese Flüssigkeit gleichzeitig als Kühlmittel dient.
- In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt, und zwar zeigt
- Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung in Gestalt eines ebenen Flächenstrahlers im Schnitt
- Fig. 2 einen zylindrischen nach aussen abstrahlenden Strahler, der in einen Bestrahlungsbehälter für durchströmende Flüssigkeiten oder Gase integriert ist im Schnitt
- Fig. 3 einen zylindrischen nach innen abstrahlenden Strahler für photochemische Reaktionen
- Fig. 4 eine Abwandlung des Strahlers nach Fig. 1 mit einem beidseits durch ein Dielektrikum begrenzten Enladungsraum
- Fig. 5 ein Ausführungsbeispiel eines Strahlers in Gestalt eines doppelwandigen Quarzrohrs.
- Der Hochleistungsstrahler nach Fig. 1 umfasst eine Metallelektrode 1, die auf ihrer einen Seite mit einem Kühlmedium 2, z.B. Wasser, in Kontakt steht. Auf der anderen Seite der Metallelektrode 1 ist - distanziert durch elektrisch isolierende Distanzstücke 3, die punktuell über Fläche verteilt sind - eine Platte 4 aus dielektrischem Material angeordnet. Sie besteht für einen UV-Hochleistungsstrahler z.B. aus Quarz oder Saphir, das für die UV-Strahlung durchlässig ist. Für sehr kurzwellige Strahlungen kommen auch Materialien, wie z.B. Magnesiumfluorid und Calziumfluorid in Frage. Für Strahler, welche Strahlung im sichtbaren Bereich des Lichtes lie fern sollen, ist das Dielektrikum Glas. Dielektrikum 4 und Metallelektrode 1 begrenzen einen Entladungsraum 5 mit einer typischen Spaltweite zwischen 1 und 10 mm. Auf der dem Entladungsraum 5 abgewandten Oberfläche der dielektrischen Platte 4 ist ein feines Drahtnetz 6 aufgebracht, von dem nur die Kett- oder Schussfäden in Fig. 1 sichtbar sind. Anstelle eines Drahtnetzes kann auch eine transparente elektrisch leitende Schicht vorhanden sein, wobei für sichtbares Licht die Schicht aus Indium- oder Zinnoxid, für sichtbares und UV-Licht eine 50 - 100 Angström dicke Goldschicht und speziell im UV auch eine dünne Schicht aus Alkalimetallen verwendet werden kann. Eine Wechselstromquelle 7 ist zwischen die Metallelektrode 1 und die Gegenelektrode (Drahtnetz 6) geschaltet.
- Als Wechselstromquelle 7 können generell solche verwendet werden, wie sie im Zusammenhang mit Ozonerzeugern seit langem eingesetzt werden.
- Der Entladungsraum 5 ist seitlich in üblicher Weise geschlossen, wurde vor dem Verschliessen evakuiert und mit einem inerten Gas, oder einer bei Entladungsbedingungen Excimere bildenden Substanz, z.B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gefüllt, gegebenenfalls unter Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases (Ar, He, Ne) als Puffergas.
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- In der sich bildenden stillen Entladung (dielectric barrier discharge) kann die Elektronenenergieverteilung durch Variation der Spaltweite des Entladungsraumes, Druck und/oder Temperatur (über die Intensität der Kühlung) optimal eingestellt werden.
- Beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 sind ein Metallrohr 8, ein von diesem distanziertes Rohr 9 aus dielektrischem Material und ein äusseres Metallrohr 10 koaxial ineinander angeordnet. Durch den Innenraum 11 des Metallrohres wird Kühlflüssigkeit oder ein gasförmiges Kühlmittel geleitet. Der Ringspalt 12 zwischen den Rohren 8 und 9 bildet den Entladungsraum. Zwischen dem dielektrischen Rohr 9 (im Beispielsfall ein Quarzrohr) und dem von diesem durch einen weiteren Ringspalt 13 distanzierten äusseren Metallrohr befindet sich die zu bestrahlende Flüssigkeit, im Beispielsfall Wasser, das aufgrund seiner elektrolytischen Eigenschaft die andere Elektrode bildet. Die Wechselstromquelle 7 ist demzufolge an die beiden Metallrohre 8 und 10 angeschlossen.
- Diese Anordnung hat den Vorteil, dass die Strahlung unmittelbar auf das Wasser einwirken kann, das Wasser gleichzeitig als Kühlmittel dient, und damit eine separate Elektrode auf der äusseren Oberfläche des dielektrischen Rohres 9 entbehrlich ist.
- Ist die zu bestrahlende Flüssigkeit kein Elektrolyt, so kann eine der im Zusammenhang mit Fig. 1 genannten Elektroden (transparente elektrisch leitende Schicht, Drahtnetz) auf die äussere Oberfläche des dielektrischen Rohres 9 aufgebracht sein.
- Im Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 ist ein mit einer transparenten elektrisch leitenden Innenelektrode 14 versehenes Quarzrohr 9 koaxial in einem Metallrohr 8 angeordnet. Zwischen beiden Rohren 8, 9 erstreckt sich ein ringförmiger Entladungsspalt 12. Das Metallrohr 8 ist unter Bildung eines ringförmigen Kühlspaltes 15, durch den ein Kühlmittel, z.B. Wasser, hindurchleitbar ist, von einem äusseren Rohr 10 umgeben. Die Wechselstromquelle 7 ist zwischen die Innenelektrode 14 und das Metallrohr 8 geschaltet.
- Wie im Falle der Fig. 2 wird durch den Innenraum 16 des dielektrischen Rohres 9 die zu bestrahlende Substanz geführt und dient - sofern geeignet - gleichzeitig als Kühlmittel.
- Auch bei der Anordnung nach Fig. 3 kann neben festen, auf dem Rohrinneren angebrachten Innenelektroden 14 (Schichten, Drahtnetz) ein Elektrolyt, z.B. Wasser als Elektrode Verwendung finden.
- Sowohl bei Aussenstrahlern gemäss Fig. 2 als auch bei Innenstrahlern nach Fig. 3 erfolgt die Distanzierung bzw. relative Fixierung der einzelnen Rohre gegeneinander durch Distanzierungselemente, wie sie in der Ozontechnik verwendet werden.
- Experimente haben gezeigt, dass es vorteilhaft sein kann, bei bestimmten Füllgasen hermetisch abgeschlossene Entladungsgeometrien, z.B. abgeschmolzene Quarz- oder Glasbehälter, zu verwenden. In einer solchen Konfiguration kommt das Füllgas nicht mehr mit einer metallischen Elektrode in Berührung, die Entladung ist allseits von Dielektrika begrenzt. Der prinzipielle Aufbau eines derartigen Hochleistungsstrahlers geht aus Fig. 4 hervor. Dort sind die mit Fig. 1 gleich wirkenden Teile mit denselben Bezugszeichen versehen. Der prinzipielle Unterschied zwischen Fig. 1 und Fig. 4 besteht in der Zwischenschaltung eines zweiten Dielektrikums 17 zwischen Entladungsraum 5 und metallischer Elektrode 1. Wie im Falle der Fig. 1 ist die metallische Elektrode 1 durch ein Kühlmedium 2 gekühlt; die Strahlung verlässt den Entladungsraum 5 durch das für die Strahlung durchlässige Dielektrikum 4 und das als zweite Elektrode dienende Drahtnetz 6.
- Eine praktische Realisierung eines derartigen Hochleistungsstrahlers ist in Fig. 5 schematisch veranschaulicht. Ein doppelwandiges Quarzrohr 18, bestehend aus einem Innenrohr 19 und einem Aussenrohr 20 ist aussen von einem Drahtnetz 6 umgeben, das als erste Elektrode dient. Die zweite Elektrode ist als Metallschicht 21 an der Innenwandung des Innenrohrs 19 ausgeführt. Die Wechselstromquelle 7 ist an diese beiden Elektroden angeschlossen. Der Ringraum zwischen Innen- und Aussenrohr dient als Entladungsraum 5. Dieser ist durch Abschmelzen des Füllstutzens hermetisch gegenüber dem Aussenraum abgeschlossen. Die Kühlung des Strahlers erfolgt durch Hindurchleiten eines Kühlmittels durch den Innenraum des Innenrohrs 19, wobei zur Kühlmittelführung ein Rohr 23 in das Innenrohr 19 unter Belassung eines Ringraums 24 zwischen Innenrohr 19 und Rohr 23 eingesetzt ist. Die Strömungsrichtung des Kühlmittels ist durch Pfeile verdeutlicht. Auch der hermetisch abgeschlossene Strahler nach Fig. 5 lässt sich als Innenstrahler analog Fig. 3 betreiben, wenn man die Kühlung aussen anbringt und die UV-durchlässige Elektrode innen.
- Im Lichte der Ausführungen zu den in den Figuren 1 bis 3 beschriebenen Anordnungen versteht es sich von selbst, dass auch die Hochleistungsstrahler gemäss Fig. 4 und 5 in mannigfaltiger Weise abgewandelt werden können, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen:
So kann bei der Ausführung nach Fig. 4 auf die metallische Elektrode 1 verzichtet werden, wenn das Kühlmedium ein Elek trolyt ist, der gleichzeitig als Elektrode dient. Auch kann das Drahtnetz 6 durch eine elektrisch leitfähige, für die Strahlung durchlässige Schicht ersetzt werden. - Auch im Falle der Fig. 5 kann das Drahtnetz 6 durch eine derartige Schicht ersetzt werden. Bildet man die Metallschicht 21 als für die Strahlung durchlässige Schicht, z.B. aus Indium- oder Zinnoxid, aus, so kann die Strahlung unmittelbar auf das Kühlmedium, z.B. Wasser, einwirken. Ist das Kühlmittel selbst ein Elektrolyt, so kann dieses die Funktion der Elektrode 21 übernehmen.
- Bei den vorgeschlagenen inkohärenten Strahlern wird jedes Volumenelement im Entladungsspalt seine Strahlung in den ganzen Raumwinkel 4π abstrahlen. Will man nur die Strahlung ausnutzen, die aus der UV-durchlässigen Elektrode 6 austritt, kann man die nutzbare Strahlung praktisch verdoppeln, wenn die Gegenelektrode 21 aus einem Material ist, das UV-Strahlung gut reflektiert (z.B. Aluminium). Bei der Anordnung der Fig. 5 könnte die innere Elektrode eine Aluminiumbedampfung sein.
- Für die UV-durchlässige elektrisch leitfähige Elektrode 6 bieten sich auch dünne (0.1-1µm) Schichten aus Alkalimetallen an. Wie bekannt ist, weisen die Alkalimetalle Lithium, Kalium, Rubidium, Cäsium im ultravioletten Spektralbereich eine hohe Transparenz bei geringer Reflexion auf. Auch Legierungen (z.B. 25 % Natrium / 75 % Kalium) bieten sich an. Da die Alkali-Metalle mit Luft (z.T. sehr heftig) reagieren, muss man sie nach der Aufbringung im Vakuum mit einer UV-durchlässigen Schutzschicht (z.B. Mg F₂) versehen.
-
- 1 Metallelektrode
- 2 Kühlmedium
- 3 Distanzstücke
- 4 dielektrische Platte
- 5 Entladungsraum
- 6 Drahtnetz
- 7 Wechselstromquelle
- 8 Metallrohr
- 9 dielektrisches Rohr
- 10,10ʹ äusseres Metallrohr
- 11 Innenraum von 8
- 12 Ringspalt zwischen 8 und 9
- 13 Ringspalt zwischen 9 und 10
- 14 Innenelektrode
- 15 Kühlspalt
- 16 Innenraum von 9
- 17 Dielektrikum
- 18 doppelwandiges Quarzrohr
- 19 Innenrohr
- 20 Aussenrohr
- 21 Metallschicht
- 22 Füllstutzen
- 23 Kühlmittelführungsrohr
- 24 Ringraum zwischen 19 und 23
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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DE (1) | DE3775647D1 (de) |
Cited By (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4041884A1 (de) * | 1990-12-27 | 1992-07-02 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur behandlung von oberflaechen |
DE4113524A1 (de) * | 1991-04-25 | 1992-10-29 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur behandlung von oberflaechen |
DE4140497A1 (de) * | 1991-12-09 | 1993-06-17 | Asea Brown Boveri | Hochleistungsstrahler |
DE4208376A1 (de) * | 1992-03-16 | 1993-09-23 | Asea Brown Boveri | Hochleistungsstrahler |
DE4302465C1 (de) * | 1993-01-29 | 1994-03-10 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zum Erzeugen einer dielektrisch behinderten Entladung |
DE4235743A1 (de) * | 1992-10-23 | 1994-04-28 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
DE4238324A1 (de) * | 1992-11-13 | 1994-05-19 | Abb Research Ltd | Verfahren und Einrichtung zur Entgiftung von schadstoffhaltigen Gasen |
DE4242172A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-16 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur Entkeimung |
DE4243208A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-06-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur Abwasserreinigung |
WO1994013330A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Flüssigkeitsentkeimung |
DE4243210A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-06-30 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
DE4314510A1 (de) * | 1993-05-03 | 1994-11-10 | Abb Research Ltd | Verfahren zur Erzeugung von Ozon |
EP0642153A1 (de) * | 1993-09-08 | 1995-03-08 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Dielektrikumbegrenzte Entladungslampe |
DE4342643A1 (de) * | 1993-09-13 | 1995-03-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Fotochemische Fixierung mit UV-Strahler |
WO1995009256A1 (de) * | 1993-09-27 | 1995-04-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Oberflächenbehandlung mit barrierenentladung |
EP0661110A1 (de) * | 1993-11-26 | 1995-07-05 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Oxidation der Oberflächen eines Gegenstandes |
DE4415242A1 (de) * | 1994-04-30 | 1995-11-02 | Wissenschaftlich Tech Optikzen | Quasi-kontinuierlich emittierender UV-Laser, insbesondere Excimer-Laser |
DE4430300C1 (de) * | 1994-08-26 | 1995-12-21 | Abb Research Ltd | Excimerstrahler und dessen Verwendung |
EP0767484A1 (de) * | 1995-10-02 | 1997-04-09 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht |
EP0703602B1 (de) * | 1994-09-20 | 1997-12-10 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Lichtquellen-Vorrichtung mit einer Dielektrikumbegrenzter Entladungslampe |
DE19627119A1 (de) * | 1996-07-05 | 1998-01-15 | Hassia Verpackung Ag | Vorrichtung zum Entkeimen und/oder Sterilisieren von Packstoffbahnen |
DE19708148A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung strömender Flüssigkeiten und Gase mit elektrodenloser Entladungslampe |
DE19708149A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten und Gasen |
EP0732727A3 (de) * | 1995-02-04 | 1999-01-07 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Verwendung und Verfahren zur Behandlung von Oberflächen mittels einer dielektrisch behinderten Entladungsvorrichtung, die Plasmateilchen und/oder UV-Strahlung erzeugt |
EP0782871A3 (de) * | 1995-11-22 | 1999-03-10 | Heraeus Noblelight GmbH | Verfahren und Strahlungsanordnung zur Erzeugung von UV-Strahlen zur Körperbestrahlung sowie Verwendung |
EP0818206A3 (de) * | 1996-07-12 | 1999-07-21 | Heraeus Noblelight GmbH | Verfahren zum Desinfizieren und Reinigen von Kleinteilen und dafür geeignete Vorrichtung |
WO1998040273A3 (en) * | 1996-10-11 | 2000-09-14 | Tetra Laval Holdings & Finance | Method and apparatus for sterilizing packaging |
DE19920693C1 (de) * | 1999-05-05 | 2001-04-26 | Inst Oberflaechenmodifizierung | Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren |
DE10112900C1 (de) * | 2001-03-15 | 2002-07-11 | Heraeus Noblelight Gmbh | Excimer-Strahler, insbesondere UV-Strahler |
DE10235036A1 (de) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | UV-Lichtquelle |
DE10260579A1 (de) * | 2002-12-21 | 2004-07-08 | Gesellschaft zur Förderung der Spektrochemie und angewandten Spektroskopie e.V. | Verfahren zur Gasionisierung eines Analyten in einem Ionenbeweglichkeitsspektrometer sowie Ionenbeweglichkeitsspektrometer |
WO2004059694A1 (fr) * | 2002-12-25 | 2004-07-15 | Zakrytoe Akzionernoe Obschestvo Nauchno-Proisvodstvenny Tsentr 'soliton-Ntt' | Source de rayons ultraviolets a decharges gazeuses |
WO2005102950A2 (de) * | 2004-04-15 | 2005-11-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglas- bauteil für eine uv-strahlenquelle sowie verfahren für die herstellung und für die eignungsdiagnose |
DE102004022859A1 (de) * | 2004-05-06 | 2006-01-05 | Kalle Gmbh | Künstliche Nahrungsmittelhülle sowie Verfahren zu deren Herstellung |
DE4305704B4 (de) * | 1993-02-25 | 2006-02-16 | Matter + Siegmann Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von in einem Gas befindlichen Partikeln |
DE102005007370B3 (de) * | 2005-02-17 | 2006-09-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kompakte UV-Lichtquelle |
DE102007030915A1 (de) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Cinogy Gmbh | Vorrichtung zur Behandlung von Oberflächen mit einem mittels einer Elektrode über ein Feststoff-Dielektrikum durch eine dielektrische behinderte Gasentladung erzeugten Plasma |
EP1839703B1 (de) * | 2006-03-31 | 2011-05-25 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Phototherapievorrichtung |
WO2012059383A1 (de) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | Osram Ag | Vorrichtung zum bestrahlen von oberflächen |
EP3134351A1 (de) * | 2014-04-24 | 2017-03-01 | SICO Technology GmbH | Vorrichtung zur photochemischen behandlung von verunreinigtem wasser |
DE102018214715A1 (de) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
DE102021108009A1 (de) | 2021-03-30 | 2022-10-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Multi-Wellenlängen UV-Strahlungsquelle sowie UV-Sonde, insbesondere für die Fluoreszenzanalyse |
Families Citing this family (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH675178A5 (de) * | 1987-10-23 | 1990-08-31 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
CH675504A5 (de) * | 1988-01-15 | 1990-09-28 | Asea Brown Boveri | |
CH676168A5 (de) * | 1988-10-10 | 1990-12-14 | Asea Brown Boveri | |
CH677846A5 (de) * | 1988-12-01 | 1991-06-28 | Asea Brown Boveri | |
DE3901165A1 (de) * | 1989-01-17 | 1990-08-02 | Heidelberger Druckmasch Ag | Einrichtung zum trocknen von farben auf papier |
CH678128A5 (en) * | 1989-01-26 | 1991-07-31 | Asea Brown Boveri | High power ultraviolet lamp with particle density control - heats and cools mercury reservoir connected to discharge space above dielectric covered wire counter electrode |
CH677292A5 (de) * | 1989-02-27 | 1991-04-30 | Asea Brown Boveri | |
CH677557A5 (de) * | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Asea Brown Boveri | |
US5118989A (en) * | 1989-12-11 | 1992-06-02 | Fusion Systems Corporation | Surface discharge radiation source |
US5225251A (en) * | 1989-12-22 | 1993-07-06 | Asea Brown Boveri Aktiengesellschaft | Method for forming layers by UV radiation of aluminum nitride |
DE3942472A1 (de) * | 1989-12-22 | 1991-06-27 | Asea Brown Boveri | Beschichtungsverfahren |
CH680246A5 (de) * | 1990-04-24 | 1992-07-15 | Asea Brown Boveri | |
CH680099A5 (de) * | 1990-05-22 | 1992-06-15 | Asea Brown Boveri | |
EP0482230B1 (de) * | 1990-10-22 | 1995-06-21 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
EP0489184B1 (de) * | 1990-12-03 | 1996-02-28 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
US5220236A (en) * | 1991-02-01 | 1993-06-15 | Hughes Aircraft Company | Geometry enhanced optical output for rf excited fluorescent lights |
EP0504452B1 (de) * | 1991-03-20 | 1995-06-28 | Asea Brown Boveri Ag | Verfahren und Einrichtung zur Aufladung von Partikeln |
EP0509110B1 (de) | 1991-04-15 | 1995-06-21 | Heraeus Noblelight GmbH | Bestrahlungseinrichtung |
DE4113523A1 (de) * | 1991-04-25 | 1992-10-29 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur behandlung von oberflaechen |
EP0515711A1 (de) * | 1991-05-27 | 1992-12-02 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
EP0517929B1 (de) * | 1991-06-01 | 1995-03-15 | Heraeus Noblelight GmbH | Bestrahlungseinrichtung mit einem Hochleistungsstrahler |
EP0521553B1 (de) * | 1991-07-01 | 1996-04-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Hochdrucksglimmentladungslampe |
DE4222130C2 (de) * | 1992-07-06 | 1995-12-14 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
EP0607960B2 (de) * | 1993-01-20 | 2001-05-16 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht |
JP2775699B2 (ja) * | 1994-09-20 | 1998-07-16 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ |
DE19636965B4 (de) * | 1996-09-11 | 2004-07-01 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Elektrische Strahlungsquelle und Bestrahlungssystem mit dieser Strahlungsquelle |
US6888041B1 (en) | 1997-02-12 | 2005-05-03 | Quark Systems Co., Ltd. | Decomposition apparatus of organic compound, decomposition method thereof, excimer UV lamp and excimer emission apparatus |
US6194821B1 (en) * | 1997-02-12 | 2001-02-27 | Quark Systems Co., Ltd. | Decomposition apparatus of organic compound, decomposition method thereof, excimer UV lamp and excimer emission apparatus |
US5945790A (en) * | 1997-11-17 | 1999-08-31 | Schaefer; Raymond B. | Surface discharge lamp |
US6015759A (en) * | 1997-12-08 | 2000-01-18 | Quester Technology, Inc. | Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation |
CA2224699A1 (en) * | 1997-12-12 | 1999-06-12 | Resonance Ltd. | Hollow electrode electrodeless lamp |
US6049086A (en) * | 1998-02-12 | 2000-04-11 | Quester Technology, Inc. | Large area silent discharge excitation radiator |
JP3346291B2 (ja) * | 1998-07-31 | 2002-11-18 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ、および照射装置 |
DE19922566B4 (de) * | 1998-12-16 | 2004-11-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolettstrahlung |
JP3264898B2 (ja) * | 1999-02-25 | 2002-03-11 | 大村 智 | 液状、泥状物の殺菌用紫外線照射装置 |
FR2792774B1 (fr) | 1999-04-26 | 2003-08-01 | Joint Industrial Processors For Electronics | Procede et dispositif de traitement d'un materiau par rayonnement electromagnetique et sous atmosphere controlee |
US6133694A (en) * | 1999-05-07 | 2000-10-17 | Fusion Uv Systems, Inc. | High-pressure lamp bulb having fill containing multiple excimer combinations |
EP1158574B1 (de) * | 1999-10-07 | 2010-07-21 | Ushio Denki Kabushiki Kaisya | Gerät zur erzeugung von ultravioletter strahlung |
DE19957034B4 (de) | 1999-11-26 | 2006-04-13 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur Behandlung von Oberflächen von Substraten und Vorrichtung |
IES20000339A2 (en) * | 2000-05-05 | 2001-11-14 | G A Apollo Ltd | Apparatus for irradiating material |
AU2002219002A1 (en) * | 2000-11-29 | 2002-06-11 | Fraunhofer Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Method and device for treating the surfaces of items |
US20020067130A1 (en) * | 2000-12-05 | 2002-06-06 | Zoran Falkenstein | Flat-panel, large-area, dielectric barrier discharge-driven V(UV) light source |
US6759664B2 (en) * | 2000-12-20 | 2004-07-06 | Alcatel | Ultraviolet curing system and bulb |
US7381976B2 (en) | 2001-03-13 | 2008-06-03 | Triton Thalassic Technologies, Inc. | Monochromatic fluid treatment systems |
US6597003B2 (en) * | 2001-07-12 | 2003-07-22 | Axcelis Technologies, Inc. | Tunable radiation source providing a VUV wavelength planar illumination pattern for processing semiconductor wafers |
US6646256B2 (en) | 2001-12-18 | 2003-11-11 | Agilent Technologies, Inc. | Atmospheric pressure photoionization source in mass spectrometry |
US6559607B1 (en) | 2002-01-14 | 2003-05-06 | Fusion Uv Systems, Inc. | Microwave-powered ultraviolet rotating lamp, and process of use thereof |
US20030157000A1 (en) * | 2002-02-15 | 2003-08-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Fluidized bed activated by excimer plasma and materials produced therefrom |
DE50307658D1 (de) * | 2002-04-29 | 2007-08-23 | Fh Hildesheim Holzminden Goe | Verfahren und vorrichtung zur behandlung der äusseren oberfläche eines metalldrahts, insbesondere als beschichtungsvorbehandlung |
US7268355B2 (en) | 2002-12-27 | 2007-09-11 | Franek Olstowski | Excimer UV fluorescence detection |
US6971939B2 (en) * | 2003-05-29 | 2005-12-06 | Ushio America, Inc. | Non-oxidizing electrode arrangement for excimer lamps |
DE102004020398A1 (de) * | 2004-04-23 | 2005-11-10 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Dielektrische Barriere-Entladungslampe mit Außenelektroden und Beleuchtungssystem mit dieser Lampe |
US7196473B2 (en) * | 2004-05-12 | 2007-03-27 | General Electric Company | Dielectric barrier discharge lamp |
JP5054517B2 (ja) * | 2004-07-09 | 2012-10-24 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 反射器を備えるuvc/vuv誘電体バリア放電ランプ |
US7960705B2 (en) * | 2005-12-21 | 2011-06-14 | Trojan Technologies | Excimer radiation lamp assembly, and source module and fluid treatment system containing same |
WO2007071074A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Trojan Technologies Inc. | Excimer radiation lamp assembly, and source module and fluid treatment system containing same |
US20090274576A1 (en) * | 2006-01-18 | 2009-11-05 | Barry Ressler | System and method for container sterilization using UV light source |
EP2046687B1 (de) * | 2006-07-13 | 2010-02-10 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Flüssigkeitsverarbeitungssystem mit einem strahlungsquellenmodul und einem kühlmittel |
DE112007003669A5 (de) * | 2007-11-26 | 2011-01-13 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Dielektrische Barrieren-Entladungslampe in Doppelrohrkonfiguration |
WO2009146432A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
WO2009149020A1 (en) * | 2008-06-04 | 2009-12-10 | Triton Thalassic Technologies, Inc. | Methods, systems and apparatus for monochromatic uv light sterilization |
GB2474032B (en) * | 2009-10-01 | 2016-07-27 | Heraeus Noblelight Gmbh | Flash lamp or gas discharge lamp with integrated reflector |
US9493366B2 (en) | 2010-06-04 | 2016-11-15 | Access Business Group International Llc | Inductively coupled dielectric barrier discharge lamp |
TWI483285B (zh) | 2012-11-05 | 2015-05-01 | Ind Tech Res Inst | 介電質屏障放電燈及其製作方法 |
US9269544B2 (en) | 2013-02-11 | 2016-02-23 | Colorado State University Research Foundation | System and method for treatment of biofilms |
US9117636B2 (en) | 2013-02-11 | 2015-08-25 | Colorado State University Research Foundation | Plasma catalyst chemical reaction apparatus |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
US10237962B2 (en) | 2014-02-26 | 2019-03-19 | Covidien Lp | Variable frequency excitation plasma device for thermal and non-thermal tissue effects |
WO2015163948A1 (en) | 2014-04-22 | 2015-10-29 | Hoon Ahn | Power amplifying radiator (par) |
US10524849B2 (en) | 2016-08-02 | 2020-01-07 | Covidien Lp | System and method for catheter-based plasma coagulation |
KR102116867B1 (ko) | 2018-05-08 | 2020-05-29 | 주식회사 원익큐엔씨 | 임플란트 표면개질 처리장치 |
JP7132540B2 (ja) * | 2018-06-13 | 2022-09-07 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
WO2023222178A1 (de) | 2022-05-19 | 2023-11-23 | IOT - Innovative Oberflächentechnologien GmbH | Bestrahlungsgerät mit excimerstrahlern als uv-quelle |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE739064A (de) * | 1968-09-19 | 1970-03-18 | ||
GB2023980A (en) * | 1978-06-07 | 1980-01-03 | Bbc Brown Boveri & Cie | Apparatus for sterilizing liquids |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2769117A (en) * | 1952-07-01 | 1956-10-30 | Pirillo Santo | Ozone producing device |
US2943223A (en) * | 1958-05-02 | 1960-06-28 | Union Carbide Corp | Silent electric discharge light source |
DE6753632U (de) * | 1968-09-19 | 1969-05-29 | Philips Nv | Niederdruckentladungslampe mit einer den entladungsraum unschliessenden wand, die u.a. aus einen traeger besteht. |
DE2222454A1 (de) * | 1972-05-08 | 1973-11-22 | Patra Patent Treuhand | Gekuehlte fuesse fuer hochleistungsentladungslampe |
US3763806A (en) * | 1972-10-16 | 1973-10-09 | C & W Sewing Machine | Separately retractable paired needles |
FR2406606A1 (fr) * | 1977-10-18 | 1979-05-18 | Degremont | Electrode pour appareil generateur d'ozone |
US4179616A (en) * | 1978-02-21 | 1979-12-18 | Thetford Corporation | Apparatus for sanitizing liquids with ultra-violet radiation and ozone |
US4266166A (en) * | 1979-11-09 | 1981-05-05 | Gte Laboratories Incorporated | Compact fluorescent light source having metallized electrodes |
JPS5834560A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-03-01 | 周 成祥 | 放電灯ディスプレイ装置 |
US4427921A (en) * | 1981-10-01 | 1984-01-24 | Gte Laboratories Inc. | Electrodeless ultraviolet light source |
US4492898A (en) * | 1982-07-26 | 1985-01-08 | Gte Laboratories Incorporated | Mercury-free discharge lamp |
-
1986
- 1986-07-22 CH CH2924/86A patent/CH670171A5/de not_active IP Right Cessation
-
1987
- 1987-07-06 DE DE8787109674T patent/DE3775647D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-06 EP EP87109674A patent/EP0254111B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-21 CA CA000542606A patent/CA1288800C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-22 US US07/076,926 patent/US4837484A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE739064A (de) * | 1968-09-19 | 1970-03-18 | ||
GB2023980A (en) * | 1978-06-07 | 1980-01-03 | Bbc Brown Boveri & Cie | Apparatus for sterilizing liquids |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JOURNAL OF APPLIED SPECTROSCOPY, Band 41, Nr. 4, Oktober 1984, Seiten 1194-1197, Plenum Publishing Corp., New York, US; G.A. VOLKOVA et al.: "Vacuum-ultraviolet lamps with a barrier discharge in inert gases" * |
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, Band 9, Nr. 219 (M-410)[1942], 6. September 1985; & JP-A-60 79 662 (IWASAKI DENKI K.K.) 07-05-1985 * |
Cited By (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4041884A1 (de) * | 1990-12-27 | 1992-07-02 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur behandlung von oberflaechen |
DE4113524A1 (de) * | 1991-04-25 | 1992-10-29 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur behandlung von oberflaechen |
DE4140497A1 (de) * | 1991-12-09 | 1993-06-17 | Asea Brown Boveri | Hochleistungsstrahler |
DE4208376A1 (de) * | 1992-03-16 | 1993-09-23 | Asea Brown Boveri | Hochleistungsstrahler |
DE4235743A1 (de) * | 1992-10-23 | 1994-04-28 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
DE4238324A1 (de) * | 1992-11-13 | 1994-05-19 | Abb Research Ltd | Verfahren und Einrichtung zur Entgiftung von schadstoffhaltigen Gasen |
WO1994013330A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Flüssigkeitsentkeimung |
DE4242172A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-16 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur Entkeimung |
WO1994013331A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur entkeimung |
WO1994015354A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-07-07 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
DE4243210A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-06-30 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
WO1994014711A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-07-07 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur abwasserreinigung |
DE4243208A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-06-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren zur Abwasserreinigung |
DE4302465C1 (de) * | 1993-01-29 | 1994-03-10 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zum Erzeugen einer dielektrisch behinderten Entladung |
DE4305704B4 (de) * | 1993-02-25 | 2006-02-16 | Matter + Siegmann Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von in einem Gas befindlichen Partikeln |
DE4314510A1 (de) * | 1993-05-03 | 1994-11-10 | Abb Research Ltd | Verfahren zur Erzeugung von Ozon |
EP0721204A3 (de) * | 1993-09-08 | 1996-11-06 | Ushio Electric Inc | Entladungslampe mit dieelektrischer Barriere |
EP0642153A1 (de) * | 1993-09-08 | 1995-03-08 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Dielektrikumbegrenzte Entladungslampe |
KR100238642B1 (ko) * | 1993-09-08 | 2000-01-15 | 다나카 아키히로 | 유전체 배리어 방전램프 |
DE4342643A1 (de) * | 1993-09-13 | 1995-03-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Fotochemische Fixierung mit UV-Strahler |
DE4342643C2 (de) * | 1993-09-13 | 1999-04-29 | Fraunhofer Ges Forschung | Erwärmungsarme Fixierung mit Barrierenentladung in Tintenstrahldruckern |
WO1995009256A1 (de) * | 1993-09-27 | 1995-04-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Oberflächenbehandlung mit barrierenentladung |
EP0661110A1 (de) * | 1993-11-26 | 1995-07-05 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Oxidation der Oberflächen eines Gegenstandes |
DE4415242A1 (de) * | 1994-04-30 | 1995-11-02 | Wissenschaftlich Tech Optikzen | Quasi-kontinuierlich emittierender UV-Laser, insbesondere Excimer-Laser |
DE4430300C1 (de) * | 1994-08-26 | 1995-12-21 | Abb Research Ltd | Excimerstrahler und dessen Verwendung |
EP0703602B1 (de) * | 1994-09-20 | 1997-12-10 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Lichtquellen-Vorrichtung mit einer Dielektrikumbegrenzter Entladungslampe |
EP0732727A3 (de) * | 1995-02-04 | 1999-01-07 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Verwendung und Verfahren zur Behandlung von Oberflächen mittels einer dielektrisch behinderten Entladungsvorrichtung, die Plasmateilchen und/oder UV-Strahlung erzeugt |
EP0767484A1 (de) * | 1995-10-02 | 1997-04-09 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht |
EP0782871A3 (de) * | 1995-11-22 | 1999-03-10 | Heraeus Noblelight GmbH | Verfahren und Strahlungsanordnung zur Erzeugung von UV-Strahlen zur Körperbestrahlung sowie Verwendung |
US5955840A (en) * | 1995-11-22 | 1999-09-21 | Heraeus Noblelight Gmbh | Method and apparatus to generate ultraviolet (UV) radiation, specifically for irradiation of the human body |
DE19627119A1 (de) * | 1996-07-05 | 1998-01-15 | Hassia Verpackung Ag | Vorrichtung zum Entkeimen und/oder Sterilisieren von Packstoffbahnen |
EP0818206A3 (de) * | 1996-07-12 | 1999-07-21 | Heraeus Noblelight GmbH | Verfahren zum Desinfizieren und Reinigen von Kleinteilen und dafür geeignete Vorrichtung |
WO1998040273A3 (en) * | 1996-10-11 | 2000-09-14 | Tetra Laval Holdings & Finance | Method and apparatus for sterilizing packaging |
DE19708149A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten und Gasen |
DE19708148A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung strömender Flüssigkeiten und Gase mit elektrodenloser Entladungslampe |
DE19920693C1 (de) * | 1999-05-05 | 2001-04-26 | Inst Oberflaechenmodifizierung | Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren |
DE10112900C1 (de) * | 2001-03-15 | 2002-07-11 | Heraeus Noblelight Gmbh | Excimer-Strahler, insbesondere UV-Strahler |
DE10235036A1 (de) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | UV-Lichtquelle |
DE10260579A1 (de) * | 2002-12-21 | 2004-07-08 | Gesellschaft zur Förderung der Spektrochemie und angewandten Spektroskopie e.V. | Verfahren zur Gasionisierung eines Analyten in einem Ionenbeweglichkeitsspektrometer sowie Ionenbeweglichkeitsspektrometer |
WO2004059694A1 (fr) * | 2002-12-25 | 2004-07-15 | Zakrytoe Akzionernoe Obschestvo Nauchno-Proisvodstvenny Tsentr 'soliton-Ntt' | Source de rayons ultraviolets a decharges gazeuses |
WO2005102950A2 (de) * | 2004-04-15 | 2005-11-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglas- bauteil für eine uv-strahlenquelle sowie verfahren für die herstellung und für die eignungsdiagnose |
DE102004018887A1 (de) * | 2004-04-15 | 2005-11-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Bauteil aus Quarzglas für eine UV-Strahlenquelle sowie Verfahren für die Herstellung und für die Eignungsdiagnose eines derartigen Quarzglas-Bauteils |
DE102004018887B4 (de) * | 2004-04-15 | 2009-04-16 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus Quarzglas zum Einsatz mit einer UV-Strahlenquelle und Verfahren für die Eignungsdiagnose eines derartigen Quarzglas-Bauteils |
WO2005102950A3 (de) * | 2004-04-15 | 2006-03-02 | Heraeus Quarzglas | Quarzglas- bauteil für eine uv-strahlenquelle sowie verfahren für die herstellung und für die eignungsdiagnose |
DE102004022859A1 (de) * | 2004-05-06 | 2006-01-05 | Kalle Gmbh | Künstliche Nahrungsmittelhülle sowie Verfahren zu deren Herstellung |
DE102004022859B4 (de) * | 2004-05-06 | 2006-04-13 | Kalle Gmbh | Künstliche Nahrungsmittelhülle sowie Verfahren zu deren Herstellung |
DE102005007370B3 (de) * | 2005-02-17 | 2006-09-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kompakte UV-Lichtquelle |
EP1839703B1 (de) * | 2006-03-31 | 2011-05-25 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Phototherapievorrichtung |
DE102007030915A1 (de) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Cinogy Gmbh | Vorrichtung zur Behandlung von Oberflächen mit einem mittels einer Elektrode über ein Feststoff-Dielektrikum durch eine dielektrische behinderte Gasentladung erzeugten Plasma |
US8940229B2 (en) | 2010-11-02 | 2015-01-27 | Osram Ag | Device for irradiating surfaces |
CN103189075A (zh) * | 2010-11-02 | 2013-07-03 | 欧司朗股份有限公司 | 用于表面辐照的装置 |
WO2012059383A1 (de) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | Osram Ag | Vorrichtung zum bestrahlen von oberflächen |
CN103189075B (zh) * | 2010-11-02 | 2016-01-20 | 欧司朗股份有限公司 | 用于表面辐照的装置 |
EP3134351A1 (de) * | 2014-04-24 | 2017-03-01 | SICO Technology GmbH | Vorrichtung zur photochemischen behandlung von verunreinigtem wasser |
DE102018214715A1 (de) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
DE102018214715B4 (de) | 2018-08-30 | 2020-07-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
DE102021108009A1 (de) | 2021-03-30 | 2022-10-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Multi-Wellenlängen UV-Strahlungsquelle sowie UV-Sonde, insbesondere für die Fluoreszenzanalyse |
DE102021108009B4 (de) | 2021-03-30 | 2023-02-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Multi-Wellenlängen UV-Strahlungsquelle sowie UV-Sonde, insbesondere für die Fluoreszenzanalyse |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3775647D1 (de) | 1992-02-13 |
CH670171A5 (de) | 1989-05-12 |
EP0254111B1 (de) | 1992-01-02 |
US4837484A (en) | 1989-06-06 |
CA1288800C (en) | 1991-09-10 |
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---|---|---|
EP0254111B1 (de) | UV-Strahler | |
EP0312732B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
EP0324953B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
EP0458140B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE4113241C2 (de) | Gepulster Gasentladungslaser | |
EP0578953B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
EP0371304B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
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