WO1994014711A1 - Verfahren zur abwasserreinigung - Google Patents
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Definitions
- the invention relates to a method for eliminating metal complexes from waste water according to the preamble of claim 1.
- Such a method is suitable for purifying waste water which contains metal complexes which have harmful side effects on the environment.
- metal complexes which are formed from nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, citric acid, ethylenediamine, triethanolamine, hyroxyethyl-1,1-diphosphonic acid, N, N, N, Ntetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine and have copper, nickel, zinc or cadmium as the metal component.
- Wastewater contaminated with these metal complexes must be landfilled, as there is as yet no suitable process that enables the removal of these metal complexes. Since such waste water is produced in large quantities, its landfill is very expensive in the long run.
- the invention has for its object to provide a method with which metal complexes of the type mentioned are converted into pollutant-free compounds so that this waste water can be drained off. This object is achieved by the features of claim 1.
- the only figure belonging to the description shows a device 1, to which a low-pressure mercury lamp 2 and a waste water container 3 belong.
- the waste water container 3 is arranged below the radiation surface of the low-pressure mercury lamp 2.
- the waste water 4 located in the waste water container 3 is enriched with copper citrate 5.
- 30% hydrogen peroxide 6 is first added to the waste water.
- the amount of hydrogen peroxide is 12 to 150 mmol / 1.
- the hydrogen peroxide 6 is mixed with the waste water 4.
- the waste water 4 is then irradiated with the low-pressure mercury lamp 2, which generates UV radiation with a wavelength of 254 nm.
- a high-power lamp 2 can also be used, as disclosed in EP-A-0 254 111.
- This high-power radiator 2 generates, depending on the gas filling it has, UV radiation with a wavelength between 60 nm and 320 nm. It has been shown that when the waste water enriched with metal complexes is irradiated with UV radiation, which has a wavelength of 222 nm, a very fast oxidation of the metal complexes could also be achieved.
- the high-power radiator 2 is provided with a gas filling in the form of krypton chloride.
- the method according to the invention cannot only be used for the removal of copper citrate. Rather, it is also suitable for the oxidation of metal complexes which are formed from nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, citric acid, ethylenediamine, triethanolamine, hy.troxyethyl-1,1-diphosphonic acid, N, N, tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine Form reaction with copper, nickel, zinc or cadmium.
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Beseitigung von Metallkomplexen in Abwässern (4) in einer Vorrichtung (1), zu der ein Quecksilberniederdruckstrahler (2) und ein Abwasserbehälter (3) gehören. Der Abwasserbehälter (3) ist unterhalb der Strahlungsfläche des Quecksilberniederdruckstrahlers (2) angeordnet. In dem hier beschriebenen Beispiel ist das in dem Abwasserbehälter (3) befindliche Abwasser (4) mit Kupfercitrat (5) angereichert. Um dieses zu beseitigen, wird dem Abwasser zunächst 30 % iges Wasserstoffperoxid (6) zugesetzt. Die Menge des Wasserstoffperoxids beträgt 12 bis 150 mmol/l. Das Wasserstoffperoxid (6) wird mit dem Abwasser (4) vermischt. Anschliessend wird das Abwasser (4) mit dem Quecksilberniederdruckstrahler (2) bestrahlt, der eine UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 254 nm erzeugt. Mit Hilfe des Wasserstoffperoxids (6) und der UV-Strahlung wird das Kupfercitrat soweit oxidiert, bis es in schadstofffreie Bestandteile umgesetzt ist. An Stelle des Quecksilberniederdruckstrahlers (2) kann auch ein Hochleistungsstrahler (2) verwendet werden.
Description
Verfahren zur Abwasserreinigung
Beschreibung
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Beseiti¬ gung von Metallkomplexen aus Abwässern gemäß dem Oberbe¬ griff des Patentanspruches 1.
Ein solches Verfahren ist geeignet, Abwässer zu reinigen, die Metallkomplexe enthalten, welche schädliche Nebenwir¬ kungen auf die Umwelt haben. Es handelt sich hierbei insbesondere um Metallkomplexe, die aus Nitrilotriessig- säure, Ethylendiamintetraessigsäure, Citronensäure, Eth- ylendiamin, Triethanolamin, Hytroxyethyl-1,1-diphosphon- säure, N,N,N,Ntetrakis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin gebildet werden und als Metallkomponente Kupfer, Nickel, Zink oder Cadmium aufweisen. Mit diesen Metallkomplexen belastete Abwässer müssen deponiert werden, da es bis jetzt noch kein geeignetes Verfahren gibt, das die Beseitigung dieser Metallkomplexe ermöglicht. Da solche Abwässer in großen Mengen anfallen, ist ihre Deponie auf Dauer gesehen sehr kostspielig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren aufzuzeigen, mit dem Metallkomplexe der eingangs genannten Art in schadstoffreie Verbindungen umgesetzt werden, so daß diese Abwässer abgleitet werden können.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des Patentanspruches 1 gelöst.
Mit Hilfe einer die Oxidation unterstützenden chemischen Verbindung und einer zusätzlichen Behandlung mit UV- Strahlung ist es möglich, die Metallkomplexe soweit zu oxidieren, daß nur schadstoffreie chemische Verbindungen zurückbleiben. Erfindungsgemäß wird dem Abwasser Wasser¬ stoffperoxid zugesetzt. Anschließend wird das Abwasser mit UV-Strahlung bestrahlt, die eine Wellenlänge zwischen 222 nm und 254 nm aufweist.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird nachfolgend anhand einer schematischen Zeichnung näher erläutert.
Die einzige zur Beschreibung gehörende Figur zeigt eine Vorrichtung 1, zu der ein Quecksilbemiederdruckstrahler 2 und ein Abwasserbehälter 3 gehören. Der Abwasserbehälter 3 ist unterhalb der Strahlungsfläche des Quecksilbernieder- druckstrahlers 2 angeordnet. In dem hier beschriebenen Beispiel ist das in dem Abwasserbehälter 3 befindliche Ab¬ wasser 4 mit Kupfercitrat 5 angereichert. Um dieses zu be¬ seitigen, wird dem Abwasser zunächst 30%iges Wasserstoff¬ peroxid 6 zugesetzt. Die Menge des Wasserstoffperoxids beträgt 12 bis 150 mmol/1. Das Wasserstoffperoxid 6 wird mit dem Abwasser 4 vermischt. Anschließend wird das Ab¬ wasser 4 mit dem Quecksilbemiederdruckstrahler 2 be¬ strahlt, der eine UV-Strahlung mit einer Wellenlängen von 254 nm erzeugt. Mit Hilfe des Wasserstoffperoxids 6 und der UV-Strahlung wird das Kupercitrat soweit oxidiert, bis es in schadstoffreie Bestandteile umgesetzt ist. An Stelle des Quecksilberniederdruckstrahlers 2 kann auch ein Hoch¬ leistungsstrahler 2 verwendet werden, wie er in der EP-A-0 254 111 offenbart ist. Dieser Hochleistungsstrahler 2 er¬ zeugt, je nach dem, welche Gasfüllung er aufweist, eine UV- Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen 60 nm und 320 nm. Es hat sich gezeigt, daß bei einer Bestrahlung des mit Metallkomplexen angereicherten Abwassers mit UV-Strahlung,
die eine Wellenlänge von 222 nm aufweist, ebenfalls eine sehr schnelle Oxidation der Metallkomplexe erzielt werden konnte. Zur Erzeugung von UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 222 nm wird der Hochleistungsstrahler 2 mit einer Gasfüllung in Form von Kryptonchlorid versehen. Das erfindungsgemäße Verfahren kann nicht nur zur Beseitigung von Kupfercitrat angewendet werden. Vielmehr ist es auch zur Oxidation von Metallkomplexen geeignet, die sich aus Nitrilotriessigsäure, Ethylendiamintetraessigsäure, Citro- nensäure, Ethylendiamin, Triethanolamin, Hy.troxyethyl-1,1- diphosphonsäure, N,N, , tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylen¬ diamin durch Reaktion mit Kupfer, Nickel, Zink oder Cadmium bilden.
Claims
1. Verfahren zur Beseitigung von Metallkomplexen aus Abwässern, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallkomplexe zu schadstoffreien Bestandteilen oxidiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dem Abwasser (4) eine die Oxidation unterstützende che¬ mische Verbindung zugesetzt und das Abwasser (4) anschlie¬ ßend mit UV-Strahlung bestrahlt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, da¬ durch gekennzeichnet, daß dem Abwasser (4) 30%-iges Was¬ serstoffperoxid in einer Menge von 12 bis 150 mmol/1 zu¬ gesetzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Abwasser (4) mit UV-Strahlung der Wellenlänge 222 nm oder 254 nm bestrahlt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die UV-Strahlung mit der Wellenlänge von 254 nm mit einem Quecksilbemiederdruckstrahler (2) erzeugt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die UV-Strahlung mit der Wellenlänge von 222 nm mit einem Hochleistungsstrahler gemäß der EP-A-0 254 111 erzeugt wird, der eine Gasfüllung in Form von Kryptonchlorid aufweist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß Metallkomplexe aus Nitrilotri- essigsäure, Ethylendiamintetraessigsäure, Citronensäure, Ethylendiamin, Triethanolamin, Hytroxyethyl-1,1-diphos- phonsäure, ,N, ,Ntetrakis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin, die Metallkomponenten in Form von Kupfer, Nickel, Kadmium oder Zink aufweisen, zu unschädlichen chemischen Verbin¬ dungen oxidiert werden.
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