DE4243208A1

DE4243208A1 - Verfahren zur Abwasserreinigung

Info

Publication number: DE4243208A1
Application number: DE19924243208
Authority: DE
Inventors: Hilmar Dr Esrom; Bernd Dr Jahnke
Original assignee: Heraeus Noblelight GmbH
Current assignee: Heraeus Noblelight GmbH
Priority date: 1992-12-19
Filing date: 1992-12-19
Publication date: 1994-06-23
Also published as: WO1994014711A1

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Beseiti gung von Metallkomplexen aus Abwässern gemäß dem Oberbe griff des Patentanspruches 1.

Ein solches Verfahren ist geeignet, Abwässer zu reinigen, die Metallkomplexe enthalten, welche schädliche Nebenwir kungen auf die Umwelt haben. Es handelt sich hierbei insbesondere um Metallkomplexe, die aus Nitrilotriessig säure, Ethylendiamintetraessigsäure, Citronensäure, Eth ylendiamin, Triethanolamin, Hytroxyethyl-1,1-diphosphon säure, N,N,N,Ntetrakis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin gebildet werden und als Metallkomponente Kupfer, Nickel, Zink oder Cadmium aufweisen. Mit diesen Metallkomplexen belastete Abwässer müssen deponiert werden, da es bis jetzt noch kein geeignetes Verfahren gibt, das die Beseitigung dieser Metallkomplexe ermöglicht. Da solche Abwässer in großen Mengen anfallen, ist ihre Deponie auf Dauer gesehen sehr kostspielig.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren aufzuzeigen, mit dem Metallkomplexe der eingangs genannten Art in schadstoffreie Verbindungen umgesetzt werden, so daß diese Abwässer abgleitet werden können.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des Patentanspruches 1 gelöst.

Mit Hilfe einer die Oxidation unterstützenden chemischen Verbindung und einer zusätzlichen Behandlung mit UV- Strahlung ist es möglich, die Metallkomplexe soweit zu oxidieren, daß nur schadstoffreie chemische Verbindungen zurückbleiben. Erfindungsgemäß wird dem Abwasser Wasser stoffperoxid zugesetzt. Anschließend wird das Abwasser mit UV-Strahlung bestrahlt, die eine Wellenlänge zwischen 222 nm und 254 nm aufweist.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird nachfolgend anhand einer schematischen Zeichnung näher erläutert.

Die einzige zur Beschreibung gehörende Figur zeigt eine Vorrichtung 1, zu der ein Quecksilberniederdruckstrahler 2 und ein Abwasserbehälter 3 gehören. Der Abwasserbehälter 3 ist unterhalb der Strahlungsfläche des Quecksilbernieder druckstrahlers 2 angeordnet. In dem hier beschriebenen Beispiel ist das in dem Abwasserbehälter 3 befindliche Ab wasser 4 mit Kupfercitrat 5 angereichert. Um dieses zu be seitigen, wird dem Abwasser zunächst 30%iges Wasserstoff peroxid 6 zugesetzt. Die Menge des Wasserstoffperoxids beträgt 12 bis 150 mmol/l. Das Wasserstoffperoxid 6 wird mit dem Abwasser 4 vermischt. Anschließend wird das Ab wasser 4 mit dem Quecksilberniederdruckstrahler 2 be strahlt, der eine UV-Strahlung mit einer Wellenlängen von 254 nm erzeugt. Mit Hilfe des Wasserstoffperoxids 6 und der UV-Strahlung wird das Kupfercitrat soweit oxidiert, bis es in schadstoffreie Bestandteile umgesetzt ist. An Stelle des Quecksilberniederdruckstrahlers 2 kann auch ein Hoch leistungsstrahler 2 verwendet werden, wie er in der EP-A-0 254 111 offenbart ist. Dieser Hochleistungsstrahler 2 er zeugt, je nach dem, welche Gasfüllung er aufweist, eine UV- Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen 60 nm und 320 nm.

Es hat sich gezeigt, daß bei einer Bestrahlung des mit Metallkomplexen angereicherten Abwassers mit UV-Strahlung, die eine Wellenlänge von 222 nm aufweist, ebenfalls eine sehr schnelle Oxidation der Metallkomplexe erzielt werden konnte. Zur Erzeugung von UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 222 nm wird der Hochleistungsstrahler 2 mit einer Gasfüllung in Form von Kryptonchlorid versehen. Das erfindungsgemäße Verfahren kann nicht nur zur Beseitigung von Kupfercitrat angewendet werden. Vielmehr ist es auch zur Oxidation von Metallkomplexen geeignet, die sich aus Nitrilotriessigsäure, Ethylendiamintetraessigsäure, Citro nensäure, Ethylendiamin, Triethanolamin, Hytroxyethyl-1,1- diphosphonsäure, N,N,N,Ntetrakis(2-hydroxypropyl)ethylen diamin durch Reaktion mit Kupfer, Nickel, Zink oder Cadmium bilden.

Claims

1. Verfahren zur Beseitigung von Metallkomplexen aus Abwässern, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallkomplexe zu schadstoffreien Bestandteilen oxidiert werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dem Abwasser (4) eine die Oxidation unterstützende che mische Verbindung zugesetzt und das Abwasser (4) anschlie ßend mit UV-Strahlung bestrahlt wird.

3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, da durch gekennzeichnet, daß dem Abwasser (4) 30%-iges Was serstoffperoxid in einer Menge von 12 bis 150 mmol/l zu gesetzt wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Abwasser (4) mit UV-Strahlung der Wellenlänge 222 nm oder 254 nm bestrahlt wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die UV-Strahlung mit der Wellenlänge von 254 nm mit einem Quecksilberniederdruckstrahler (2) erzeugt wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die UV-Strahlung mit der Wellenlänge von 222 nm mit einem Hochleistungsstrahler gemäß der EP-A-0 254 111 erzeugt wird, der eine Gasfüllung in Form von Kryptonchlorid aufweist.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß Metallkomplexe aus Nitrilotri essigsäure, Ethylendiamintetraessigsäure, Citronensäure, Ethylendiamin, Triethanolamin, Hytroxyethyl-1,1-diphos phonsäure, N,N,N,Ntetrakis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin, die Metallkomponenten in Form von Kupfer, Nickel, Kadmium oder Zink aufweisen, zu unschädlichen chemischen Verbin dungen oxidiert werden.