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Verfahren zur Schnellentwicklung photographischer Halogensilberschichten
Es ist bereits vorgeschlagen worden, zur Schnellentwicklung photographischer Halogensilberschich=
ten die üblichen photographischen Entwicklerlösungen mit einem Gehalt an organischen,
nicht reversiblen Entwicklersubstanzen bei höheren Temperaturen anzuwenden. Die
Zusammensetzung dieser Entwicklerlösungen war somit eine solche, daß diese auch,
bei Zimmertemperatur verwendet werden konnte. Wurden solche Entwicklerlösungen nun
bei, höheren Temperaturen, wie z. B. bei 8o bis 10o° C, angewendet, so ergab sich
der Nachteil, daß diese Lösungen sehr schnell oxydierten und außerdem die photographischen
Halogensilberschichten sehr stark erweichten bzw. zum Abschmelzen brachten. Ferner
gaben diese Lösungen zu einer sehr starken Verschleierung der photographischen Halogensilberschichten
Anlaß, so daß man gezwungen war, diesen Lösungen sehr hohe Mengen an schleierwidrigen
Substanzen, wie z. B. Bromkalium, Jodkalium, Benzimiidazol, zuzusetzen. Solchen
Zusätzen waren aber Grenzen gesetzt, da derartige Mittel einerseits die Empfindlichkeit
der entwickelten Schichten herabsetzten und andererseits beim Erkalten der Entwickler
wieder auskristallisierten.
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Es wurde nun gefunden, daß sich für die Schnellentwicklung photographischer
Halogensilberschichten bei erhöhten Temperaturen solche Lösungen von organischen,
nicht reversiblen Entwicklersubstanzen besonders gut eignen, deren Reduktionspotential
so eingestellt ist, daß sie bei Zimmertemperatur zur Entwicklung von Halogens-ilberschichten
praktisch nicht angewendet werden können. Das Reduktionspotential kann hierbei durch
geeignete Maßnahmen, wie z. B. Erniedrigung des pH-Wertes ider Lösungen, so bemessen
werden, daß die Entwicklerlös.ungen
bei Zimmertemperatur überhaupt
nicht oder nur so langsam arbeiten, daß sie praktisch beil dieser Temperatur nicht
zur Entwicklung verwendet `werden können. Es ist z. B. möglich, für den vorgenannten
Zweck eine Entwicklerlös@ung von Metol-Hydrochinon anzuwenden, die einen pH-WeT.t
von 7 bis 8 aufweist. Eine solche Lösung kann bei . Zimmertemperatur zur Entwicklung
photographischer Schichten nicht verwertet werden, da sie bei dieser Temperatur
ihre völlige Wirksamkeit erst bei einem pH-Wert von etwa io entfaltet.
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Das vorliegende Verfahren zeichnet seich gegenüber den bisher üblichen
Verfahren zur Schnellentwicklung photographischer Halogensilbersehichten dadurch
aus, daß die bei erhöhten Temperaturen, angewenderten Entwicklerlösungen zu ihrer
Stabilisierung nur einen relativ geringen Zusatz an schleierwidrigen Mitteln benötigen.
Es können hierfür alle üblichen Antiachleiermittel verwendet werden, wie z. B. Bromkalium,
Jodkalium, Benzimi:dazol, Benzotriazol, 6-Nitrobenzimidazol, Chinazolin, i- und:
4-Phenyldithiourazol oder beliebige Gemmsche solcher Verbindungen. Die für idie
S.tabilisierung solcher Entwicklerlösungen erforderliche Menge an schleierwidrigen
Mitteln läßt sich von Fall zu Fall durch Vorproben leicht feststellen, für dem man
die auf die gewünschte Temperatur, z. B. auf etwa 6o bis ioo° C, erhitzte Entwicklerlösung
mit den vorgenannten Verbindungen versetzt und die Wirkung solcher Entwicklerlösungen
auf photographischen Halogensilberschichten feststellt.
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Ferner besitzt das vorliegende Verfahren den Vorteil, daß die angewendeten
Entwicklerlösungen infolge des relativ niedrigen pH-Wertes eine geringere Zersetzung
erleiden als. .die bisher für die Schnellentwicklung bei höheren. Temperaturen verwendeten
Entwicklerlösungen. Auch haben die neuen Entwicklerlösungen einen relativ geringen
Einfluß auf die mechanische Festigkeit der HalogensHberschichtean, so daß sich die
Anwendung von Vorbädern zur Härtung der zu entwickelnden Schichten bzw. der Zusatz
von Härtemitteln zu diesen Entwicklerlösungen im allgemeinen erübrigt. Auch zeigen
diese Entwicklerlösungen trotz ihres geringen pH-Wertes bei den angewendetenhohen
Temperaturen eine sehr hohe Entwicklungsgeschwindigkeit und ergeben höhere Schwellen-
und Gammawerte, als man sie im allgemeinen bei den bisher üblichen Verfahren erhält.
Beispiel i Zur Entwicklung von photographischen Halogensilbersch:ichten wird eine
auf 8o° C erhitzte Lösung der folgenden Zusammensetzung verwendet: 4 g p-Amnnophenol-Hydrochlorid,
4o g Natriumsulfit, wasserfrei, 15 g Soda, i g 6-Nitrobenzimidazol, iooo ccm Wasser.
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Mit dieser Lösung läßt sich eine schleiecfreie; sehr kräftige Entwicklung
von Halogensilberschichten in etwa 30 Sekunden durchführen.
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Diese Entwicklerlösung besitzt bei Zimmertemperatur eine so schlechtes
Entwicklungsvermögen, daß sie bei dieser Temperatur praktisch nicht verwertbar .ist.
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Ersetzt man in dem obigen Ansatz die Soda durch 40 g Ätznatron und
verwendet an Stelle von i g 6-Nitrobenzimidazol 0,04 g dieser Substanz, so wird
zwar ein bei Zimmertemperatur verwendbarer Entwickler erhalten; wird jedoch der
letztgenannte Ansatz bei Temperaturen von 8o° C verwendet, so schwimmen die.in ihm
eingebrachten photographischen Schlichten von der Unterlage ab. Beispiele Zur Entwicklung
von Halogensilberschichten wird eine auf 8ö° C erhitzte Lösung der folgenden Zusammensetzung
verwendet: 7 g Metoll, 20 g Natriumsulfit, wasserfrei, 2 g Borax, 14 g Borsäure,
o, i g 6-Nitrobenzimidazol, iooo ccm Wasser.
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Die Entwic klungszeit -in der vorgenannten Lösung beträgt io bis
30 Sekunden.
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Der obige Entwickleransatz ,ist :infolge seines geringen Entwicklungsvermögens
bei Raumtemperaturen für die Entwicklung photographischer Halogensiilberschichten
praktisch nicht verwendbar. Werden in dem Ansatz an Stelle von Borax und Borsäure
4 g Ätznatron verwendet, so erhält man zwar einen auch bei Raumtemperatur verwendbaren
Entwickler, der zum schleierfreien Arbeiten einen Zusatz von o,oi g 6-Ni,trobenzimidazol
benötigt. Will man aber den letztgenannten Ansatz bei Temperuturen von: 8o° C verwenden,
so .ist es erforderlich, den Zusatz von 6-Nitrobenzimidazol auf etwa i g zu erhöhen,
um eine schleierfreie Entwicklung zu erhalten. Beispiel 3 Zur Entwicklung von Halogensilberschichten
wird eine auf 8o° C erwärmte Lösung der folgenden Zusammensetzung verwendet: 2o
g Natriumsulfit, wasserfrei, 5 g Hydrochinon, 2 g Metol; 16 g Borsäure, o,15 g 6-Nitrobenzim:idazol,
iooo ccm Wasser.
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Die Entwicklungszeit beträgt etwa 15 bis, 2o Sekunden,.
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Dieser Entwickleransatz ist infolge seines geringen Entwicklungsvermögens
bei Raumtemperatur. praktisch nicht verwendbar. Wird in diesem Ansatz die Borsäure
durch 4 g Ätznatron ersetzt, so muß der Zusatz an 6-Nitrobenz!imiidgziod auf etwa
3 g erhöht werden, um mit diesem Ansatz bei 8o° C eine schekerfreie Entwicklung
der Halogensilberschicht zu erhalten.