DE69933030T2 - Verfahren zur hemmung von korrosion unter verwendung von isomeren des chlormethylbenzotriazols - Google Patents
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- GEBIET DER ERFINDUNG:
- Die vorliegende Erfindung betrifft die Kontrolle von Korrosion in wässrigen Systemen. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung die Inhibierung der Korrosion von Stahl- und Kupferlegierungen in wässrigen Systemen durch Anwendung von Chlor-methylbenzotriazolen in wässrigen Systemen.
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
- Die Verwendung von Triazolen zur Inhibierung der Korrosion von Kupfer- und Eisenlegierungen in einer grossen Vielfalt wässriger und nicht-wässriger Systeme ist wohlbekannt. In industriellen Kühlwassersystemen werden Benzotriazole und Tolyltriazole am häufigsten verwendet. Tolyltriazol wird wegen seiner niedrigen Kosten im allgemeinen bevorzugt. Triazole sind filmbildende Materialien, die eine effiziente Bedeckung von Metall- oder Metalloxidoberflächen in einem System bereitstellen, wodurch ein Schutz gegen in wässrigen Systemen vorhandene korrosive Elemente gegeben wird. Zusätzlich zu der filmbildenden Tendenz verschiedener Azole fällen sie auch lösliche zweiwertige Kupferionen aus. Die Präzipitation verhindert den Transport von Kupferionen zu Eisenoberflächen, wo galvanische Reaktionen zwischen Kupferionen und Eisenatomen zu Lochfrasskorrosion des Eisenmetalls führen.
- Während die Verwendung von Azolen für die Korrosionsinhibierung weit verbreitet ist, bestehen Nachteile für ihre Verwendung, insbesondere mit Tolyltriazol. Die wichtigsten Nachteile spürt man, wenn Azole in Verbindung mit oxidierenden Halogenen verwendet werden. Oxidierende Halogene, wie elementares Chlor, Brom, ihre hypohalogenen Säuren oder ihre alkalinen Lösungen (d.h. Lösungen von Hypochlorit- oder Hypobromitionen) sind die am meisten geläufigen Materialien, die zur Kontrolle mikrobiologischen Wachstums in Kühlwassersystemen verwendet werden. Wenn Kupfer- oder Eisenlegierungen, die zuvor mit Azolen geschützt worden sind, einem oxidierenden Halogen ausgesetzt werden, bricht der Korrosionsschutz zusammen. Nach dem Zusammenbruch ist es schwierig, neue Schutzfilme in Tolyltriazol-behandelten Kühlsystemen, die chloriert, insbesondere fortlaufend chloriert werden sollen, auszubilden. Sehr hohe Dosierungen von Tolyltriazol werden häufig bei dem Versuch angewendet, die Leistungsfähigkeit zu verbessern, häufig mit begrenztem Erfolg.
- Der Abbau des Schutzes von Azolfilmen in Gegenwart von oxidierenden Halogenen ist in der Literatur gut beschrieben. Beispielsweise schlossen R. Holm et al., dass Hypochlorit einen intakten Triazolfilm durchdringt, was zu höheren Korrosionsraten führt, und dass zweitens Hypochlorit die vorbeschichteten Triazoloberflächen angreift, den Film zerbricht oder abbaut (53rd Annual Meeting of the International Water Conference, Paper No. IWC-92-40, 1992). Lu et al. untersuchten auch die Wechselwirkungen von Triazolfilmen mit Hypochlorit auf Kupfer- und Kupferlegierungsoberflächen ("Effects of Halogenation on Yellow Metal Corrosion: Inhibition by Triazoles", Corrosion, 50, 422 (1994)). Lu et al. schlossen daraus, dass:
- (a) vorbeschichtetes Tolyltriazol auf Kupfer- und Messingoberflächen während der Chlorierung einer Zersetzung unterliegt;
- (b) die Stabilität von vorbeschichtetem Tolyltriazol auf Kupfer oder Messing gegenüber NaOCl verbessert wurde, wenn Tolyltriazol der Hypochloritlösung zugesetzt wurde;
- (c) reine (d.h. nicht-vorbeschichtete) Kupferoberflächen keine guten Schutzfilme entwickelten, wenn sie in Lösungen, enthaltend Mischungen von Tolyltriazol und NaOCl, gegeben wurden.
- Somit bildete die Kombination von Tolyltriazol mit NaOCl keine Zusammensetzung, die zu einer effizienten Filmbildung und Korrosionsinhibierung in der Lage war.
- Die Natur der Reaktionsprodukte, wenn Azole in Kühlwassersystemen oxidierenden Halogenen ausgesetzt werden, ist nicht klar. Die Literatur lehrt, dass eine Verbindung gebildet wird, wenn Chlor und Tolyltriazol in Kühlwasser zusammengebracht werden, und dass sie auf analytische Tests für Chlor reagieren. Beispielsweise stellen Vanderpool et al. fest, dass Chlor reversibel mit Tolyltriazol reagiert, um N-Chlor-tolyltriazol zu bilden. Insbesondere stellen sie fest, dass "diese Verbindung vermutlich nicht selbst ein Inhibitor ist". Eher lehren sie, dass sie kaum in das ursprüngliche Tolyltriazol und die hypochlorige Säure hydrolysiert wird, so dass freies Tolyltriazol für die Korrosionsinhibierung verfügbar wird ("Improving the Corrosion Inhibitor Efficiency of Tolyltriazole in the Presence of Chlorine and Bromine", NACE Corrosion/87, Paper No. 157 (1987)). Hollander und May haben beschrieben, dass sie in der Lage waren, 1-Chlor-tolyltriazol aus gelagerten, höher konzentrierten Lösungen zu isolieren, aber sie lehren auch, dass "bei niedrigeren Konzentrationen (weniger als 10 mg/l) eine schnelle Hydrolyse es unmöglich macht, Chloradditionsprodukte zu isolieren". Auf Grundlage von Protonen-NMR-Analyse war das von Hollander und May isolierte Material Chlor-tolyltriazol.
- Eine andere Beobachtung ist, dass es einen sehr charakteristischen Geruch gibt, sobald Tolyltriazol und Chlor im Kühlwasser zusammengebracht werden.
- Im Gegensatz dazu reagiert Chlor-tolyltriazol trotz ausgiebigen Kochens nicht auf analytische Tests für Chlor. Und Lösungen von Chlor-tolyltriazol erzeugen überraschenderweise keinen charakteristischen Geruch. Somit unterscheidet sich Chlor-tolyltriazol klar von dem Tolyltriazol-Chlor-Reaktionsprodukt, das sich in situ in Kühlwassersystemen bildet.
- Es gibt auch Hinweise in der Literatur auf 5-Chlorbenzotriazol (d.h. CAS Nr. (94-97-3)). In "The Water Drop", Bd. I, Nr. 2, 1985, stellen Puckorius & Associates fest, dass chloriertes Tolyltriazol wirkungsvoll als Korrosionsinhibitor ist und zitieren R.P. Carr als Referenz. Ein Literaturüberblick der von Carr veröffentlichten Arbeiten verdeutlicht, dass er tatsächlich lehrt, dass Reaktionen zwischen Tolyltriazol und Chlor unter Kühlwasserbedingungen nicht auftreten ("The Performance of Tolyltriazole in the Presence of Sodium Hypochlorite Under Simulated Field Conditions", NACE Corrosion/83 Paper No. 283, 1983). In Corrosions/83 Paper diskutiert Carr die Inhibierungswirkung eines Chlorazols, aber es ist eine Referenz auf frühere Literatur, und speziell auf die Wirkung von 5-Chlorbenzotriazol und verwandte Aryl-substituierte Azole in Schwefelsäurelösungen ("Effects of Substituted Benzotriazole on the Electrochemical Behaviour of Copper in H2SO4", Wu et al., Corrosion, Bd. 37, Nr. 4., 223 (1981)). Seit der Puckorius-Referenz von 1985 hat es eine weit verbreitete Verwendung von Tolyltriazol in chlorierten Kühlsystemen mit fest etablierten Schwierigkeiten bei der Durchführung gegeben, was ein fortwährendes ungelöstes Problem im Stand der Technik darstellt.
- Andere Probleme sind wohl bekannt, wenn Tolyltriazol und oxidierende Halogene in Kühlwasser zusammengeführt werden. Diese umfassen einen Verlust im Ausmass der Präzipitation von Übergangsmetallionen, wie Kupfer, was zu einem verstärkten Transport und galvanischer Korrosion führt, eine Änderung im Ansprechen des spektrofotometrischen Standardtests für Tolyltriazol, was zu einem unbeabsichtigten Überdosieren führt, und den oben genannten störenden Geruch. Dieser Geruch kann selbst dann wahrgenommen werden, wenn das Kühlwasser ursprünglich 1 ppm Tolyltriazol oder weniger enthält. Da Kühlwasser häufig über Kühltürme läuft, setzen Verdampfen und Verwehen den störenden Geruch in die örtliche Umgebung frei.
- Man glaubt, dass das riechende Material N-Chlor-tolyltriazol ist, dass es reversibel mit Tolyltriazol in verdünnten Lösungen OCl– bildet, und dass es im Endprodukt fehlt, wenn die Reaktion in konzentrierten Lösungen abläuft, d.h. Tolyltriazol + OCl– → N-Chlor-tolyltriazol(Zwischenprodukt) → Chlor-tolyltriazol. Es gibt keinen Hinweis für die Umkehrung von Chlor-tolyltriazol zu entweder dem riechenden Zwischenprodukt oder zu Tolyltriazol. Ebenso wenig gibt es einen Hinweis auf Reaktionen zwischen Hypochlorit und Chlor-tolyltriazol in verdünnten wässrigen Lösungen.
- ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
- Die Erfinder haben herausgefunden, dass spezifische Isomere von Chlor-methylbenzotriazol wirkungsvoller als andere Isomere von Chlor-tolyltriazol in der Inhibierung von Korrosion von wässrigen Systemen sind. Die speziellen Chlor-methylbenzotriazol-Isomere sind bedeutend wirkungsvollere Korrosionsinhibitoren als andere Isomere von Chlor-tolyltriazol in Gegenwart von Chlor. Ausserdem tritt kein störender Geruch auf, wenn die spezifischen Chlor-methylbenzotriazol-Isomere Chlor ausgesetzt werden.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN.
-
1 ist ein Graph der Korrosionsgeschwindigkeit (mpy) über die Zeit; -
2 ist ein Reaktionsablauf für die Herstellung von 6-Chlor-5-methylbenzotriazol; -
3 ist ein Reaktionsablauf für die Herstellung von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol; -
4 ist ein Reaktionsablauf für die Herstellung von 5-Chlor-4-methylbenzotriazol. - BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN.
- Die Erfinder haben herausgefunden, dass spezifische Isomere von Chlor-methylbenzotriazol bedeutend wirkungsvoller als andere Isomere von Chlor-tolyltriazol bei der Inhibierung von Korrosion in wässrigen Systemen sind. Die spezifischen Chlor-methylbenzotriazol-Isomere sind wesentlich wirkungsvollere Korrosionsinhibitoren als andere Isomere von Chlor-tolyltriazol in Gegenwart von Chlor. Die Wirksamkeit der spezifischen Chlor-methylbenzotriazol-Isomere ist überraschend. Ausserdem werden die spezifischen Chlor-methylbenzotriazol-Isomere der vorliegenden Erfindung nicht der Bildung von störenden Gerüchen unterworfen, wenn sie Chlor ausgesetzt werden, wie es bei Tolyltriazol der Fall ist.
- Es wurde gefunden, dass die ex situ-Herstellung von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol, 5-Chlor-4-methylbenzotriazol und 6-Chlor-5-methylbenzotriazol einen Korrosionsinhibitor bereitstellt, der eine überraschende und unerwartete Aktivität im Vergleich zu einer Behandlung zeigte, umfassend andere Isomere von Chlor-tolyltriazol. Die Ergebnisse dieser Untersuchungen der vorliegenden Erfindung zeigen klar, dass 4-Chlor-5-methylbenzotriazol, 5-Chlor-4-methylbenzotriazol und 6-Chlor-5-methylbenzotriazol wirkungsvollere Korrosionsinhibitoren sind als andere Isomere von Chlor-tolyltriazol.
- 6-Chlor-5-methylbenzotriazol kann durch eine geeignete Massnahme hergestellt werden. In den folgenden Beispielen wurde das 6-Chlor-5-methylbenzotriazol über den Reaktionsablauf hergestellt, der in
2 dargestellt ist. - Der in
2 dargestellte Reaktionsablauf ist folgendermassen: 3-Chlor-4-methylacetanilid wurde aus 3-Chlor-4-methylanilin durch Acetylierung des Anilins mit Essigsäureanhydrid in einer wässrigen Methanollösung hergestellt. Eine Mischung von Chlor-methylnitroacetanilid-Isomeren wurde danach durch Nitrierung des Acetanilids mit Schwefelsäure und Salpetersäure gebildet. Das gewünschte Isomer (3-Chlor-4-methyl-6-nitroacetanilid) wurde mittels Rekristallisation aus Ethanol gereinigt. 3-Chlor-4-methyl-6-nitroanilin wurde durch Entschützen des Acetanilids mit Kaliumhydroxid in einer Ethanollösung hergestellt. Reduktion der Nitrogruppen von 3-Chlor-4-methyl-6-nitroanilin wurde mit Zinkstaub in Ethanol bewerkstelligt. Das 6-Chlor-5-methylbenzotriazol wurde durch Reaktion von 4-Chlor-5-methyl-1,2-benzol-diamin mit Natriumnitrit in Essigsäure gebildet. - 4-Chlor-5-methylbenzotriazol kann durch jede geeignete Massnahme hergestellt werden. In den folgenden Beispielen wurde das 4-Chlor-5-methylbenzotriazol durch den Reaktionsablauf hergestellt, der in
3 dargestellt ist. - Der Reaktionsablauf, der in
3 dargestellt ist, ist folgendermassen: 3-Chlor-4-methylacetanilid wurde aus 3-Chlor-4-methylanilin durch Acetylierung des Anilins mit Essigsäureanhydrid in einer wässrigen Methanollösung hergestellt. Eine Mischung von Chlor-methylnitroacetanilid-Isomeren wurde danach durch Nitrierung des Acetanilids mit Schwefelsäure und Salpetersäure gebildet. Das gewünschte Isomer (3-Chlor-4-methyl-2-nitroanilid) wurde durch Rekristallisation aus Ethanol gereinigt. 3-Chlor-4-methyl-2-nitroanilin wurde durch Entschützen des Acetanilids mit Kaliumhydroxid in einer Ethanollösung hergestellt. Die Reduktion der Nitrogruppen des 3-Chlor-4-methyl-2-nitroanilins wurde erreicht mit Zinkstaub in Ethanol. Das 4-Chlor-5-methylbenzotriazol wurde durch Reaktion von 3-Chlor-4-methyl-1,2-benzol-diamin mit Natriumnitrit in Essigsäure gebildet. - 5-Chlor-4-methylbenzotriazol kann durch jede geeignete Massnahme hergestellt werden. In den folgenden Beispielen wurde das 5-Chlor-4-methylbenzotriazol durch den Reaktionsablauf hergestellt, der in
4 dargestellt ist. - Der in
4 dargestellte Reaktionsablauf ist folgendermassen: 3-Chlor-2-methylacetanilid wurde aus 3-Chlor-2-methylanilin durch Acetylierung des Anilins mit Essigsäureanhydrid in einer wässrigen Methanollösung hergestellt. Eine Mischung von Chlor-methylnitroacetanilid-Isomeren wurde danach durch Nitrierung des Acetanilids mit Schwefelsäure und Salpetersäure gebildet. Das 3-Chlor-2-methyl-4-nitro-Isomer wurde durch Präzipitation nach Zugabe von Kaliumhydroxid zu der Isomerenmischung in Ethanol abgetrennt. Das 3-Chlor-2-methyl-6-nitroacetanilid wurde in einer wässrigen Natriumhydroxidlösung zum Rückfluss erwärmt. Der sich bildende Feststoff war 3-Chlor-2-methyl-6-nitroanilin. Reaktion mit einer Lösung von Zinn(II)chlorid in Salzsäure ergab ein Präzipitat von 4-Chlor-3-methyl-1,2-benzoldiamin. Reaktion mit Natriumnitrit in Essigsäure ergab einen Feststoff aus 5-Chlor-4-methylbenzotriazol. - Bei der Behandlung eines wässrigen Systems gemäss der vorliegenden Erfindung wird 6-Chlor-5-methylbenzotriazol, 4-chlor-5-methylbenzotriazol oder 5-Chlor-4-methylbenzotriazol vorzugsweise kontinuierlich zu dem Wasser zugegeben. Eine bevorzugte Behandlungskonzentration reicht von etwa 0,2 bis 10 ppm. Eine kontinuierliche Zugabe ist jedoch kein Erfordernis. Die Chlor-methylbenzotriazol-Isomere können in einer Konzentration zugegeben werden, die ausreicht, um einen Schutzfilm zu bilden, und danach kann die Zugabe diskontinuierlich über ausgedehnte Zeiträume erfolgen.
- Die spezifischen Behandlungen mit Chlor-methylbenzotriazol-Isomeren der vorliegenden Erfindung können in Verbindung mit anderen aus dem Stand der Technik bekannten Behandlungen zur Korrosions- und/oder Ablagerungsinhibierung verwendet werden, sind aber nicht auf Phosphate, Phosphonate, Acryl-Homo- und Copolymere, Chelate und Oxime beschränkt.
- Die vorliegende Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf eine Anzahl spezifischer Beispiele weiter beschrieben, die ausschliesslich zur Illustration und nicht zur Beschränkung des Umfangs der vorliegenden Erfindung dienen.
- BEISPIEL 1
- Die Korrosionsinhibierungsaktivität der erfindungsgemässen Behandlung wurde unter Verwendung eines Beaker Corrosion Test Apparatus (BCTA) bewertet. Das BCTA besteht aus einem Becherglas, das mit einem Luft/CO2-Einblasrohr, einer elektrochemischen Kupfersonde und einem magnetischen Rührer ausgestattet ist. Die Testlösung betrug 1,9 l. Das Einblasen von Luft/CO2 wird während des Tests kontinuierlich durchgeführt. Die Bezugselektrode und die Gegenelektrode bestanden aus Hastelloy C22. Das Becherglas wurde für die Temperaturkontrolle in ein Wasserbad gestellt. Die Daten der elektrochemischen Korrosion erhielt man periodisch an dem Messfühler während des Tests unter Verwendung einer Polarisationswiderstandstechnik. Alle Tests wurden bei 120°F unter Verwendung einer Rührgeschwindigkeit von 400 U/min durchgeführt.
- Für alle Tests wurde Wasser mit 500 ppm Ca (als CaCO3), 250 ppm Mg (als CaCO3), 354 ppm Chlorid und 240 ppm Sulfat verwendet. Der pH-Wert des Systems betrug 7,2 mit den entsprechenden "M"-Alkalinitäten von 15 ppm als CaCO3. Ebenso wurden die folgenden Behandlungen für das wässrige System verwendet: 15 ppm ortho-PO4 (PO4; 3 ppm P2O7 (als PO4); und 10 ppm HPS-I (ein Copolymer von Acrylsäure und Allylhydroxypropylsulfonatether-Natriumsalz).
- Das Testverfahren wurde ausgelegt, um Chlor-tolyltriazole für die Inhibierung von Kupferkorrosion unter Halogenierung zu bewerten. Kupfersonden wurden in das Testwasser, enthaltend verschiedene Azolisomere, für etwa 15 Stunden eingetaucht. Wenn sich die Korrosionsgeschwindigkeit stabilisierte, wurden Bleichlösungen (NaOCl, die Chlorquelle) in das Testwasser eingespritzt. Die Tests wurden für weitere 25 Stunden fortgesetzt. Die Korrosionsgeschwindigkeiten von Kupfer wurden periodisch durch den 40 Stunden-Test gemessen. Die Änderungen der Korrosionsgeschwindigkeiten nach der Zugabe von Bleichlösungen wurden als Indikator für die Wirksamkeit der verschiedenen Azole unter Chlorierung verwendet.
- Tabelle 1 und
1 fassen die Ergebnisse für verschiedene Behandlungen mit Tolyltriazol und Chlor-tolyltriazol-Isomeren bei 3 ppm zusammen. - Wie aus den Ergebnissen ersichtlich ist, ergaben alle Azole einen ausgezeichneten Kupferkorrosionsschutz ohne die Gegenwart von Chlor. Wie in Tabelle 1 gezeigt, sind die mittleren Korrosionsgeschwindigkeiten während der ersten 15 Stunden unter 0,02 mpy. Nach dem Einspritzen von 2,5 ppm NaOCl beobachtete man dramatische Zunahmen der Kupferkorrosionsgeschwindigkeiten in dem mit Tolyltriazol behandelten Wasser. Leichte Zunahmen der Korrosionsgeschwindigkeit für 4-Chlor-5-methylbenzotriazol und 5-Chlor-4-methylbenzotriazol sind aus
1 ersichtlich, während die Kupferkorrosionsgeschwindigkeit für Wasser, das mit 6-Chlor-5-methylbenzotriazol behandelt worden war, im wesentlichen unverändert bleibt.
Claims (27)
- Verfahren zur Korrosionshemmung von Metalloberflächen, die mit einem wässrigen System in Kontakt stehen, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 6-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird, in einer effektiven Menge zum Zwecke der Korrosionshemmung umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 1, worin das 6-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer Konzentration von größer als 0,2 ppm hinzugefügt wird.
- Verfahren gemäß Anspruch 1, worin das 6-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer Konzentration zwischen etwa 0,2 und etwa 10 ppm hinzugefügt wird.
- Verfahren zur Bildung einer Korrosionshemmungsschicht auf einer Metalloberfläche, die in Kontakt mit einem wässrigen System steht, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 6-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird, in einer effektiven Menge zum Zwecke der Bildung einer Korrosionshemmungsschicht umfasst.
- Verfahren zur Reduzierung des Chlorbedarfs in einem wässrigen System, das mit Chlor behandelt wird, um mikrobiologisches Wachstum zu hemmen, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 6-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer effektiven Menge zum Zwecke der Reduzierung des Chlorbedarfs umfasst.
- Verfahren zur Hemmung des Kupferionentransports in einem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird und in Kontakt mit Metalloberflächen steht, die Kupfer einschließen, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 6-Chlor-5-methylbenzotriazol in einer effektiven Menge zum Zwecke der Hemmung des Kupferionentransports umfasst.
- Verfahren zur Korrosionshemmung von Metalloberflächen, die in Kontakt mit einem wässrigen System stehen, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 6-Chlor-5-methylbenzotriazol in Kombination mit mindestens einem anderen Material zur Behandlung des wässrigen Systems in einer effektiven Menge zum Zwecke der Korrosionshemmung umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 7, worin das andere Material zur Behandlung des wässrigen Systems Korrosionshemmungsbehandlungen, Ablagerungshemmungsbehandlungen und Mischungen davon umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 7, worin die Korrosionshemmungsbehandlungen, Ablagerungshemmungsbehandlungen und Mischungen davon Phosphate, Phosphonate, Acryl-Homopolymere, Acryl-Copolymere, Chelatbildner, Oxime, Biozide und Mischungen davon umfassen.
- Verfahren zur Korrosionshemmung von Metalloberflächen, die mit einem wässrigen System in Kontakt stehen, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird, in einer effektiven Menge zum zwecke der Korrosionshemmung umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 10, worin das 4-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer Konzentration von größer als 0,2 ppm hinzugefügt wird.
- Verfahren gemäß Anspruch 10, worin das 4-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer Konzentration zwischen etwa 0,2 und etwa 10 ppm hinzugefügt wird.
- Verfahren zur Bildung einer Korrosionshemmungsschicht auf einer Metalloberfläche, die in Kontakt mit einem wässrigen System steht, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird, in einer effektiven Menge zum Zwecke der Bildung einer Korrosionshemmungsschicht umfasst.
- Verfahren zur Reduzierung des Chlorbedarfs in einem wässrigen System, das mit Chlor behandelt wird, um mikrobiologisches Wachstum zu hemmen, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer effektiven Menge zum Zwecke der Reduzierung des Chlorbedarfs umfasst.
- Verfahren zur Hemmung des Kupferionentransports in einem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird und in Kontakt mit Metalloberflächen steht, die Kupfer einschließen, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol in einer effektiven Menge zum Zwecke der Hemmung des Kupferionentransports umfasst.
- Verfahren zur Korrosionshemmung von Metalloberflächen, die in Kontakt mit einem wässrigen System stehen, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 4-Chlor-5-methylbenzotriazol in Kombination mit mindestens einem anderen Material zur Behandlung des wässrigen Systems in einer effektiven Menge zum Zwecke der Korrosionshemmung umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 16, worin das andere Material zur Behandlung des wässrigen Systems Korrosionshemmungsbehandlungen, Ablagerungshemmungsbehandlungen und Mischungen davon umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 16, worin die Korrosionshemmungsbehandlungen, Ablagerungshemmungsbehandlungen und Mischungen davon Phosphate, Phosphonate, Acryl-Homopolymere, Acryl-Copolymere, Chelatbildner, Oxime, Biozide und Mischungen davon umfassen.
- Verfahren zur Korrosionshemmung von Metalloberflächen, die mit einem wässrigen System in Kontakt stehen, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 5-Chlor-4- methylbenzotriazol zu dem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird, in einer effektiven Menge zum Zwecke der Korrosionshemmung umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 19, worin das 5-Chlor-4-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer Konzentration von größer als 0,2 ppm hinzugefügt wird.
- Verfahren gemäß Anspruch 19, worin das 5-Chlor-4-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer Konzentration zwischen etwa 0,2 und etwa 10 ppm hinzugefügt wird.
- Verfahren zur Bildung einer Korrosionshemmungsschicht auf einer Metalloberfläche, die in Kontakt mit einem wässrigen System steht, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 5-Chlor-4-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird, in einer effektiven Menge zum Zwecke der Bildung einer Korrosionshemmungsschicht umfasst.
- Verfahren zur Reduzierung des Chlorbedarfs in einem wässrigen System, das mit Chlor behandelt wird, um mikrobiologisches Wachstum zu hemmen, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 5-Chlor-4-methylbenzotriazol zu dem wässrigen System in einer effektiven Menge zum Zwecke der Reduzierung des Chlorbedarfs umfasst.
- Verfahren zur Hemmung des Kupferionentransports in einem wässrigen System, das mit einem Halogen behandelt wird und in Kontakt mit Metalloberflächen steht, die Kupfer einschließen, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 5-Chlor-4-methylbenzotriazol in einer effektiven Menge zum Zwecke der Hemmung des Kupferionentransports umfasst.
- Verfahren zur Korrosionshemmung von Metalloberflächen, die in Kontakt mit einem wässrigen System stehen, das mit einem Halogen behandelt wird, wobei das Verfahren das Hinzufügen von 5-Chlor-4-methylbenzotriazol in Kombination mit mindestens einem anderen Material zur Behandlung des wässrigen Systems in einer effektiven Menge zum Zwecke der Korrosionshemmung umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 25, worin das andere Material zur Behandlung des wässrigen Systems Korrosionshemmungsbehandlungen, Ablagerungshemmungsbehandlungen und Mischungen davon umfasst.
- Verfahren gemäß Anspruch 25, worin die Korrosionshemmungsbehandlungen, Ablagerungshemmungsbehandlungen und Mischungen davon Phosphate, Phosphonate, Acryl-Homopolymere, Acryl-Copolymere, Chelatbildner, Oxime, Biozide und Mischungen davon umfassen.
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Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1047326C (zh) * | 1995-06-14 | 1999-12-15 | 中国石油化工总公司石油化工科学研究院 | 一种铂铼重整催化剂 |
CA2394440A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-02 | Rohm And Haas Company | Process for treating aqueous systems |
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US8603392B2 (en) | 2010-12-21 | 2013-12-10 | Ecolab Usa Inc. | Electrolyzed water system |
US8114343B1 (en) | 2010-12-21 | 2012-02-14 | Ecolab USA, Inc. | Corrosion inhibition of hypochlorite solutions using Zn and Ca |
WO2017214525A1 (en) * | 2016-06-09 | 2017-12-14 | Chemtreat, Inc | Corrosion inhibition for aqueous systems using a halogenated triazole |
WO2019135989A1 (en) | 2018-01-03 | 2019-07-11 | Ecolab Usa Inc. | Process and method for reducing metal corrosion in water |
JP7209004B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2023-01-19 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | ルテニウムバリアの化学機械研磨スラリー |
CN110205633A (zh) * | 2019-07-08 | 2019-09-06 | 威海翔泽新材料科技有限公司 | 一种耐卤素铜缓蚀剂及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1065995A (en) * | 1963-12-06 | 1967-04-19 | Geigy Uk Ltd | Benzotriazoles and their production |
US3985503A (en) * | 1975-03-17 | 1976-10-12 | The Sherwin-Williams Company | Process for inhibiting metal corrosion |
US4107060A (en) * | 1975-06-17 | 1978-08-15 | Mobil Oil Corporation | Lubricant compositions containing biocidal, antirust additives |
JPS5318432A (en) * | 1976-08-03 | 1978-02-20 | Nippon Musical Instruments Mfg | Degreasing and cleaning solution |
US4642221A (en) * | 1983-07-05 | 1987-02-10 | Atlantic Richfield Company | Method and composition for inhibiting corrosion in aqueous heat transfer systems |
US4744950A (en) * | 1984-06-26 | 1988-05-17 | Betz Laboratories, Inc. | Method of inhibiting the corrosion of copper in aqueous mediums |
US5411677A (en) * | 1993-04-26 | 1995-05-02 | The Penn State Research Foundation | Method and composition for preventing copper corrosion |
MY129257A (en) * | 1995-03-21 | 2007-03-30 | Betz Laboratories | Methods of inhibiting corrosion using halo-benzotriazoles |
US5773627A (en) * | 1995-03-21 | 1998-06-30 | Betzdearborn Inc. | Methods of inhibiting corrosion using halo-benzotriazoles |
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