DE69915112T2 - Oberflächenaktive Bis-Poly(ethylenoxid)-Mittel und ihre Verwendung als Antistatika in photographischen Materialien - Google Patents

Oberflächenaktive Bis-Poly(ethylenoxid)-Mittel und ihre Verwendung als Antistatika in photographischen Materialien Download PDF

Info

Publication number
DE69915112T2
DE69915112T2 DE69915112T DE69915112T DE69915112T2 DE 69915112 T2 DE69915112 T2 DE 69915112T2 DE 69915112 T DE69915112 T DE 69915112T DE 69915112 T DE69915112 T DE 69915112T DE 69915112 T2 DE69915112 T2 DE 69915112T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photographic element
group
element according
carbon atoms
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn - After Issue
Application number
DE69915112T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69915112D1 (de
Inventor
Alan Robert St. Albans PITT
Trevor John South Harrow WEAR
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Application granted granted Critical
Publication of DE69915112D1 publication Critical patent/DE69915112D1/de
Publication of DE69915112T2 publication Critical patent/DE69915112T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Withdrawn - After Issue legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/89Macromolecular substances therefor
    • G03C1/895Polyalkylene oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/51Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/52Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/34Esters of acyclic saturated polycarboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/62Halogen-containing esters
    • C07C69/63Halogen-containing esters of saturated acids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft oligomere Bis-Poly(ethylenoxid)-Mittel, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Antistatika für photographische Beschichtungen.
  • Aus dem Stande der Technik ist bekannt, oberflächenaktive Mittel in photographische Beschichtungen einzuführen, um diesen antistatische Eigenschaften zu verleihen. Die Verwendung von nicht-ionischen oberflächenaktiven Fluoroverbindungen auf Basis von Poly(ethylenoxid) wird in den US-A-4 582 781 und 4 610 955 beschrieben. Eine typische nicht-ionische oberflächenaktive Fluoroverbindung dieses Typs ist im Handel erhältlich unter der Handelsbezeichnung Zonyl FSN und entspricht der folgenden linearen chemischen Struktur CxF2x+1(CH2)y-(CH2CH2O)z-OH worin x variiert von ungefähr 4 bis 14, jedoch im Mittel bei etwa 8 liegt; worin y steht für 2; und worin z eine Verteilung von Zahlen mit einem Mittel von etwa 10 ist.
  • Es wäre auf dem Gebiete des Standes der Technik ein Vorteil, wenn oberflächenaktive Mittel bereitgestellt werden könnten, die sich leichter in Wasser lösen als die nicht-ionischen oberflächenaktiven Fluoroverbindungen, die durch Zonyl FSN typisiert werden und die dennoch eine größere Oberflächenaktivität oder Hydrophobizität aufweisen würden.
  • Die EP-A-0 619 293 betrifft einen Fluor enthaltenden Diester der Alkyl- oder Alkenylsuccinsäure mit einer ausgezeichneten Gleitmittelwirkung in jeder Feuchtigkeits-Umgebung, der für die Verwendung in einem magnetischen Aufzeichnungsmedium geeignet ist. Die DE-OS 42 38 032 A1 beschreibt Succinsäurederivate mit einer lipidartigen Struktur, die geeignet sind für die Regulierung des Feuchtigkeitsgehaltes der Haut in kosmetischen und dermatologischen Präparaten.
  • Die vorliegende Erfindung stellt gemäß einem Aspekt die Verbindungen der allgemeinen Formel bereit
    Figure 00020001
    worin
    R eine Alkylgruppe mit 10–20 Kohlenstoffatomen ist, eine Alkenylgruppe mit 10–20 Kohlenstoffatomen oder eine Fluoroalkyl- oder Fluoroalkenylgruppe mit f Kohlenstoffatomen, die jeweils mindestens ein Fluoratom tragen und g Kohlenstoffatomen, die lediglich Wasserstoffatome tragen, wobei 1,5 f + g = 10–20 ist und g gegebenenfalls gleich Null sein kann,
    R' eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen ist,
    L eine verbindende Gruppe ist, ein verbindendes Atom oder eine chemische Bindung, und worin
    p für mindestens 2 steht, q gleich mindestens 2 ist und p + q = 4 bis 100 darstellen.
  • Gemäß einem anderen Aspekt stellt die vorliegende Erfindung ferner ein Verfahren zur Herstellung eines gegebenenfalls substituierten Alkylpoly(ethylenoxides) bereit, wobei das Verfahren umfasst die Stufe (1) der Umsetzung von Maleinsäureanhydrid mit einem Poly(ethylenglykol)alkylether der allgemeinen Formel R'O(CH2CH2O)pH (2)und/oder mit einem Poly(ethylenglykol)alkylether der allgemeinen Formel R'O(CH2CH2O)qH (3)worin
    R', p und q die bereits oben angegebene Bedeutung haben, und (2) Umsetzung des Produktes von Stufe (1) mit einer Verbindung der allgemeinen Formel RL'H (4)worin
    R die oben angegebene Bedeutung hat, und
    L' eine verbindende Gruppe oder ein verbindendes Atom ist.
  • Nach einem weiteren Aspekt stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines gegebenenfalls substituierten Alkylpoly(ethylenoxides) bereit, bei dem eine Verbindung der allgemeinen Formel
    Figure 00030001
    worin
    R und L die oben angegebene Bedeutung haben, umgesetzt wird mit einer Verbindung der allgemeinen Formel R'O(CH2CH2O)pH (2)und/oder mit einer Verbindung der allgemeinen Formel R'O(CH2CH2O)qH (3) worin R', p und q die oben angegebene Bedeutung haben.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt stellt die vorliegende Erfindung ein photographisches Element bereit mit einem Substrat und einer Beschichtung auf dem Substrat, in dem die Beschichtung eine Verbindung der Formel (1) wie oben angegeben enthält oder eine Verbindung, die hergestellt wurde nach einem Verfahren dieser Erfindung. Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Gelatineschicht bereit, die eine Verbindung der Formel (1) oder eine Verbindung enthält, die nach dem Verfahren dieser Erfindung hergestellt wurde.
  • Die Verbindungen der vorliegenden Erfindung, die als Alkylpoly(ethylenoxide) klassifiziert werden können, werden dargestellt durch die allgemeine Struktur (1) wie oben angegeben. In dieser Struktur steht R vorzugsweise für eine Alkylgruppe der Formel CkH2k+1, eine Alkenylgruppe der Formel CjH2j–1 oder eine Fluoroalkylgruppe der Formel CnF2n+1-(CH2)m, oder eine entsprechende Fluoroalkenylgruppe, worin k, j oder (n + m) äquivalent sind 10 bis 20 Kohlenstoffatomen (z. B. CH3 und CH2), unter der Voraussetzung, dass 1 fluoriertes Kohlenstoffatom (z. B. CF3 oder CF2) gleich ist 1,5 Kohlenwasserstoff-Kohlenstoffatomen. Im Falle bestimmter bevorzugter Ausführungsformen wird R ausgewählt aus Alkylgruppen mit 10 bis 20 Kohlenstoffatomen, Alkenylgruppen mit 10 bis 20 Kohlenstoffatomen und Fluoroalkylgruppen der allgemeinen Formel CnF2n+1-(CH2)m, worin die Summe von (1,5 n) + m gleich 10 bis 20 ist. Die Definition von n und m basiert auf der Voraussetzung, dass ein fluoriertes Kohlenstoffatom (z. B. CF3 oder CF2) gleichzusetzen ist mit 1,5 Kohlenwasserstoff-Kohlenstoffatom (z. B. CH3 oder CH2) in hydrophoben Bedingungen (von Vergleichen von kritischen Micellen-Konzentrationen zwischen oberflächenaktiven Alkyl- und Fluoroalkylmitteln, die die gleiche hydrophile Gruppe aufweisen; vergleiche E. Kissa, Fluorinated Surfactants, Surfactant Science Series, Band 50, Verlag Marcel Dekker (1994), 227–228). Vorzugsweise ist eine Fluoroalkyl- oder Fluoroalkenylgruppe R an den Succinsäurerest gebunden durch ein fluoriertes Kohlenstoffatom (wie z. B. wenn m = Null ist) lediglich wenn L eine einzelne chemische Bindung ist.
  • Obgleich im Prinzip die hydrophobe Gruppe R verzweigt sein kann, ist es zum gegenwärtigen Zeitpunkt vorteilhaft, wenn R eine geradkettige Gruppe ist, da Systeme mit geradkettigen hydrophoben Schwänzen billiger herzustellen sind. Die hydrophobe Gruppe R ist an den Succinatrest durch L gebunden, wobei es sich um eine verbindende Gruppe handeln kann, wie -NH- oder ein verbindendes Atom, wie -S- oder eine einfache chemische Bindung, insbesondere eine einzelne chemische Bindung oder Sigma (σ) chemische Bindung.
  • Vorzugsweise steht R' für eine Methyl-, Ethyl-, n-Propyl- oder Isopropylgruppe. Weiter bevorzugt steht R' für eine Methylgruppe. Die Gruppen R' in den Formeln (2) und (3) können gleich oder verschieden sein.
  • In der allgemeinen Struktur (1) können p und q, die gleich oder verschieden sein können, variieren, doch sind vorzugsweise p + q = 8 bis 50, weiter bevorzugt 8 bis 32. In bestimmten bevorzugten Ausführungsformen sind p und q derart ausgewählt, dass die hydrophobe Gruppe in solch einer Weise ausbalanciert wird, dass ein lösliches oberflächenaktives Mittel erzeugt wird mit einer niedrigen kritischen Micellen-Konzentration, in typischer Weise in der Größenordnung von 10–3 M (molar) oder weniger, vorzugsweise 10–4 M (molar) oder weniger. In bestimmten bevorzugten Ausführungsformen stehen p und q für die gleiche Zahl.
  • Es ist jedoch darauf hinzuweisen, dass sich die allgemeine Formel (1) nicht nur auf einzelne Verbindungen der angegebenen Struktur erstreckt, sondern auch auf Mischungen von zwei oder mehr Verbindungen mit der angegebenen Struktur. In solchen Mischungen können sich p und q auf Mittelwerte beziehen.
  • Wie oben angegeben, können die Verbindungen der vorliegenden Erfindung hergestellt werden nach einem Verfahren, bei dem Maleinsäureanhydrid umgesetzt wird mit einem Poly(ethylenglykol)alkylether und bei dem der anfallende Polyethylenglykoldiester der Maleinsäure daraufhin umgesetzt wird mit einer Verbindung der allgemeinen Formel RL'H, worin R und L' die oben angegebene Bedeutung haben. Die Umsetzung des Maleinsäureanhydrides mit Poly(ethylenglykol)alkylether wird im Allgemeinen durchgeführt in Gegenwart eines Säure-Katalysators, z. B. Schwefelsäure. Der Diester, der ein Zwischenprodukt darstellt, kann vor der weiteren Reaktion isoliert werden. Das Diester-Zwischenprodukt wird im Allgemeinen mit der Verbindung RL'H in Gegenwart eines basischen Katalysators umgesetzt, beispielsweise in Gegenwart von Kaliumcarbonat. In bestimmten bevorzugten Ausführungsformen ist die Verbindung der Formel RL'H ein Thiol der Formel RSH, in welchem Falle das Endprodukt klassifiziert werden kann als Alkyl-, Alkenyl- oder Fluoroalkyl- oder Fluoroalkenylthiosuccinsäure, Polyethylenglykoldiester.
  • In jedem der präparativen Prozesse kann der Poly(ethylenglykol)alkylether eine einzelne Verbindung sein, doch besteht der Ether gewöhnlich aus einer Mischung von solchen Verbindungen mit unterschiedlichen Längen der Ethoxykette. Infolgedessen enthält das anfallende Produkt der Formel (1) Verbindungen mit unterschiedlichen Kettenlängen in den zwei Ethoxyketten. Es ist möglich, die unterschiedlichen Ethergruppen nacheinander einzuführen: das erste Ethoxylat kann dem Anhydrid zugegeben werden, um einen Halbester zu erzeugen, die verbliebene Kettenlänge kann dann in das Säurechlorid überführt werden und die zweite Kette kann dann unter basischen Bedingungen zugesetzt werden; dies kann geeignet sein, wenn p und q verschieden sein sollen. Eine andere Möglichkeit besteht darin, eine Mischung von Produkten der Formel (1) zu fraktionieren.
  • Die Synthese von Fluoroalkyl-, Alkyl-, Fluoroalkenyl- oder Alkenylderivaten nach dem ersten präparativen Prozess kann veranschaulicht werden durch das folgende Reaktionsschema (Schema 1):
  • Figure 00070001
    Schema 1
  • In dem Reaktionsschema 1 ist p = 4–16 und R hat die oben angegebene Bedeutung bezüglich der Formel (1), z. B. C6F13CH2CH2, C8F17CH2CH2 oder C14H29.
  • Verbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung können ferner hergestellt werden wie oben beschrieben nach einem Verfahren, in dem eine RL-substituierte Verbindung, z. B. ein Alkyl-Fluoroalkyl-, Alkenyl- oder Fluoroalkenyl-substituiertes Succinsäureanhydrid umgesetzt wird mit einem durch eine Alkylgruppe abgeschlossenen Polyethylenglykol. Dieses alternative Herstellungsverfahren liefert insbesondere einen Weg der Herstellung von Verbindungen, in denen L eine einzelne chemische Verbindung ist und das Verfahren kann von besonderem Interesse sein für die Herstellung von Verbindungen, in denen R eine Alkenylgruppe ist, da Alkenyl-substituierte Succinsäureanhydride im Handel in der Masse erhältlich sind. Natürlich sind die anderen substituierten Succinsäureanhydride leicht durch den Fachmann herstellbar. Die ethoxylierten Ausgangsmaterialien sind im Handel erhältlich oder können leicht nach üblichen chemischen Synthesen hergestellt werden. Diese zweite präparative Methode kann durch das folgende Reaktionsschema (Schema 2) dargestellt werden:
  • Figure 00080001
    Schema 2
  • In dem Reaktionsschema 2 hat R die oben angegebene Bedeutung bezüglich der Formel (1) und steht z. B. für C18H37 oder C18H35, und p ist = 4–15. Wie angegeben, erfolgt die Reaktion im Allgemeinen in Gegenwart einer Säure.
  • Es wurde gefunden, dass die Verbindungen der vorliegenden Erfindung, die im breiten Sinne beschrieben werden können als nicht-ionische oberflächenaktive Mittel auf Basis von hydrophoben Alkyl- oder Alkenylgruppen, die gegebenenfalls mindestens teilweise fluoriert sein können, und an zwei separat gebundenen hydrophilen Poly(ethylenoxid)gruppen eine ausgezeichnete verbesserte Löslichkeit aufweisen und Oberflächenaktivität, im Vergleich mit oberflächenaktiven Mitteln auf Basis von Poly(ethylenoxiden) mit linearer Struktur, wie Zonyl FSN. Hier bedeutet die Angabe von "verbesserter Oberflächenaktivität" eine geringere kritische Micellen-Konzentration (CMC). Obgleich die Anmelderin nicht wünscht, sich an eine bestimmte Theorie zu binden, wird angenommen, dass die verbesserte Löslichkeit zurückzuführen ist auf die Struktur der hydrophilen Gruppe, die dargestellt wird durch zwei unabhängig voneinander gebundene Poly(ethylenoxid)ketten, die dem anfallenden Molekül eine Y-Form verleihen. Es wird angenommen, dass dies in der Wirkung zu einer Querschnittsfläche führt, die durch die hydrophile Gruppe besetzt ist, wodurch die Formation eines einfachen sphärischen Micellen-Systems gefördert wird, das leichter löslich zu machen ist als Systeme, die stabartige oder lamellare Phasen bilden.
  • Die Verbindungen der vorliegenden Erfindung können als antistatische Mittel in photographischen Produkten verwendet werden, beispielsweise in Beschichtungen auf Substraten in photographischen Elementen. Es wurde somit gefunden, dass die Verbindungen der Erfindung besonders geeignet sind zur Förderung der Oberflächen-Leitfähigkeit in getrockneten aufgetragenen Schichten von wässriger Gelatine und dass sie als solche geeignet sind zur Steuerung der elektrostatischen Aufladung in photographischen Produkten. Im Falle derartiger Anwendungen kann die vorliegende Erfindung die Vorteile einer besseren elektrischen Oberflächen-Leitfähigkeit herbeiführen und eine größere Leichtigkeit der Lösung als nichtionische oberflächenaktive Mittel, die eine einfachere Struktur aufweisen, die bekannt sind und nach dem Stande der Technik verwendet werden, wie z. B. die Fluoroalkylpoly(ethylenoxid)verbindungen von linearer chemischer Struktur.
  • Liegt ein oberflächenaktives Mittel auf Fluorokohlenstoffbasis in einer Beschichtung vor, so neigt das Mittel zu einer Erhöhung der negativen elektrischen Ladung bei Beaufschlagung der Beschichtung mit einer Bezugsoberfläche aus rostfreiem Stahl, während ein oberflächenaktives Mittel auf Basis eines Kohlenwasserstoffs dazu neigt, eine Erhöhung einer positiven Ladung herbeizuführen. Derartige statische elektrische Ladungen können im Falle verschiedener Anwendungen problematisch sein. Infolgedessen kann es in bestimmten Fällen vorteilhaft sein, eine Mischung von mindestens einer Fluorokohlenstoffverbindung der vorliegenden Erfindung (z. B. eine, in der R = CnF2n+1-(CH2)m) ist mit mindestens einer Kohlenwasserstoffverbindung der vorliegenden Erfindung (R = Alkyl oder Alkenyl) zu verwenden, um derartige triboelektrische Ladungen auszugleichen (oder weitestgehend auszugleichen).
  • In bestimmten Fällen können die Verbindungen der vorliegenden Erfindung in Verbindung mit einem Salz einer niedrigen Gitterenergie verwendet werden, beispielsweise mit einem anorganischen Tetrafluoroborat, Perfluoroalkylcarboxylat, Hexafluorophosphat oder Perfluoroalkylsulfonat. Bevorzugt verwendet werden Alkalimetalltetrafluoroborate, Trifluoroacetate, Perfluorobutanoate, Hexafluorophosphate, Perfluorobutansulfonate und Trifluoromethansulfonate. Derartige Salze werden diskutiert in der US-A-4 610 955 (Chen u. A.) und in der US-A-4 582 781 (Chen u. A.), worauf hier Bezug genommen wird. In bestimmten besonders bevorzugten Ausführungsformen ist das Salz ein Alkalimetalltriflat, insbesondere Lithiumtriflat, CF3SO3Li.
  • Beispiele
  • Die vorliegende Erfindung wird in und durch die folgenden Beispiele veranschaulicht. Die Hinweise auf "I", "II" und "III" beziehen sich auf die Formel I, Formel II bzw. Formel III in den Reaktionsschemen 1 und 2 wie oben angegeben.
  • Die Verbindungen A bis E sind Verbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung der allgemeinen Formel (1), in der R eine Alkylgruppe der Formel CkH2k+1 ist, eine Alkenylgruppe der Formel CjH2j–1 oder eine Fluoroalkylgruppe der Formel CnF2n+1-(CH2)m, worin k, j oder (n + m) äquivalent 10 bis 20 Kohlenstoffatomen sind (z. B. CH3 und CH2), wobei gilt, dass 1 fluoriertes Kohlenstoffatom (z. B. CF3 oder CF2) gleich ist 1,5 Kohlenwasserstoffatomen, worin R' jeweils steht für Methyl und worin die Variablen die folgenden Werte haben.
  • Tabelle I:
    A: n = 6, m = 2,L = -S- und p = q = 7.
    B: n = 8, m = 2,L = -S- und p = q = 12.
    C: k = 14, L = -S- und p = q = 12.
    D: k = 18, L = einfache chemische Bindung und p = q = 12.
    E: j = 18, L = einfache chemische Bindung und p = q = 12.
  • Zonyl FSN (Warenzeichen), dessen chemische Struktur im Vorstehenden angegeben wurde, wurde zu Vergleichszwecken verwendet.
  • Beispiel 1
  • (a) Synthese von Maleinsäurepolyethylenglykoldiester (I, p = 7)
  • Maleinsäureanhydrid (9,81 g, 0,10 Mole) und Poly(ethylenglykol)methylether, MW 350 (70,0 g, 0,20 Mole) wurden in einem Rundkolben in Toluol (200 ml) gelöst. Konzentrierte Schwefelsäure (0,05 ml) wurde als Säure-Katalysator zugegeben und der Kolben wurde mit einer Wasserfalle nach Dean-Stark ausgerüstet. Die Mischung wurde unter Rühren 5 Stunden lang auf Rückflusstemperatur erhitzt. Toluol wurde durch Verdampfung auf einem Rotationsverdampfer entfernt und das erhaltene Öl wurde in Ethylacetat (200 ml) gelöst. Die organische Lösung wurde dann mit gesättigtem wässrigen Natriumhydrogencarbonat (300 ml) gewaschen. Die organische Schicht wurde abgetrennt und die wässrige Schicht wurde mit Ethylacetat (6 × 300 ml) extrahiert. Die vereinigten organischen Extrakte wurden über wasserfreiem Magnesiumsulfat getrocknet, filtriert und eingedampft unter Gewinnung eines farblosen Öls (I, 39,9 g, 52%). Die analytischen Daten stimmten mit der angenommenen Struktur überein.
  • (b1 Synthese von Fluoroalkylthiosuccinsäurepolyethylenglykoldiester II, R = C6F13CH2CH2, p = 7)
  • 1H, 1H, 2H, 2H-Tridecafluorooctylthiol, erhältlich unter der Handelsbezeichnung Foralkyl EM-6, (3,80 g, 0,01 Mole) und der Polyethylenglykoldiester (I) (7,61 g, 0,01 Mole) wurden zusammen unter Rühren auf 130°C unter einer Argon-Atmosphäre in Gegenwart einer katalytischen Menge von wasserfreiem Kaliumcarbonat 5 Stunden lang erhitzt. Während dieser Zeitspanne schlug die Lösung von farblos nach schwach-braun um. Eine Dünnschicht-Chromatographie unter Verwendung von Ethylacetat als Eluierungsmittel ergab einen Verlust an Thiol (keine Verfärbung mit Jod) und führte zu einem Produkt mit einem Retentions-Faktor (Rf) von 0,2. Das rohe Produkt wurde in Ethylacetat gelöst und auf Silicagel (Maschen 63–200) chromatographiert unter Verwendung von Ethylacetat und Ethanolmischungen, unter Gewinnung nach Konzentration unter vermindertem Druck eines bräunlichen Öls (II, 9,9 g, 87%). Die analytischen Daten stimmten mit der angenommenen Struktur überein.
  • Beispiel 2
  • Synthese von Alkylsuccinsäure (III, p = 12, R = C18H37)
  • Octadecylsuccinsäure (18,53 g, 0,050 Mole) und Poly(ethylenglykol)methylether MW 750 (75,00 g, 0,10 Mole) wurden 70 Stunden lang unter einer Argon-Atmosphäre in Toluol (250 ml) sowie in Gegenwart von p-Toluolsulfonsäurehydrat (0,45 g) in einem Kolben, ausgerüstet mit einer Dean-Stark-Falle auf Rückflusstemperatur erhitzt. Die Lösung wurde abgekühlt und dann eingedampft unter vermindertem Druck, unter Gewinnung eines gelblichen Öls, das beim Abkühlen eine halbfeste Masse bildete. Das Produkt wurde in Ethylacetat (1000 ml) gelöst und mit gesättigter wässriger Natriumhydrogencarbonatlösung (500 ml) gewaschen. Die Ethylacetatschicht wurde über Magnesiumsulfat getrocknet, gefiltert und eingedampft, unter Gewinnung eines Öls, das sich zu einer gelb-braunen farbigen, wachsartigen festen Masse verfestigte (35,64 g, 49%). Die Analyse stimmte mit einer mittleren Ethoxylatkettenlänge von 12 Einheiten überein.
  • Beispiel 3
  • Eine Anzahl von oberflächenaktiven Mitteln wurde auf ihre Leichtigkeit der Lösung in Wasser getestet. Weiterhin wurden die kritischen Micellen-Konzentrationen (CMCs) der oberflächenaktiven Mittel in einer wässrigen Lösung bestimmt, die 7% Gewicht/Gewicht deionisierte Knochengelatine vom Typ IV enthielt. Die CMC-Werte wurden von Oberflächenspannungsdaten ermittelt durch Bestimmung des Bruchpunktes in der Aufzeichnung der Oberflächenspannung gegenüber dem log Konzentration (vergleiche M. J. Rosen, Surfactants and Interfacial Phenomena, 2. Auflage, Verlag Wiley (1989), 110). Die Ergebnisse sind in Tabelle II unten zusammengefasst.
  • Tabelle II: Oberflächenaktive Mittel: Leichtigkeit ihrer Lösung in Wasser und ihre CMC-Werte in wässriger Lösung, enthaltend 7% Wt/Wt deionisierte Knochengelatine vom Typ IV
    Figure 00120001
  • Es ist ersichtlich, dass die Verbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung leichter in Wasser zu lösen sind als Zonyl FSN und dennoch stärker oberflächenaktiv sind (oder hydrophober), da sie CMC-Werte zeigen, die drei- oder mehrmals geringer sind als der Wert von Zonyl FSN.
  • Beispiel 4
  • Elektrischer Oberflächenwiderstand und elektrostatische Aufschlag-Aufladung von Beschichtungen auf Gelatinebasis
  • Um die elektrostatischen Aufladungs-Charakteristika der Materialien dieser Erfindung mit Zonyl FSN zu vergleichen, wurden die folgenden Versuche unternommen. Wässrige Lösungen (Schmelzen), enthaltend 7% w/w Gelatine, 0,25% Bis-vinylsulfonylmethylether (Gelatine-Härtungsmittel) und oberflächenaktives Mittel (bei unterschiedlichen Konzentrationen – mit und ohne CF3SO3Li in der Hälfte des Gewichtes des oberflächenaktiven Mittels), wurden mit der Hand auf 7 inch breite (17,8 cm) Polyethylenterephthalatfilmträger aufgetragen unter Verwendung eines 0,005 inch (127 μm) unterschnittenen rostfreien Stahlmessers. Der Filmträger, der in geeigneter Weise mit einer Haftschicht versehen worden war, um eine gute Adhäsion der Beschichtungen zu erzeugen, wurde durch Vakuum auf einem flachen rostfreien Stahltablett gehalten, das mittels eines Thermostaten bei etwa 17°C gehalten wurde. Die Schmelzen wurden vor der Beschichtung bei 40°C gehalten. Nach der Beschichtung erstarrten die dünnen Schichten rasch und die Beschichtungen wurden dann aufgehängt, um über Nacht unter Umgebungsbedingungen in einem Raum zu trocknen, der mit gefilterter Luft konditioniert wurde. Die Beschichtungen wurden dann Messungen des elektrischen Oberflächenwiderstandes (SER) und der Aufschlag-Aufladung (vergleiche W. J. Bailey, US-A-3 501 653) gegenüber rostfreiem Stahl, beide bei 50% RH unterworfen. Die Tabellen III und IV zeigen die SER-Werte, die erhalten wurden als Funktion der Konzentration der oberflächenaktiven Mittel in Gegenwart oder Abwesenheit von CF3SO3Li.
  • Tabelle III: Log SER (Ω pro Quadrat) der Beschichtungen bei 50% RH in Gegenwart von CF3SO3Li (bei ½ des Gewichtes des zugesetzten oberflächenaktiven Mittels)
    Figure 00140001
  • Tabelle IV: Log SER (Ω pro Quadrat) der Beschichtungen bei 50% RH in Abwesenheit von CF3SO3Li
    Figure 00140002
  • In Gegenwart von CF3SO3Li (vergleiche Tabelle III) ist offensichtlich, dass die Verbindung A mit dem kürzeren hydrophoben Schwanz wirksam lediglich Zonyl FSN entspricht. Im Falle eines besseren Vergleichs jedoch ergeben die Schwänze von äquivalenter Hydrophobizität gegenüber Zonyl FSN (die Verbindungen B und C dieser Erfindung) geringere Log SER-Werte als Zonyl FSN, d. h. von etwa 0,5 bzw. 1,1 log Einheiten geringer bei Konzentrationen von 0,3 und 0,6 Gew.-%. Die Alkylverbindungen dieser Erfindung sind besonders wirksam bezüglich der Reduktion der SER-Werte in Gegenwart von CF3SO3Li bei diesen Konzentrationen: die Verbindung E führt zu einer 15-mal größeren Leitfähigkeit als Zonyl FSN. Die obigen Daten zeigen ferner, dass die Verbindungen D und E die gleichen Vorteile aufweisen wie die Verbindung C, der auch ein Kohlenwasserstoffschwanz zugrunde liegt (im Unterschied zu dem Fluorkohlenstoff-Schwanzsystem), insofern als sehr niedrige Oberflächenwiderstände aufgezeichnet wurden.
  • Tabelle IV zeigt, dass die Fluoroalkylverbindungen dieser Erfindung niedrigere SER-Werte in Gelatine-Beschichtungen erzeugen als die Verbindung des Standes der Technik Zonyl FSN, ohne Unterstützung durch ein Salz einer niedrigen Gitterenergie wie CF3SO3Li. Die Alkylversion dieser Erfindung ergab ein äquivalentes Verhalten gegenüber Zonyl FSN.
  • Es wurden weitere Untersuchungen durchgeführt, um die SER-Werte von Beschichtungen zu bestimmen, die hergestellt wurden wie oben in Beispiel 4 beschrieben und die Lithiumtriflat bei der Hälfte des Gewichtes des oberflächenaktiven Mittels enthielten, wobei die Untersuchungen diesmal bei 20% RH durchgeführt wurden. Es soll erwähnt werden, dass Untersuchungen bei einer niedrigeren Feuchtigkeit einen zäheren Test für ein antistatisch wirksames System darstellen als Untersuchungen, die bei einer höheren Feuchtigkeit durchgeführt werden. Die Ergebnisse sind in Tabelle V unten zusammengestellt.
  • Tabelle V: Log SER (Ω pro Quadrat) der Beschichtungen bei 20% RH in Gegenwart von CF3SO3Li (bei ½ des Gewichtes des zugesetzten oberflächenaktiven Mittels)
    Figure 00150001
  • In Gegenwart von Triflat bei geringer Feuchtigkeit ist das Fluoroalkylsystem der Erfindung mit dem Fluoroalkylschwanz, das der Vergleichsverbindung (Zonyl FSN) standhält, von gleicher Wirksamkeit wie die Vergleichsverbindung; jedoch sind die Kohlenwasserstoffsysteme C, D und E weit wirksamer bei niedrigeren SER-Werten in Gelatinesystemen als die Vergleichsverbindung des Standes der Technik.
  • Ein weiteres Verfahren des Vergleichs des elektrostatischen Verhaltens der Beschichtungen besteht darin, Aufschlags-Aufladungsmessungen durchzuführen gegenüber einer Standard- Oberfläche wie rostfreiem Stahl, unter Anwendung einer Technik, die entwickelt wurde von W. J. Bailey (US-A-3 501 653). Diese Technik misst die Ladung auf einer Beschichtung nach einer Standard-Beaufschlagung gegenüber einer ringförmigen Elektrode aus rostfreiem Stahl. Die Tabellen VI und VII zeigen die erhaltenen Werte der Beschichtungen als Funktion der Konzentration des oberflächenaktiven Mittels in Gegenwart bzw. Abwesenheit von CF3SO3Li.
  • Tabelle VI: Aufschlag-Aufladung (μCm–2) von Beschichtungen nach Beaufschlagung gegenüber rostfreiem Stahl bei 50% RH in Gegenwart von CF3SO3Li (bei ½ des Gewichtes des zugesetzten oberflächenaktiven Mittels)
    Figure 00160001
  • Tabelle VII: Beaufschlagungs-Werte der Beschichtungen nach Beaufschlagung gegenüber rostfreiem Stahl bei 50% RH in Abwesenheit von CF3SO3Li
    Figure 00170001
  • Tabelle VI zeigt, dass die Gegenwart eines Salzes von geringer Gitterenergie, wie CF3SO3Li, die Verbindungen dieser Erfindung die elektrostatische Aufladung der Gelatine-Beschichtungen reduzieren bei einer Beaufschlagung gegenüber rostfreiem Stahl, über einem weiten Bereich von Konzentrationen. Bei den höchsten Konzentrationen ist die Verbindung Zonyl FSN des Standes der Technik in der Lage, ihrem Verhalten praktisch zu entsprechen; bei der geringsten Konzentration jedoch von 0,15% zeigen die Verbindungen der Erfindung eine beträchtlich geringere Aufladung. Dies kann eine Folge ihrer überlegenen Oberflächenaktivität sein, d. h. eines geringeren CMC-Wertes.
  • In Abwesenheit von CF3SO3Li (vergleiche Tabelle VII) werden die Unterschiede zwischen den Verbindungen der Erfindung und Zonyl FSN bemerkenswerter. In diesem Falle erzeugen die Verbindungen dieser Erfindung weniger elektrostatische Ladungen als die Verbindung des Standes der Technik Zonyl FSN, die zu einer stark negativen Aufladung führt. Die Fluoroalkylmaterialien dieser Erfindung verhalten sich in diesem Zusammenhang besser als das Alkylmaterial dieser Erfindung. Der wahrscheinlichste Grund für dieses überlegene Verhalten der Fluoroalkylverbindungen dieser Erfindung beruht auf ihrem geringen SER-Wert. Ganz allgemein scheinen, wenn die Log SER-Werte Werte von ≥ 11,0 erreichen, die Aufladungsgrade doppelte Werte anzunehmen. Infolgedessen besteht ein Hauptvorteil der Fluoroalkylverbindungen dieser Erfindung darin, dass sie eine Beaufschlagungs-Aufladung verhindern ohne Notwendigkeit des Vorhandenseins eines Salzes von niedriger Gitterenergie, wie CF3SO3Li, bei dem es sich um ein kostspieliges Material handelt.

Claims (18)

  1. Photographisches Element mit einem Substrat und einer Beschichtung auf dem Substrat, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung eine Verbindung der allgemeinen Formel enthält
    Figure 00190001
    worin R eine Alkylgruppe mit 10–20 Kohlenstoffatomen ist, eine Alkenylgruppe mit 10–20 Kohlenstoffatomen oder eine Fluoroalkyl- oder Fluoroalkenylgruppe mit f Kohlenstoffatomen, die jeweils mindestens ein Fluoratom tragen und g Kohlenstoffatomen, die lediglich Wasserstoffatome tragen, worin 1,5 f + g = 10–20 ist und g gegebenenfalls Null sein kann, R' eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen darstellt, L eine verbindende Gruppe, ein verbindendes Atom oder eine chemische Bindung ist, und worin p mindestens gleich 2 ist, q mindestens gleich 2 ist und p + q = 4 bis 100 sind.
  2. Photographisches Element nach Anspruch 1, worin R eine Alkylgruppe der Formel CkH2k+1 ist, eine Alkenylgruppe der Formel CjH2j–1 oder eine Fluoroalkylgruppe der Formel CnF2n+1-(CH2)m, worin k, j oder (n + m) äquivalent sind zu 10 bis 20 Kohlenstoffatomen (CH3 und CH2), unter der Voraussetzung, dass 1 fluoriertes Kohlenstoffatom (CF3 oder CF2) gleich ist 1,5 Kohlenwasserstoffatomen.
  3. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem R eine geradkettige Gruppe ist.
  4. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem L ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus einer einfachen chemischen Bindung, einem Schwefelatom und einer -NH-Gruppe.
  5. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem R' eine Methylgruppe ist.
  6. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem p + q = 8 bis 50 sind.
  7. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem p und q derart ausgewählt sind, dass die Verbindung eine kritische Mizellenkonzentration aufweist, die 1 × 10–3 molar oder geringer ist.
  8. Photographisches Element nach Anspruch 2, in dem R' jeweils für Methyl steht und n = 6, m = 2, L = -S-, p = 7 und q = 7 ist.
  9. Photographisches Element nach Anspruch 2, in dem R' jeweils für Methyl steht und n = 8, m = 2, L = -S-, p = 12 und q = 12 ist.
  10. Photographisches Element nach Anspruch 2, in dem R' jeweils für Methyl steht und k = 14, L = -S-, p = 12 und q = 12 ist.
  11. Photographisches Element nach Anspruch 2, in dem R' jeweils für Methyl steht und k = 14, L eine einfache chemische Bindung, p = 12 und q = 12 ist.
  12. Photographisches Element nach Anspruch 2, in dem R' jeweils für Methyl steht und j = 18, L eine einfache chemische Bindung, p = 12 und q = 12 ist.
  13. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem die Beschichtung eine Gelatinebeschichtung ist.
  14. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem das Substrat ein Polyethylenterephthalatfilmträger ist.
  15. Photographisches Element nach Anspruch 1, in dem die Beschichtung ferner ein anorganisches Tetrafluoroborat, Perfluoroalkylcarboxylat, Hexafluorophosphat oder Perfluoroalkylsulfonat enthält.
  16. Photographisches Element nach Anspruch 15, in dem die Beschichtung ein Alkalimetalltriflat enthält.
  17. Photographisches Element nach Anspruch 16, in dem das Alkalimetalltriflat CF3SO3Li ist.
  18. Eine Verbindung der allgemeinen Formel
    Figure 00210001
    worin R für eine Alkylgruppe mit 10–20 Kohlenstoffatomen steht, eine Alkenylgruppe mit 10– 20 Kohlenstoffatomen oder eine Fluoroalkyl- oder Fluoroalkenylgruppe mit f Kohlenstoffatomen, die jeweils mindestens ein Fluoratom tragen und g Kohlenstoffatomen, die lediglich Wasserstoffatome tragen, worin 1,5 f + g = 10–20 sind und g gegebenenfalls gleich Null sein kann, R' eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen darstellt, L eine verbindende Gruppe, ein verbindendes Atom oder eine chemische Bindung darstellt, und p mindestens gleich 2 ist, q mindestens gleich 2 ist und p + q = 4 bis 100 sind.
DE69915112T 1998-12-19 1999-12-14 Oberflächenaktive Bis-Poly(ethylenoxid)-Mittel und ihre Verwendung als Antistatika in photographischen Materialien Withdrawn - After Issue DE69915112T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9827982.1A GB9827982D0 (en) 1998-12-19 1998-12-19 Surfactants and their use as antistatic agents in photographic materials
GB9827982 1998-12-19
PCT/GB1999/004252 WO2000037440A1 (en) 1998-12-19 1999-12-14 Bis-poly(ethylene oxide) surfactants and their use as antistats in photographic materials

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69915112D1 DE69915112D1 (de) 2004-04-01
DE69915112T2 true DE69915112T2 (de) 2004-09-02

Family

ID=10844549

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69915112T Withdrawn - After Issue DE69915112T2 (de) 1998-12-19 1999-12-14 Oberflächenaktive Bis-Poly(ethylenoxid)-Mittel und ihre Verwendung als Antistatika in photographischen Materialien

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6482975B1 (de)
EP (1) EP1140817B1 (de)
JP (1) JP2003524615A (de)
DE (1) DE69915112T2 (de)
GB (1) GB9827982D0 (de)
WO (1) WO2000037440A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007112924A (ja) * 2005-10-21 2007-05-10 National Institute For Materials Science 高分子架橋剤及びこの架橋剤を用いたリポソーム又は細胞の架橋体
WO2015142584A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-24 Elevance Renewable Sciences, Inc. Dibasic esters and the use thereof in plasticizer compositions

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4610955A (en) 1984-08-01 1986-09-09 Eastman Kodak Company Antistatic compositions comprising polymerized oxyalkylene monomers and an inorganic tetrafluoroborate, perfluoroalkyl carboxylate, hexafluorophosphate or perfluoroalkylsulfonate salt
US4582781A (en) 1984-08-01 1986-04-15 Eastman Kodak Company Antistatic compositions comprising polymerized oxyalkylene monomers and an inorganic tetrafluoroborate, perfluoroalkyl carboxylate, hexafluorophosphate or perfluoroalkylsulfonate salt
DE4238032A1 (de) * 1992-11-11 1994-05-19 Henkel Kgaa Hautkonditionierende Bernsteinsäure-Derivate
JP3139206B2 (ja) 1993-04-05 2001-02-26 松下電器産業株式会社 含フッ素アルキルコハク酸ジエステルとその製造方法およびそれを有する磁気記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
EP1140817B1 (de) 2004-02-25
WO2000037440A1 (en) 2000-06-29
JP2003524615A (ja) 2003-08-19
GB9827982D0 (en) 1999-02-10
DE69915112D1 (de) 2004-04-01
US6482975B1 (en) 2002-11-19
EP1140817A1 (de) 2001-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2609039B2 (de) Verfahren zum Herstellen von beständigem Natriumpercarbonat
DE1418521A1 (de) Zum UEberziehen hydrophiler Oberflaechen geeignete chlorhaltige Chromkoordinationskomplexe von Perfluormonocarbonsaeuren
DE3619883A1 (de) Hemiacetal-verbindungen, verfahren zu deren herstellung und anwendungsverfahren
EP2439188B1 (de) p-Menthan-3,8-diolderivate und sie enthaltende Insektenschutzmittel
DE2328374A1 (de) Insektizide mittel
DE2647980A1 (de) Verfahren zur herstellung von polyhydroxypolyaethern und aus diesen hergestellte oberflaechenaktive mittel
DE69915112T2 (de) Oberflächenaktive Bis-Poly(ethylenoxid)-Mittel und ihre Verwendung als Antistatika in photographischen Materialien
DE2722032A1 (de) 9-(3,5-di-o-acyl-beta-d-arabinofuranosyl)-adenin-verbindungen
DE1622934C3 (de) Farbphotographisches silberhalogenidhaltiges Aufzeichnungsmaterial
DE3609492A1 (de) Verfahren zur herstellung von phosphorsaeureestern
DE3313778A1 (de) N-carbamoyl-(5,4b)-isothiazolopyridin-3-on-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und anti-aknemittel, die diese verbindung enthalten
DE2917131A1 (de) Molekularaggregate mit geordneter struktur
DE2617746C3 (de) Oberflächenaktives Gemisch mit hoher Ausbreitungsgeschwindigkeit auf Kohlenwasserstoffen zur Brandbekämpfung
DE2625688C3 (de) 1,3-Diphenoxypropanol-(2)-Derivate sowie Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Arzneimittel
DE3390129C2 (de) Verfahren zur Herstellung von kristallinem Dl-Cystein
DE3141403A1 (de) Stabile oel-in-wasser-emulsion und verfahren zu ihrer herstellung
DE3046443A1 (de) "seifenzusammensetzung mit verbesserter bestaendigkeit gegenueber rissbildung"
DE2501861C2 (de) 3,4,6-Tri-O-acyl-2-desoxy-2-nicotinoylamino-1-O-nicotinoyl-β-D-glucopyranosen, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese Verbindungen enthaltende pharmazeutische Präparate
DE2334260A1 (de) Oelloesliches fungicid und verfahren zu dessen herstellung
DE2422770C2 (de) Lösungsmittel für Methomyl
CH639950A5 (de) Verfahren zur herstellung von neuen 13-thiaprostansaeurederivaten.
DE817463C (de) Gelierende Mittel
AT208368B (de) Phytohormonale Mittel
DE959418C (de) Schaedlingsbekaempfungsmittel, insbesondere acaricide und aphicide Mittel
DE2117094A1 (de) Antischweißmittel

Legal Events

Date Code Title Description
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: EASTMAN KODAK CO., ROCHESTER, N.Y., US

8364 No opposition during term of opposition
8330 Complete renunciation