DE69726834T2 - Verfahren und Ofen zum Nitrieren - Google Patents

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Glimmentladungsplasma-Nitrierverfahren und einen Nitrierofen dafür, wobei sich die zu behandelnden Metallgegenstände im Schwebepotential befinden und wobei die notwendige Hitze bereitgestellt und das Plasma hergestellt wird durch Glimmentladung an einem Metallschirm, der die Kathode darstellt.
  • Die Nitridhärtung von Metallgegenständen (Werkstücke, Werkzeuge und andere Metallgegenstände) zur Verbesserung ihrer Verschleißeigenschaften ist im Stand der Technik hinlänglich bekannt. Drei Nitridhärtungs- oder Nitrierverfahren sind bekannt, nämlich die Immersion von Metallgegenständen in Salzschmelzen, Nitrierung in der Gasphase und schließlich Nitrierung in Kaltplasma.
  • Derzeit sind zwei Kaltplasmaverfahren bekannt, die die notwendigen aktiven Reagenzien, d. h. Ionen, Elektronen und andere aktive energetisierte neutrale Gaspartikel, bereitstellen für die thermochemischen Reaktionen, welche auf den zu behandelnden Gegenständen auftreten.
  • Das gängigste dieser Verfahren ist das ionische Nitrierverfahren, wobei die zu behandelnden Gegenstände in einem Ofen angeordnet werden, worin sie die Kathode darstellen und worin die geerdeten Wände des Ofens die Anode darstellen. Ein elektrischer Generator stellt den Strom bereit (Impuls- oder Gleichstrom), der zur Erhitzung des Ofens und zur Herstellung eines Plasmas benötigt wird.
  • Zur Herstellung des Plasmas wird ein Gas, wie etwa Stickstoff, Wasserstoff, Methan oder andere, je nach der gewünschten Härtung, in eine Vakuumkammer eingeführt, wo eine Glimmentladung die aktiven Reagenzien (Ionen, Elektronen und andere aktive, energetisierte neutrale Gaspartikel) direkt auf der und um die Oberfläche der zu behandelnden Metallgegenstände generiert.
  • Gemäß dem zweiten bekannten Verfahren werden die aktiven Reagenzien durch Mikrowellenentladung in einem Plasmagenerator hergestellt, der neben und außerhalb des Nitrierofens bereitgestellt wird. Das auf diese Weise hergestellte Plasma wird in einen Vakuumofen geleitet, der die erhitzten, zu behandelnden Metallgegenstände umfasst. Dieses Verfahren ist im Stand der Technik als Post-Discharge Nitrierung bekannt.
  • Während beide Verfahren die gewünschte Nitridhärtung bereitstellen und die Verschleißeigenschaften der behandelten Gegenstände verbessern, leiden sie unter verschiedenen Nachteilen.
  • Beim ionischen Nitrierverfahren stellen die zu behandelnden Gegenstände die Kathode dar und liefern die für das Nitrierverfahren notwendige Hitze. Die ungleichmäßige Gestalt und Geometrie der zu behandelnden Gegenstände erschweren die Regulierung der Hitzeverteilung im Ofen sehr. Weiterhin, da die Zahl der Gegenstände ebenso wie deren Form und Geometrie von einer Charge zur nächsten variieren, ist es schwierig die Öfen zu kalibrieren, da die Heizeigenschaften entsprechend der Charge variieren. Dies führt zu einer ungleichmäßigen Temperatur in der gesamten Kammer. Wo jedoch die Temperatur in Industrieöfen nicht ordentlich reguliert werden kann, leidet darunter die Nitrierhärtungsqualität der behandelten Gegenstände.
  • Die Doppelfunktion der Charge, d. h. als zu behandelnde Gegenstände und Kathode und die Schwierigkeiten der direkten Temperaturmessung an der Kathode können zu Hitzepunkten oder zur Überhitzung der Kathode führen. Solche unnötigen Kathodenprobleme zerstören die Gestalt und/oder Geometrie von Präzisionsgegenständen, wodurch diese Gegenstände wertlos werden.
  • Zur Vermeidung unerwünschter Nebenwirkungen dieser Art sollten nur Gegenstände von zweckmäßigerweise identischer Größe, Form und Geometrie gleichzeitig in derselben Chargebehandelt werden. Die ökonomische Effizienz dieser bekannten Öfen ist somit sehr unbefriedigend.
  • Des Weiteren müssen die zu behandelnden Gegenstände gründlich von jeglichen organischen Oberflächenunreinheiten gesäubert und entfettet werden, bevor sie als Kathoden im Nitrierofen verwendet werden können, um Hitzepunkte auf der Kathode zu vermeiden.
  • In kleineren Öfen kann die Gefahr von einpoligen Lichtbögen minimiert werden. Mit größeren Öfen erhöht sich jedoch die Gesamtstromstärke und somit die Gefahr von einpoligen Lichtbögen. Diese Lichtbögen beeinträchtigen die Verwendbarkeit der behandelten Gegenstände, da sie diese zerstören oder deren Oberflächen- und geometrische Eigenschaften verändern.
  • In den Öfen des Stands der Technik wandern die positiv geladenen Ionen zu der negativ geladenen Kathode, d. h., den zu behandelnden Gegenständen und prallen auf diese. Diese Beeinträchtigungen können so heftig sein, dass Metallatome aus dem Gitter geschlagen werden. Die Gegenstände werden einem Sandstrahl ähnlichen Effekt ausgesetzt. Während diese Oberflächenbeeinträchtigung nicht dramatisch und für die meisten Gegenstände vollkommen toleriert werden kann, ist es unerwünscht für Hochglanzoberflächen. Diese müssen somit nach dem Nitrierverfahren erneut poliert werden.
  • Es ist für jeden Fachmann offensichtlich, dass die Verwendung der Gegenstände als Kathode und Plasmagenerator in den Öfen es sehr erschwert, Gegenstände kleiner Bohrung oder in wirtschaftlicher Weise eine große Zahl kleiner Schieblehren in einer Charge zu behandeln.
  • Während die Nitridhärtungsbedingungen in kleinen Öfen des Stands der Technik schwer zu regulieren sind, werden die Schwierigkeiten in größeren Öfen von Industriemaß erhöht.
  • Die Erfinder der Post-Discharge Verfahren versuchten einige der oben diskutierten Schwierigkeiten zu überwinden. Die Verfahren erfordern jedoch eine separate Kammer zur Plasmabildung. Das in diesen Kammern hergestellte Plasma muss in die Nitrieröfen überführt werden, in denen die erhitzten Gegenstände angeordnet sind. Die gleichmäßige und homogene Verteilung der Reagenzien auf und um die zu behandelnden Gegenstände ist schwer zu regulieren. Die Probleme sind offensichtlicherweise vergrößert in großen Öfen im Industriemaßstab, wo es sehr schwierig ist zu gewährleisten, dass genügend Plasma entfernte Bereiche des Ofens erreicht.
  • In diesen großen Öfen entstehen auch Probleme aufgrund der begrenzten Haltbarkeit der Plasmapartikel. Diese Partikel können gegebenenfalls nicht mehr aktiv sein, wenn sie entfernte (im Vergleich zum Gaseintritt) Bereiche des Vakuumofens erreichen. Es werden ungleichmäßig behandelte Gegenstände erhalten.
  • Gleich mit welchem Verfahren ist es sehr schwierig, zufriedenstellende Resultate in großmaßstäbigen Industrieöfen und Verfahren des Stands der Technik zu erhalten.
  • WO-A-97/14172 offenbart ein Verfahren und ein Gerät zur Plasmaverarbeitung, wobei das Plasma mittels thermionischer Filamente hergestellt wird und die Verarbeitung in einer Kammer bei einem Gasdruck von 13,3 μPa bis etwa 133 mPa (0,01 bis etwa 100 Millitorr) durchgeführt wird.
  • Es wurden eine Zeit lang Anstrengungen unternommen, die Regulierung der Nitridhärtungsbedingungen der bekannten Öfen und Verfahren zu verbessern. Eine zufriedenstellende wirtschaftliche Lösung wurde noch nicht offenbart.
  • Es ist somit eine Aufgabe der Erfindung, ein Glimmentladungs-Nitrierverfahren bereitzustellen, das eine verbesserte Regulierung der Nitrierbedingungen erlaubt, wobei die zu behandelnden Gegenstände durch Strahlung von einer Metallschirmkathode erhitzt werden, die die zu behandelnden Gegenstände umgibt, eine Gasmischung so in den Ofen eingeleitet wird, dass sie durch den Schirm strömt, wobei das notwendige Plasma durch Glimmentladung gebildet wird, bevor diese hochionisierte Gasverbindung die Gegenstände erreicht und mit diesen reagiert, welche entweder im Schwebepotential oder bei einer Belastung von weniger als 1 kW gehalten werden kann.
  • Es ist eine weitere Aufgabe der Erfindung, einen Glimmentladungsnitrierofen bereitzustellen, der ein wirtschaftliches, simultanes Nitrieren von Gegenständen unterschiedlicher Gestalt und Geometrie erlaubt. Dies wird durch einen Ofen erreicht, bei dem die Reaktionshitze bereitgestellt und das Plasma gebildet wird durch Glimmentladung an einer Metallschirmkathode, die die zu behandelnden Gegenstände umgibt und bei dem Gaszuführungen zwischen Ofenwand und Metallschirmkathode bereitgestellt werden.
  • Diese und weitere Aufgaben und Vorteile der Erfindung ergeben sich in noch deutlicherer Weise aus der folgenden detaillierten Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen davon, wenn diese in Verbindung mit der beiliegenden Abbildung betrachtet werden, die den Nitridhärtungsofen der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • Entsprechend des neuen Verfahrens der Erfindung werden die zu behandelnden Gegenstände in einem Glimmentladungsnitrierofen angeordnet. Elektrischer Strom wird einem Metallschirm zugeführt, der die zu behandelnden Gegenstände umgibt. Hitze wird dem Ofen und den Gegenständen durch Strahlung von dem Schirm, der die Kathode des Ofens darstellt, bereitgestellt. Gas wird in den Ofen zwischen den geerdeten Ofenwänden, die die Gegenelektrode darstellen, und der Metallschirmkathode geleitet, so dass das Gas durch den Schirm strömt. Am Schirm wird Plasma durch Glimmentladung gebildet, so dass eine Mischung aus Ionen, Elektronen und anderen aktiven energetisierten neutralen Gaspartikeln in Kontakt mit den zu behandelnden Gegenständen kommt. Die Gase werden am Boden des Ofens abgeführt.
  • In Bezugnahme auf die Abbildung besteht der Ofen 9 gemäß der Erfindung aus einem oberen Teil 1a und einem unteren Teil 1b, die durch eine Gasdichtung 3 verbunden sind. Ein geerdeter Generator 4 stellt den notwendigen Impuls- oder Gleichstrom für eine Metallschirmkathode 5 bereit, die eine im Schwebepotential gehaltene Auflage 8 umgibt, auf der die zu behandelnden Gegenstände ruhen. Dieser Schirm 5, erhitzt durch den Strom des Generators 4, erhitzt durch Strahlung das Innere des Ofens 9. Da die Merkmale dieses Schirms bekannt sind und im Ofen konstant bleiben, ist es möglich, die Ofentemperatur durch Regulierung des diesem Schirm zugeführten Stroms in einem engen Bereich zu halten.
  • Nachdem die zu behandelnden Gegenstände auf der Auflage 8 angeordnet werden, wird der obere Teil 1a des Ofens auf den geerdeten unteren Teil 1b abgesenkt. Eine Vakuumpumpe (nicht gezeigt) entfernt die im Ofen befindlichen Gase durch eine Vakuum/Abgasleitung 2. Nach der Errichtung eines Drucks unter 20 hPa (mbar) im Ofen, wird der Generator 4 eingeschaltet, um dem Schirm 5 eine Leitungsdichte von 20–50 W/dm2 bereitzustellen. Wenn der Schirm die erforderliche Temperatur, die einer inneren homogenen und einheitlichen Temperatur von 300 bis 600°C entspricht, erreicht hat, wird eine Gasmischung, bestehend aus Stickstoff und neutralen Gasen wie Wasserstoff und/oder Argon, in den Ofen auf verschiedenen Höhen durch Gasinjektionsleitungen 6 eingeführt. Die Gasinjektionsleitungen 6 führen in den Reaktor außerhalb des Schirms 5, so dass die Gase durch den Schirm 5 strömen müssen. Die Glimmentladung am Schirm 5 bildet das Plasma aus hochionisiertem Gas, bestehend aus Ionen, Elektronen und anderen aktiven, energetisierten neutralen Gaspartikeln, das für die Nitrierung der auf der Auflage 8 befindlichen Gegenstände erforderlich ist.
  • Da die Gase ununterbrochen durch die Vakuum/Abgasleitung 2 abgeführt werden, fließt das gebildete Plasma abwärts und um die Gegenstände auf der Unterlage 8 herum. Die Gegenstände werden ununterbrochen in einer sanften Strömung der aktiven Reagenzien gebadet, bevor das Plasma durch die Leitung 2 abgeführt wird.
  • Die Gaseinführungsleitungen sind über die gesamte Oberfläche des Ofens verteilt, und die Vakuum/Abgasleitung oder -leitungen sind so angeordnet, dass eine konstante homogene Plasmaströmung um die zu behandelnden Gegenstände erhalten wird. Die tatsächliche Position dieser Leitungen hängt von der Größe und Form des Ofens ab. Vorzugsweise wird die Vakuum/Abgasleitung 2 in der Mitte und nahe der Bodenoberfläche der Auflage 8 bereitgestellt.
  • Durch Anordnung des Eingangs der Vakuum/Abgasleitung 2 in der Mitte und nahe der Bodenoberfläche der Auflage 8 wird eine kontinuierliche Plasmaströmung zu den Gegenständen gewährleistet, und jeglicher Kontakt dieser Gegenstände mit den eingeleiteten unbehandelten Gasen wird vermieden.
  • Für die meisten Anwendungen ist eine Ofentemperatur zwischen etwa 300 und 600°C ausreichend. Für besondere Legierungen könnte jedoch eine höhere Temperatur bis zu etwa 800°C verwendet werden.
  • Im Unterschied zu den Öfen des Stands der Technik sind es nicht die zu behandelnden Gegenstände, die als Heizelemente und als Plasmageneratoren verwendet werden. Vielmehr stellt der Metallschirm 5 die Kathode dar und wird sowohl zur Beheizung des Reaktorinnenraums und der zu behandelnden Gegenstände, als auch zur Bildung des Plasmas von Ionen, Elektronen und anderen neutralen Teilchen, die für die Nitrierreaktion erforderlich sind, verwendet.
  • Da kein Strom mehr auf die zu behandelnden Gegenstände angewandt wird, konnten alle mit Überhitzung oder Hitzepunkten, sei es durch auf den Gegenständen verbliebene Unreinheiten oder Gestalt oder Geometrie, verbundenen Probleme überwunden werden. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, Teile, Werkstücke oder Werkzeuge oder andere Gegenstände zu behandeln, ohne zu zeitaufwendigen Reinigungs- oder Entfettungsverfahren greifen zu müssen.
  • Zur Behandlung besonderer Stahlgegenstände, zum Beispiel Edelstahlgegenstände oder anderer Gegenstände aus besonderen Materialien, ist oft Depolarisation oder eine Oberflächenaktivierung erforderlich. In diesen Fällen wird das Reinigen und Entfetten dieser Gegenstände empfohlen, bevor sie in den Ofen geladen werden. Zur Depolarisation dieser Gegenstände wird, wie im Verfahren des Stands der Technik, Strom an die Auflage 8 angelegt, so dass die zu behandelnden Gegenstände, für einen kurzen Zeitraum, die Kathode darstellen. Nachdem die Depolarisation entweder durch Plasmabildung auf den Gegenständen und/oder durch den oben beschriebenen Sandstrahl-ähnlichen Effekt erreicht ist, wird der Strom an der Auflage 8 abgestellt, um den Fortgang des erfindungsgemäßen Nitridhärtungsverfahrens mit der Auflage 8 und den darauf befindlichen Gegenständen im Schwebepotential zu erlauben.
  • Bei manchen Nitrierverfahren, in Abhängigkeit von den zu behandelnden Stahllegierungen, der Geometrie der Gegenstände und/oder der Dichte der Charge, d. h. bei sehr eng beieinander liegenden Gegenständen, ist das Anlegen eines schwachen Stroms an die Auflage 8 und somit an die Gegenstände bevorzugt. Die Gegenstände sind somit nicht mehr im Schwebepotential, sondern stellen eine schwache Kathode innerhalb des Ofens dar. Der Charakter einer schwachen Kathode gewährleistet eine gleichmäßigere Verteilung des Plasmas auf und um die zu behandelnden Gegenstände und verbessert somit die homogene Nitrierung, die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erreicht wird, weiter.
  • Der angelegte Strom gemäß dieser Erfindung ist sehr schwach im Vergleich zu den im Stand der Technik angewandten Stromstärken. Somit, wogegen im Stand der Technik Belastungen von 60 bis 100 kW, abhängig von Charge und Größe des Ofens, auf die Unterlage angewandt wurden, beträgt die angewandte Belastung im erfindungsgemäßen Verfahren weniger als 1 kW. Es ist für den Fachmann offensichtlich, dass der angelegte Strom von der Charge der zu behandelnden Gegenstände abhängt. Unabhängig von der Charge der Gegenstände sollte die Belastung 1 kW nicht überschreiten.
  • Das Anlegen eines schwachen Stroms an die Unterlage 8 gewährleistet ein gleichmäßiges homogenes Nitrierergebnis für Gegenstände mit einer komplizierten Geometrie und für sehr hohe Ladungsdichten und sogar für die Massenbehandlung kleiner Gegenstände.
  • In Anbetracht dessen, dass kein Strom oder nur ein sehr schwacher Strom auf die zu behandelnden Gegenstände während des Nitrierverfahrens angewandt wird, können keine einpoligen Lichtbogenprobleme, die die Oberflächen-, Gestalts- oder geometrischen Eigenschaften der Gegenstände beeinträchtigen, auftreten.
  • Da die Gegenstände nicht oder nur sehr schwach negativ geladen sind, gibt es keine heftige Beeinträchtigung von positiv geladenen Ionen auf diese Gegenstände. Das Baden der Gegenstände auf der Unterlage 8 durch das durch Glimm entladung am Schirm 5 gebildete Plasma, gewährleistet somit nicht nur, dass sich die gesamte Oberfläche einschließlich etwaiger Löcher oder Nischen gleichmäßig und ununterbrochen in Kontakt mit frisch gebildetem Plasma befindet, und dass die gesamte Oberfläche der Gegenstände einheitlich behandelt wird, sondern die sanfte Strömung des Plasmas auf und um die Gegenstände, führt nicht zu einem Sandstrahlähnlichen Effekt, so dass die Oberflächen der Gegenstände überhaupt nicht beeinträchtigt werden.
  • Für das neue erfindungsgemäße Verfahren sind Menge und Geschwindigkeit der Zuführung der Gasmischung in den Ofen nicht kritisch. Es ist allein notwendig, dass eine ausreichende Gasmenge zugeführt wird, um die für die Nitrierreaktion notwendigen Ionen und Teilchen zur Verfügung zu stellen.
  • Typischerweise wird eine Mischung von Stickstoff und neutralen Gasen, wie etwa Wasserstoff und/oder Argon verwendet. Es ist jedoch möglich dieser Mischung andere aktive Gase hinzuzufügen, wie etwa Methan, Propan, Schwefelwasserstoff, Fluorkohlenwasserstoff, etc. In der Tat ist es offenkundig, dass das offenbarte Gerät und Verfahren nicht nur für Nitridhärtungsverfahren, sondern auch zur Nitrid-Carbidhärtung, Oxynitrid-Carbidhärtung und Sulfonitridhärtung verwendet werden kann. Die verschiedenen Arten der Härtung, die erhalten werden, hängen nur von der Zusammensetzung der reaktiven Gase ab, die in den Ofen eingeleitet werden.
  • Zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens in dem neuen Ofen, sind die Zusammensetzung, Größe und andere Eigenschaften der Metallschirmkathode 5 nicht kritisch. Aufgrund der Tatsache, dass die Erhitzung des Ofens nicht mehr durch die Strahlung veränderlicher Mengen von Gegenständen unterschiedlicher Gestalt und Geometrie erhalten wird, ist es möglich die erfindungsgemäßen Öfen präzise zu kalibrieren. Es ist ausreichend, die dem Schirm zugeführte Leistungsdichte zu verändern, um die Ofentemperatur innerhalb enger Grenzen zu regulieren und eine einheitliche Temperatur im ganzen Ofen zu erhalten.
  • Bei dem neuen erfindungsgemäßen Ofen und Verfahren strömt das an dem Schirm 5 gebildete Plasma sanft um die zu behandelnden Gegenstände, unabhängig von Größe und Form des Ofens. Das neue Verfahren und der Ofen erlauben die wirtschaftliche Behandlung von Gegenständen unterschiedlicher Größe, Bohrung, Gestalt oder Geometrie in einer einzigen Charge, sogar die Behandlung von Massengegenständen im Ofen ohne jegliche Beeinträchtigung der Nitridhärtung, oder anderer Oberflächen-, Gestalt- oder Geometrieeigenschaften der so behandelten Gegenstände.
  • Da der Ofen nicht mehr durch Anlegen von Strom an die zu behandelnden Gegenstände erhitzt wird, treten Hitzepunkte oder andere Überhitzungsprobleme nicht mehr auf. Die Bereitstellung von Hitze durch Strahlung von dem Schirm 5 gewährleistet ein einheitliches Temperaturprofil im ganzen Ofen. Da die Strahlungshitze durch die, einem Schirm von bekannter Größe und Eigenschaften, zugeführte Strommenge reguliert werden kann, wird die Temperaturregulierung einfach. Durch eine bedachte Verteilung der Gaszuführungsleitungen 6 zur Gewährleistung einer reichlichen und ununterbrochenen Zuführung von Plasma zu den zu behandelnden Gegenständen, können Öfen mit zwei oder mehr sich überlagernden Auflagen 8 hergestellt werden, womit die Wirtschaftlichkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens weiter verbessert wird.
  • Es ist für Fachleute auf diesem Gebiet offensichtlich, dass der erfindungsgemäße Ofen weiterhin mit im Stand der Technik bekannten Vorrichtungen ausgestattet sein kann, wie etwa Messvorrichtungen, Sichtfenster, Zwangskühlungsvorrichtungen, die nicht Bestandteil der vorliegenden Erfindung sind. Es ist weiterhin möglich, Elemente seltener Erden, zum Beispiel Lanthan, auf die zu behandelnden Gegenstände zu sprühen. Die Elemente seltener Erden weisen eine katalysierende Wirkung auf und beschleunigen die Diffusion des Plasmas in das Metallgitter der Gegenstände.

Claims (7)

  1. Glimmentladungs-Nitrierverfahren, wobei ein Plasma gebildet wird in einem Ofen (9), der aus einem oberen Teil (1a) und einem elektrisch geerdeten unteren Teil (1b) sowie einer dazwischen liegenden Gasdichtung (3) besteht, wobei in dem Ofen (9), der auf einer Auflage zu behandelnde Metallgegenstände umfasst, eine Temperatur von etwa 300 bis 800°C und ein Druck unterhalb von etwa 20 hPa (mbar) aufrechterhalten wird, dadurch gekennzeichnet, dass durch Anlegen eines Stroms an eine Metallschirmkathode (5), die die zu behandelnden, auf einer Auflage (8) ruhenden Gegenstände umgibt, wobei die Gegenelektrode von den Wänden des Ofens (9) gebildet wird, Erhitzung des Ofens (9) und der zu behandelnden Gegenstände durch Strahlung von diesem Schirm (5), wobei die zu behandelnden Gegenstände im Schwebepotential gehalten werden, sowie durch Einleiten einer Gasmischung in den Ofen (9), so dass das Gas durch die Metallschirmkathode (5) fließt, das für die Nitrierreaktion notwendige Plasma durch Glimmentladung gebildet wird, das so gebildete Plasma zu den zu behandelnden Gegenständen strömt, und die Gase durch eine unterhalb der zu behandelnden Gegenstände angebrachte Leitung (2) abgeführt werden.
  2. Glimmentladungs-Nitrierverfahren, wobei ein Plasma gebildet wird in einem Ofen (9), der einen oberen Teil (1a) und einen elektrisch geerdeten unteren Teil (1b) sowie eine dazwischen liegenden Gasdichtung (3) umfasst, wobei in dem Ofen (9), der auf einer Auflage zu behandelnde Metallgegenstände umfasst, eine Temperatur von etwa 300 bis 800°C und ein Druck unterhalb von etwa 20 hPa (mbar) aufrechterhalten wird, dadurch gekennzeichnet, dass durch Anlegen eines Stroms an eine Metallschirmkathode (5), die die zu behandelnden, auf einer Auflage (8) ruhenden Metall gegenstände umgibt, wobei die Gegenelektrode von den Wänden des Ofens (9) gebildet wird, Erhitzung des Ofens (9) und der zu behandelnden Gegenstände durch Strahlung von diesem Schirm (5), Anlegen eines schwachen Stroms an die Auflage (8) und die Gegenstände, so dass die zu behandelnden Gegenstände eine schwache Kathode darstellen und die Belastung 1 kW nicht überschreitet, sowie durch Einleiten einer Gasmischung in den Ofen (9), so dass das Gas durch die Metallschirmkathode (5) fließt, wo das für die Nitrierreaktion notwendige Plasma durch Glimmentladung gebildet wird, das so gebildete Plasma zu den zu behandelnden Gegenständen, strömt und die Gase durch eine unterhalb der zu behandelnden Gegenstände angebrachte Leitung (2) abgeführt werden.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, dass die Gasmischung aus Stickstoff oder Stickstoff und Wasserstoff und/oder Argon besteht.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3 dadurch gekennzeichnet, dass eine Leistungsdichte von etwa 20 bis 50 W/dm2 auf den Schirm (5) angewandt wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 2, 3 oder 4 dadurch gekennzeichnet, dass die Gasmischung zusätzlich Methan, Propan, Schwefelwasserstoff und/oder Fluorkohlenwasserstoff umfasst.
  6. Glimmentladungsnitrierofen bestehend aus einem oberen Teil (1a) und einem elektrisch geerdeten unteren Teil (1b) sowie einer dazwischen liegenden Gasdichtung (3), wobei die Wände des Ofens (9) eine Gegenelektrode bilden, einer Auflage (8) für zu behandelnde Metallgegenstände, so dass während des Betriebs des Ofens die Artikel im Schwebepotential nitriert werden können, einer Abgas/Vakuumleitung (2) und umfassend einen elektrisch geerdeten Stromgenerator (4) zur Nitridhärtung der Gegenstände, dadurch gekennzeichnet, dass er einen Metallschirm (5), der die Auflage (8) umgibt umfasst, wobei der Generator (4) mit dem Metallschirm (5), der die Kathode des Ofens darstellt, verbunden ist, der Ofen weiterhin Gaszuführleitungen (6) umfasst, die um den Ofen und zwischen der Ofenwand und dem Metallschirm (5) angeordnet sind.
  7. Ofen nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei sich überlagernde Auflagen (8) innerhalb des Metallschirms (5) zur Verfügung gestellt werden.
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