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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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Der
erfindungsgemäße Apparat
liegt allgemein auf dem Gebiet der Materialtransportvorrichtungen.
Das zu transportierende Material kann aus Halbleiter-Wafern, wie
Silizium oder Galliumarsenit-Wafer, Halbleiterverpackungssubstrate,
wie hochdichte Zwischenverbinder, Abbildungsplatten für die Halbleiterherstellung,
wie beispielsweise Masken oder Strichplatten und großflächige Anzeigepaneele,
wie beispielsweise Aktivmatrix-LCD-Substrate umfassen, wobei diese
Aufzählung
nicht einschränkend
zu verstehen ist. Die vorliegende Erfindung betrifft genauer gesagt
eine Ladeschleuse gemäß dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1. Eine solche Ladeschleuse ist aus den Patent-Abstracts
of Japan Vol. 018, Nr. 673 (E-1647), 19. Dezember 1994 und aus der
JP 06268041 A bekannt.
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In
dieser Beschreibung wird der Ausdruck „Wafer" durchgängig benutzt und bezieht sich
auf die oben genannten Substrate, wobei dies doch so zu verstehen
ist, dass der Ausdruck im weitest möglichen Sinne zu verstehen
ist und sich auf alle Substrate bezieht. Typischerweise sind solche
Substrate rund und haben einen Durchmesser von 200 mm und eine Dicke
von ungefähr
0,76 mm, wobei jedoch in letzter Zeit die Tendenz zu 300 mm Durchmesser
bei gleicher Dicke geht. Die Erfindung lässt sich besonders vorteilhaft
für Substrate
mit der neuen Größe anwenden.
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Der
Transport empfindlicher Silizium-Wafer oder dergleichen zwischen
einer Mehrzahl von Arbeitsstationen oder Stationen bei der Herstellung
von Halbleitergeräten
stellt einzigartige Handhabungsprobleme dar. Silizium-Wafer sind
sehr empfindlich und haben hoch polierte Oberflächen und dennoch müssen sie
für einen
maximalen Durchsatz schnell und genau gehandhabt werden. Es war
früher üblich Kassetten,
das heißt
tragbare Trägervorrichtungen, die
allgemein verwendet wurden, um eine Mehrzahl von gestapelten Wafern
zu tragen und zu transportieren, per Hand in eine Ladeschleuse oder
eine andere Zwischenlagerstation einzulegen. Eine solche Ladestation
befindet sich in der Nähe
einer weiteren Transferstation, von wo aus die Wafer typischerweise zu
oder von einer Mehrzahl von Verarbeitungsstationen transportiert
wurden. Bei den bekannten Konstruktionen erfordern Ladeschleusen
eine Bedienungsperson oder einen Roboter als Lader, um Wafer oder
Kassetten, die mehrere Wafer aufnehmen, in der Ladeschleuse zu platzieren.
Dieses Verfahren ist oft schwierig, da üblicherweise wenig Spiel zwischen den
Kammerwänden
und den Wafern vorhanden ist.
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Es
sind verschiedenste Konstruktionen bekannt um Wafer von einem Ort
zum anderen zu tranportieren. Typische Geräte sind bekannt aus den
US-Patenten Nr. 4,674,936 ,
erteilt für
Bonora, Nr.
4,802,809 ,
erteilt für
Bonora und Nr.
5,169,272 ,
ebenfalls erteilt für
Bonora et al., wobei jeder der beschriebenen Apparate dazu bestimmt
ist, eine Kassette, die eine Mehrzahl von Wafern trägt von einem SMIF-Systemcontainer (Standard-Mechanical-Interface-System-Container)
zu transportieren.
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In
dem
US Patent Nr. 4,730,976 ,
erteilt für Davis
at al., ist eine Gelenkarmanordnung beschrieben, die sich in einer „froschähnlichen" Bewegung streckt
und zurückzieht,
um einen Wafer zwischen einer Mehrzahl von Orten zu tranportieren.
Die Gelenkarmanordnung ist in einer Radialebene um einen Schwenkpunkt
drehbar und kann in einer Axialrichtung gehoben und gesenkt werden.
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Eine
Verbesserung der Erfindung von Davis et al. ist in dem
US Patent Nr. 5,180,276 , erteilt für Hendrickson,
beschrieben wonach wiederum eine „froschähnliche" oder „froschsprungähnliche" Bewegung angewandt
wird. Eine andere Konstruktion eines Wafertransportapparates ist
in der internationalen Anmeldung Nr.
PCT/US87/01176 von
Westrake beschrieben, die einen Mechanismus zum Herausnehmen eines
Wafers aus einer Kassette in einer Ladeschleuse und zum Transportieren
des Wafers in einer Reaktionskammer hinein, für dessen Weiterverarbeitung,
beschreibt.
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Die
Patent-Abstracts of Japan, Vol. 018, Nr. 673 (E-1647), 19. Dezember
1994 und die
JP 06268041
A beschreiben eine Ladeschleuse mit einer Kammer, die eine
im Wesentlichen partikelfreie Umgebung bereitstellt und eine Ladeöffnung aufweist,
die sich zur Ladeschleusenkammer öffnet sowie einen Apparat zum
Transportieren einer Last in die Ladeschleusekammer und aus ihr
heraus, wobei der Apparat aufweist: Ein Basiselement, eine ebene Bühne zum
Tragen einer Last und Antriebshebelmittel, die auf dem Basiselement
montiert sind, um die Bühne
in einer Ebene zwischen einer zurückgezogenen Position zu bewegen,
in der die Bühne
eine erste Orientierung einnimmt und einer ausgestreckten Position,
in der die Bühne
eine zweite Orientierung einnimmt, die gegenüber der ersten Orientierung
winkelverdreht ist, wobei die Bühne
im Wesentlichen in der Ebene verbleibt, in der sie sich in der zurückgezogenen
Position befindet und wobei die Antriebshebelmittel aufweisen: Einen
Antriebshebel, der schwenkbar auf dem Basiselement montiert ist
und zwischen der zurückgezogenen
Stellung und der herausgestreckten Stellung beweglich ist, eine
Antriebshebelwelle, die drehbar auf dem Basiselement montiert ist, wobei
der Antriebshebel an der Antriebshebelwelle befestigt ist, um die
Bühne zwischen
der zurückgezogenen
Position und der herausgestreckten Position zu bewegen, einen Begrenzungsverbinder,
der sich zwischen dem Basiselement und der Bühne erstreckt, einen ersten
Verbindungsstift zum schwenkbaren Verbinden des Begrenzungsverbinders
mit dem Basiselement, wobei der erste Verbindungsstift in der Nähe von der
Antriebshebelwelle, jedoch von dieser beabstandet angeordnet ist,
einen zweiten Verbindungsstift, der von dem ersten Verbindungsstift
beabstandet ist, um den Begrenzungsverbinder und die Bühne schwenkbar
miteinander zu verbinden.
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Angesichts
des oben beschriebenen Standes der Technik wurde die vorliegende
Erfindung entwickelt und ist nun in die Praxis umgesetzt. Genauer gesagt
resultiert die Erfindung aus Anstrengungen, den Durchsatz existierender
Waferhandhabungssysteme auf eine Art zu erhöhen, die kompatibel mit existierenden
Systemen ist, wobei gleichzeitig ein Schutz der Wafer gewährleistet
wird.
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Eine
erste Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, die Produktivität von Waferverarbeitungssystemen
zu steigern.
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Eine
weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Kassette,
die eine Mehrzahl von Wafern gestapelt und beabstandet enthält von einer
Trägerbühne, die
benachbart zu einem Waferverarbeitungssystem angeordnet ist in eine
Ladeschleuse zu transportieren, wobei die Wafer genau positioniert
sind, um sie innerhalb des Systems weiterzubewegen. Diese Aufgaben
werden durch eine Ladeschleuse, wie sie in Anspruch 1 beansprucht
ist gelöst.
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Unteransprüche sind
auf Merkmale bevorzugter Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung gerichtet.
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Andere
und weitere Merkmale, Vorzüge
und Vorteile der Erfindung werden durch die folgende Beschreibung
unter Bezug auf die beigefügten
Figuren klar. Die oben stehende allgemeine Beschreibung und die
folgende detaillierte Beschreibung sind exemplarisch und lediglich
zur Erläuterung
der Erfindung zu verstehen und beschränken die vorliegende Erfindung
nicht. Die beigefügten
Zeichnungen stellen einen Teil dieser Erfindung dar und erläutern eine Ausführungsform
der Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, die
Prinzipien der Erfindung allgemein zu erläutern. Gleiche Bezugszeichen
beziehen sich in der gesamten Beschreibung auf gleiche Teile.
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KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
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1 zeigt
eine Draufsicht auf ein Paar nebeneinander angeordneter Verarbeitungssysteme, bei
denen der erfindungsgemäße Wafertransportapparat
verwendet werden kann;
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2 zeigt
eine Draufsicht, die detaillierter ein einzelnes der Verarbeitungssysteme
gemäß 1 zeigt
und einen Wafertransportapparat nach der vorliegenden Erfindung
verwendet;
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3 zeigt
eine Frontansicht des in 2 gezeigten Verarbeitungssystems;
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4 zeigt
eine Seitenansicht des in 3 gezeigten
Verarbeitungssystems, wobei einige Teile aus Klarheitsgründen herausgeschnitten
sind;
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5 zeigt
eine perspektivische Ansicht des erfindungsgemäßen Transportapparates, wobei
einige Teile geschnitten bzw. weggeschnitten sind;
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6 zeigt
eine Draufsicht auf den in 5 gezeigten
Transportapparat;
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7 zeigt
eine Seitenansicht des in den 5 und 6 gezeigten
Transportapparates, wobei einige Teile herausgeschnitten bzw. geschnitten sind;
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8 zeigt
eine vergrößerte, detailliertere Draufsicht
auf die in 2 gezeigte Konstruktion, wobei
weggeschnitten bzw. geschnitten sind, wobei sich Komponenten in
der zurückgezogenen
Position befinden;
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9 zeigt
eine vergrößerte Draufsicht, ähnlich 8,
wobei die Komponenten in der ausgestreckten Position gezeigt sind;
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10 zeigt
eine Draufsicht zur Erläuterung der
Kinematik bestimmter Komponenten der Erfindung, wenn diese von der
zurückgezogenen
Position in eine Zwischenposition und schließlich in die ausgestreckte
Position bewegt werden;
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11 zeigt
eine detaillierte perspektivische Ansicht einer Komponente der Erfindung;
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12 zeigt
eine detaillierte perspektivische Ansicht einer anderen Komponente
der Erfindung;
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13 zeigt
eine Draufsicht, teilweise geschnitten, die die einzelnen in 11 und 12 gezeigten
Komponenten in Zusammenwirkung zeigt;
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14 zeigt
eine detaillierte Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung;
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15 zeigt
eine Draufsicht auf die in 14 gezeigte
Ausführungsform;
und
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16 zeigt
eine Draufsicht auf eine weitere Ausführungsform der Erfindung.
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DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Mit
Bezug auf die Zeichnungen zeigt zuerst 1 eine Reihe
von Verarbeitungssystemen 20 zum Bearbeiten ebener Siliziumsubstrate,
wie beispielsweise Wafer und flache Platten. Wie bereits zuvor erwähnt soll
der Ausdruck „Wafer" sich aus Klarheitsgründen auf
solche Substrate beziehen und soll im weitesten Sinne verstanden
werden, derart, dass er sich auf alle Substrate bezieht. Die Verarbeitungssysteme 20 können zum
Beispiel nebeneinander innerhalb eines „Reinraums" 22 angeordnet sein, der von
der Außenwelt
durch eine Wand 24 getrennt ist. Seit kurzem ist es üblich geworden
Reinräume
zu eliminieren und stattdessen die reine Atmosphäre innerhalb des Systems 20 und
innerhalb der Instrumente und Geräte, die an das System angeschlossen
sind, aufrecht zu erhalten.
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Auf
jeden Fall ist es üblich
eine große
Anzahl von Wafern 25 (2) innerhalb
einer Kassette 26 oder innerhalb eines Trägers mit
kontrollierter Atmosphäre,
wie beispielsweise einen SMIF („standard mechanical interface") Behälter zu
transportieren. Dabei werden eine Mehrzahl von Wafern in die Kassette
geladen, wo sie zueinander beabstandet, gestapelt getragen werden
und anschließend
werden die Kassetten per Hand oder auf andere Weise transportiert
und auf einer Platte 28 abgelegt, die benachbart zu einem zugehörigen System 20 angeordnet
ist, um den Eintritt zur Verarbeitung zu erwarten. Früher wurde
die Kassette manuell oder per Roboter von außen in eine Wartekammer 30 innerhalb
einer Ladeschleuse 32 bewegt, wenn eine Eingangstür 34 (2, 3, 4)
geöffnet
wurden, um den Zugang durch eine Ladetür 35 (4)
zu ermöglichen.
Mit dem zu beschreibenden Transferapparat 36 wird die Kassette 26 von
der Platte 28 abgehoben und in die Kammer 30 der
Ladeschleuse 32 von innerhalb der Kammer bewegt. Dann werden
die Wafer 25 mit einem Apparat, der kein Bestandteil der
vorliegenden Erfindung ist, einzeln in eine Transportkammer 38 bewegt
und von dort zu einer oder mehreren der Mehrzahl von Verarbeitungsstationen 40.
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Erfindungsgemäß, insbesondere
mit Bezug auf die 4 bis 9, weist
der Transferapparat 36 eine Basisplatte 42 und
einen Hebelantriebsmechanismus 44 auf, der betätigbar ist,
um selektiv die Basisplatte zwischen einer erhöhten Position (wie durch die
gestrichelten Linien in 3 gezeigt ist) und einer abgesenkten
Position (wie in 3 mit den durchgezogenen Linien
dargestellt ist) zu bewegen. Eine solche Bewegung kann wie gewünscht ausgeführt werden,
entweder über
eine große
Distanz oder inkrementierend. Antriebshebelmittel 46 sind
auf der Basisplatte 42 montiert und tragen wiederum eine
ebene Bühne 48,
die die Last trägt,
genauer gesagt eine Kassette 26 oder eine andere Art von
Waferträgern. Die
hier beschriebene Konstruktion bewegt die Bühne 48 in einer Ebene
zwischen einer zurückgezogenen
Position (3 und 8) wobei
die Bühne
eine erste Orientierung und eine ausgestreckte Position (4 und 9)
einnimmt, wobei die Bühne
eine winkelmäßig gegenüber der
ersten Orientierung versetzte zweite Orientierung einnimmt. Selbst
wenn die Bühne 48 in
die ausgestreckte Position bewegt wird verbleibt sie im Wesentlichen
in der Ebene, in der sie sich in der zurückgezogenen Position befand.
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2 vermittelt
ein besseres Verständnis der
Ausdrücke „erste
Orientierung" und „zweite
Orientierung", wo
man erkennt, dass die Kassette 26 auf der Platte 28 abgelegt
ist, sodass deren quadratische Seiten entweder parallel zur Wand 24 oder
senkrecht dazu verlaufen. Wenn die Kassette jedoch auf der Bühne 48 innerhalb
der Kammer 30 platziert ist, ist es notwendig diese relativ
zur Wandebene 24 schräg anzuordnen,
um den darauffolgenden Transport der Wafer 25 in die Transportkammer 28 und
danach zu den Verarbeitungsstationen 40 zu gewährleisten.
Der Transferapparat 36 stellt sicher, dass während des Tranports
der Kassetten 26 von der Platte 28 in die Kammer 30 die
Bühne korrekt
in der Ebene bewegt wird, ausgehend von einer Orientierung die im
Allgemeinen zur Wand 24 ausgerichtet ist in eine Orientierung,
die im Wesentlichen mit einem Zwischenventil 50 zwischen
der Ladeschleuse 32 und der Transportkammer 38 ausgerichtet
ist. 10 zeigt eine Draufsicht zur Erläuterung
der Kinematik der Bühne 48, während diese
aus der zurückgezogenen
Stellung heraus über
eine Zwischenstellung in die ausgestreckte Stellung bewegt wird.
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Zu
diesem Zweck weist der Antriebsarmmechanismus 46 einen
Antriebsarm 52 auf, der schwenkbar auf der Basisplatte 42 derart
montiert ist, dass dessen Bewegung zwischen der zurückgezogenen
Position (4, 8) und der
ausgestreckten Position (5, 9) ermöglicht wird,
wie zuvor beschrieben. Genauer gesagt ist eine sich vertikal erstreckende
Antriebsarmwelle 54 drehbar auf der Basisplatte mittels
beabstandeten Lagern 56, 58 gelagert und der Antriebsarm
ist zum Beispiel durch Verkeilen an der Antriebsarmwelle befestigt,
um die Bühne 48 zwischen
der zurückgezogenen
Position und der ausgestreckten Position zu bewegen.
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Ein
Begrenzungsverbinder 60 erstreckt sich zwischen der Basisplatte 42 und
der Bühne 48.
Genauer gesagt ist der Begrenzungsverbinder 60 schwenkbar
montiert, mittels eines ersten Verbindungsstiftes 62 an
einem Basisträger 64,
der einstückig
mit der Basisplatte 42 ausgeführt ist und sich in einer Ebene
erstreckt, die parallel zur Basisplatte und von dieser beabstandet
ausgerichtet ist. Ein zweiter Verbindungsstift 66, der
vom ersten Verbindungsstift 62 beabstandet ist dient zur
schwenkbaren Verbindung des Begrenzungsverbinders mit der Bühne. Ein Antriebshebelstift 68,
der von der Antriebsarmwelle 54 beabstandet ist dient zur
schwenkbaren Verbindung des Antriebsarms mit der Bühne. Bei
dieser Anordnung ist der erste Verbindungsstift 62 der
Antriebsarmwelle 54 angenähert, jedoch von dieser beabstandet
angeordnet und der zweite Verbindungsstift 66 ist im Steuerarmstift
angenähert,
jedoch von diesem beabstandet. Die Längsachsen der Steuerarmwelle 54,
des Steuerarmstiftes 68, des ersten Verbindungsstiftes 62 und
des zweiten Verbindungsstiftes 66 sind alle parallel zueinander
angeordnet. Ferner sind diese Komponenten alle jeweils so zueinander
angeordnet, dass wenn der Antriebshebelmechanismus 46 sich
von der zurückgezogenen
Stellung in die ausgestreckte Stellung bewegt, die Bühne 48 sich
gleichzeitig aus ihrer ersten Orientierung in ihre zweite Orientierung
bewegt, wie oben beschrieben wurde.
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Ein
elastisches Element in Form einer Zugfeder 70 erstreckt
sich zwischen und ist jeweils befestigt an der Bühne 48 und dem Antriebshebel 52 um, unter
anderem, die Bühne
in der zurückgezogenen Position
vorzuspannen. Andere Funktionen der Zugfeder 70 werden
weiter unten beschrieben.
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Der
Transferapparat 36 weist ferner eine Antriebswelle 72 und
einen geeigneten Motor 73 zum Drehen der Antriebswelle
auf. Ein Kupplungsmechanismus 74 (siehe insbesondere 7 und 11 bis 13)
verbindet antriebsmäßig die
Antriebshebelwelle 54 mit der Antriebswelle 72 über einen
Bereich von Stellungen, die von der Basisplatte 42 und
der von dieser getragenen Kassette 26 zwischen der angehobenen
und der abgesenkten Stellung (3) eingenommen
werden soll. Die Antriebshebelwelle 54 hat eine Längsachse,
die senkrecht orientiert ist und sich zu einem unteren Ende erstreckt,
in der Nähe
dessen eine sich diametral erstreckende Achse 76 befestigt
ist. Die Achse kann im Presssitz in einer diametralen Bohrung aufgenommen
sein und diametral gegenüberliegende
Enden aufweisen, die sich von der Antriebshebelwelle 54 erstrecken.
Ein Paar sich gegenüberliegend
angeordneter Rollen 78 sind jeweils drehbar an den sich
gegenüberliegenden
Enden der Achse befestigt.
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Die
Antriebswelle 72 ist axial mit der Antriebshebelwelle 54 ausgerichtet
und erstreckt sich zu einem oberen Ende, an dem ein Paar sich axial
erstreckender diametral gegenüberliegender
Antriebsvorsprünge 80 über das
obere Ende der Antriebswelle hinaus erstrecken und erste und zweite
Rollflächen 82 aufweisen
zur jeweiligen Aufnahme der Rollen 78. Die Zugfeder dient
ebenfalls dazu, die Rollen 78 in Eingriff mit den Rollflächen 82 auf
den Antriebsvorsprüngen 80 vorzuspannen.
Mit dieser Konstruktion bleiben während der Betätigung des
Hebeantriebsmechanismus 44 die Rollen 78 in Eingriff
mit den entsprechenden Rollflächen,
um somit die Antriebshebelwelle 54 zu drehen.
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Wie
in den 5 bis 9 zu sehen ist, ist eine Stoppplatte 84 einstückig und
von dieser hochstehend in der Basisplatte 42 ausgeformt.
Die Zugfeder 70 spannt ebenfalls den Antriebshebel 52 dicht an
die Stoppplatte heran vor. Dies tritt auf wenn die Bühne 48 und
der Antriebshebelmechanismus 46 in der zurückgezogenen
Stellung sind. Um zeitweise den Antriebshebel 52 dicht
an der Stoppplatte zu halten bzw. vorzuspannen, ist ein erster Magnet 86 geeignet
an dem Antriebshebel montiert und ein zweiter Magnet 88 mit
entgegengesetzter Polarität
wie der Magnet 86 ist geeignet an der Stoppplatte befestigt. Zu
diesem Zweck ist der zweite Magnet gegenüber dem ersten Magnet angeordnet
wenn der Antriebshebel 52 in der Nähe der Stoppplatte 84 angeordnet ist.
Eine Stellschraube 89, die in ein geeignetes geschnittenes
Gewindeloch in der Stoppplatte 84 (6) eingeschraubt
ist, steht von einer Seitenfläche
der Stoppplatte hervor und ihr distales Ende berührt den Antriebshebel 52 wenn
der Antriebshebel dicht an der Stoppplatte angeordnet ist. Durch
Einstellen der Stellschraube 89 kann der Abstand zwischen
dem Antriebshebel und der Stoppplatte justiert werden.
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Der
Betrieb des Transferapparats 36 kann zum Beispiel begonnen
werden mit einer leeren Bühne 48,
die innerhalb der Kammer 30 (siehe 8) angeordnet
ist. Dann wird der Motor 73 betätigt, um die Antriebswelle 72 zu
drehen und damit die Antriebshebelwelle 54, was bewirkt,
dass die Bühne 48 sich
in die ausgestreckte Position (siehe 9) bewegt.
Die Bühne 48 befindet
sich auf der richtigen Höhe,
um frei unter eine Kassette 26 zu gleiten, die von der
Platte 28 getragen wird. Wenn die Bühne 48 sich quadratisch
ausgerichtet unter der Kassette befindet, wird der Hebeantriebsmechanismus 44 betätigt, um
die Kassette von der Platte 28 abzuheben, und der Motor 73 wird
erneut betätigt,
jedoch in umgekehrter Richtung wie zuvor um die Bühne 48,
welche nun die Kassette trägt
in die Kammer 30 zurückzuführen, sodass
diese die in 8 gezeigte Position einnimmt.
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Gemäß einer
anderen Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung kann ein Koppelmechanismus 90 die
in den 14 und 15 gezeigte
Konstruktion aufweisen. In diesem Fall weist eine modifizierte Antriebswelle 72A einen
quer verlaufenden Schlitz 92 an ihrem oberen Ende zwischen
sich gegenüberliegenden
gekrümmten
Schenkeln auf, die sich gegenüberliegende
Rollflächen 96 bilden.
Das untere Ende der Antriebshebelwelle 54 hat die gleiche
Konstruktion wie zuvor beschrieben und wie in 10 gezeigt.
Somit sind die Rollen 78 drehbar in dem Schlitz 92 aufgenommen
und in Berührung
mit den Rollflächen 96.
Wie bei der zuvor beschriebenen Ausführungsform führt ein
Drehen der Antriebswelle 72A zu einem Drehen der Antriebshebelwelle 54, selbst
wenn letztere zusammen mit der Basisplatte 42 angehoben
und abgesenkt wird.
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Noch
eine weitere Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist in 16 gezeigt.
Hier ist eine Platte 28A zum Tragen einer waferenthaltenden Kassette
fluchtend vor einer Ladeschleuse 32A positioniert, sodass
eine Bühne 48A zur
Aufnahme der Kassette die gleiche winkelmäßige Orientierung aufweist,
wenn sie sich in der zurückgezogenen
Position befindet wie ebenfalls in der ausgestreckten Position, während die
Bühne stets
im Wesentlichen in der Ebene verbleibt, die sie in der zurückgezogenen
Position einnimmt. Dieses Ergebnis wird erzielt durch geeignete
Wahl der relativen Längen
des Antriebshebels 52 und des Begrenzungsverbinders 60.
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Der
Transferapparat 36 ist mit geeigneten Sensoren versehen,
um den Zustand der betätigten Komponenten
anzuzeigen. Zum Beispiel ist es wünschenswert zu wissen, ob eine
Kassette auf der Bühne 48 platziert
ist oder nicht. Wie in 7 zu sehen ist, weist die Bühne 48 einen
eingeschnittenen Bereich 100 auf zum Aufnehmen eines Sensors 102 zum
Erfassen der Anwesenheit einer Kassette. Der Sensor 102 weist
eine Basis 104 auf, an dem ein flexibler Arm 106 an
der Bühne
befestigt wird. Ein Knopf 108 zum Berühren einer Kassette ist am
Ende des elastischen Arms 106 befestigt. Der elastische
Arm 106 liegt über
einem Schalter 110, der ebenfalls auf der Bühne 48 montiert
ist. Wenn eine Kassette auf der Bühne 48 abgelegt wird,
berührt
diese den Knopf 108, presst den flexiblen Arm 106 herunter
und betätigt
den Schalter 110. Wenn eine Kassette von der Bühne entfernt
wird steht der Knopf 108 nicht länger in Eingriff mit einer
Kassette, sodass der elastische Arm 106 aus dem Eingriff
mit dem Schalter 110 heraus schwingt, sodass dieser nicht
mehr länger
betätigt
ist.
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Der
Transferapparat 36 ist ebenfalls mit geeigneten Sensoren
zum Erfassen der Position der Bühne 48 versehen,
um anzuzeigen, ob sich diese in der zurückgezogenen Stellung oder in
der ausgestreckten Stellung befindet. Wie man zum Beispiel in 10 erkennt
umfasst ein Sensor 112 zum Erfassen der zurückgezogenen
Stellung einen Magneten 114, der geeignet an der Wand der
Ladeschleuse 32 angeordnet ist und ein zugehöriger Magnetschalter 116 ist
an der Unterseite der Bühne 48 montiert. Wenn
die Bühne
sich in der zurückgezogenen
Position befindet (angezeigt durch die gestrichelten Linien) betätigt der
Magnet 114 den Schalter 116 um anzuzeigen, dass
die Bühne
sich tatsächlich
in der zurückgezogenen
Position befindet. Auf ähnliche
Weise umfasst ein Sensor 118 zum Erfassen der ausgestreckten
Position einen Magneten 120, der geeignet an der Unterseite
der Bühne 48 angeordnet
ist, und ein zugehöriger
Magnetschalter 122 ist am Begrenzungsverbinder 60 montiert.
Wenn die Bühne
sich in der ausgestreckten Position befindet (eingezeichnet durch
durchgehende Linien) betätigt
der Magnet 120 den Schalter 122, um anzuzeigen,
dass die Bühne sich
tatsächlich
in der ausgestreckten Position befindet.
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Während bevorzugte
Ausführungsformen der
Erfindung im Detail erläutert
wurden ist zu verstehen, dass verschiedene weitere Modifikationen
bei den erläuterten
Ausführungsformen
gemacht werden können,
ohne den Bereich der Erfindung, wie beschrieben und beansprucht,
zu verlassen.