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Gebiet der Erfindung
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Die
Erfindung betrifft einen Roboter zur Handhabung eines scheibenförmigen Gegenstandes,
insbesondere eines Wafers, mit den Merkmalen des Oberbegriffs des
Anspruches 1, sowie ein Verfahren zum Abtasten der Oberfläche eines
scheibenförmigen
Gegenstandes.
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Roboter
mit mindestens einem Roboterarm, der in mindestens einer Ebene bewegbar
ist und ein freies Ende mit einem daran angebrachten Endeffektor
zur Handhabung von scheibenförmigen
Gegenständen
aufweist, sind aus zahlreichen Dokumenten bekannt, so aus
EP 1 147 863 A2 ,
EP 1 464 455 A1 ,
US 5 135 349 ,
US 5 288 199 . Halbleiterwafer werden mittels
komplizierter mehrstufiger Verfahren in einer Reinraumumgebung hergestellt.
Die Herstellung ausgeklügelter
elektronischer Chips aus Wafern kann bis zu 150 Schritte umfassen.
Die Technologien im Submikronbereich sind sehr empfindlich, und
in jeder der vielen Stufen besteht immer die Möglichkeit eines Fehlers oder
einer Fehlfunktion, die so rasch wie möglich erkannt werden muss.
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Während der
gesamten Halbleiterverarbeitung werden Präzisionsbewegungssysteme, z.B.
Positionierungsstufen, verwendet, so beispielsweise in Wafermessgeräten, z.B.
Mikroskope.
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Der übliche Lösungsweg
besteht darin, ein selbständiges,
d.h. ein in seiner Funktion unabhängiges, X-Y-Bewegungssystem innerhalb des Messgerätes zu verwenden,
das über
ein Spannfutter verfügt,
dem der Wafer vom Waferhandhabungssystem aus, das einen Roboter
zum Transportieren des Wafers von einer zur nächsten Produktions- oder Inspektionsstufe
beinhaltet, zugeführt
wird.
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Daraus
ergibt sich der typische Arbeitsablauf:
- 1.
Das X-Y-Bewegungssystem bewegt sich in eine Ladestellung, in der
der Wafer
- 2. vom Roboter dem Spannfutter des X-Y-Bewegungssystems zugeführt wird,
wonach der Wafer in das Messgerät
bewegt und
- 3. das Mess- oder Inspektionsverfahren durchgeführt wird,
und anschließend
bewegt
- 4. das Bewegungssystem den Wafer zurück zur Ladeposition, wo er
- 5. dem Handhabungssystem oder dem Roboter übergeben wird.
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Wenn
man diesen Arbeitsablauf- von einem Systemstandpunkt aus betrachtet,
kann man erkennen, dass es zwei zueinander redundante Bewegungssysteme
gibt, d.h. das Handhabungssystem und das X-Y-Bewegungssystem des
Messgerätes.
In einem so ausgeführten
Handhabungssystem hängt der
Durchsatz in hohem Maße
von der Wartezeit des Messgerätes
bis zur Übergabe
von Material durch die Roboterhandhabungsvorrichtung ab. Bei der
Erfindung soll Zeit dadurch gespart werden, dass zwei zeitaufwändige Waferübergaben
wegfallen, nämlich vom
Handhabungssystem auf die Werkstückaufnahme
der Positioniereinrichtung und zurück auf das Handhabungssystem.
Darüber
hinaus sei darauf hingewiesen, dass in Systemen nach dem Stand der Technik
zwei separate Bewegungssysteme für
die Handhabung und das Messverfahren erforderlich sind.
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Diese
und andere Nachteile haben zu den Aufgaben der vorliegenden Erfindung
geführt,
die insbesondere darin bestehen, die bekannten Bewegungssysteme
zu vereinfachen und den Durchsatz des Produktions- und/oder Inspektionsverfahrens
zu steigern.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die
Lösung
im Rahmen der Erfindung ergibt sich aus dem in den unabhängigen Ansprüchen definierten
Apparat. Weitere Verbesserungen und vorteilhafte Entwicklungen sind
Bestandteile der jeweiligen abhängigen
Ansprüche.
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Somit
stellt die Erfindung generell die Anordnung eines geführten Roboters
dar, um eine Präzisionsbewegung
eines Gegenstands auszuführen,
insbesondere zur Bereitstellung einer Präzisionsbewegung eines scheibenförmigen Werkstückes, beispielsweise
eines Wafers. Die Anordnung umfasst einen Roboter mit mindestens
einem Roboterarm, der ein freies Ende und ein am Roboter gelagertes
Ende umfasst, wobei der Roboter das freie Ende des Arms mindestens
in einer Bewegungsebene bewegen kann, und wobei eine Führungseinrichtung
in der Lage ist, eine präzise
Führung
des freien Endes des Arms mindestens in dieser Ebene zu bewirken.
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Auf
diese Weise bietet die Erfindung erstmals die Möglichkeit, den in jedem Waferhandhabungssystem
vorhandenen Roboter auch als ein Bewegungssystem in Messgeräten zu verwenden,
so dass die Notwendigkeit eines gesonderten Bewegungssystems innerhalb
des Messgerätes
entfällt. Damit
werden Apparateherstellungskosten gesenkt. Ferner wird die Zykluszeit
für eine
Messung der Wafer verkürzt,
weil Zeit eingespart wird, die sonst durch die Waferübergabe
vom Handhabungssystem zum Messbewegungssystem verbraucht wird. Zusätzlich sei
darauf hingewiesen, dass im Rahmen der vorliegenden Erfindung Handhabungsroboter
in verschiedenen Ausführungen,
wie beispielsweise SCARA-Roboter
oder lineare Roboter, eingesetzt werden können.
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Abhängig vom
Bewegungssystem des Roboters, d.h. ob der Roboter ein polares Koordinatensystem
mit einer Linearradius- oder R-Bewegungsachse und einer drehbaren
Plattform- oder Thetabewegungsachse (R-Theta) hat, oder ob er ein
Kartesisches Koordinatensystem für
eine X-Y-Bewegung hat, wird eine Führungseinrichtung bereitgestellt,
die eine oder zwei oder mehrere Präzisionsbewegungs- oder Führungsachsen
umfasst. Es wird somit sichergestellt, dass das Ende des Roboterarms
bzw. ein Endeffektor, der am Ende des Roboterarms befestigt ist,
um das scheibenförmige
Werkstück
an diesem Ende aufzunehmen und zu halten, gezwungen wird, sich exakt
entlang der jeweiligen Achse zu bewegen. Die Bewegung des Endeffektors
ohne die zusätzliche Zwangsführung würde die
Präzisionserfordernisse einer
Abtastung eines Wafers, beispielsweise im Innern eines Mikroskops,
nicht erfüllen.
Im Falle eines R-Theta-Systems ist allgemein eine einzige Bewegungsachse
ausreichend. Wenn ein X-Y-Bewegungssystem verwendet wird, stehen
zwei übereinander
angeordnete lineare Achsen zur Verfügung. Die Bewegungsrichtung
dieser Achsen ist um 90° versetzt,
so dass sich ein Kartesisches Koordinatensystem ergibt.
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Die
Wahl des Bewegungssystems wirkt sich auch auf die Wahl eines geeigneten
Endeffektors aus. Wenn daher beispielsweise im Rahmen dieser Erfindung
ein SCARA-Roboter mit einem R-Theta-Bewegungssystem verwendet wird,
wird vorteilhafterweise der Endeffektor mit der Fähigkeit
des Drehens des scheibenförmigen
Werkstücks
um seine Drehachse ausgewählt.
Ein solcher Endeffektor ist in der WO 02/02282 A1 beschrieben, auf
die Bezug genommen wird.
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Ein
solcher Endeffektor ersetzt eine separate Drehstufe, die ansonsten
erforderlich wäre.
Darüber hinaus
ist es dadurch möglich,
die Abhängigkeit
der Winkelorientierung des Drehgelenks (in der Art eines Handgelenks)
und somit diejenige des Endeffektors eines SCARA-Roboters problemlos
auszuschließen. Die
erwähnte
Abhängigkeit
ergibt sich aus der Tatsache, dass die Endeffektoren solcher Roboter
immer radial im Verhältnis
zur Theta-Achse orientiert sind.
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Ein
weiteres erfindungsgemäßes Merkmal betrifft
eine Montageeinrichtung zum lösbaren
Befestigen des Endes des Roboterarms und/oder des Endeffektors an
den beweglichen Führungsmitteln.
Die Montageeinrichtung umfasst vorzugsweise eine pneumatische Verriegelung,
die an einer Seite, nämlich
der Oberseite einer Plattform angeordnet ist, während die andere Seite der
Plattform die beweglichen Führungsmittel
umfasst. Die beweglichen Führungsmittel
können
Lager in einer beliebigen bekannten Ausführung beinhalten, beispielsweise
Rollenlager, Profilführungen
mit Umlaufkugelkonsolen oder sogar Luftpolsterlager. Diese beweglichen
Führungen
wirken mit an einem Montageelement angeordneten Schienen zusammen,
um die Plattform und somit das Ende des Roboterarms oder den Endeffektor präzise zu
führen.
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Wenn
der erfindungsgemäße Montagemechanismus
darüber
hinaus auf Wunsch einen Drehfreiheitsgrad besitzt, der es zulässt, den
Endeffektor in eine Veriegelungsposition zu drehen, eröffnet dies auch
die Möglichkeit,
die Abhängigkeit
der Winkelorientierung des Drehgelenks und somit diejenige des Endeffektors,
wie vorstehend beschrieben, auszuschalten.
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Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung wird das freie Ende des Roboterarms von der erfindungsgemäßen Führungseinrichtung passiv
geführt.
Dies bedeutet, dass einzig der Roboter die Antriebskraft für die Bewegung
des geführten freien
Endes des Roboterarms bzw. des Endeffektors bereitstellt. Dies schließt ein,
dass lediglich die Motoren und die Positionsrückmeldeelemente des Roboters
für den
Prozess der Bewegung eingesetzt werden.
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Um
eine noch weitere Verbesserung des Bewegungssystems der erfindungsgemäßen Anordnung
zu erreichen, umfasst die Führungseinrichtung zusätzliche
Codierer für
ein sekundäres
Positionierungsrückmeldesystem.
Somit ergibt sich durch die Verwendung eines geschlossenen Regelkreises
für die
Stellung der Plattform keine Möglichkeit,
dass die Position der Plattform verloren geht. Präzisionsbewegungssystem
bedeutet in dieser Hinsicht, dass die Plattform in einem Toleranzband
von 2 bis 3 μm
pro 100 mm geführt
wird.
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Es
ist natürlich
möglich,
dass die Führungseinrichtung
selbst einen internen Antrieb beinhaltet. In diesem Fall kann beispielsweise
der Roboter als ein Bewegungsregler eingesetzt werden, der sein
eigenes internes Rückmeldesystem
verwendet, um den Positionsregelkreis zu schließen. Somit besteht vorteilhafterweise
kein Bedarf an einer zusätzlichen Schnittstelle
für den
Verfahrensregler. Darüber
hinaus wird die Regelprogrammierung vereinfacht, weil der Roboter
und das Messbewegungssystem die gleiche Regelsprache verwenden.
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Gemäß einer
zusätzlichen
weiteren Entwicklung im Rahmen der Erfindung ist darüber hinaus
vorgesehen, dass die Führungseinrichtung
ein selbständiges
Bewegungssystem beinhaltet, wie es von XYZ-Stufen von Mikroskopen
bekannt ist, wobei Mittel zur Verfügung stehen, die insbesondere
eine vollständige
mechanische Entkopplung des Endeffektors vom Roboterarm ermöglichen.
Es sei darauf hingewiesen, dass der Roboter auch in dieser Ausführungsform
eine wichtige Rolle spielt. In dieser Hinsicht kann der Roboter
beispielsweise noch die Drehbewegung des scheibenförmigen Werkstücks oder der
Wafer an einem entsprechenden Endeffektor (siehe oben) sowie die
Regelelektronik zur Verfügung
stellen, so dass die Kosten reduziert und die Auslegung des Systems
vereinfacht werden. Die Energieversorgung wird jedoch über die
Montageeinrichtung bereitgestellt.
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Mit
der Aufgabenlösung
der Erfindung steht eine Inspektionsvorrichtung in Zusammenhang,
die zur Überprüfung einer
Oberfläche
eines Gegenstands, insbesondere eines scheibenförmigen Werkstücks, beispielsweise
eines Wafers, dient. Diese Inspektionsvorrichtung umfasst eine Anordnung
mit Roboter und Präzisionsführungseinrichtung
zum Positionieren und Ausrichten des Werkstücks innerhalb der Inspektionsvorrichtung.
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Darüber hinaus
beinhaltet der Schutzbereich der Erfindung ein Verfahren zum Abtasten
eines scheibenförmigen
Gegenstandes, das insbesondere in der Inspektionsvorrichtung durchgeführt wird.
Der Endeffektor des Roboters hält
das scheibenförmige Werkstück, insbesondere
den Wafer, in einer definierten Position und wird entlang der Bewegungsachse
der Führungseinrichtung
angetrieben. Mit der Bewegung des Endeffektors im Innern der Inspektionsvorrichtung
wird eine Oberflächenüberprüfungsabtastung
des scheibenförmigen
Werkstücks
durchgeführt.
Der Endeffektor wird nach erfolgter Inspektion zurück in die
definierte Ausgangsposition bewegt. In dieser Position wird der
Endeffektor vom Führungsmittel
gelöst,
so dass sich der Roboter mit seinem Endeffektor nach erfolgtem Lösen zur
nächsten Station
im Produktions- oder Inspektionsverfahren bewegen kann.
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KURZE BESCHREIBUNG DER
ZEICHNUNGEN
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Die
Erfindung mit ihren zusätzlichen
Merkmalen und Vorteilen wird durch die nachstehende Beschreibung
am besten verdeutlicht. Bei den Zeichnungen stellen dass:
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1 eine Übersicht
der wesentlichen Teile der erfindungsgemäßen Roboterführungsanordnung;
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2 einen
Schnitt A-A durch eine Montageeinrichtung der 4;
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3 einen
Schnitt durch ein Positionsfixierungselement in 2;
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4 eine
Draufsicht auf die Montageeinrichtung der 2 und 5;
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5 Schnittansichten
B-B gemäß 4, wobei 5A die
Montageeinrichtung in der verriegelten Stellung und 5B die
Montageeinrichtung in der gelösten
Stellung zeigt;
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6 eine
Ansicht der in ein Gestell eingebauten erfindungsgemäßen Anordnung.
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AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 zeigt
ein Beispiel einer Ausführungsform
der erfindungsgemäßen Anordnung
aus Roboter und Führung.
Die Anordnung umfasst zwei Hauptbauteile, nämlich einen Roboter 2 und
eine Präzisionsführungseinrichtung 3.
Der dargestellte Roboter "durchgängig" 2 ist vom
SCARA-Typ. Er umfasst ein Gehäuse 4,
einen Roboterarm 5 und einen Endeffektor 6, der
einen schreibesförmigen
gegenstand 7, wie einen Wafer hält. Der Roboter 2 beinhaltet
Motorantriebe zum Antrieb des Roboterarms 5 und des Endeffektors 6,
sowie einen Roboterregler, die beide in 1 nicht
dargestellt sind. Der Endeffektor 6 wird verwendet, um
die Wafer zu ergreifen und zu halten, und der Roboterarm 5,
der verschiedene Motoren und mechanische Antriebe beinhaltet, die
in den Figuren nicht dargestellt sind, bewegt den Endeffektor 6 und
den von ihm gehaltenen Wafer von einer Station zu einer anderen
während
eines Inspektions oder Produktionsverfahrens.
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Für die Handhabung
eines einzelnen Wafers in einem Halbleiterwerk verfügt der Roboter 2 typischerweise über drei
Positionierungsachsen. Eine Achse, Z-Achse genannt, dient dazu,
den Wafer mit seinem Arm vertikal nach oben und nach unten zu bewegen,
und mindestens zwei weitere Achsen, typischerweise eine Theta-Achse
und eine R-Achse, dienen dazu, die Wafer im Rahmen des Produktionsverfahrens
horizontal von einer Station zu einer anderen zu bewegen. Roboter
in diesen Ausführungen
sind auf diesem Fachgebiet bekannt und werden nachstehend nicht
ausführlicher
beschrieben.
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Gemäß der Ausführungsform
der 1 ist der Endeffektor 6 über eine
Montageeinrichtung 8 an der Führungseinrichtung 3 befestigt.
Die Führungseinrichtung
ist zu diesem Zweck als eine lineare Führung ausgebildet, die Teil
eines (in 1 nicht dargestellten) Messgerätes ist.
Sie umfasst eine Plattform 9, an deren Oberseite das passende
Gegenstück, eine
Endeffektorplatte 16 (2) befestigt
ist. An der unteren Seite der Plattform 9 sind Schieber
oder Läufer
vorgesehen. Diese Schieber oder Läufer 10 wirken als
bewegliche Führungsmittel
mit einem Paar paralleler Laufschienen zusammen, die auf einer Platte 10 angeordnet
sind. Die Schieber oder Läufer, die
in beliebiger bekannter Weise ausgeführt sein können, beinhalten Rollenlager,
profilierte Führungen mit
Umlaufkugelkonsolen oder sogar Luftpolsterlager. Die lineare Führungseinrichtung 3,
wie in 1 dargestellt, ist vom Standpunkt der Funktion
aus betrachtet eine passive Führung,
die den Endeffektor 6 zwingt, sich in einer geraden Linie
zu bewegen, so dass eine vom Roboter 2 angetriebene präzise lineare
Bewegung des Endeffektors 6 im Innern eines Messgerätes, beispielsweise
eines (nicht dargestellten) Mikroskops, bereitgestellt wird, wodurch
sichergestellt wird, dass die Oberfläche der Wafer während der
Bewegung in einer definierten räumlichen
Orientierung verbleibt.
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Für eine vollständige Abtastung,
d.h. um jeden Punkt auf der Waferoberfläche im Verhältnis zu einem stationären äußeren Betrachtungspunkt
im Innern des Messgerätes
zu erreichen, ist eine einzelne lineare Bewegung nicht ausreichend.
Gemäß der Erfindung
wird dieses Problem im Hinblick auf die in 1 dargestellte
Ausführungsform
dadurch gelöst, dass
ein Endeffektor 6 verwendet wird, der den aufgenommenen
Wafer um die Symmetrieachse des Wafers drehen kann, die einen Winkel
von 90° zur Oberfläche aufweist.
Ein solcher Endeffektor 6 ist beispielsweise in der WO
02/02282 A1 beschrieben, auf die Bezug genommen wird. Die Anwendung
eines solchen Endeffektors 6 hat den weiteren Vorteil, dass
kein Bedarf mehr an einer rotatorischen Vorjustage mittels zusätzlichem
Prealigners besteht, da der Endeffektor 6 die Wafer rotatorisch
ausrichten kann, während
er sie von einer Station zu einer anderen bewegt.
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Ein
anderes wesentliches Teil der erfindungsgemäßen Anordnung mit der erfindungsgemäßen Führungseinrichtung 3 ist
die Montageeinrichtung B. Eine detaillierte Darstellung einer möglichen Ausführungsform
gemäß der Erfindung
ist aus 2 ersichtlich. Die Montageeinrichtung 8 ist
eine kinematische Halterung in Form einer pneumatischen Verriegelung,
die die Plattform 9 mit dem Endeffektor 6 lösbar verbindet.
Die Verriegelung ist federnd vorgespannt und wird mittels Unterdruck
gelöst.
Eine mit Unterdruck arbeitende Verriegelung ist in einer Reinraumumgebung
besonders vorteilhaft.
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Die
Montageeinrichtung 8 beinhaltet drei wesentliche Teile,
nämlich
eine Plattformplatte 13, die an der Plattform 9 befestigt
ist, ein Verriegelungselement 14, das den Großteil der
Montageeinrichtung 8 ausmacht, und einen Membranantrieb 19.
Das Verriegelungselement 14 ist an der Endeffektorplatte 16 befestigt,
die sich an der Unterseite des Endeffektorgehäuses 15 (1)
befindet, wobei die. aufeinander treffenden Oberflächen als
Präzisionsflächen ausgeführt sind.
Die Endeffektorplatte 16 ist am Verriegelungselement 14 über Schrauben
in Schraubenlöchern 17 befestigt,
die sich durch die Endeffektorplatte 16 erstrecken und
in Sacklöchern
des Verriegelungselements 14 enden.
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Das
Verriegelungselement 14 bildet zusammen mit der Endeffektorplatte 16 ein
Gehäuse 18. Das
Gehäuse 18 ist
durch die Membran in eine obere und eine untere Kammer 18' bzw. 18'' unterteilt. Die Membran dichtet
die beiden Kammern luftdicht ab. Im Zentrum des Verriegelungselements 14 ist
eine hohle Führung 20 vorgesehen.
Die hohle Führung 20 ist Teil
der Montageeinrichtung 8 und umfasst ein Durchgangsloch 20', in dem ein
Konusartigererriegelungsstift 21 bewegbar untergebracht
ist. An seinem unteren Ende reicht der Stift durch die Membran hindurch und
umfasst die Platten 24' und 24'', die ein hartes Mittelteil 24 bilden,
das die Membran einspannt. In dieser Hinsicht liegt die Platte 24'' im Innern der Kammer 18'' und die Platte 24' im Innern der
Kammer 18'.
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In
seinem unteren Teil weist der Konusartigererriegelungsstift 21 ein
Sackloch 23 auf, das den oberen Teil der Feder 22 aufnimmt.
Die Feder 22 ist am Boden des Sacklochs 23 befestigt
und wird durch die Endeffektorplatte 16 abgestützt. Falls
die Montageeinrichtung 8 nicht mit Unterdruck beaufschlagt wird,
hält die
Feder 22 den Konusartigererriegelungsstift 21 einer
Gleichgewichtsposition, wie aus 2 ersichtlich.
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Die
hohle Führung 20 ist
am oberen Ende des Verriegelungselements 14 von einem Verriegelungsring 25 umgeben,
der in eine Nut eingebettet ist, die sich an der Oberseite des Verriegelungselements 14 befindet.
Der Ring schliesst bündig
mit der Oberseite des Verriegelungselements 14 ab, mit
der Ausnahme, dass an der Innenseite des Verriegelungsrings 25 eine
Ringnase oder kante, kante 26 vorgesehen ist, die aus der
Oberfläche
herausragt. Der Aussendurchmesser der Kante 26 entspricht
dem Innendurchmesser einer Bohrung der Plattformplatte 13.
Die Kante 26 zentriert die Plattformplatte 13 in
der Verriegelungsposition der Montageeinrichtung 8. Die Bohrung 27 bildet
zusammen mit Käfigelementen 29 der
hohlen Führung 20 Käfige für Verriegelungskugeln 28.
In dieser Ausführungsform
sind insgesamt drei Verriegelungskugeln 28 in einer Distanz
von 120° vorgesehen.
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Darüber hinaus
ist ein Positionsfixierungsmechanismus vorgesehen. Er umfasst drei
Positionsfixierungselemente. Diese Elemente 31 sind am äusseren
Ring des Verriegelungselements 14 (siehe 4)
an seiner Oberseite vorgesehen und befinden sich somit zwischen
der Oberseite des Verriegelungselements 14 und der Plattformplatte 13.
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Die
Positionsfixierungselemente weisen Blindlöcher auf, in denen sich Stifte 32 befinden.
Die Blindlöcher
werden durch Keilnuten 33 (3) in der oberen
Oberfläche
des Verriegelungselements 14 in einer Distanz von 120° (siehe
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4)
sowie durch Kanäle
innerhalb der Unterseite der Plattformplatte 13 gebildet.
Die Orientierung der Keilnuten 33 entspricht derjenigen
der Verriegelungskugeln 28 oder der Käfigelemente 29. Die erwähnten Kanäle sind
in der Nähe
der Keilnuten 33 vorgesehen. Der Positionsfixierungsmechanismus dient
in seiner Funktion dem Zweck, im eingebauten Zustand der erfindungsgemäßen Montageeinrichtung 8 für eine definierte
Orientierung zwischen dem Verriegelungselement 14 und der
Plattformplatte 13 zu sorgen.
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Hinsichtlich
der Funktion der erfindungsgemäßen Montageeinrichtung 8 wird
nunmehr auf die 5A und 5B Bezug
genommen. 5A zeigt die Montageeinrichtung 8 in
ihrer verriegelten Position. Die Verriegelung erfolgt durch Federkraft,
das Öffnen
durch Unterdruck. In diesem Fall wird die Kammer 18'' relativ zur Kammer 18' druckbeaufschlagt.
Somit wird (in der Zeichnung) eine Aufwärtsbewegung des Konusartigererriegelungsstift 21 erzielt.
In seiner oberen Position schiebt der Konus des Konusartigererriegelungsstift 21 die
Käfigelemente 29 zur
Seite. Dadurch werden wiederum die Verriegelungskugeln 28 nach
unten auf die Kante 26 des Verriegelungsrings 25 gedrückt, so
dass die Plattformplatte 13 auf diesem Wege mit dem Verriegelungselement 14 verriegelt
wird.
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Der
umgekehrte Vorgang ist in 5B dargestellt.
Hier wird die Kammer 18'' relativ zur
Kammer 18' mit
negativem Druck beaufschlagt, so dass der Konusartigererriegelungsstift 21 nach
unten geschoben wird und die Verriegelung der Montageeinrichtung 8 öffnet.
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Die
erfindungsgemässe
Montageeinrichtung 8 ermöglicht es dem Endeffektor 6,
eine wiederholbare Position sowie eine exakt wiederholbare räumliche Orientierung
einzunehmen, wodurch sichergestellt wird, dass die Waferoberfläche immer
parallel zur Richtung der linearen Führung verläuft. Die Erfindung ist natürlich nicht
auf pneumatisch betätigbare Montageeinrichtungen
beschränkt,
wie vorstehend beschrieben, sondern es kann auch eine elektromechanische
oder magnetische Betätigung
vorgesehen werden. Es sei darauf hingewiesen, dass selbst die Schwerkraft
ausreichen könnte.
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6 zeigt
die in ein Gestell 34 eingebaute erfindungsgemäße Anordnung.
Das Gestell 34 umfasst an seiner Vorderseite eine Ladeöffnung für FOUPs,
d.h. eine an der Vorderseite vorgesehene Einheitsablage 35,
und an seiner Rückseite
die erfindungsgemäße Führungseinrichtung 3 zur
präzisen Führung des
Endes des Roboterarms 5 bzw. des Endeffektors 6.
Somit ersetzt die erfindungsgemäße Führungseinrichtung 3 eine
herkömmliche
XY-Stufe, in der der Roboter 2 normalerweise die Wafer
für einen
beliebigen Zweck platzieren würde.
Natürlich kann
das Gestell 34 insgesamt oder mindestens die erfindungsgemäße Führungseinrichtung 3 in
vibrationsisolierter Ausführung
vorgesehen werden.